EA026082B1 - Устройство для маркировки, включающее множество лазеров, а также средства отклонения и телескопические средства для каждого лазера - Google Patents
Устройство для маркировки, включающее множество лазеров, а также средства отклонения и телескопические средства для каждого лазера Download PDFInfo
- Publication number
- EA026082B1 EA026082B1 EA201490242A EA201490242A EA026082B1 EA 026082 B1 EA026082 B1 EA 026082B1 EA 201490242 A EA201490242 A EA 201490242A EA 201490242 A EA201490242 A EA 201490242A EA 026082 B1 EA026082 B1 EA 026082B1
- Authority
- EA
- Eurasian Patent Office
- Prior art keywords
- laser
- lasers
- deflecting means
- marking apparatus
- beams
- Prior art date
Links
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K26/00—Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
- B23K26/36—Removing material
- B23K26/362—Laser etching
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K26/00—Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
- B23K26/02—Positioning or observing the workpiece, e.g. with respect to the point of impact; Aligning, aiming or focusing the laser beam
- B23K26/06—Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing
- B23K26/0604—Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing by a combination of beams
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K26/00—Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
- B23K26/02—Positioning or observing the workpiece, e.g. with respect to the point of impact; Aligning, aiming or focusing the laser beam
- B23K26/06—Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing
- B23K26/0604—Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing by a combination of beams
- B23K26/0608—Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing by a combination of beams in the same heat affected zone [HAZ]
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K26/00—Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
- B23K26/02—Positioning or observing the workpiece, e.g. with respect to the point of impact; Aligning, aiming or focusing the laser beam
- B23K26/06—Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing
- B23K26/064—Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing by means of optical elements, e.g. lenses, mirrors or prisms
- B23K26/0643—Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing by means of optical elements, e.g. lenses, mirrors or prisms comprising mirrors
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K26/00—Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
- B23K26/02—Positioning or observing the workpiece, e.g. with respect to the point of impact; Aligning, aiming or focusing the laser beam
- B23K26/06—Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing
- B23K26/064—Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing by means of optical elements, e.g. lenses, mirrors or prisms
- B23K26/0648—Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing by means of optical elements, e.g. lenses, mirrors or prisms comprising lenses
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K26/00—Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
- B23K26/08—Devices involving relative movement between laser beam and workpiece
- B23K26/082—Scanning systems, i.e. devices involving movement of the laser beam relative to the laser head
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K26/00—Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
- B23K26/352—Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring for surface treatment
- B23K26/355—Texturing
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K26/00—Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
- B23K26/36—Removing material
- B23K26/361—Removing material for deburring or mechanical trimming
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/05—Construction or shape of optical resonators; Accommodation of active medium therein; Shape of active medium
- H01S3/06—Construction or shape of active medium
- H01S3/07—Construction or shape of active medium consisting of a plurality of parts, e.g. segments
- H01S3/073—Gas lasers comprising separate discharge sections in one cavity, e.g. hybrid lasers
- H01S3/076—Folded-path lasers
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/005—Optical devices external to the laser cavity, specially adapted for lasers, e.g. for homogenisation of the beam or for manipulating laser pulses, e.g. pulse shaping
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/02—Constructional details
- H01S3/03—Constructional details of gas laser discharge tubes
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/05—Construction or shape of optical resonators; Accommodation of active medium therein; Shape of active medium
- H01S3/08—Construction or shape of optical resonators or components thereof
- H01S3/08059—Constructional details of the reflector, e.g. shape
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/05—Construction or shape of optical resonators; Accommodation of active medium therein; Shape of active medium
- H01S3/08—Construction or shape of optical resonators or components thereof
- H01S3/081—Construction or shape of optical resonators or components thereof comprising three or more reflectors
- H01S3/083—Ring lasers
- H01S3/0835—Gas ring lasers
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/14—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range characterised by the material used as the active medium
- H01S3/22—Gases
- H01S3/223—Gases the active gas being polyatomic, i.e. containing two or more atoms
- H01S3/2232—Carbon dioxide (CO2) or monoxide [CO]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/23—Arrangements of two or more lasers not provided for in groups H01S3/02 - H01S3/22, e.g. tandem arrangements of separate active media
- H01S3/2383—Parallel arrangements
Abstract
Изобретение относится к маркировочному аппарату для маркировки объекта посредством лазерного излучения, содержащему множество лазеров и блок управления, обеспечивающий индивидуальное активирование каждого из лазеров для испускания лазерного пучка (90a-90i) в соответствии с наносимым знаком. Аппарат содержит также набор (30) отклоняющих средств, выполненных с возможностью направлять лазерные пучки (90a-90i) на маркируемый объект, и набор (40) телескопических средств, содержащий по меньшей мере одно телескопическое средство (40a-40i) на каждый лазерный пучок (90a-90i). При этом каждое телескопическое средство (40a-40i) является регулируемым для осуществления индивидуальной настройки фокусного расстояния соответствующего лазерного пучка (90a-90i).
Description
Изобретение относится к маркировочному аппарату (устройству для маркировки) согласно ограничительной части п.1, предназначенному для маркировки объекта посредством лазерного излучения.
Предшествующий уровень техники
Известны маркировочные аппараты, которые используют единственный лазер (например СО2 лазер), испускающий пучок излучения, который подводится к маркируемому объекту. Объект перемещают на конвейерной ленте относительно маркировочного аппарата. Обычно для направления пучка излучения на объект в соответствии с наносимым знаком используется сканирующее устройство. Поскольку обычно представляется желательным обеспечить высокую производительность маркирования объектов, скорость объекта, движущегося на конвейерной ленте относительно маркировочного аппарата, должна быть высокой. Однако произвольно повышать эту скорость нельзя, поскольку сканирующее устройство требует достаточного времени, чтобы нанести маркировку на проходящий перед ним объект. Как следствие, производительность подобных маркировочных аппаратов ограничивается быстродействием сканирующих устройств.
Производительность может быть повышена с помощью маркировочных аппаратов, которые содержат группу лазеров, например газовых, и блок управления для индивидуального активирования каждого из лазеров для испускания лазерного пучка в соответствии с наносимым знаком. Такие маркировочные аппараты описаны в И8 5229573 и И8 5229574.
Чтобы добиться еще больших скоростей маркировки, требуются маркировочные аппараты с увеличенными количествами лазеров. Однако до настоящего времени возможное количество лазеров ограничивалось размерами индивидуальных лазеров, приводящими к недопустимо крупногабаритным аппаратам и к трудностям подведения лазерных пучков к маркируемому объекту.
Из ОБ 2304641 А известен маркировочный аппарат, содержащий множество лазеров. Испускаемые лазерные пучки перенаправляются посредством множества зеркал на единственную фокусирующую линзу, которая фокусирует все лазерные пучки на маркируемое изделие.
В ЬР 2011-156574 описан аппарат для изготовления солнечных панелей. Пучок от единственного лазера расщепляют на множество пучков, каждый из которых направляют на подложку с помощью соответствующей фокусирующей линзы.
Несущая конструкция для компонентов лазера известна из И8 5115446 А.
В И8 6421159 В1 описан маркировочный аппарат, содержащий группу лазеров. Все пучки, испускаемые этими лазерами, направляют на общую фокусирующую линзу.
В И8 5339737 А описано лазерное устройство для облучения офсетных печатных форм. Используется множество лазеров. Испускаемые ими пучки направляют на выходные зоны используемого шаблона, из которого каждый пучок выводится посредством соответствующего набора линз.
Сущность изобретения
Задача, на решение которой направлено изобретение, состоит в создании маркировочного аппарата, который содержит множество лазеров и обеспечивает возможность гибкой регулировки испускаемых ими пучков.
Эта задача решена разработкой маркировочного аппарата с признаками, включенными в п.1 прилагаемой формулы.
Предпочтительные варианты раскрыты в зависимых пунктах, а также в нижеследующем описании, содержащем ссылки на прилагаемые чертежи.
Согласно изобретению маркировочный аппарат описанного типа характеризуется тем, что содержит набор отклоняющих средств, выполненных с возможностью направлять лазерные пучки на маркируемый объект, и набор телескопических средств, содержащий по меньшей мере одно телескопическое средство на каждый лазерный пучок, причем каждое телескопическое средство является регулируемым для осуществления индивидуальной настройки фокусного расстояния соответствующего лазерного пучка.
Основная идея изобретения состоит во введении средств для задания степени сходимости или расходимости и, соответственно, фокусного расстояния каждого лазерного пучка, причем эта функция реализуется по отдельности для каждого пучка. Тем самым обеспечивается желательная возможность скомпенсировать вариации длины хода лучей, т.е. различия в оптических длинах путей, которые проходят индивидуальные пучки излучения, пока не достигнут объекта. Эти различия могут быть вызваны профилем поверхности объекта или различиями оптических длин путей внутри маркировочного аппарата. Чтобы управлять размерами участков (пятен), облучаемых лазерными пучками на объекте, он может устанавливаться в фокальных плоскостях лазерных пучков или на определенном расстоянии от них.
Базовая идея изобретения состоит в использовании на каждый лазерный пучок, т.е. на каждый лазер, одного телескопического средства для коллимирования каждого пучка.
В контексте изобретения под активированием каждого из лазеров для испускания лазерного пучка может пониматься любой процесс, который определяет, должен ли соответствующий пучок излучения падать на маркируемый объект. Следовательно, такое активирование может выполняться посредством затвора, перекрывающего пучок. Другими словами, лазер остается активным, а затвор управляет пропус- 1 026082 канием и блокированием пучка лазера.
Возможно использование лазеров любых типов. Изобретение особенно эффективно, если критическим фактором для используемых лазеров является занимаемое ими пространство, т.е. если мощность лазера сильно зависит от его размеров. Другое преимущество изобретения наглядно проявляется, если размеры лазера препятствуют генерированию лазерных пучков, расположенных очень близко друг к другу. Изобретение позволяет в таких случаях произвести реконфигурирование лазерных пучков с обеспечением малых расстояний между ними, т.е. маркировки с высоким разрешением.
Примерами подобных лазеров являются газовые, химические, волоконные и твердотельные лазеры, а также лазеры на красителях. Могут использоваться также полупроводниковые лазеры или лазеры на парах металлов. При использовании газовых лазеров они могут быть любых известных типов, например Нс-Ыс. СО, аргоновыми, азотными или эксимерными лазерами. Желательно, чтобы газовые лазеры являлись СО2 лазерами, которые способны работать в непрерывном или импульсном режиме.
Под знаком маркировки, который нужно сформировать, может пониматься любой знак, например буква, изображение или единственный пиксель. Знак может состоять из множества точек или линий. Соответственно, лазеры можно активировать на короткие периоды, чтобы сформировать точки на объекте, или в течение заданного времени, чтобы сформировать линии определенной длины.
В контексте изобретения маркируемым объектом может быть любой продукт или изделие с поверхностью, которую можно изменить под воздействием излучения лазеров. В частности, объект может являться упаковкой, например для пищевого продукта или напитка, фруктом или этикеткой. Материалом объекта могут быть пластики, бумага, металлы, керамика, материи, композиты или ткани органического происхождения.
Маркировка может создаваться посредством любых изменений поверхности объекта, например путем изменения цвета, гравирования или вырезания.
В предпочтительном варианте изобретения каждое телескопическое средство содержит по меньшей мере два оптических элемента, установленных с возможностью регулировки расстояния между ними для осуществления настройки фокусного расстояния, в частности по меньшей мере две линзы или два криволинейных зеркала. Таким образом, телескопические средства можно сконструировать, как телескопырефракторы, использующие линзы, как телескопы-рефлекторы, использующие зеркала, или как катадиоптрические телескопы, использующие по меньшей мере одно зеркало и по меньшей мере одну линзу. Конкретные конструкции телескопов хорошо известны и не требуют подробного описания.
Желательно также, чтобы блок управления мог обеспечивать линейную регулировку телескопических средств (которые можно рассматривать также как средства профилирования пучков), т.е. изменение положения по меньшей мере одного оптического элемента каждого телескопического средства вдоль направления распространения соответствующего лазерного пучка.
Предпочтительный вариант маркировочного аппарата по изобретению характеризуется тем, что набор отклоняющих средств содержит по меньшей мере одно отклоняющее средство на каждый лазерный пучок, в частности по меньшей мере одно перестраивающее зеркало или один световод на каждый лазерный пучок, для перестраивания лазерных пучков с получением их желательной конфигурации. При этом каждое отклоняющее средство выполнено с возможностью индивидуальной регулировки обеспечиваемого им направления отклонения и/или с возможностью индивидуального смещения. Как следствие, каждый пучок излучения может быть направлен на соответствующее ему отклоняющее средство. Отклоняющие средства выполнены регулируемыми независимо от других таких средств, так что в принципе возможно получить любую желательную конфигурацию пучков. Пучки излучения, испускаемые лазерами, образуют определенную конфигурацию, например линейную конфигурацию (т.е. строку или столбец) взаимно параллельных пучков излучения. В качестве важного преимущества изобретения можно отметить его способность гибко перестроить линейную конфигурацию в любую другую конфигурацию. Так, с помощью набора отклоняющих средств можно изменять (в частности уменьшать) расстояние между пучками излучения.
Отклоняющие средства могут устанавливаться в желательное положение в процессе или перед началом функционирования маркировочного аппарата. С этой целью каждое отклоняющее средство может быть перемещено посредством электродвигателя, контролируемого блоком управления. Преимуществом набора отклоняющих средств перед призмами является меньшая дисторсия, особенно когда в качестве отклоняющих средств применяются зеркала.
Если отклоняющими средствами являются зеркала, их регулировка (настройка) может производиться посредством индивидуальных поворотов (наклонов) и, как следствие, изменением направлений отклонения пучков, т.е. направлений, по которым пучки отходят от зеркал. Дополнительно или альтернативно, зеркала могут иметь возможность перемещения. Поскольку посредством зеркал может производиться перестройка лазерных пучков, зеркала могут рассматриваться как перестраивающие зеркала.
