DK2821378T3 - Prækursor til en primær forform til optiske fibre og fremgangsmåde til fremstilling deraf ved hjælp af en plasmapådampningsproces - Google Patents
Prækursor til en primær forform til optiske fibre og fremgangsmåde til fremstilling deraf ved hjælp af en plasmapådampningsproces Download PDFInfo
- Publication number
- DK2821378T3 DK2821378T3 DK14171875.9T DK14171875T DK2821378T3 DK 2821378 T3 DK2821378 T3 DK 2821378T3 DK 14171875 T DK14171875 T DK 14171875T DK 2821378 T3 DK2821378 T3 DK 2821378T3
- Authority
- DK
- Denmark
- Prior art keywords
- substrate tube
- layers
- vitrified
- silica layers
- plasma
- Prior art date
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
- C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
- C03B37/018—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD] by glass deposition on a glass substrate, e.g. by inside-, modified-, plasma-, or plasma modified- chemical vapour deposition [ICVD, MCVD, PCVD, PMCVD], i.e. by thin layer coating on the inside or outside of a glass tube or on a glass rod
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
- C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
- C03B37/018—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD] by glass deposition on a glass substrate, e.g. by inside-, modified-, plasma-, or plasma modified- chemical vapour deposition [ICVD, MCVD, PCVD, PMCVD], i.e. by thin layer coating on the inside or outside of a glass tube or on a glass rod
- C03B37/01807—Reactant delivery systems, e.g. reactant deposition burners
- C03B37/01815—Reactant deposition burners or deposition heating means
- C03B37/01823—Plasma deposition burners or heating means
- C03B37/0183—Plasma deposition burners or heating means for plasma within a tube substrate
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
- C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
- C03B37/018—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD] by glass deposition on a glass substrate, e.g. by inside-, modified-, plasma-, or plasma modified- chemical vapour deposition [ICVD, MCVD, PCVD, PMCVD], i.e. by thin layer coating on the inside or outside of a glass tube or on a glass rod
- C03B37/01861—Means for changing or stabilising the diameter or form of tubes or rods
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
- C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
- C03B37/018—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD] by glass deposition on a glass substrate, e.g. by inside-, modified-, plasma-, or plasma modified- chemical vapour deposition [ICVD, MCVD, PCVD, PMCVD], i.e. by thin layer coating on the inside or outside of a glass tube or on a glass rod
- C03B37/01861—Means for changing or stabilising the diameter or form of tubes or rods
- C03B37/01869—Collapsing
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- General Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Manufacture, Treatment Of Glass Fibers (AREA)
Claims (15)
1. Fremgangsmåde til fremstilling af en prækursor til en primær forform til optiske fibre ved hjælp af en intern plasmapådampningsproces, hvilken fremgangsmåde omfatter trinene: i) at tilvejebringe et hult substratrør med en tilførselsside og en udløbsside; ii) at danne en første plasmareaktionszone med første reaktionsbetingelser i det indre af det hule substratrør ved hjælp af elektromagnetisk stråling til at bevirke pådampningen af ikke-sintrede siliciumdioxidlag på mindst en del af den indre flade af substratrøret ved eller nær et vendepunkt ved udløbssiden for at tilvejebringe et substratrør med ikke-sintrede lag på mindst en del af dets indre flade; og efterfølgende; iii) at danne en anden plasmareaktionszone med andre reaktionsbetingelser i det indre af det hule substratrør ved hjælp af elektromagnetisk stråling til at bevirke pådampningen af sintrede siliciumdioxidlag på substratrøret med ikke-sintrede lag på mindst en del af dets indre flade opnået i trin ii) for at opnå et substratrør med pådampede ikke-sintrede og sintrede siliciumdioxidlag; iv) at afkøle substratrøret med ikke-sintrede og sintrede siliciumdioxidlag opnået i trin iii) for at opnå prækursoren til en primær forform.
2. Fremgangsmåde ifølge krav 1, hvor fremgangsmåden endvidere omfatter at udsætte prækursoren til en primær forform opnået i trin iv) for et yderligere trin v), som er en kollapsbehandling for at forme en primær forform.
