JP6400955B2 - プラズマ蒸着プロセスにより光ファイバ用一次プリフォームの前駆体を製造する方法 - Google Patents
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Description
i)供給側と排出側を有する中空基材チューブを提供するステップと、
ii)排出側の反転点またはその近傍において前記基材チューブの内面の少なくとも一部に非ガラス状シリカ層の蒸着を生じさせるために、電磁放射によって前記中空基材チューブの内部に第1反応条件を有する第1プラズマ反応ゾーンを作り出し、その内面の少なくとも一部に非ガラス状層を有する基材チューブを提供するステップと、続いて、
iii)ステップii)で得られた内面の少なくとも一部に非ガラス状層を有する前記基材チューブにガラス状シリカ層の蒸着を生じさせるために、電磁放射によって前記中空基材チューブの内部に第2反応条件を有する第2プラズマ反応ゾーンを作り出し、非ガラス状およびガラス状シリカ層が蒸着された基材チューブを得るステップと、
iv)ステップiii)で得られた非ガラス状およびガラス状シリカ層が蒸着された基材チューブを冷却して、一次プリフォームの前駆体を得るステップと、
を備える。
i)供給側と排出側を有する中空基材チューブを提供するステップと、
ii)排出側の反転点またはその近傍において前記基材チューブの内面の少なくとも一部に非ガラス状シリカ層の蒸着を生じさせるために、電磁放射によって前記中空基材チューブの内部に第1反応条件を有する第1プラズマ反応ゾーンを作り出し、その内面の少なくとも一部に非ガラス状層を有する基材チューブを提供するステップと、続いて、
iii)ステップii)で得られた内面の少なくとも一部に非ガラス状層を有する前記基材チューブにガラス状シリカ層の蒸着を生じさせるために、電磁放射によって前記中空基材チューブの内部に第2反応条件を有する第2プラズマ反応ゾーンを作り出し、非ガラス状およびガラス状シリカ層が蒸着された基材チューブを得るステップと、
iv)ステップiii)で得られた非ガラス状およびガラス状シリカ層が蒸着された基材チューブを冷却して、一次プリフォームの前記前駆体を得るステップと、
v)ステップiv)で得られた一次プリフォームの前駆体にコラプシング処理を施して一次プリフォームを得るステップと、
を備える。
i)供給側と排出側を有する中空基材チューブを提供するステップと、
ii)排出側の反転点またはその近傍において前記基材チューブの内面の少なくとも一部に非ガラス状シリカ層の蒸着を生じさせるために、電磁放射によって前記中空基材チューブの内部に第1反応条件を有する第1プラズマ反応ゾーンを作り出し、その内面の少なくとも一部に非ガラス状層を有する基材チューブを提供するステップと、続いて、
A)前記基材チューブの前記内面の少なくとも一部で、ステップii)で蒸着された前記非ガラス状シリカ層をエッチング除去するステップと、
iii)ステップii)で得られた内面の少なくとも一部に非ガラス状層を有する前記基材チューブにガラス状シリカ層の蒸着を生じさせるために、電磁放射によって前記中空基材チューブの内部に第2反応条件を有する第2プラズマ反応ゾーンを作り出し、非ガラス状およびガラス状シリカ層が蒸着された基材チューブを得るステップと、
iv)ステップiii)で得られた非ガラス状およびガラス状シリカ層が蒸着された基材チューブを冷却して、一次プリフォームの前駆体を得るステップと、
を備える。
i)供給側と排出側を有する中空基材チューブを提供するステップと、
ii)排出側の反転点またはその近傍において前記基材チューブの内面の少なくとも一部に非ガラス状シリカ層の蒸着を生じさせるために、電磁放射によって前記中空基材チューブの内部に第1反応条件を有する第1プラズマ反応ゾーンを作り出し、その内面の少なくとも一部に非ガラス状層を有する基材チューブを提供するステップと、続いて、
A)前記基材チューブの前記内面の少なくとも一部で、ステップii)で蒸着された前記非ガラス状シリカ層をエッチング除去するステップと、
iii)ステップii)で得られた内面の少なくとも一部に非ガラス状層を有する前記基材チューブにガラス状シリカ層の蒸着を生じさせるために、電磁放射によって前記中空基材チューブの内部に第2反応条件を有する第2プラズマ反応ゾーンを作り出し、非ガラス状およびガラス状シリカ層が蒸着された基材チューブを得るステップと、
iv)ステップiii)で得られた非ガラス状およびガラス状シリカ層が蒸着された基材チューブを冷却して、一次プリフォームの前駆体を得るステップと、
v)ステップiv)で得られた一次プリフォームの前駆体にコラプシング処理を施して一次プリフォームを得るステップと、
を備える。
i)供給側と排出側を有する中空基材チューブを提供するステップと、
ii)排出側の反転点またはその近傍において前記基材チューブの内面の少なくとも一部に非ガラス状シリカ層の蒸着を生じさせるために、電磁放射によって前記中空基材チューブの内部に第1反応条件を有する第1プラズマ反応ゾーンを作り出し、その内面の少なくとも一部に非ガラス状層を有する基材チューブを提供するステップと、続いて、
B)前記基材チューブの前記内面の少なくとも一部で、ステップii)で蒸着された前記非ガラス状シリカ層をガラス化するステップと、続いて、