Далее под желательной конфигурацией лазерных пучков может пониматься любая конфигурация этих пучков, пригодная для соответствующего применения. Желательным конфигурациям могут соответствовать различные исходные конфигурации пучков излучения, т.е. конфигурации, имевшие место до падения пучков на набор отклоняющих средств. В частности, желательной может являться линейная
- 2 026082 конфигурация, развернутая относительно исходного положения пучков.
Согласно предпочтительному варианту изобретения отклоняющие средства регулируют так, чтобы обеспечить уменьшение расстояний между лазерными пучками. Тем самым устраняется недостаток, состоящий в больших расстояниях между пучками вследствие больших размеров лазеров, и обеспечивается возможность маркировки с высоким разрешением. В отличие от специальных устройств для уменьшения расстояния между пучками, в которых все пучки излучения направляют на общий оптический элемент, например на подходящую призму, отклоняющие средства аппарата по изобретению характеризуются меньшей дисторсией пучков излучения.
Уменьшение расстояния между пучками позволяет также получить лазерные пучки, падающие на общие оптические элементы ближе к их центральной зоне. Это может быть критично в отношении сферической аберрации и других искажений, имеющих место для краевых лучей, т.е. лазерных пучков, падающих на линзу или зеркало далеко от центральной зоны, в отличие от параксиальных лучей, т.е. лазерных пучков, падающих на центральную зону линзы или зеркала. Таким образом, уменьшение расстояний между пучками приводит к желательному уменьшению сферической аберрации.
Другой предпочтительный вариант изобретения характеризуется тем, что набор отклоняющих средств содержит первый и второй наборы перестраивающих зеркал, каждый из которых содержит по меньшей мере одно перестраивающее зеркало на каждый лазерный пучок. При этом первый набор перестраивающих зеркал направляет лазерные пучки на второй набор перестраивающих зеркал. Таким образом, направление каждого пучка излучения индивидуально задается посредством по меньшей мере двух перестраивающих зеркал. Тем самым обеспечивается особенно гибкое реконфигурирование пучка излучения.
Предпочтительный вариант аппарата по изобретению характеризуется тем, что каждое телескопическое средство содержит зеркало, которое является одним из перестраивающих зеркал набора отклоняющих средств, и оптический элемент, в частности линзу или криволинейное зеркало, установленную (установленное) с возможностью смещения относительно перестраивающего зеркала. Такое выполнение позволяет сократить количество оптических элементов в аппарате по изобретению. Оптический элемент телескопического средства может быть установлен между перестраивающими зеркалами отклоняющего средства, перед ними или за ними.
Отклоняющие средства могут регулироваться, в частности смещаться, вручную. Однако желательно, чтобы блок управления был адаптирован для смещения отклоняющих средств и/или регулировки направлений отклонения, обеспечиваемых отклоняющими средствами, посредством карданных подвесов. Применительно к широкому кругу приложений блок управления может индивидуально регулировать каждое отклоняющее средство. В относительно экономичном варианте блок управления способен регулировать по меньшей мере одно отклоняющее средство на каждый лазерный пучок. Желательно, чтобы карданные подвесы обеспечивали для установленных в них отклоняющих средств по меньшей мере две или даже три вращательные степени свободы.
Регулировка отклоняющих средств посредством блока управления позволяет задавать положения, соответствующие различным значениям кода. Это означает, что направления лазерных пучков, выходящих из аппарата, можно изменять с целью изменить положение кода, который нужно сформировать на объекте лазерными пучками. Кроме того, можно также варьировать высоту кода.
Возможна также статическая маркировка. В этом случае в течение всего процесса маркировки объект неподвижен относительно маркировочного аппарата. Отклоняющие средства приводятся в действие для осуществления сканирующего перемещения лазерных пучков таким образом, чтобы распечатать на неподвижном объекте все требуемые знаки. Этот вариант особенно предпочтителен для распечатывания двумерной графической информации, когда требуется печать высокого разрешения.
Желательно также адаптировать блок управления для реализации опции с множеством импульсов. Если лазерные пучки являются импульсными, в одну и ту же точку на объекте будет подаваться множество импульсов. Этот режим может быть реализован при взаимном перемещении объекта и аппарата и при соответствующей синхронизации срабатывания лазеров. Альтернативно, настройку средств, отклоняющих один лазерный пучок, можно изменять таким образом, чтобы последовательные импульсы излучения одного лазера направлялись в одну общую точку. Данный режим позволяет реализовать, например, печать с использованием серой шкалы.
Блок управления может быть также выполнен с возможностью реализации опции высокой мощности. С этой целью настройка отклоняющих средств одного или более лазерных пучков может быть изменена так, чтобы выходные пучки по меньшей мере двух лазеров были направлены в одну общую точку. Такое выполнение позволяет маркировать даже материалы, требующие для этой цели мощности, более высокой, чем обеспечиваемая единственным лазером. Другими словами, блок управления может быть способен направлять в одну общую точку лазерные пучки по меньшей мере двух лазеров. Для получения особенно высокой мощности в пучке можно настроить отклоняющие средства на сведение вместе любого количества лазерных пучков, в том числе все пучки.
Блок управления может быть также адаптирован для автоматической подстройки отклоняющих средств к изменениям положения объекта, например с целью компенсации влияния вибраций объекта.
- 3 026082
Изменения положения могут детектироваться датчиком, например ультразвуковым или оптическим датчиком или датчиком ближней локации.
Блок управления может быть адаптирован для управления телескопическими средствами так, чтобы компенсировать различия в оптических длинах пути лазерных пучков, в частности различия, обусловленные расположением отклоняющих средств. Действительно, оптические длины пути лазерных пучков могут различаться в зависимости от местонахождения отклоняющих средств, а это может приводить к различным размерам облучаемых участков на объекте. При применении телескопических средств можно обеспечить плоское поле, когда все лазерные пучки имеют одинаковое фокусное расстояние, измеряемое от выходной стороны аппарата. Кроме того, для лазерных пучков может быть задано любое желательное положение их фокальной плоскости.
Блок управления может быть также адаптирован для настройки телескопических средств в реальном времени в случае изменения оптических длин пути в результате регулировки отклоняющих средств. Дополнительно или альтернативно, блок управления может быть выполнен с возможностью установки набора телескопических средств в соответствии с любой информацией, относящейся к изменению оптических длин пути, например о вибрации, или о любом другом движении объекта или о перенаправлении сканирующим устройством лазерных пучков.
Предпочтительный вариант аппарата по изобретению характеризуется тем, что в нем имеется по меньшей мере одно сканирующее зеркальное устройство, содержащее общее зеркало, на которое направлены все лазерные пучки, отходящие от набора отклоняющих средств, а блок управления выполнен с возможностью обеспечения поворота зеркального сканирующего устройства, например, посредством гальванометрического привода.
Сканирующим устройством, в частности зеркальным сканирующим устройством, может являться любое средство, которое обеспечивает последовательное проведение пучка излучения через множество различных пространственных положений.
В простых вариантах такие устройства могут содержать зеркало, способное поворачиваться вокруг оси, нормальной к плоскости падающего пучка излучения. Поворотное зеркало может являться зеркальным барабаном, т.е. многогранником, несущим зеркала, которые вместе поворачиваются вокруг единственной оси.
Устройства, содержащие гальванометрический привод, с которым связано зеркало, обычно именуются гальванометрическими сканерами. Гальванометрический сканер способен преобразовывать входные электрические сигналы в угловое положение зеркала этого сканера, например, использующего подвижную обмотку или сплошной железный ротор. Желательно, чтобы любое место, в которое должен быть направлен отраженный пучок излучения, могло задаваться независимо от предыдущего положения этого пучка. Желательно также, чтобы имелись по меньшей мере два гальванометрических сканера. Если гальванометрические сканеры установлены так, что каждый лазерный пучок направляется от первого гальванометрического сканера на второй гальванометрический сканер, становится возможным обеспечить любое желательное двумерное сканирующее перемещение.
Функции зеркального сканирующего устройства могут быть также реализованы посредством акустооптических устройств. В этих устройствах в акустооптический материал вводится акустическая волна. Частота акустической волны определяет угол отклонения лазерного пучка, проходящего через акустооптический материал. Быстро изменяя частоту акустической волны, можно осуществить быстрое сканирующее движение лазерного пучка.
В другом предпочтительном варианте блок управления, с целью маркировки объекта при его движении относительно маркировочного аппарата, адаптирован для регулировки отклоняющих средств и/или по меньшей мере одного зеркального сканирующего устройства в соответствии с информацией о движении объекта. Это позволяет осуществлять отслеживание объекта. Имеется возможность ускорять или замедлять относительное перемещение аппарата и средства, транспортирующего движущийся объект, с обеспечением желательной возможности повысить производительность процесса маркировки.
Согласно еще одному предпочтительному варианту изобретения каждый из первого и второго наборов перестраивающих зеркал сконфигурирован как линейный набор, а каждое перестраивающее зеркало установлено с возможностью поворота. В этом варианте расстояние между смежными перестраивающими зеркалами одного из наборов перестраивающих зеркал может быть фиксированным, что позволит использовать общее несущее средство, которое задает линейную конфигурацию перестраивающих зеркал при сохранении возможности их поворота. Второй набор перестраивающих зеркал может быть развернут относительно плоскости, образуемой лазерными пучками, падающими на первый набор перестраивающих зеркал. Может иметься также позиционирующее средство для регулировки положения по меньшей мере одного из линейных наборов перестраивающих зеркал. В частности, позиционирующее средство может перемещать общее несущее средство.
Другой предпочтительный вариант аппарата по изобретению характеризуется тем, что блок управления выполнен с возможностью управления отклоняющими средствами для задания степени сближения или разведения лазерных пучков, отходящих от отклоняющих средств, в частности от второго набора отклоняющих средств. Другими словами, после того как их направление было изменено посредством
- 4 026082 отклоняющих средств, лазерные пучки не распространяются параллельно друг другу, т.е. расстояние между пучками зависит от расстояния до маркировочного аппарата, в частности до набора отклоняющих средств. Отклоняющие средства можно отрегулировать так, чтобы получить заданный шаг лазерных пучков (расстояние между смежными пучками) на заданном расстоянии от аппарата. Высота знака, формируемого лазерными пучками, и разрешение маркировки, т.е. расстояние между элементами маркировки, формируемыми на объекте смежными лазерными пучками, определяются расстоянием между лазерными пучками и, следовательно, могут настраиваться регулировкой степени сближения. Для этой цели достаточно использовать быстрые повороты отклоняющего средства без необходимости изменять расстояние между отклоняющими средствами, что могло бы оказаться более времяемким.
Расположение лазеров может быть таким, что лазерные пучки на выходе лазеров взаимно параллельны и образуют линейную конфигурацию. Однако в зависимости от конкретного применения может оказаться желательным изменить ориентацию этой линейной конфигурации лазерных пучков. С этой целью блок управления может быть адаптирован для регулировки отклоняющих средств таким образом, чтобы линейная конфигурация лазерных пучков, падающих на отклоняющие средства, поворачивалась на 90° вокруг оси, параллельной направлению распространения этих пучков. Например, они могут быть развернуты из горизонтального расположения в вертикальное и наоборот. Это свойство является особенно желательным, поскольку обычно знаки или буквы должны распечатываться на изделии либо в горизонтальном, либо в вертикальном направлении и блок управления может обеспечивать переход, по меньшей мере, между этими двумя важными случаями. Чтобы обеспечивать разворот линейной конфигурации лазерных пучков, набор отклоняющих средств может содержать первый набор перестраивающих зеркал, используемый по меньшей мере с одним или двумя сканирующими зеркальными устройствами.
Согласно еще одному предпочтительному варианту изобретения предусмотрено телескопическое устройство, имеющее по меньшей мере две линзы и служащее для одновременной регулировки фокусных расстояний лазерных пучков. Одновременность регулировки означает, что лазерные пучки всех лазеров проходят через телескопическое устройство и, следовательно, испытывают одинаковое влияние. В частности, блок управления может быть выполнен с возможностью регулировать телескопическое устройство в зависимости от расстояния до объекта, например так, чтобы привести фокусные расстояния лазерных пучков в соответствие с расстоянием до объекта. При этом желательно, чтобы при приближении объекта к аппарату или удалении от него можно было поддерживать постоянными размеры маркировок, формируемых на объекте. Информация о расстоянии до объекта может поступать в блок управления от транспортирующего модуля, перемещающего объект, и/или с использованием известных средств для измерения расстояния. Целесообразно установить телескопическое устройство за отклоняющими средствами, поскольку отклоняющие средства способны уменьшить максимальное расстояние между любыми двумя лазерными пучками. Это позволит уменьшить размеры оптических элементов телескопического устройства.
Согласно другому варианту изобретения блок управления выполнен с возможностью задерживать в индивидуальном порядке активирование любого лазера таким образом, чтобы в случае движения объекта относительно маркировочного аппарата в заданном направлении обеспечить падение на один и тот же участок на объекте в направлении движения объекта по меньшей мере двух лазерных пучков. При этом моменты срабатывания лазеров могут быть подобраны так, чтобы обеспечить падение на один и тот же участок на объекте в направлении движения объекта всех лазерных пучков.
Кроме того, независимо от взаимной ориентации испускаемых лазерных пучков и направления движения объекта, различные лазерные пучки могут создавать пятна (точки) маркировки вдоль линии, перпендикулярной направлению движения объекта. Длина такой линии зависит от ориентации испускаемых лазерных пучков относительно направления движения объекта.
Лазеры предпочтительно собраны в стопу, так что испускаемые ими пучки образуют упорядоченную конфигурацию лазерных пучков, в частности упорядоченную конфигурацию взаимно параллельных лазерных пучков. Каждый лазер может быть газовым лазером, содержащим лазерные трубки, которые, по меньшей мере, частично окружают внутреннее пространство, т.е. образуют замкнутое или разомкнутое кольцо. Испускаемые лазерные пучки направляются во внутреннее пространство посредством направляющих средств, предпочтительно выполненных в виде комплекта зеркал. Альтернативно, направляющие средства могут быть образованы выходными зеркальными компонентами лазеров. В этом случае концевая лазерная трубка каждого лазера может быть направлена во внутреннее пространство, благодаря чему набор отклоняющих средств может находиться во внутреннем пространстве.