3. Fremgangsmåde ifølge krav 1 eller krav 2, der endvidere omfatter et trin A) udført efter trin ii) and forud for trin iii), hvor trinet A) omfatter at bortætse de ikke-sintrede siliciumdioxidlag pådampet i trin ii) på mindst en del af den indre flade af substratrøret.
4. Fremgangsmåde ifølge krav 1 eller krav 2, der endvidere omfatter et trin B) udført efter trin ii) og forud for trin iii), hvor trinet B) omfatter at sintre de ikke-sintrede siliciumdioxidlag pådampet i trin ii) på mindst en del af den indre flade af substratrøret.
5. Fremgangsmåde ifølge krav 3 eller 4, hvor mindst delen af den indre flade af substratrøret er delen mellem en længdeposition 200 mm opstrøms for et vendepunkt nær udløbssiden og en længdeposition 200 mm nedstrøms for et vendepunkt nær tilførselssiden.
6. Fremgangsmåde ifølge krav 3 eller 4, hvor mindst delen af den indre flade af substratrøret er delen mellem en længdeposition 100 mm opstrøms for et vendepunkt nær udløbssiden og en længdeposition 100 mm nedstrøms for et vendepunkt nær tilførselssiden.
7. Fremgangsmåde ifølge krav 3 eller 4, hvor mindst delen af den indre flade af substratrøret er delen mellem en længdeposition 50 mm opstrøms for et vendepunkt nær udløbssiden og en længdeposition 50 mm nedstrøms for et vendepunkt nær tilførselssiden.
8. Fremgangsmåde ifølge et hvilket som helst af de foregående krav, hvor de første reaktionsbetingelser omfatter et tryk på højere end 30 millibar, fortrinsvis højere end 60 mbar.
9. Fremgangsmåde ifølge et hvilket som helst af de foregående krav, hvor de første reaktionsbetingelser omfatter et tryk på mindre end 1000 millibar, fortrinsvis mindre end 200 millibar.
10. Fremgangsmåde ifølge et hvilket som helst af de foregående krav, hvor de andre reaktionsbetingelser omfatter et tryk på mellem 1 og 25 millibar, fortrinsvis mellem 10 og 15 millibar.
11. Fremgangsmåde ifølge et hvilket som helst af de foregående krav, hvor der i trin ii) pådampes mellem 1 og 200 ikke-sintrede siliciumdioxidlag.
12. Fremgangsmåde ifølge et hvilket som helst af de foregående krav, hvor de ikke-sintrede siliciumdioxidlag hvert især uafhængigt har en tykkelse mellem 1 og 5 mikrometer, fortrinsvis 2 og 3 mikrometer.
13. Fremgangsmåde ifølge et hvilket som helst af de foregående krav, hvor de ikke-sintrede siliciumdioxidlag, der pådampes, samlet har en tykkelse mellem 1 og 400 mikrometer.
14. Fremgangsmåde ifølge et hvilket som helst af de foregående krav, hvor den anvendte elektromagnetiske stråling er mikrobølger.
15. Prækursor til en primær forform til optiske fibre forsynet med pådampede ikke-sintrede og sintrede siliciumdioxidlag på dens indre flade, der skal anvendes til fremstilling af en primær forform til optiske fibre, hvor de pådampede ikke-sintrede siliciumdioxidlag er tilstede på mindst en del af den indre flade af substratrøret ved eller nær udløbssiden.