iii)ステップii)で得られた内面の少なくとも一部に非ガラス状層を有する前記基材チューブにガラス状シリカ層の蒸着を生じさせるために、電磁放射によって前記中空基材チューブの内部に第2反応条件を有する第2プラズマ反応ゾーンを作り出し、非ガラス状およびガラス状シリカ層が蒸着された基材チューブを得るステップと、
iv)ステップiii)で得られた非ガラス状およびガラス状シリカ層が蒸着された基材チューブを冷却して、一次プリフォームの前記前駆体を得るステップと、
を備える。
i)供給側と排出側を有する中空基材チューブを提供するステップと、
ii)排出側の反転点またはその近傍において前記基材チューブの内面の少なくとも一部に非ガラス状シリカ層の蒸着を生じさせるために、電磁放射によって前記中空基材チューブの内部に第1反応条件を有する第1プラズマ反応ゾーンを作り出し、その内面の少なくとも一部に非ガラス状層を有する基材チューブを提供するステップと、続いて、
B)前記基材チューブの前記内面の少なくとも一部で、ステップii)で蒸着された前記非ガラス状シリカ層をガラス化するステップと、続いて、
iii)ステップii)で得られた内面の少なくとも一部に非ガラス状層を有する前記基材チューブにガラス状シリカ層の蒸着を生じさせるために、電磁放射によって前記中空基材チューブの内部に第2反応条件を有する第2プラズマ反応ゾーンを作り出し、非ガラス状およびガラス状シリカ層が蒸着された基材チューブを得るステップと、
iv)ステップiii)で得られた非ガラス状およびガラス状シリカ層が蒸着された基材チューブを冷却して、一次プリフォームの前駆体を得るステップと、
v)ステップiv)で得られた一次プリフォームの前駆体にコラプシング処理を施して一次プリフォームを得るステップと、
を備える。
以下の定義が、述べられた主題を規定するために本明細書および請求項で用いられる。以下で言及されていない他の用語は、当分野で一般的に認められている意味を有すると意図されている。
一次プリフォームの前駆体がプラズマ蒸着旋盤から取り外され、またはプラズマ蒸着旋盤に取り付けられたままとされ、周囲空気で冷却される(強制冷却は適用されない)。
Claims (15)
- 内部プラズマ蒸着プロセスによって光ファイバ用一次プリフォームの前駆体を製造する方法であって、
i)供給側と排出側を有する中空基材チューブを提供するステップと、
ii)後のガラス状シリカ層の蒸着のステップにおける排出側の反転点およびその近傍において基材チューブの内面上に非ガラス状シリカ層の蒸着を生じさせるために、電磁放射によって前記中空基材チューブの内部に第1反応条件を有する第1プラズマ反応ゾーンを作り出し、その内面上に非ガラス状層を有する基材チューブを提供するステップと、続いて、
iii)ステップii)で得られた非ガラス状層上にガラス状シリカ層の蒸着を生じさせるために、電磁放射によって前記中空基材チューブの内部に第2反応条件を有する第2プラズマ反応ゾーンを作り出し、非ガラス状およびガラス状シリカ層が蒸着された基材チューブを得るステップと、
iv)ステップiii)で得られた非ガラス状およびガラス状シリカ層が蒸着された基材チューブを冷却して、一次プリフォームの前駆体を得るステップと、
を備える方法。 - ステップiv)で得られた一次プリフォームの前駆体に、一次プリフォームを形成するためのコラプシング処理である追加のステップv)を施すことをさらに備える、請求項1に記載の方法。
- ステップii)の後且つステップiii)の前に実行されるステップA)をさらに備え、前記ステップA)は、前記基材チューブの前記内面における排出側の反転点の長手位置200mm上流と供給側の反転点の長手位置200mm下流との間の少なくとも一部で、ステップii)で蒸着された前記非ガラス状シリカ層をエッチング除去することを備える、請求項1または2に記載の方法。
- ステップii)の後且つステップiii)の前に実行されるステップB)をさらに備え、前記ステップB)は、前記基材チューブの前記内面における排出側の反転点の長手位置200mm上流と供給側の反転点の長手位置200mm下流との間の少なくとも一部で、ステップii)で蒸着された前記非ガラス状シリカ層をガラス化することを備える、請求項1または2に記載の方法。
- 前記第1反応条件は、30ミリバールよりも高い圧力から成る、請求項1から4のいずれかに記載の方法。
- 前記第1反応条件は、1000ミリバールよりも低い圧力から成る、請求項1から5のいずれかに記載の方法。
- 前記第1反応条件は、60から200ミリバールの圧力から成る、請求項1から6のいずれかに記載の方法。
- 前記第2反応条件は、1から25ミリバールの圧力から成る、請求項1から7のいずれかに記載の方法。
- 前記第2反応条件は、10から15ミリバールの圧力から成る、請求項8に記載の方法。
- ステップii)において1から200の非ガラス状シリカ層が蒸着される、請求項1から9のいずれかに記載の方法。
- 前記非ガラス状シリカ層はそれぞれ、単独で、1から5マイクロメートルの厚さを有する、請求項1から10のいずれかに記載の方法。
- 前記非ガラス状シリカ層はそれぞれ、単独で、2から3マイクロメートルの厚さを有する、請求項1から11のいずれかに記載の方法。
- 蒸着された前記非ガラス状シリカ層は、全部で1から400マイクロメートルの厚さを有する、請求項1から12のいずれかに記載の方法。