Охлаждение лазерных трубок может быть облегчено за счет того, что трубки, установленные на противоположных сторонах замкнутого или разомкнутого кольца, находятся на максимальном расстоянии одна от другой. Этот эффект достигается без увеличения габаритных размеров аппарата, поскольку оптические элементы размещены во внутреннем пространстве, что соответствует эффективному использованию пространства аппарата.
В другом предпочтительном варианте каждый лазер содержит лазерные трубки, которые, по меньшей мере, частично окружают внутреннее пространство, и направляющие средства, служащие для на- 5 026082 правления лазерных пучков, испускаемых лазерами, во внутреннее пространство и являющиеся частью телескопических средств. Направляющие средства могут содержать одно зеркало на каждый лазерный пучок, причем этим зеркалом может являться первый оптический элемент каждого телескопического средства.
Альтернативно, частями телескопических средств могут являться выходные компоненты лазеров, служащие для выведения лазерных пучков. Выходными компонентами могут быть частично отражающие зеркала, причем наружная поверхность каждого такого зеркала, т.е. поверхность, обращенная от активного газа, может иметь любую форму. В связи с этим желательно придать ей такую форму, чтобы каждый выходной компонент функционировал как первая линза телескопа известной конструкции.
Предпочтительный вариант изобретения решает проблему вышедшего из строя пикселя, наличие которого указывает, что соответствующий лазер дефектен и не испускает требуемый лазерный пучок. С целью замещения лазерного пучка вышедшего из строя лазера блок управления может быть адаптирован для настройки отклоняющих и телескопических средств таким образом, чтобы отклонять лазерный пучок функционирующего лазера в направлении дефектного лазерного пучка. В этом случае телескопические средства управляются таким образом, чтобы скомпенсировать различия между оптическими длинами пути дефектного лазерного пучка и лазерного пучка, используемого для его замещения.
В опции с несколькими траекториями замещающий лазерный пучок последовательно посылается по своему основному направлению и по направлению дефектного лазерного пучка. Альтернативно или дополнительно, в случае дефектного пикселя может производиться распечатывание с пониженным разрешением. С этой целью блок управления может быть выполнен с возможностью уменьшать разрешение наносимого знака в случае выхода из строя лазера, активировать функционирующие лазеры для испускания лазерных пучков в соответствии с пониженным разрешением для знака и настраивать отклоняющие и телескопические средства в соответствии с пониженным разрешением для знака.
Другой предпочтительный вариант изобретения характеризуется тем, что каждое отклоняющее средство содержит или представляет собой световод. В качестве световодов применимы любые гибкие световоды, способные проводить излучение с длинами волн, испускаемыми лазерами, в частности инфракрасное излучение с длинами волн около 10 мкм. Примерами таких световодов являются оптоволокна или полые трубки с отражающей внутренней поверхностью.
Каждый световод может быть снабжен входными оптическими элементами, служащими в качестве первого отклоняющего средства для направления падающего на них лазерного пучка под требуемым углом в сердцевину световода. Световоды могут быть также снабжены выходными оптическими элементами, содержащими, в частности, по меньшей мере две линзы для сбора лазерного излучения, выходящего из световода. Эти оптические элементы могут задавать поперечные размеры лазерного пучка, его фокусное расстояние и глубину фокуса. В частности, выходные оптические элементы могут быть выполнены, как телескопические средства.
Световоды предпочтительно имеют одинаковую длину. Это позволяет улучшить стабильность размеров облучаемого пятна и, соответственно, качество маркировок, сформированных на объекте.
Изобретение относится также к маркировочной системе, которая содержит описанный маркировочный аппарат, а также поворачивающее средство для осуществления поворота маркировочного аппарата относительно направления движения маркируемого объекта.
Как будет пояснено далее, осуществление поворота маркировочного аппарата позволяет изменять разрешение печати, т.е. расстояние между точками маркировки на объекте в направлении, перпендикулярном направлению движения объекта. Это разрешение задается расстоянием между пучками в указанном направлении. При этом расстояние между пучками в направлении движения объекта не оказывает неблагоприятного влияния на разрешение печати, поскольку моменты активирования лазеров могут быть задержаны до тех пор, пока объект не пройдет расстояние, равное расстоянию между пучками в направлении движения объекта.
Таким образом, можно изменять расстояние между пучками в направлении, перпендикулярном направлению движения объекта, осуществлением поворота маркировочного аппарата и, следовательно, упорядоченного набора лазерных пучков. Блок управления предпочтительно выполнен с возможностью поворачивать маркировочный аппарат с помощью поворачивающего средства в зависимости от желательного разрешения печати.
В случае линейной конфигурации лазерных пучков угол между линейной конфигурацией лазерных пучков и направлением движения объекта задает расстояния между точками маркировки на объекте в направлении, перпендикулярном направлению движения объекта. Расстояние между смежными точками маркировки является максимальным, если линейная конфигурация лазерных пучков перпендикулярна направлению движения объекта. Чтобы задать меньшее расстояние, можно уменьшить угол поворота. В сочетании с правильным выбором моментов срабатывания лазеров, угол поворота можно задать таким, чтобы точки маркировки формировали непрерывную линию или разделенные точки маркировки. Можно также формировать точки маркировки с взаимным наложением, чтобы обеспечить различные интенсивности точек маркировки, например в режиме печати по серой шкале. Кроме того, угол поворота может быть равен нулю, что приведет при введении соответствующих задержек между моментами испускания,
- 6 026082
т.е. моментами активирования лазеров, к полному наложению всех точек маркировки.
Перечень фигур, чертежей
Сущность изобретения, а также его различные особенности и преимущества станут более понятны из нижеследующего описания при его рассмотрении совместно с прилагаемыми чертежами, которые служат в качестве не вносящих ограничений иллюстраций и на которых сходные компоненты имеют сходные обозначения.
На фиг. 1 схематично изображен первый вариант маркировочного аппарата по изобретению; на фиг. 2А-2С представлена, на различных видах, первая конфигурация наборов телескопических средств и отклоняющих средств;
на фиг. 3А-3С представлена, на различных видах, вторая конфигурация наборов телескопических средств и отклоняющих средств;
на фиг. 4А и 4В представлена, на различных видах, третья конфигурация наборов телескопических средств и отклоняющих средств;
на фиг. 5 представлена еще одна конфигурация наборов телескопических средств и отклоняющих средств;
на фиг. 6 проиллюстрированы набор телескопических средств и конфигурация перестраивающих зеркал набора отклоняющих средств, служащая для придания лазерным пучкам двумерной конфигурации;
на фиг. 7 показаны маркировочная система согласно изобретению и маркируемый объект, движущийся относительно нее;
на фиг. 8Α-8Ό схематично проиллюстрированы варианты расположения лазерных пучков, выходящих из маркировочного аппарата по изобретению, относительно направления движения объекта, и формируемые ими маркировки.
Сведения, подтверждающие возможность осуществления изобретения
На фиг. 1 схематично изображен первый вариант маркировочного аппарата 100 согласно изобретению. Данный аппарат содержит множество лазеров 10, которые в представленном примере являются газовыми лазерами. Однако вместо них могут быть использованы и лазеры других типов. Каждый из газовых лазеров 10 может быть активирован для испускания лазерного пучка, используемого для получения маркировки на объекте (не изображен). Аппарат 100 содержит также оптические средства 30, 40, 45, 50, чтобы конфигурировать и направлять лазерные пучки.
В представленном примере множество газовых лазеров 10 состоит из 9 лазеров 10а-10т. В общем случае желательно иметь достаточно большое количество газовых лазеров 10, например по меньшей мере 4 или 6 лазеров. Каждый газовый лазер 10 содержит лазерные трубки 12, сообщающиеся одна с другой по текучей среде. Это означает, что лазерные трубки 12 одного газового лазера образуют общий объем. Сообщение по текучей среде допустимо также между лазерными трубками 12 различных лазеров 10.
В представленном варианте газовые лазеры являются СО2 лазерами; соответственно, активный газ содержит, среди прочих компонентов, СО2, Ν2 и Не.
Лазерные трубки 12 расположены в форме кольца, окружающего внутреннее (т.е. свободное центральное) пространство 5 между ними. Кольцо сформировано с использованием соединительных элементов 16 для соединения взаимно примыкающих лазерных трубок 12, принадлежащих одному лазеру. Соединительные элементы 16, расположенные по углам собранных в стопу лазеров, несут зеркала для отражения лазерного излучения из одной из взаимно примыкающих трубок 12 в другую. Разумеется, все зеркала подбираются с учетом используемого активного газа. В рассматриваемом варианте зеркала содержат материал, отражающий на длинах волн, испускаемых СО2 лазером, т.е. в средней ИК области, прежде всего, у 10,6 мкм. Так, могут использоваться медные зеркала и/или зеркала с подложкой и покрытием, повышающим отражательную способность и/или предотвращающим потемнение под действием воздуха.
В представленном примере лазерные трубки 12 образуют герметичное кольцо прямоугольной формы. В общем случае допустима и любая иная форма, обеспечивающая, по меньшей мере, частичный охват внутреннего пространства 5, такая как треугольная, квадратная или И-образная.
Лазерные трубки 12 каждого газового лазера 10а-10т образуют герметичный объем. Объемы различных лазеров могут быть отделены друг от друга или сообщаться, чтобы получить общий герметичный объем. При использовании герметизированных лазеров обычно представляется желательным, чтобы состав активного газа оставался постоянным в течение длительного периода. С этой целью суммарный объем газа увеличивают с помощью дополнительного газового резервуара 19. Газ в этом резервуаре не возбуждают с целью генерировать лазерное излучение. Вместо этого резервуар 19 соединяют с объемами одной или нескольких лазерных трубок 12.
Маркировочный аппарат 100 содержит также возбуждающие средства (не изображены) для каждой лазерной трубки 12 и охлаждающие блоки (не изображены), прикрепленные к лазерным трубкам 12. Может иметься один охлаждающий блок на каждой стороне кубической конфигурации лазерных трубок 12, так что каждый охлаждающий блок охлаждает не единственную лазерную трубку, а множество трубок 12 различных лазеров 10а-10т. В охлаждающих блоках может быть выполнено множество каналов,
- 7 026082 по которым может циркулировать хладагент.
Лазерные трубки 12 каждого лазера 10 находятся в отдельных, индивидуальных плоских слоях. Лазеры 10, по существу, идентичны, причем они установлены друг на друга и взаимно параллельны. Лазерные блоки 10 соединены друг с другом посредством соответствующих соединительных средств, таких как болты, винты и т.д.
Прямоугольный контур лазеров 10 может быть выполнен открытым (разомкнутым) на одном углу. В представленном варианте таким углом является левый верхний угол, в котором находится интегральный выходной фланец 17. В этом углу объем лазера завершается задним зеркалом 18 для отражения лазерного излучения обратно внутрь трубки 12. Заднее зеркало может быть присоединено к концу трубки 12, который поддерживается интегральным выходным фланцем 17, или непосредственно к этому фланцу.
Другой конец объема лазера завершается на том же углу выходным компонентом 13. Этот компонент, обеспечивающий выведение лазерного пучка, также может быть присоединен к концу трубки 12 или к интегральному выходному фланцу 17. Выходной компонент 13 может являться частично отражающим зеркалом и в этом случае рассматриваться как частично отражающий выходной компонент. Испускаемые лазерные пучки направляют во внутреннее пространство 5 посредством направляющих средств 14. В представленном варианте направляющее средство 14 содержит по меньшей мере одно зеркало, установленное на интегральном выходном фланце 17. Лазерные пучки, отраженные от направляющих средств 14, входят во внутреннее пространство 5 через отверстие в интегральном выходном фланце 17. В общем случае допустимо использовать один интегральный выходной фланец 17, общий для всех лазеров 10. В представленном варианте, однако, имеется по одному интегральному выходному фланцу 17 на каждый лазер 10, причем каждый интегральный выходной фланец 17 имеет одно направляющее средство 14 и одно отверстие, через которое может проходить соответствующий лазерный пучок.
Во внутреннем пространстве 5 находятся оптические средства 30, 40, 45, 50 для профилирования и отклонения лазерных пучков. Такая конфигурация позволяет уменьшить объем пространства, требуемого для аппарата. Кроме того, поскольку противолежащие лазерные трубки 12 каждого лазера разделены внутренним пространством 5, облегчается охлаждение трубок 12.
Лазерные пучки, отходящие от направляющих средств 14 (в данном варианте выполненных, как зеркала), направляются на набор 40 телескопических средств (или средств для профилирования пучка) с целью перефокусирования лазерных пучков. Набор 40 телескопических средств содержит одну линзу 40а-401 для каждого лазерного пучка. В дополнение, каждое телескопическое средство 40 содержит еще один оптический элемент, образованный в данном варианте зеркалом 14. Вместо него можно использовать и другие (неизображенные) оптические элементы. С помощью телескопических средств фокусные расстояния лазерных пучков могут задаваться независимо одно от другого. По сравнению со средством для профилирования пучка, состоящим только из одного оптического элемента для регулировки фокусного расстояния лазерного пучка, телескопическое средство облегчает такую регулировку, поскольку требует лишь небольших перемещений оптических элементов телескопического средства.
Затем лазерные пучки падают на набор 30 отклоняющих средств. В проиллюстрированном примере лазерные пучки сначала проходят сквозь наборы 40 средств для профилирования пучка. Однако этот порядок может быть изменен; альтернативно, элементы обоих наборов могут чередоваться, т.е. один элемент набора 40 для профилирования пучка может быть установлен между двумя элементами отклоняющего средства.