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| NL2011077A NL2011077C2 (en) | 2013-07-01 | 2013-07-01 | A method for manufacturing a precursor for a primary preform for optical fibres by means of an internal plasma chemical vapour deposition (pcvd) process. |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| DK2821378T3 true DK2821378T3 (da) | 2016-10-24 |
Family
ID=50976463
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| DK14171875.9T DK2821378T3 (da) | 2013-07-01 | 2014-06-11 | Prækursor til en primær forform til optiske fibre og fremgangsmåde til fremstilling deraf ved hjælp af en plasmapådampningsproces |
Country Status (8)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US9643879B2 (da) |
| EP (1) | EP2821378B1 (da) |
| JP (1) | JP6400955B2 (da) |
| KR (1) | KR102249255B1 (da) |
| CN (1) | CN104276752B (da) |
| BR (1) | BR102014015871B1 (da) |
| DK (1) | DK2821378T3 (da) |
| NL (1) | NL2011077C2 (da) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| NL2015162B1 (en) | 2015-07-13 | 2017-02-01 | Draka Comteq Bv | Method for activating an inner surface of a substrate tube for the manufacturing of an optical fiber preform. |
| CN111676468B (zh) * | 2020-06-10 | 2022-03-18 | 长飞光纤光缆股份有限公司 | 一种光纤预制件、多模光纤及其制备方法 |
Family Cites Families (23)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE2546162B1 (de) * | 1975-10-15 | 1976-09-23 | Jenaer Glaswerk Schott & Gen | Lichtleitfaser mit Brechungsindexgradient zur Nachrichtenuebertragung |
| GB1603949A (en) * | 1978-05-30 | 1981-12-02 | Standard Telephones Cables Ltd | Plasma deposit |
| DE2929166A1 (de) | 1979-07-19 | 1981-01-29 | Philips Patentverwaltung | Verfahren zur herstellung von lichtleitfasern |
| US4262035A (en) * | 1980-03-07 | 1981-04-14 | Bell Telephone Laboratories, Incorporated | Modified chemical vapor deposition of an optical fiber using an rf plasma |
| US4292063A (en) * | 1980-05-05 | 1981-09-29 | Northern Telecom Limited | Manufacture of an optical fiber preform with micro-wave plasma activated deposition in a tube |
| NL8201453A (nl) * | 1982-04-06 | 1983-11-01 | Philips Nv | Werkwijze voor de vervaardiging van optische vezels. |
| DE3422997A1 (de) * | 1984-06-22 | 1986-01-02 | Standard Elektrik Lorenz Ag, 7000 Stuttgart | Verfahren zur herstellung von lichtwellenleitern |
| DE3445239A1 (de) * | 1984-12-12 | 1986-06-19 | Philips Patentverwaltung Gmbh, 2000 Hamburg | Verfahren zur herstellung von lichtleitfasern |
| DE3635034A1 (de) * | 1986-10-15 | 1988-04-21 | Philips Patentverwaltung | Verfahren zur herstellung von lichtleitfasern |
| JP4326146B2 (ja) * | 1997-12-31 | 2009-09-02 | プラズマ オプティカル ファイバー ベスローテン フェンノートシャップ | Ｐｃｖｄ装置及び光ファイバ、プレフォームロッド及びジャケットチューブを製造する方法並びにこれにより製造される光ファイバ |
| US6769275B2 (en) * | 2002-03-15 | 2004-08-03 | Fibercore, Inc. | Method for making optical fiber preform using simultaneous inside and outside deposition |
| NL1020358C2 (nl) * | 2002-04-10 | 2003-10-13 | Draka Fibre Technology Bv | Werkwijze en inrichting ter vervaardiging van optische voorvormen, alsmede de daarmee verkregen optische vezels. |
| US7793612B2 (en) * | 2003-08-01 | 2010-09-14 | Silica Tech, Llc | Ring plasma jet method and apparatus for making an optical fiber preform |
| JP4383377B2 (ja) * | 2005-03-22 | 2009-12-16 | 古河電気工業株式会社 | 微細構造光ファイバの作製方法 |
| NL1030749C2 (nl) | 2005-12-22 | 2007-06-25 | Draka Comteq Bv | Inrichting en werkwijze voor het vervaardigen van een optische voorvorm. |
| NL1032463C2 (nl) * | 2006-09-08 | 2008-03-11 | Draka Comteq Bv | Werkwijze voor het vervaardigen van een optische voorvorm. |