- 使用される前記電磁放射はマイクロ波である、請求項1から13のいずれかに記載の方法。
- 光ファイバ用一次プリフォームの製造に用いられるべき、基材チューブの内面に蒸着された非ガラス状シリカ層およびガラス状シリカ層を備える一次プリフォームの前駆体であって、
前記非ガラス状シリカ層は、前記基材チューブの端部およびその近傍または前記基材チューブの端部近傍における前記基材チューブの内面と蒸着された前記ガラス状シリカ層との間に存在する、一次プリフォームの前駆体。
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US4262035A (en) * | 1980-03-07 | 1981-04-14 | Bell Telephone Laboratories, Incorporated | Modified chemical vapor deposition of an optical fiber using an rf plasma |
US4292063A (en) * | 1980-05-05 | 1981-09-29 | Northern Telecom Limited | Manufacture of an optical fiber preform with micro-wave plasma activated deposition in a tube |
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DE3422997A1 (de) * | 1984-06-22 | 1986-01-02 | Standard Elektrik Lorenz Ag, 7000 Stuttgart | Verfahren zur herstellung von lichtwellenleitern |
DE3445239A1 (de) * | 1984-12-12 | 1986-06-19 | Philips Patentverwaltung Gmbh, 2000 Hamburg | Verfahren zur herstellung von lichtleitfasern |
DE3635034A1 (de) * | 1986-10-15 | 1988-04-21 | Philips Patentverwaltung | Verfahren zur herstellung von lichtleitfasern |
CN1117176C (zh) * | 1997-12-31 | 2003-08-06 | 等离子光纤维股份有限公司 | 等离子体化学汽相淀积装置和制造光纤、预制棒及套管的方法以及由此制造的光纤 |
US6769275B2 (en) * | 2002-03-15 | 2004-08-03 | Fibercore, Inc. | Method for making optical fiber preform using simultaneous inside and outside deposition |
NL1020358C2 (nl) * | 2002-04-10 | 2003-10-13 | Draka Fibre Technology Bv | Werkwijze en inrichting ter vervaardiging van optische voorvormen, alsmede de daarmee verkregen optische vezels. |
US7793612B2 (en) * | 2003-08-01 | 2010-09-14 | Silica Tech, Llc | Ring plasma jet method and apparatus for making an optical fiber preform |
JP4383377B2 (ja) * | 2005-03-22 | 2009-12-16 | 古河電気工業株式会社 | 微細構造光ファイバの作製方法 |
NL1030749C2 (nl) | 2005-12-22 | 2007-06-25 | Draka Comteq Bv | Inrichting en werkwijze voor het vervaardigen van een optische voorvorm. |
NL1032463C2 (nl) * | 2006-09-08 | 2008-03-11 | Draka Comteq Bv | Werkwijze voor het vervaardigen van een optische voorvorm. |
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NL1034059C2 (nl) * | 2007-06-29 | 2008-12-30 | Draka Comteq Bv | Werkwijze voor het vervaardigen van een voorvorm voor optische vezels onder toepassing van een dampdepositieproces. |
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