Допустимо также, чтобы направляющее средство 14 составляло часть набора 30 отклоняющих средств. В этом случае направляющие средства 14 могут составлять первый набор перестраивающих зеркал. В результате будет достигнуто желательное уменьшение количества оптических элементов.
В представленном варианте набор 30 отклоняющих средств содержит одно отклоняющее средство 33а-331 на каждый лазерный пучок. Эти отклоняющие средства могут рассматриваться также как первый набор 33 перестраивающих средств. В общем случае отклоняющими средствами могут быть любые средства, которые изменяют направление распространения лазерного пучка. В проиллюстрированном примере отклоняющими средствами являются зеркала. Зеркала могут устанавливаться независимо одно от другого. Как следствие, конфигурация лазерных пучков, падающих на отклоняющие средства набора 30, может быть изменена регулировкой положения индивидуальных зеркал 33а-331, которые, следовательно, могут рассматриваться как перестраивающие зеркала.
Перестраивающие зеркала 33а-331 установлены с возможностью поворота и поступательного перемещения. Для обеспечения возможности поворота каждое перестраивающее зеркало 33а-331 установлено в карданном подвесе. Блок управления (не изображен) может быть выполнен с возможностью задавать желательное положение каждого перестраивающего зеркала 33а-331, воздействуя на его подвес.
Лазерные пучки, отходящие от набора 30 отклоняющих средств, падают на общие оптические элементы, т.е. оптические элементы, на которые направлены все лазерные пучки. Эти элементы могут представлять собой телескопическое устройство 45 для совместной регулировки фокусов лазерных пучков. В отличие от описанного набора 40 телескопических средств, телескопическое устройство 45 воздействует в равной степени на все лазерные пучки.
- 8 026082
Оптические элементы, расположенные по ходу пучков, могут содержать также средства для изменения или повышения однородности профиля интенсивности лазерных пучков, средства для изменения поляризации лазерных пучков, в частности для обеспечения постоянной поляризации по всему поперечному сечению лазерного пучка или для деполяризации лазерных пучков.
В завершение, лазерные пучки выводятся из аппарата 100 посредством зеркального сканирующего устройства. Это устройство может содержать два гальванометрических сканера 50, в каждом из которых имеется общее поворотное зеркало 50а, на которое направлены все лазерные пучки. Наличие двух гальванометрических сканеров 50 позволяет легко задать для лазерных пучков любое направление распространения.
На фиг. 2А-2С представлен, на различных видах, первый вариант конфигурации набора 30 отклоняющих средств и набора 40 телескопических средств.
Чтобы обеспечить профилирование и коллимирование лазерных пучков 90а-90ц набор 40 телескопических средств содержит множество телескопических средств 40а-40ц которые могут быть идентичными. В каждом телескопическом средстве 40а-401 могут иметься по меньшей мере две линзы 41, 42. Для регулировки фокуса каждого лазерного пучка 90а-901 и тем самым размеров облучаемого пятна на маркируемом объекте можно перемещать линзы 41 и 42 в направлении распространения лазерных пучков 90а-901. Поскольку имеется по одному телескопическому средству 40а-401 на каждый лазерный пучок 90а-901, возможна также регулировка пучков с целью скомпенсировать различия их оптических длин пути.
После прохождения через телескопические средства 40а-401 лазерные пучки 90а-901 падают на набор 30 отклоняющих средств, который содержит первый и второй наборы 33, 34 перестраивающих зеркал. В результате каждый пучок 90а-901 излучения направляется одним из первых перестраивающих зеркал 33а-331 на одно из вторых перестраивающих зеркал 34а-34к Перестраивающие зеркала первого набора 33 и второго набора 34 сконфигурированы в виде линейных наборов 35, 36 соответственно.
В представленном примере лазерные пучки 90а-901 перестроены посредством набора 30 отклоняющих средств таким образом, что линейная конфигурация лазерных пучков оказывается развернутой, например, на 90°. Таким образом, описанная конфигурация может рассматривать как устройство попиксельной перестройки горизонтального линейного набора в вертикальный. Первый и второй наборы 33, 34 перестраивающих зеркал находятся в одной плоскости и перпендикулярны друг другу.
При использовании карданных подвесов наборы 33, 34 перестраивающих зеркал могут быть отрегулированы таким образом, чтобы выходящие лазерные пучки 90а-901 были взаимно параллельны и имели желательное направление.
Второй набор 34 перестраивающих зеркал может осуществлять сканирующее движение лазерных пучков 90а-901 для распечатывания знака на объекте. Альтернативно, этот набор может направлять лазерные пучки 90а-901 на зеркальное сканирующее устройство.
На фиг. 3А-3С схематично представлена, на различных видах, другая конфигурация набора 40 телескопических средств и набора 30 отклоняющих средств.
Эта конфигурация отличается от предыдущей построением первого и второго наборов 33, 34 перестраивающих зеркал. В рассматриваемом варианте эти наборы образуют линейные наборы, которые в отличие от предыдущей конфигурации не лежат в одной плоскости, а, с целью уменьшить расстояния между лазерными пучками 90а-90ц расположены относительно друг друга под углом, равным в этом варианте 45°. При этом линейная конфигурация лазерных пучков 90а-901 развернута на 90°.
В этом варианте каждое телескопическое средство содержит одну линзу и зеркало, которое служит также отклоняющим средством 33а-33к Если зеркало 33а-331 перемещено для изменения направления распространения соответствующего лазерного пучка 90а-90ц линза телескопического средства может быть соответственно перемещена так, чтобы фокус лазерного пучка 90а-901 остался на месте.
На фиг. 4А и 4В проиллюстрирована еще одна предпочтительная конфигурация наборов 33, 34 перестраивающих зеркал. Как и в предыдущих вариантах, конфигурация по фиг. 4А и 4В содержит перестраивающие зеркала первого и второго наборов 33, 34, каждый из которых сконфигурирован, как линейный набор 35, 36. Однако в данном варианте перестраивающие зеркала второго набора 34 повернуты (наклонены) таким образом, что отраженные лазерные пучки 90а-901 сближаются. Другими словами, с целью варьирования разрешения и размеров формируемых маркировок расстояния между пучками дополнительно уменьшаются с учетом желательного расстояния между ними на нужном расстоянии от аппарата.
Перестраивающие зеркала второго набора 34 предпочтительно выполнены поворотными (наклоняемыми) посредством карданных подвесов по командам блока управления. Перестраивающие зеркала первого набора 33 могут быть зафиксированы (что сделает невозможными смещения этих зеркала в процессе печати) или также установлены на карданных подвесах.
В вариантах, показанных на фиг. 1-4В, сканирующее движение лазерных пучков 90а-901 может осуществляться поворотом перестраивающих зеркал 34а-341 второго набора 34 перестраивающих зеркал. В этом случае сканирующие устройства типа гальванометрических сканеров с общим зеркалом для перенаправления всех лазерных пучков 90а-901 не являются обязательными. Однако наличие таких скани- 9 026082 рующих устройств также может быть полезным.
Для придания отклоняющим средствам любой из конфигураций по фиг. 1, 2А-2С, 3А-3С и 4А, 4В целесообразно использовать блок управления.
На фиг. 5 схематично показана другая конфигурация перестраивающих зеркал 33а-33к В этом варианте набор 30 отклоняющих средств состоит из единственного набора 33 перестраивающих зеркал. Образующие линейную конфигурацию лазерные пучки 90а-90ц прошедшие через телескопические средства 40а-401, отражаются от перестраивающих зеркал 33а-331 таким образом, что расстояния между этими пучками уменьшаются. При этом расстояния между любыми двумя смежными отраженными лазерными пучками 90а-901 равны между собой. В проиллюстрированном примере линейная конфигурация лазерных пучков 90а-901 не разворачивается относительно плоскости, задаваемой перестраивающими зеркалами 33а-331 и телескопическими средствами 40а-40ь Подобный разворот перестраивающих зеркал привел бы к изменению расстояний между пучками. Поэтому в данном варианте сканирующее движение лазерных пучков 90а-901 посредством набора 30 отклоняющих средств не производится. Вместо этого используется по меньшей мере одно сканирующее устройство типа показанного на фиг. 1.
Уменьшение расстояний между пучками позволяет оптимизировать конструкцию стопы газовых лазеров в отношении охлаждения посредством теплопроводности и радиочастотного возбуждения без ухудшения разрешения или ограничений на размеры печатаемых знаков, т.е. удается компенсировать значительные расстояния между газовыми лазерами.
На фиг. 6 представлена конфигурация перестраивающих зеркал для перестраивания лазерных пучков 90а-901 в двумерную конфигурацию этих пучков, например в виде квадрата 3x3. В этом случае набор 30 отклоняющих средств также содержит первый и второй наборы 33, 34 перестраивающих зеркал. В проиллюстрированном примере телескопические средства 40а-401 установлены между первым и вторым наборами 33, 34 перестраивающих зеркал. Однако вместо этого телескопические средства 40а-401 могут находиться перед первым набором 33 или за вторым набором 34 перестраивающих зеркал.
На фиг. 6 показаны также направляющие средства, которые перенаправляют пучки 90а-901 излучения, идущие от лазеров к первому набору 33 перестраивающих зеркал. Эти средства образованы набором зеркал 14а-14Н В других вариантах данный набор может быть заменен одним длинным зеркалом.
Перестраивающие зеркала 34а-341 второго набора сконфигурированы в виде двумерного набора, придающего отраженным от них лазерным пучкам 90а-901 двумерную конфигурацию. Преимущество данного варианта состоит в существенном уменьшении расстояния между наиболее удаленными друг от друга лазерными пучками 90а, 90ί, особенно по сравнению с любой линейной конфигурацией лазерных пучков. Пучки сгруппированы значительно более плотно, так что они проходят через центральные части оптических элементов, включая фокусирующую оптику 45. Поскольку оптические аберрации создаются, в основном, наружными зонами оптических элементов, двумерная конфигурация обеспечивает преимущество улучшенной фокусировки и улучшенного качества лазерных пучков. Уменьшение дисторсии по сравнению с линейной конфигурацией лазерных пучков особенно заметно для наружных лазерных пучков. В дополнение, можно уменьшить размеры оптических элементов, что приведет к снижению общей себестоимости аппарата.
На фиг. 7 схематично показана маркировочная система 120 и маркируемый объект 1.
Объект 1, движущийся в направлении 2, представлен в трех различных положениях, т.е. в три различных момента. Маркировочная система 120 содержит маркировочный аппарат 100 и поворачивающее средство 110 для осуществления поворота маркировочного аппарата 100.
Маркировочный аппарат 100 может содержать любые из описанных компонентов, например отклоняющие средства, образованные двумя наборами перестраивающих зеркал, сконфигурированными, как линейные наборы. Как это показано на фиг. 7, имеются также блок 20 управления и позиционирующие средства 60, служащие для позиционирования линейных наборов перестраивающих зеркал. Индивидуальные перестраивающие зеркала соответствующего набора могут быть установлены без возможности поступательного перемещения, но с возможностью поворота (наклона), например, с использованием карданных подвесов.
Маркировочный аппарат 100 испускает множество лазерных пучков, три из которых (пучки 90а, 90Ь, 90с) показаны на фиг. 7. В процессе движения объекта 1 соответственно изменяются направления лазерных пучков 90а, 90Ь, 90с.
Изменение (обозначенное, как ά) расстояния между аппаратом 100 и объектом 1 может зависеть от формы и положения объекта 1. Кроме того, в конкретный момент это расстояние для каждого лазерного пучка 90а, 90Ь, 90с может быть различным. Несмотря на это размеры пятен, облучаемых лазерными пучками 90а, 90Ь, 90с на объекте 1, должны быть одинаковыми. С этой целью предусмотрены описанные средства для профилирования пучка, настраиваемые блоком 20 управления.
Далее, со ссылками на фиг. 8Α-8Ό, на которых схематично проиллюстрировано расположение лазерных пучков 90а-901, испускаемых аппаратом 100, относительно направления 2 движения объекта, будет пояснено функционирование поворачивающего средства 110.
Фиг. 8А соответствует линейной конфигурации лазерных пучков 90а-90ц параллельных направлению движения объекта. По меньшей мере два из лазерных пучков 90а-901 падают на один и тот же уча- 10 026082 сток 80 на объекте 1 в результате индивидуального подбора задержек активации газовых лазеров. Так, задержка может быть задана равной расстоянию между лазерными пучками 90а-901, деленному на скорость объекта или на составляющую этой скорости в направлении к линейной конфигурации лазерных пучков.
На фиг. 8Β-8Ό линейная конфигурация лазерных пучков 90а-901 развернута, например, с помощью поворачивающего средства 110 относительно направления 2 движения объекта на угол α. В совокупности с задержкой активирования данный разворот приводит к распечатыванию линии, образованной точками (пятнами) 81-89. Эти точки 81-89 могут иметь частичное наложение (см. фиг. 8В) или быть пространственно разделены (см. фиг. 8С и 8И). Длина сформированной таким образом линии задается углами между лазерными пучками 90а-901 и направлением 2 движения объекта. Размер каждой из точек 8189 и, следовательно, ширина линии могут задаваться с помощью средств для профилирования пучка.
Описанный маркировочный аппарат обеспечивает, с помощью набора телескопических средств, желательную возможность индивидуально профилировать каждый лазерный пучок. Кроме того, посредством набора отклоняющих средств можно изменять расстояния между пучками и конфигурацию множества лазерных пучков. Размещение оптических элементов, в частности входящих в состав телескопических и отклоняющих средств, в пространстве, окруженном газовыми лазерами, позволяет ослабить пространственные ограничения.