| NL1033769C2 (nl) * | 2007-04-27 | 2008-10-28 | Draka Comteq Bv | Werkwijze voor het vervaardigen van een voorvorm alsmede werkwijze voor het uit een dergelijke voorvorm vervaardigen van optische vezels. |
| NL1034059C2 (nl) * | 2007-06-29 | 2008-12-30 | Draka Comteq Bv | Werkwijze voor het vervaardigen van een voorvorm voor optische vezels onder toepassing van een dampdepositieproces. |
| US8020410B2 (en) | 2007-11-15 | 2011-09-20 | Corning Incorporated | Methods for making optical fiber preforms and microstructured optical fibers |
| US7921675B2 (en) | 2007-11-16 | 2011-04-12 | Corning Incorporated | Methods for making optical fiber preforms and microstructured optical fibers |
| DK2527893T3 (da) * | 2011-05-27 | 2013-12-16 | Draka Comteq Bv | Optisk singlemode fiber |
| NL2007447C2 (nl) * | 2011-09-20 | 2013-03-21 | Draka Comteq Bv | Werkwijze voor de vervaardiging van een primaire voorvorm voor optische vezels, primaire voorvorm, uiteindelijke voorvorm, optische vezel. |
| NL2011075C2 (en) * | 2013-07-01 | 2015-01-05 | Draka Comteq Bv | Pcvd process with removal of substrate tube. |
-
2013
- 2013-07-01 NL NL2011077A patent/NL2011077C2/en active
-
2014
- 2014-06-11 DK DK14171875.9T patent/DK2821378T3/da active
- 2014-06-11 EP EP14171875.9A patent/EP2821378B1/en active Active
- 2014-06-24 US US14/313,095 patent/US9643879B2/en active Active
- 2014-06-26 BR BR102014015871-5A patent/BR102014015871B1/pt active IP Right Grant
- 2014-06-30 JP JP2014133995A patent/JP6400955B2/ja active Active
- 2014-06-30 CN CN201410306858.0A patent/CN104276752B/zh active Active
- 2014-06-30 KR KR1020140080817A patent/KR102249255B1/ko active IP Right Grant
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| NL2011077C2 (en) | 2015-01-05 |
| CN104276752A (zh) | 2015-01-14 |
| JP2015027935A (ja) | 2015-02-12 |
| EP2821378A3 (en) | 2015-01-21 |
| KR20150003681A (ko) | 2015-01-09 |
| BR102014015871B1 (pt) | 2021-06-22 |
| US9643879B2 (en) | 2017-05-09 |
| BR102014015871A8 (pt) | 2021-04-13 |
| BR102014015871A2 (pt) | 2015-11-17 |
| US20150315060A1 (en) | 2015-11-05 |
| EP2821378A2 (en) | 2015-01-07 |
| KR102249255B1 (ko) | 2021-05-07 |
| JP6400955B2 (ja) | 2018-10-03 |
| EP2821378B1 (en) | 2016-08-17 |
| CN104276752B (zh) | 2018-08-03 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| Cognolato | Chemical vapour deposition for optical fibre technology | |
| DK3016915T3 (da) | Plasmapådampningsfremgangsmåde med fjernelse af substratrøret | |
| DK2279984T3 (da) | Fremgangsmåde til fremstilling af en primær forform til optiske fibre | |
| US20090003787A1 (en) | Method for manufacturing a preform as well as a method for forming optical fibres from such a preform | |
| DK2821378T3 (da) | Prækursor til en primær forform til optiske fibre og fremgangsmåde til fremstilling deraf ved hjælp af en plasmapådampningsproces | |
| DK2796420T3 (da) | PCVD-fremgangsmåde til fremstilling af en primær præform til optiske fibre | |
| US9593037B2 (en) | Apparatus and method for carrying out a plasma deposition process | |
| EP2502887B1 (en) | Method of manufacturing a preform and an optical fibre | |
| CN105084714B (zh) | 通过内部气相沉积工艺制造光学预制件的方法和装置及基管组件 | |
| EP4253335A1 (en) | A pcvd deposition process for manufacturing a primary preform as well as a method for forming optical fibres from such a preform | |
| DK2947055T3 (da) | Fremgangsmåde til fremstilling af en optisk præform | |
| KR20060093671A (ko) | 다중 모드 광섬유 및 이의 제조방법 |