Claims (15)
- ФОРМУЛА ИЗОБРЕТЕНИЯ1. Маркировочный аппарат для маркировки объекта (1) посредством лазерного излучения, содержащий множество лазеров (10), в частности газовых лазеров (10);блок (20) управления, обеспечивающий индивидуальное активирование каждого из лазеров (10) для испускания лазерного пучка (90а-90Д в соответствии с наносимым знаком;телескопическое устройство (45), способное принимать пучки (90а-901) всех указанных лазеров для совместной регулировки фокусов указанных пучков; и набор (30) отклоняющих средств, выполненных с возможностью направлять лазерные пучки (90а90ΐ) на маркируемый объект (1), отличающийся тем, что набор (30) отклоняющих средств содержит по меньшей мере одно отклоняющее средство (33а-33ц 34а-34Д на каждый лазерный пучок (90а-901) для гибкого перестраивания лазерных пучков (90а-90Д с получением любой их желательной конфигурации, причем каждое отклоняющее средство (33а-33ц 34а34ΐ) выполнено с возможностью индивидуальной регулировки обеспечиваемого им направления отклонения и/или с возможностью индивидуального смещения, а маркировочный аппарат дополнительно содержит набор (40) телескопических средств, содержащий по меньшей мере одно телескопическое средство (40а-40Д на каждый лазерный пучок (90а-90Д, причем каждое телескопическое средство (40а-401) является регулируемым для осуществления индивидуальной настройки фокусного расстояния соответствующего лазерного пучка (90а-901), при этом блок (20) управления способен управлять телескопическими средствами (40а-401) с возможностью компенсировать различия в оптических длинах пути лазерных пучков (90а-90Д, обусловленные конфигурацией отклоняющих средств (33а-33ц 34а-34Д; и по меньшей мере одно зеркальное сканирующее устройство (50), содержащее общее зеркало, на которое направлены все лазерные пучки (90а-90Д, отходящие от набора отклоняющих средств (30), причем блок (20) управления выполнен с возможностью обеспечения поворота зеркального сканирующего устройства (50).
- 2. Маркировочный аппарат по п.1, отличающийся тем, что каждое телескопическое средство (40а40Ϊ) содержит по меньшей мере два оптических элемента (41, 42), установленных с возможностью регулировки расстояния между ними для осуществления настройки фокусного расстояния, в частности по меньшей мере две линзы или два криволинейных зеркала.
- 3. Маркировочный аппарат по п.1 или 2, отличающийся тем, что каждое отклоняющее средство (33а-331, 34а-34Д представляет собой перестраивающее зеркало (33а-33ц 34а-34Д или световод.
- 4. Маркировочный аппарат по любому из пп.1-3, отличающийся тем, что каждое телескопическое средство (40а-40Д содержит зеркало, которое является одним из перестраивающих зеркал (33а-33ц 34а34ΐ), и оптический элемент, установленный с возможностью смещения относительно перестраивающего зеркала (33а-33ц 34а-341), в частности линзу или криволинейное зеркало.
- 5. Маркировочный аппарат по любому из пп.1-4, отличающийся тем, что каждый лазер (10а-10Д является газовым лазером, содержащим лазерные трубки (12), которые, по меньшей мере, частично окружают внутреннее пространство (5) указанного аппарата, который дополнительно содержит направляющие средства (14), выполненные с возможностью направлять лазерные пучки (90а-901), испускаемые лазерами (10а-101), во внутреннее пространство (5), и входящие в состав телескопических средств (40а-40Д.
- 6. Маркировочный аппарат по любому из пп.1-5, отличающийся тем, что каждый лазер (10а-10т) со- 11 026082 держит выходной компонент (13) для выведения лазерного пучка (90а-90т), при этом выходные компоненты (13) лазеров (10а-10т) входят в состав набора (40) телескопических средств.
- 7. Маркировочный аппарат по п.6, отличающийся тем, что с целью замещения лазерного пучка вышедшего из строя лазера блок (20) управления выполнен с возможностью регулировки набора (30) отклоняющих средств и набора (40) телескопических средств с обеспечением отклонения пучка (90а-90т) функционирующего лазера (10а-10т) в направлении отклонения дефектного лазерного пучка (90а-90т).
- 8. Маркировочный аппарат по любому из пп.1-7, отличающийся тем, что блок (20) управления выполнен с возможностями уменьшать разрешение наносимого знака в случае выхода из строя лазера (10а-10т); активировать функционирующие лазеры (10а-10т) для испускания лазерных пучков (90а-90т) в соответствии с пониженным разрешением для знака;настраивать наборы (30, 40) отклоняющих средств и телескопических средств в соответствии с пониженным разрешением для знака.
- 9. Маркировочный аппарат по любому из пп.1-8, отличающийся тем, что отклоняющие средства (33а-33т, 34а-34т) настроены так, чтобы обеспечить уменьшение расстояния между лазерными пучками (90а-901).
- 10. Маркировочный аппарат по любому из пп.1-9, отличающийся тем, что набор (30) отклоняющих средств содержит первый и второй наборы (33, 34) перестраивающих зеркал, каждый набор (33, 34) перестраивающих зеркал содержит по меньшей мере одно перестраивающее зеркало (33а-33т, 34а-34т) на каждый лазерный пучок (90а-90т), а первый набор (33) перестраивающих зеркал способен направлять лазерные пучки (90а-90т) на второй набор (34) перестраивающих зеркал.
- 11. Маркировочный аппарат по п.10, отличающийся тем, что каждый из первого и второго наборов (33, 34) перестраивающих зеркал сконфигурирован как линейный набор (35, 36), а каждое перестраивающее зеркало (33а-33т, 34а-34т) установлено с возможностью поворота.
- 12. Маркировочный аппарат по любому из пп.1-11, отличающийся тем, что блок (20) управления выполнен с возможностью управления отклоняющими средствами (33а-33т, 34а-34т) для задания степени сближения или разведения лазерных пучков (90а-90т), отходящих от отклоняющих средств (33а-33т, 34а34ΐ).
- 13. Маркировочный аппарат по любому из пп.1-12, отличающийся тем, что каждое отклоняющее средство содержит световод, при этом все световоды имеют одинаковую длину.
- 14. Маркировочный аппарат по любому из пп.1-13, отличающийся тем, что блок (20) управления выполнен с дополнительной возможностью регулировки набора (30) отклоняющих средств для направления пучков по меньшей мере двух лазеров (10) в одну общую точку.
- 15. Маркировочная система, содержащая маркировочный аппарат (100), выполненный согласно любому из пп.1-14, и поворачивающее средство (110) для осуществления поворота маркировочного аппарата (100) относительно направления (2) движения маркируемого объекта (1).
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
EP11007181.8A EP2564972B1 (en) | 2011-09-05 | 2011-09-05 | Marking apparatus with a plurality of lasers, deflection means and telescopic means for each laser beam |
PCT/EP2012/003065 WO2013034210A1 (en) | 2011-09-05 | 2012-07-19 | Marking apparatus with a plurality of lasers, deflection means and telescopic means for each laser beam |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
EA201490242A1 EA201490242A1 (ru) | 2014-08-29 |
EA026082B1 true EA026082B1 (ru) | 2017-02-28 |
Family
ID=46679235
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
EA201490242A EA026082B1 (ru) | 2011-09-05 | 2012-07-19 | Устройство для маркировки, включающее множество лазеров, а также средства отклонения и телескопические средства для каждого лазера |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9573227B2 (ru) |
EP (1) | EP2564972B1 (ru) |
CN (1) | CN103781584B (ru) |
BR (1) | BR112014003941A2 (ru) |
EA (1) | EA026082B1 (ru) |
WO (1) | WO2013034210A1 (ru) |
Families Citing this family (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DK2564973T3 (en) | 2011-09-05 | 2015-01-12 | Alltec Angewandte Laserlicht Technologie Ges Mit Beschränkter Haftung | Marking apparatus having a plurality of lasers and a kombineringsafbøjningsindretning |
EP2565994B1 (en) | 2011-09-05 | 2014-02-12 | ALLTEC Angewandte Laserlicht Technologie Gesellschaft mit beschränkter Haftung | Laser device and method for marking an object |
EP2564972B1 (en) | 2011-09-05 | 2015-08-26 | ALLTEC Angewandte Laserlicht Technologie Gesellschaft mit beschränkter Haftung | Marking apparatus with a plurality of lasers, deflection means and telescopic means for each laser beam |
ES2530070T3 (es) | 2011-09-05 | 2015-02-26 | ALLTEC Angewandte Laserlicht Technologie Gesellschaft mit beschränkter Haftung | Aparato de marcado con una pluralidad de láseres y conjuntos ajustables individualmente de medios de desviación |
EP2564974B1 (en) | 2011-09-05 | 2015-06-17 | ALLTEC Angewandte Laserlicht Technologie Gesellschaft mit beschränkter Haftung | Marking apparatus with a plurality of gas lasers with resonator tubes and individually adjustable deflection means |
EP2564976B1 (en) | 2011-09-05 | 2015-06-10 | ALLTEC Angewandte Laserlicht Technologie Gesellschaft mit beschränkter Haftung | Marking apparatus with at least one gas laser and heat dissipator |
CA172005S (en) * | 2016-12-01 | 2017-08-11 | Riegl Laser Measurement Systems Gmbh | Laser scanner for surveying, for topographical and distance measurement |
CN113510381A (zh) * | 2021-04-19 | 2021-10-19 | 苏州实创德光电科技有限公司 | 一种高速多路在线激光打标系统及方法 |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5115446A (en) * | 1990-09-19 | 1992-05-19 | Trumpf Lasertechnik Gmbh | Device for a power laser |
US5339737A (en) * | 1992-07-20 | 1994-08-23 | Presstek, Inc. | Lithographic printing plates for use with laser-discharge imaging apparatus |
GB2304641A (en) * | 1995-09-07 | 1997-03-26 | Alexander Paul Sator | System for marking articles using radiation sources |
JP2001276986A (ja) * | 2000-03-29 | 2001-10-09 | Nec Corp | レーザ加工装置及び方法 |
US6421159B1 (en) * | 1996-09-11 | 2002-07-16 | The Domino Corporation | Multiple beam laser marking apparatus |
US20050056626A1 (en) * | 2003-09-12 | 2005-03-17 | Orbotech Ltd | Multiple beam micro-machining system and method |
Family Cites Families (277)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2359780A (en) | 1938-10-29 | 1944-10-10 | Muffly Glenn | Refrigerating mechanism |
GB1016576A (en) * | 1962-08-22 | 1966-01-12 | Varian Associates | Optical maser |
US3628175A (en) * | 1963-11-29 | 1971-12-14 | Perkin Elmer Corp | Optical maser having concentric reservoirs and cylindrical resonator |
US3564452A (en) * | 1965-08-23 | 1971-02-16 | Spectra Physics | Laser with stable resonator |
US3465358A (en) * | 1966-07-21 | 1969-09-02 | Bell Telephone Labor Inc | Q-switched molecular laser |
US3533012A (en) * | 1967-02-10 | 1970-10-06 | Optics Technology Inc | Laser apparatus and method of aligning same |
US3638137A (en) * | 1969-01-10 | 1972-01-25 | Hughes Aircraft Co | Method of q-switching and mode locking a laser beam and structure |
GB1269892A (en) * | 1969-03-20 | 1972-04-06 | Messerschmitt Boelkow Blohm | Weapon system for the detection of and use against stationary or moving objects |
US3596202A (en) * | 1969-03-28 | 1971-07-27 | Bell Telephone Labor Inc | Carbon dioxide laser operating upon a vibrational-rotational transition |
US3721915A (en) * | 1969-09-19 | 1973-03-20 | Avco Corp | Electrically excited flowing gas laser and method of operation |
US3646476A (en) * | 1969-11-24 | 1972-02-29 | Coherent Radiation Lab | Pulsed gas ion laser |
US3662281A (en) * | 1970-02-11 | 1972-05-09 | Union Carbide Corp | Method and means for compensating birefringence in laser systems |
US3602837A (en) * | 1970-03-31 | 1971-08-31 | Us Army | Method and apparatus for exciting an ion laser at microwave frequencies |
CH522287A (de) | 1970-04-13 | 1972-06-15 | Inst Angewandte Physik | Niederdruck-Gasentladungsrohr für Laser |
US3801929A (en) * | 1972-07-31 | 1974-04-02 | Asahi Optical Co Ltd | Gas laser apparatus having low temperature sensitivity |
US3851272A (en) * | 1973-01-02 | 1974-11-26 | Coherent Radiation | Gaseous laser with cathode forming optical resonator support and plasma tube envelope |
US3900804A (en) * | 1973-12-26 | 1975-08-19 | United Aircraft Corp | Multitube coaxial closed cycle gas laser system |
US3919663A (en) | 1974-05-23 | 1975-11-11 | United Technologies Corp | Method and apparatus for aligning laser reflective surfaces |
US4053851A (en) * | 1975-07-10 | 1977-10-11 | The United States Of America As Represented By The United States Energy Research And Development Administration | Near 16 micron CO2 laser system |
GB1495477A (en) | 1975-10-31 | 1977-12-21 | Taiwan Fan Shun Co Ltd | Drinking water supply apparatus for vehicles |
IL49999A (en) * | 1976-01-07 | 1979-12-30 | Mochida Pharm Co Ltd | Laser apparatus for operations |
US4131782A (en) | 1976-05-03 | 1978-12-26 | Lasag Ag | Method of and apparatus for machining large numbers of holes of precisely controlled size by coherent radiation |
US4122853A (en) * | 1977-03-14 | 1978-10-31 | Spectra-Med | Infrared laser photocautery device |
US4125755A (en) * | 1977-06-23 | 1978-11-14 | Western Electric Co., Inc. | Laser welding |
US4189687A (en) | 1977-10-25 | 1980-02-19 | Analytical Radiation Corporation | Compact laser construction |
US4170405A (en) | 1977-11-04 | 1979-10-09 | United Technologies Corporation | Resonator having coupled cavities with intercavity beam expansion elements |
US4376496A (en) | 1979-10-12 | 1983-03-15 | The Coca-Cola Company | Post-mix beverage dispensing system syrup package, valving system, and carbonator therefor |
JPS5764718A (en) | 1980-10-09 | 1982-04-20 | Hitachi Ltd | Laser beam printer |
US4404571A (en) | 1980-10-14 | 1983-09-13 | Canon Kabushiki Kaisha | Multibeam recording apparatus |
JPS5843588A (ja) | 1981-09-09 | 1983-03-14 | Hitachi Ltd | レ−ザ発生装置 |
US4500996A (en) * | 1982-03-31 | 1985-02-19 | Coherent, Inc. | High power fundamental mode laser |
US4477907A (en) * | 1982-05-03 | 1984-10-16 | American Laser Corporation | Low power argon-ion gas laser |
US4554666A (en) * | 1982-11-24 | 1985-11-19 | Rca Corporation | High-energy, single longitudinal mode hybrid laser |
WO1984002296A1 (en) * | 1982-12-17 | 1984-06-21 | Inoue Japax Res | Laser machining apparatus |
US4512639A (en) * | 1983-07-05 | 1985-04-23 | The United States Of American As Represented By The Secretary Of The Army | Erectable large optic for outer space application |
US4596018A (en) * | 1983-10-07 | 1986-06-17 | Minnesota Laser Corp. | External electrode transverse high frequency gas discharge laser |
FR2556262B1 (fr) * | 1983-12-09 | 1987-02-20 | Ressencourt Hubert | La presente invention concerne un centre de faconnage de materiaux en feuilles a commande numerique |
US4660209A (en) * | 1983-12-29 | 1987-04-21 | Amada Engineering & Service Co., Inc. | High speed axial flow type gas laser oscillator |
US4652722A (en) * | 1984-04-05 | 1987-03-24 | Videojet Systems International, Inc. | Laser marking apparatus |
US4614913A (en) * | 1984-04-30 | 1986-09-30 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Army | Inherently boresighted laser weapon alignment subsystem |
US4655547A (en) * | 1985-04-09 | 1987-04-07 | Bell Communications Research, Inc. | Shaping optical pulses by amplitude and phase masking |
US4744090A (en) | 1985-07-08 | 1988-05-10 | Trw Inc. | High-extraction efficiency annular resonator |
DD256440A3 (de) * | 1986-01-09 | 1988-05-11 | Halle Feinmech Werke Veb | Anordnung zur wellenlaengenselektion und internen leistungsmodulation der strahlung von hochleistungs-co tief 2-lasern |
DD256439A3 (de) * | 1986-01-09 | 1988-05-11 | Halle Feinmech Werke Veb | Verfahren zur steuerung der inneren und unterdrueckung der aeusseren strahlungsrueckkopplung eines co tief 2-hochleistungslasers |
WO1987005750A1 (en) * | 1986-03-12 | 1987-09-24 | Weiss Hardy P | Axial gas laser and process for stabilizing its operation |
US4672620A (en) * | 1986-05-14 | 1987-06-09 | Spectra-Physics, Inc. | Fast axial flow carbon dioxide laser |
US4727235A (en) | 1986-08-07 | 1988-02-23 | Videojet Systems International, Inc. | Method and apparatus for equalizing power output in a laser marking system |
US4720618A (en) | 1986-08-07 | 1988-01-19 | Videojet Systems International, Inc. | Method and apparatus for equalizing power output in a laser marking system |
US4831333A (en) * | 1986-09-11 | 1989-05-16 | Ltv Aerospace & Defense Co. | Laser beam steering apparatus |
JPS6394695A (ja) | 1986-10-08 | 1988-04-25 | Nec Corp | ガスレ−ザ発振器 |
US4779278A (en) * | 1986-12-05 | 1988-10-18 | Laser Photonics, Inc. | Laser apparatus and method for discriminating against higher order modes |
US4846550A (en) * | 1987-01-07 | 1989-07-11 | Allied-Signal Inc. | Optical wedges used in beam expander for divergence control of laser |
US5162940A (en) * | 1987-03-06 | 1992-11-10 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Air Force | Multiple energy level, multiple pulse rate laser source |
SE460570B (sv) | 1987-10-13 | 1989-10-23 | Trumpf Gmbh & Co | Anordning foer en effektlaser |
WO1989006872A1 (en) * | 1988-01-21 | 1989-07-27 | Siemens Aktiengesellschaft | Gas laser |
US5012259A (en) | 1988-01-28 | 1991-04-30 | Konica Corporation | Color recorder with gas laser beam scanning |
JP2592085B2 (ja) * | 1988-02-09 | 1997-03-19 | マツダ株式会社 | アンチロック装置 |
US4819246A (en) * | 1988-03-23 | 1989-04-04 | Aerotech, Inc. | Single frequency adapter |
US4770482A (en) * | 1988-07-17 | 1988-09-13 | Gte Government Systems Corporation | Scanning system for optical transmitter beams |
US5052017A (en) * | 1988-12-01 | 1991-09-24 | Coherent, Inc. | High power laser with focusing mirror sets |
US5023886A (en) * | 1988-12-01 | 1991-06-11 | Coherent, Inc. | High power laser with focusing mirror sets |
US4953176A (en) * | 1989-03-07 | 1990-08-28 | Spectra-Physics | Angular optical cavity alignment adjustment utilizing variable distribution cooling |
US4958900A (en) * | 1989-03-27 | 1990-09-25 | General Electric Company | Multi-fiber holder for output coupler and methods using same |
GB8912765D0 (en) * | 1989-06-02 | 1989-07-19 | Lumonics Ltd | A laser |
US5268921A (en) | 1989-07-03 | 1993-12-07 | Mclellan Edward J | Multiple discharge gas laser apparatus |
DE3937370A1 (de) | 1989-11-09 | 1991-05-16 | Otto Bihler | Laser |
US4991149A (en) | 1989-12-07 | 1991-02-05 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Navy | Underwater object detection system |
US5065405A (en) * | 1990-01-24 | 1991-11-12 | Synrad, Incorporated | Sealed-off, RF-excited gas lasers and method for their manufacture |
US5109149A (en) | 1990-03-15 | 1992-04-28 | Albert Leung | Laser, direct-write integrated circuit production system |
US5214658A (en) * | 1990-07-27 | 1993-05-25 | Ion Laser Technology | Mixed gas ion laser |
DE4029187C2 (de) | 1990-09-14 | 2001-08-16 | Trumpf Lasertechnik Gmbh | Längsgeströmter CO¶2¶-Laser |
GB2249843A (en) | 1990-10-25 | 1992-05-20 | Robert Peter Sunman | Image production |
US5653900A (en) * | 1991-01-17 | 1997-08-05 | United Distillers Plc | Dynamic laser marking |
US5229574A (en) | 1991-10-15 | 1993-07-20 | Videojet Systems International, Inc. | Print quality laser marker apparatus |
US5229573A (en) | 1991-10-15 | 1993-07-20 | Videojet Systems International, Inc. | Print quality laser marker apparatus |
JPH05129678A (ja) | 1991-10-31 | 1993-05-25 | Shibuya Kogyo Co Ltd | レーザマーキング装置 |
ATE218904T1 (de) * | 1991-11-06 | 2002-06-15 | Shui T Lai | Vorrichtung für hornhautchirurgie |
US5199042A (en) * | 1992-01-10 | 1993-03-30 | Litton Systems, Inc. | Unstable laser apparatus |
JPH0645711A (ja) * | 1992-01-14 | 1994-02-18 | Boreal Laser Inc | スラブレーザのアレイ |
US5572538A (en) | 1992-01-20 | 1996-11-05 | Miyachi Technos Corporation | Laser apparatus and accessible, compact cooling system thereof having interchangeable flow restricting members |
JP2872855B2 (ja) * | 1992-02-19 | 1999-03-24 | ファナック株式会社 | レーザ発振器 |
DE4212390A1 (de) | 1992-04-13 | 1993-10-14 | Baasel Carl Lasertech | Strahlführungssystem für mehrere Laserstrahlen |
US5337325A (en) | 1992-05-04 | 1994-08-09 | Photon Imaging Corp | Semiconductor, light-emitting devices |
AU674518B2 (en) * | 1992-07-20 | 1997-01-02 | Presstek, Inc. | Lithographic printing plates for use with laser-discharge imaging apparatus |
JP2980788B2 (ja) * | 1992-10-21 | 1999-11-22 | 三菱電機株式会社 | レーザ装置 |
JP2725569B2 (ja) * | 1992-11-18 | 1998-03-11 | 松下電器産業株式会社 | レーザ発振器 |
US5274661A (en) * | 1992-12-07 | 1993-12-28 | Spectra Physics Lasers, Inc. | Thin film dielectric coating for laser resonator |
JP3022016B2 (ja) * | 1992-12-28 | 2000-03-15 | 松下電器産業株式会社 | 軸流形レーザ発振器 |
US5729568A (en) | 1993-01-22 | 1998-03-17 | Deutsche Forschungsanstalt Fuer Luft-Und Raumfahrt E.V. | Power-controlled, fractal laser system |
US5294774A (en) * | 1993-08-03 | 1994-03-15 | Videojet Systems International, Inc. | Laser marker system |
US5431199A (en) | 1993-11-30 | 1995-07-11 | Benjey, Robert P | Redundant seal for vehicle filler neck |
JPH07211972A (ja) * | 1994-01-20 | 1995-08-11 | Fanuc Ltd | レーザ発振器 |
DE4402054A1 (de) * | 1994-01-25 | 1995-07-27 | Zeiss Carl Fa | Gaslaser und Gasnachweis damit |
US5386427A (en) * | 1994-02-10 | 1995-01-31 | Massachusetts Institute Of Technology | Thermally controlled lenses for lasers |
EP0745282B1 (en) * | 1994-02-15 | 1999-05-12 | Coherent, Inc. | System for minimizing the depolarization of a laser beam due to thermally induced birefringence |
JPH07246488A (ja) * | 1994-03-11 | 1995-09-26 | Fanuc Ltd | レーザ加工装置 |
US5767477A (en) * | 1994-03-23 | 1998-06-16 | Domino Printing Sciences Plc | Laser marking apparatus for marking twin-line messages |
US5568306A (en) * | 1994-10-17 | 1996-10-22 | Leonard Tachner | Laser beam control and imaging system |
JPH08139391A (ja) * | 1994-11-02 | 1996-05-31 | Fanuc Ltd | レーザ共振器 |
US5929337A (en) | 1994-11-11 | 1999-07-27 | M & A Packaging Services Limited | Non-mechanical contact ultrasound system for monitoring contents of a moving container |
US5550853A (en) * | 1994-12-21 | 1996-08-27 | Laser Physics, Inc. | Integral laser head and power supply |
US5659561A (en) * | 1995-06-06 | 1997-08-19 | University Of Central Florida | Spatial solitary waves in bulk quadratic nonlinear materials and their applications |
US5689363A (en) * | 1995-06-12 | 1997-11-18 | The Regents Of The University Of California | Long-pulse-width narrow-bandwidth solid state laser |
JP3427573B2 (ja) | 1995-06-27 | 2003-07-22 | 松下電器産業株式会社 | マイクロ波励起ガスレーザ発振装置 |
US5646907A (en) | 1995-08-09 | 1997-07-08 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Navy | Method and system for detecting objects at or below the water's surface |
US5592504A (en) | 1995-10-10 | 1997-01-07 | Cameron; Harold A. | Transversely excited non waveguide RF gas laser configuration |
US5661746A (en) | 1995-10-17 | 1997-08-26 | Universal Laser Syatems, Inc. | Free-space gas slab laser |
US5682262A (en) * | 1995-12-13 | 1997-10-28 | Massachusetts Institute Of Technology | Method and device for generating spatially and temporally shaped optical waveforms |
US5720894A (en) * | 1996-01-11 | 1998-02-24 | The Regents Of The University Of California | Ultrashort pulse high repetition rate laser system for biological tissue processing |
FR2748519B1 (fr) | 1996-05-10 | 1998-06-26 | Valeo Thermique Moteur Sa | Dispositif de refroidissement d'un moteur avec reservoir de fluide thermiquement isole |
US5837962A (en) * | 1996-07-15 | 1998-11-17 | Overbeck; James W. | Faster laser marker employing acousto-optic deflection |
US5808268A (en) * | 1996-07-23 | 1998-09-15 | International Business Machines Corporation | Method for marking substrates |
DE19634190C2 (de) * | 1996-08-23 | 2002-01-31 | Baasel Carl Lasertech | Mehrkopf-Lasergravuranlage |
US6050486A (en) | 1996-08-23 | 2000-04-18 | Pitney Bowes Inc. | Electronic postage meter system separable printer and accounting arrangement incorporating partition of indicia and accounting information |
US5864430A (en) * | 1996-09-10 | 1999-01-26 | Sandia Corporation | Gaussian beam profile shaping apparatus, method therefor and evaluation thereof |
US6064034A (en) * | 1996-11-22 | 2000-05-16 | Anolaze Corporation | Laser marking process for vitrification of bricks and other vitrescent objects |
US5815523A (en) | 1996-11-27 | 1998-09-29 | Mcdonnell Douglas Corporation | Variable power helix laser amplifier and laser |
JP3932207B2 (ja) * | 1997-03-14 | 2007-06-20 | デマリア エレクトロオプティックス システムズ アイエヌシー | 無線周波数励起導波レーザ |
US6141030A (en) | 1997-04-24 | 2000-10-31 | Konica Corporation | Laser exposure unit including plural laser beam sources differing in wavelength |
US6122562A (en) | 1997-05-05 | 2000-09-19 | Applied Materials, Inc. | Method and apparatus for selectively marking a semiconductor wafer |
FR2766115B1 (fr) * | 1997-07-18 | 1999-08-27 | Commissariat Energie Atomique | Dispositif et procede de decoupe a distance etendue par laser, en mode impulsionnel |
DE19734715A1 (de) * | 1997-08-11 | 1999-02-25 | Lambda Physik Gmbh | Vorrichtung zum Spülen des Strahlenganges eines UV-Laserstrahles |
US6069843A (en) | 1997-08-28 | 2000-05-30 | Northeastern University | Optical pulse induced acoustic mine detection |
US6263007B1 (en) | 1998-03-23 | 2001-07-17 | T & S Team Incorporated | Pulsed discharge gas laser having non-integral supply reservoir |
JP3041599B2 (ja) | 1998-05-14 | 2000-05-15 | セイコーインスツルメンツ株式会社 | 座標出し光学式観察装置および位置情報蓄積方法 |
US6898216B1 (en) * | 1999-06-30 | 2005-05-24 | Lambda Physik Ag | Reduction of laser speckle in photolithography by controlled disruption of spatial coherence of laser beam |
US6181728B1 (en) * | 1998-07-02 | 2001-01-30 | General Scanning, Inc. | Controlling laser polarization |
US6057871A (en) | 1998-07-10 | 2000-05-02 | Litton Systems, Inc. | Laser marking system and associated microlaser apparatus |
DE19840926B4 (de) * | 1998-09-08 | 2013-07-11 | Hell Gravure Systems Gmbh & Co. Kg | Anordnung zur Materialbearbeitung mittels Laserstrahlen und deren Verwendung |
JP2002529776A (ja) * | 1998-11-02 | 2002-09-10 | コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ | 陰極線管用のレーザ照射装置。 |
US6229940B1 (en) | 1998-11-30 | 2001-05-08 | Mcdonnell Douglas Corporation | Incoherent fiber optic laser system |
TW444247B (en) * | 1999-01-29 | 2001-07-01 | Toshiba Corp | Laser beam irradiating device, manufacture of non-single crystal semiconductor film, and manufacture of liquid crystal display device |
EP1066666B1 (de) | 1999-02-03 | 2008-08-06 | TRUMPF LASERTECHNIK GmbH | Laser mit einer einrichtung zur veränderung der verteilung der intensität des laserlichtes über den laserstrahlquerschnitt |
US6678291B2 (en) * | 1999-12-15 | 2004-01-13 | Lambda Physik Ag | Molecular fluorine laser |
US6356575B1 (en) * | 1999-07-06 | 2002-03-12 | Raytheon Company | Dual cavity multifunction laser system |
JP2001023918A (ja) * | 1999-07-08 | 2001-01-26 | Nec Corp | 半導体薄膜形成装置 |
US6335943B1 (en) | 1999-07-27 | 2002-01-01 | Lockheed Martin Corporation | System and method for ultrasonic laser testing using a laser source to generate ultrasound having a tunable wavelength |
US6944201B2 (en) * | 1999-07-30 | 2005-09-13 | High Q Laser Production Gmbh | Compact ultra fast laser |
US20060249491A1 (en) * | 1999-09-01 | 2006-11-09 | Hell Gravure Systems Gmbh | Laser radiation source |
US6420675B1 (en) * | 1999-10-08 | 2002-07-16 | Nanovia, Lp | Control system for ablating high-density array of vias or indentation in surface of object |
US6886284B2 (en) * | 1999-10-08 | 2005-05-03 | Identification Dynamics, Llc | Firearm microstamping and micromarking insert for stamping a firearm identification code and serial number into cartridge shell casings and projectiles |
US6833911B2 (en) * | 1999-10-08 | 2004-12-21 | Identification Dynamics, Inc. | Method and apparatus for reading firearm microstamping |
US6653593B2 (en) * | 1999-10-08 | 2003-11-25 | Nanovia, Lp | Control system for ablating high-density array of vias or indentation in surface of object |
US6310701B1 (en) * | 1999-10-08 | 2001-10-30 | Nanovia Lp | Method and apparatus for ablating high-density array of vias or indentation in surface of object |
US6256121B1 (en) * | 1999-10-08 | 2001-07-03 | Nanovia, Lp | Apparatus for ablating high-density array of vias or indentation in surface of object |
US6735232B2 (en) * | 2000-01-27 | 2004-05-11 | Lambda Physik Ag | Laser with versatile output energy |
EP1143584A3 (en) | 2000-03-31 | 2003-04-23 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Semiconductor laser array |
US6791592B2 (en) * | 2000-04-18 | 2004-09-14 | Laserink | Printing a code on a product |
US7394591B2 (en) * | 2000-05-23 | 2008-07-01 | Imra America, Inc. | Utilization of Yb: and Nd: mode-locked oscillators in solid-state short pulse laser systems |
US6605799B2 (en) * | 2000-05-25 | 2003-08-12 | Westar Photonics | Modulation of laser energy with a predefined pattern |
US6895030B1 (en) * | 2000-05-30 | 2005-05-17 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Laser oscillating device |
US6904073B2 (en) * | 2001-01-29 | 2005-06-07 | Cymer, Inc. | High power deep ultraviolet laser with long life optics |
DE20011508U1 (de) | 2000-06-30 | 2000-10-12 | Termotek Laserkuehlung Gmbh | Kühlvorrichtung für einen Laser |
JP2002045371A (ja) | 2000-08-01 | 2002-02-12 | Nidek Co Ltd | レーザ治療装置 |
DE10043269C2 (de) * | 2000-08-29 | 2002-10-24 | Jenoptik Jena Gmbh | Diodengepumpter Laserverstärker |
US6585161B1 (en) | 2000-08-30 | 2003-07-01 | Psc Scanning, Inc. | Dense pattern optical scanner |
EP1184946B1 (de) | 2000-08-31 | 2010-08-18 | Trumpf Laser- und Systemtechnik GmbH | Gaslaser |
AU2001296283A1 (en) * | 2000-09-21 | 2002-04-02 | Gsi Lumonics Corporation | Digital control servo system |
DE10047020C1 (de) * | 2000-09-22 | 2002-02-07 | Trumpf Lasertechnik Gmbh | Laser mit wenigstens zwei Elektrodenrohren und einer Kühleinrichtung, Verfahren zur Herstellung eines Lasers sowie Vorrichtung zur Durchführung eines derartigen Verfahrens |
US20020061045A1 (en) | 2000-11-21 | 2002-05-23 | Access Laser Company | Portable low-power gas discharge laser |
US6693930B1 (en) * | 2000-12-12 | 2004-02-17 | Kla-Tencor Technologies Corporation | Peak power and speckle contrast reduction for a single laser pulse |
ATE254812T1 (de) * | 2000-12-16 | 2003-12-15 | Trumpf Lasertechnik Gmbh | Koaxialer laser mit einer einrichtung zur strahlformung eines laserstrahls |
US7496831B2 (en) | 2001-02-22 | 2009-02-24 | International Business Machines Corporation | Method to reformat regions with cluttered hyperlinks |
WO2002075865A2 (en) | 2001-03-19 | 2002-09-26 | Nutfield Technologies, Inc. | Monolithic ceramic laser structure and method of making same |
US6370884B1 (en) | 2001-03-30 | 2002-04-16 | Maher I. Kelada | Thermoelectric fluid cooling cartridge |
US6768765B1 (en) * | 2001-06-07 | 2004-07-27 | Lambda Physik Ag | High power excimer or molecular fluorine laser system |
WO2002101888A2 (en) * | 2001-06-13 | 2002-12-19 | Orbotech Ltd. | Multi-beam micro-machining system and method |
US6804269B2 (en) * | 2001-06-19 | 2004-10-12 | Hitachi Via Mechanics, Ltd. | Laser beam delivery system with trepanning module |
US6915654B2 (en) | 2001-06-20 | 2005-07-12 | Ross Johnson | Portable cooling mechanism |
US6914232B2 (en) * | 2001-10-26 | 2005-07-05 | Bennett Optical Research, Inc. | Device to control laser spot size |
US6897941B2 (en) | 2001-11-07 | 2005-05-24 | Applied Materials, Inc. | Optical spot grid array printer |
DE10202036A1 (de) * | 2002-01-18 | 2003-07-31 | Zeiss Carl Meditec Ag | Femtosekunden Lasersystem zur präzisen Bearbeitung von Material und Gewebe |
US6804287B2 (en) | 2002-02-02 | 2004-10-12 | The Regents Of The University Of Colorado, A Body Corporate | Ultrashort pulse amplification in cryogenically cooled amplifiers |
WO2003067721A2 (en) * | 2002-02-07 | 2003-08-14 | Lambda Physik Ag | Solid-state diode pumped laser employing oscillator-amplifier |
US6750421B2 (en) * | 2002-02-19 | 2004-06-15 | Gsi Lumonics Ltd. | Method and system for laser welding |
US6756563B2 (en) * | 2002-03-07 | 2004-06-29 | Orbotech Ltd. | System and method for forming holes in substrates containing glass |
US6826219B2 (en) * | 2002-03-14 | 2004-11-30 | Gigatera Ag | Semiconductor saturable absorber device, and laser |
US7058100B2 (en) | 2002-04-18 | 2006-06-06 | The Boeing Company | Systems and methods for thermal management of diode-pumped solid-state lasers |
US20030219094A1 (en) * | 2002-05-21 | 2003-11-27 | Basting Dirk L. | Excimer or molecular fluorine laser system with multiple discharge units |
JPWO2004017392A1 (ja) * | 2002-08-13 | 2005-12-08 | 株式会社東芝 | レーザ照射方法 |
US20040202220A1 (en) * | 2002-11-05 | 2004-10-14 | Gongxue Hua | Master oscillator-power amplifier excimer laser system |
US6903824B2 (en) * | 2002-12-20 | 2005-06-07 | Eastman Kodak Company | Laser sensitometer |
US7145926B2 (en) * | 2003-01-24 | 2006-12-05 | Peter Vitruk | RF excited gas laser |
US20050094697A1 (en) | 2003-01-30 | 2005-05-05 | Rofin Sinar Laser Gmbh | Stripline laser |
TWI248244B (en) * | 2003-02-19 | 2006-01-21 | J P Sercel Associates Inc | System and method for cutting using a variable astigmatic focal beam spot |
US7321105B2 (en) * | 2003-02-21 | 2008-01-22 | Lsp Technologies, Inc. | Laser peening of dovetail slots by fiber optical and articulate arm beam delivery |
US7408687B2 (en) * | 2003-04-10 | 2008-08-05 | Hitachi Via Mechanics (Usa), Inc. | Beam shaping prior to harmonic generation for increased stability of laser beam shaping post harmonic generation with integrated automatic displacement and thermal beam drift compensation |
US7499207B2 (en) * | 2003-04-10 | 2009-03-03 | Hitachi Via Mechanics, Ltd. | Beam shaping prior to harmonic generation for increased stability of laser beam shaping post harmonic generation with integrated automatic displacement and thermal beam drift compensation |
WO2004097465A2 (en) * | 2003-04-24 | 2004-11-11 | Bae Systems Information And Electronic Systems Integration Inc. | Singlet telescopes with controllable ghosts for laser beam forming |
US20060287697A1 (en) | 2003-05-28 | 2006-12-21 | Medcool, Inc. | Methods and apparatus for thermally activating a console of a thermal delivery system |
GB0313887D0 (en) * | 2003-06-16 | 2003-07-23 | Gsi Lumonics Ltd | Monitoring and controlling of laser operation |
US6856509B2 (en) | 2003-07-14 | 2005-02-15 | Jen-Cheng Lin | Cartridge assembly of a water cooled radiator |
US7364952B2 (en) * | 2003-09-16 | 2008-04-29 | The Trustees Of Columbia University In The City Of New York | Systems and methods for processing thin films |
US6894785B2 (en) * | 2003-09-30 | 2005-05-17 | Cymer, Inc. | Gas discharge MOPA laser spectral analysis module |
WO2005037478A2 (en) * | 2003-10-17 | 2005-04-28 | Gsi Lumonics Corporation | Flexible scan field |
US20050205778A1 (en) * | 2003-10-17 | 2005-09-22 | Gsi Lumonics Corporation | Laser trim motion, calibration, imaging, and fixturing techniques |
US7291805B2 (en) * | 2003-10-30 | 2007-11-06 | The Regents Of The University Of California | Target isolation system, high power laser and laser peening method and system using same |
DE602004031401D1 (de) * | 2003-10-30 | 2011-03-31 | L Livermore Nat Security Llc | Relay Teleskop, Laserverstärker, und Laserschockbestrahlungsverfahren und dessen Vorrichtung |
JP2005144487A (ja) * | 2003-11-13 | 2005-06-09 | Seiko Epson Corp | レーザ加工装置及びレーザ加工方法 |
AT412829B (de) * | 2003-11-13 | 2005-07-25 | Femtolasers Produktions Gmbh | Kurzpuls-laservorrichtung |
JP4344224B2 (ja) * | 2003-11-21 | 2009-10-14 | 浜松ホトニクス株式会社 | 光学マスクおよびmopaレーザ装置 |
US7376160B2 (en) * | 2003-11-24 | 2008-05-20 | Raytheon Company | Slab laser and method with improved and directionally homogenized beam quality |
US7046267B2 (en) * | 2003-12-19 | 2006-05-16 | Markem Corporation | Striping and clipping correction |
US20050190809A1 (en) * | 2004-01-07 | 2005-09-01 | Spectra-Physics, Inc. | Ultraviolet, narrow linewidth laser system |
US7199330B2 (en) * | 2004-01-20 | 2007-04-03 | Coherent, Inc. | Systems and methods for forming a laser beam having a flat top |
US20050165590A1 (en) * | 2004-01-23 | 2005-07-28 | Yuhong Huang | System and method for virtual laser marking |
JP2005268445A (ja) | 2004-03-17 | 2005-09-29 | Hamamatsu Photonics Kk | 半導体レーザ装置 |
US7486705B2 (en) * | 2004-03-31 | 2009-02-03 | Imra America, Inc. | Femtosecond laser processing system with process parameters, controls and feedback |
JP2005294393A (ja) * | 2004-03-31 | 2005-10-20 | Fanuc Ltd | レーザ発振器 |
US7711013B2 (en) * | 2004-03-31 | 2010-05-04 | Imra America, Inc. | Modular fiber-based chirped pulse amplification system |
US7509692B2 (en) | 2004-05-11 | 2009-03-31 | Biocool Technologies, Llc | Wearable personal cooling and hydration system |
EP1751967A2 (en) | 2004-05-19 | 2007-02-14 | Intense Limited | Thermal printing with laser activation |
JP4182034B2 (ja) * | 2004-08-05 | 2008-11-19 | ファナック株式会社 | 切断加工用レーザ装置 |
DE502004001824D1 (de) * | 2004-09-30 | 2006-11-30 | Trumpf Laser Gmbh & Co Kg | Vorrichtung zur Fokussierung eines Laserstrahls |
US20060092995A1 (en) * | 2004-11-01 | 2006-05-04 | Chromaplex, Inc. | High-power mode-locked laser system |
JP2006136923A (ja) * | 2004-11-12 | 2006-06-01 | Hitachi Via Mechanics Ltd | レーザ加工機及びレーザ加工方法 |
US7204298B2 (en) | 2004-11-24 | 2007-04-17 | Lucent Technologies Inc. | Techniques for microchannel cooling |
JP3998067B2 (ja) * | 2004-11-29 | 2007-10-24 | オムロンレーザーフロント株式会社 | 固体レーザ発振器 |
US20060114956A1 (en) * | 2004-11-30 | 2006-06-01 | Sandstrom Richard L | High power high pulse repetition rate gas discharge laser system bandwidth management |
US7346427B2 (en) | 2005-01-14 | 2008-03-18 | Flymg J, Inc. | Collecting liquid product volume data at a dispenser |
US7295948B2 (en) | 2005-01-15 | 2007-11-13 | Jetter Heinz L | Laser system for marking tires |
US7394479B2 (en) * | 2005-03-02 | 2008-07-01 | Marken Corporation | Pulsed laser printing |
US7430230B2 (en) * | 2005-04-07 | 2008-09-30 | The Boeing Company | Tube solid-state laser |
DE102005024931B3 (de) * | 2005-05-23 | 2007-01-11 | Ltb-Lasertechnik Gmbh | Transversal elektrisch angeregter Gasentladungslaser zur Erzeugung von Lichtpulsen mit hoher Pulsfolgefrequenz und Verfahren zur Herstellung |
US7334744B1 (en) | 2005-05-23 | 2008-02-26 | Gentry Dawson | Portable mister and cooling assembly for outdoor use |
US8278590B2 (en) * | 2005-05-27 | 2012-10-02 | Resonetics, LLC | Apparatus for minimizing a heat affected zone during laser micro-machining |
GB2442650A (en) * | 2005-07-12 | 2008-04-09 | Gsi Group Corp | System and method for high power laser processing |
US20100220750A1 (en) * | 2005-07-19 | 2010-09-02 | James Hayden Brownell | Terahertz Laser Components And Associated Methods |
JP2007032869A (ja) | 2005-07-22 | 2007-02-08 | Fujitsu Ltd | 冷却装置および冷却方法 |
JP2007029972A (ja) * | 2005-07-25 | 2007-02-08 | Fanuc Ltd | レーザ加工装置 |
WO2007042913A2 (en) * | 2005-10-11 | 2007-04-19 | Kilolambda Technologies Ltd. | Optical power limiting and switching combined device and a method for protecting imaging and non-imaging sensors |
US20070098024A1 (en) * | 2005-10-28 | 2007-05-03 | Laserscope | High power, end pumped laser with off-peak pumping |
CN101331592B (zh) | 2005-12-16 | 2010-06-16 | 株式会社半导体能源研究所 | 激光照射设备、激光照射方法和半导体装置的制造方法 |
US20090312676A1 (en) | 2006-02-02 | 2009-12-17 | Tylerton International Inc. | Metabolic Sink |
JP2007212118A (ja) | 2006-02-08 | 2007-08-23 | Makoto Fukada | 冷感度を高めた水冷式冷風扇 |
US7543912B2 (en) | 2006-03-01 | 2009-06-09 | Lexmark International, Inc. | Unitary wick retainer and biasing device retainer for micro-fluid ejection head replaceable cartridge |
US20070235458A1 (en) | 2006-04-10 | 2007-10-11 | Mann & Hummel Gmbh | Modular liquid reservoir |
US9018562B2 (en) * | 2006-04-10 | 2015-04-28 | Board Of Trustees Of Michigan State University | Laser material processing system |
US20070247499A1 (en) | 2006-04-19 | 2007-10-25 | Anderson Jr James D | Multi-function thermoplastic elastomer layer for replaceable ink tank |
US7545838B2 (en) * | 2006-06-12 | 2009-06-09 | Coherent, Inc. | Incoherent combination of laser beams |
JP4146867B2 (ja) * | 2006-06-22 | 2008-09-10 | ファナック株式会社 | ガスレーザ発振器 |
JP4917382B2 (ja) * | 2006-08-09 | 2012-04-18 | 株式会社ディスコ | レーザー光線照射装置およびレーザー加工機 |
US7626152B2 (en) * | 2006-08-16 | 2009-12-01 | Raytheon Company | Beam director and control system for a high energy laser within a conformal window |
CN100547863C (zh) * | 2006-10-20 | 2009-10-07 | 香港理工大学 | 光纤气体激光器和具有该激光器的光纤型环形激光陀螺仪 |
US7784348B2 (en) | 2006-12-22 | 2010-08-31 | Lockheed Martin Corporation | Articulated robot for laser ultrasonic inspection |
US20090323739A1 (en) * | 2006-12-22 | 2009-12-31 | Uv Tech Systems | Laser optical system |
US7729398B2 (en) * | 2007-04-10 | 2010-06-01 | Northrop Grumman Systems Corporation | Error control for high-power laser system employing diffractive optical element beam combiner |
US7733930B2 (en) * | 2007-04-10 | 2010-06-08 | Northrop Grumman Systems Corporation | Error control for high-power laser system employing diffractive optical element beam combiner with tilt error control |
DE102007023017B4 (de) | 2007-05-15 | 2011-06-01 | Thyssenkrupp Lasertechnik Gmbh | Vorrichtung und Verfahren zum Herstellen von Tailored Blanks |
US20080297912A1 (en) * | 2007-06-01 | 2008-12-04 | Electro Scientific Industries, Inc., An Oregon Corporation | Vario-astigmatic beam expander |
JP5129678B2 (ja) | 2007-07-18 | 2013-01-30 | 株式会社クボタ | 作業車 |
US7924894B2 (en) * | 2008-01-18 | 2011-04-12 | Northrop Grumman Systems Corporation | Digital piston error control for high-power laser system employing diffractive optical element beam combiner |
US7756169B2 (en) * | 2008-01-23 | 2010-07-13 | Northrop Grumman Systems Corporation | Diffractive method for control of piston error in coherent phased arrays |
US8126028B2 (en) | 2008-03-31 | 2012-02-28 | Novasolar Holdings Limited | Quickly replaceable processing-laser modules and subassemblies |
GB0809003D0 (en) * | 2008-05-17 | 2008-06-25 | Rumsby Philip T | Method and apparatus for laser process improvement |
GB2460648A (en) * | 2008-06-03 | 2009-12-09 | M Solv Ltd | Method and apparatus for laser focal spot size control |
DE102008030868A1 (de) | 2008-06-30 | 2009-12-31 | Krones Ag | Vorrichtung zum Beschriften von Behältnissen |
US8038878B2 (en) | 2008-11-26 | 2011-10-18 | Mann+Hummel Gmbh | Integrated filter system for a coolant reservoir and method |
CN102318451B (zh) * | 2008-12-13 | 2013-11-06 | 万佳雷射有限公司 | 用于激光加工相对窄和相对宽的结构的方法和设备 |
GB0900036D0 (en) * | 2009-01-03 | 2009-02-11 | M Solv Ltd | Method and apparatus for forming grooves with complex shape in the surface of apolymer |
CN104134928A (zh) * | 2009-02-04 | 2014-11-05 | 通用医疗公司 | 利用高速光学波长调谐源的设备和方法 |
US20100206882A1 (en) | 2009-02-13 | 2010-08-19 | Wessels Timothy J | Multi chamber coolant tank |
CN102438549B (zh) * | 2009-03-04 | 2015-07-15 | 完美Ip有限公司 | 用于形成和修改晶状体的系统以及由此形成的晶状体 |
US8184361B2 (en) * | 2009-08-07 | 2012-05-22 | Northrop Grumman Systems Corporation | Integrated spectral and all-fiber coherent beam combination |
US8514485B2 (en) * | 2009-08-07 | 2013-08-20 | Northrop Grumman Systems Corporation | Passive all-fiber integrated high power coherent beam combination |
US8184363B2 (en) * | 2009-08-07 | 2012-05-22 | Northrop Grumman Systems Corporation | All-fiber integrated high power coherent beam combination |
US8320056B2 (en) * | 2009-08-20 | 2012-11-27 | Lawrence Livermore National Security, Llc | Spatial filters for high average power lasers |
US8212178B1 (en) * | 2009-09-28 | 2012-07-03 | Klein Tools, Inc. | Method and system for marking a material using a laser marking system |
US8337618B2 (en) * | 2009-10-26 | 2012-12-25 | Samsung Display Co., Ltd. | Silicon crystallization system and silicon crystallization method using laser |
JP2011156574A (ja) * | 2010-02-02 | 2011-08-18 | Hitachi High-Technologies Corp | レーザ加工用フォーカス装置、レーザ加工装置及びソーラパネル製造方法 |
JP5634088B2 (ja) | 2010-03-17 | 2014-12-03 | キヤノン株式会社 | インクジェット記録装置およびインクタンク |
US10072971B2 (en) * | 2010-04-16 | 2018-09-11 | Metal Improvement Company, Llc | Flexible beam delivery system for high power laser systems |
US8233511B2 (en) * | 2010-05-18 | 2012-07-31 | Lawrence Livermore National Security, Llc | Method and system for modulation of gain suppression in high average power laser systems |
US8432691B2 (en) | 2010-10-28 | 2013-04-30 | Asetek A/S | Liquid cooling system for an electronic system |
EP2564974B1 (en) | 2011-09-05 | 2015-06-17 | ALLTEC Angewandte Laserlicht Technologie Gesellschaft mit beschränkter Haftung | Marking apparatus with a plurality of gas lasers with resonator tubes and individually adjustable deflection means |
EP2564972B1 (en) | 2011-09-05 | 2015-08-26 | ALLTEC Angewandte Laserlicht Technologie Gesellschaft mit beschränkter Haftung | Marking apparatus with a plurality of lasers, deflection means and telescopic means for each laser beam |
ES2438751T3 (es) | 2011-09-05 | 2014-01-20 | ALLTEC Angewandte Laserlicht Technologie Gesellschaft mit beschränkter Haftung | Dispositivo y procedimiento para marcar un objeto por medio de un rayo láser |
-
2011
- 2011-09-05 EP EP11007181.8A patent/EP2564972B1/en active Active
-
2012
- 2012-07-19 US US14/342,481 patent/US9573227B2/en active Active
- 2012-07-19 EA EA201490242A patent/EA026082B1/ru not_active IP Right Cessation
- 2012-07-19 WO PCT/EP2012/003065 patent/WO2013034210A1/en active Application Filing
- 2012-07-19 CN CN201280042908.8A patent/CN103781584B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2012-07-19 BR BR112014003941A patent/BR112014003941A2/pt not_active IP Right Cessation
Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5115446A (en) * | 1990-09-19 | 1992-05-19 | Trumpf Lasertechnik Gmbh | Device for a power laser |
US5339737A (en) * | 1992-07-20 | 1994-08-23 | Presstek, Inc. | Lithographic printing plates for use with laser-discharge imaging apparatus |
US5339737B1 (en) * | 1992-07-20 | 1997-06-10 | Presstek Inc | Lithographic printing plates for use with laser-discharge imaging apparatus |
GB2304641A (en) * | 1995-09-07 | 1997-03-26 | Alexander Paul Sator | System for marking articles using radiation sources |
US6421159B1 (en) * | 1996-09-11 | 2002-07-16 | The Domino Corporation | Multiple beam laser marking apparatus |
JP2001276986A (ja) * | 2000-03-29 | 2001-10-09 | Nec Corp | レーザ加工装置及び方法 |
US20050056626A1 (en) * | 2003-09-12 | 2005-03-17 | Orbotech Ltd | Multiple beam micro-machining system and method |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20140224777A1 (en) | 2014-08-14 |
WO2013034210A1 (en) | 2013-03-14 |
BR112014003941A2 (pt) | 2017-03-14 |
EP2564972B1 (en) | 2015-08-26 |
CN103781584B (zh) | 2016-04-20 |
CN103781584A (zh) | 2014-05-07 |
US9573227B2 (en) | 2017-02-21 |
EP2564972A1 (en) | 2013-03-06 |
EA201490242A1 (ru) | 2014-08-29 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
EA024615B1 (ru) | Маркировочный аппарат для маркировки объекта посредством лазерного излучения и маркировочная система, содержащая указанный аппарат | |
EA026082B1 (ru) | Устройство для маркировки, включающее множество лазеров, а также средства отклонения и телескопические средства для каждого лазера | |
EA025906B1 (ru) | Устройство для маркировки с множеством лазеров и индивидуально настраиваемыми наборами отклоняющих средств | |
US9595801B2 (en) | Marking apparatus with a plurality of lasers and a combining deflection device | |
KR100864863B1 (ko) | 멀티 레이저 시스템 | |
KR100817825B1 (ko) | 레이저 가공장치 | |
KR101287982B1 (ko) | 레이저 가공 방법 및 장치 | |
US20230330782A1 (en) | Device for machining a material | |
EA025930B1 (ru) | Устройство для маркировки | |
JP2002289948A (ja) | レーザ光学装置及びレーザ加工方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
MM4A | Lapse of a eurasian patent due to non-payment of renewal fees within the time limit in the following designated state(s) |
Designated state(s): AM AZ BY KZ KG TJ TM RU |