DK1997159T3 - Megasonisk bearbejdningsapparat med frekvensfejning af tykkelse-modus-transducere - Google Patents

Megasonisk bearbejdningsapparat med frekvensfejning af tykkelse-modus-transducere Download PDF

Info

Publication number
DK1997159T3
DK1997159T3 DK07753508T DK07753508T DK1997159T3 DK 1997159 T3 DK1997159 T3 DK 1997159T3 DK 07753508 T DK07753508 T DK 07753508T DK 07753508 T DK07753508 T DK 07753508T DK 1997159 T3 DK1997159 T3 DK 1997159T3
Authority
DK
Denmark
Prior art keywords
frequency
transducers
range
fundamental resonant
generator
Prior art date
Application number
DK07753508T
Other languages
English (en)
Inventor
Michael J Goodson
Original Assignee
Megasonic Sweeping Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Family has litigation
First worldwide family litigation filed litigation Critical https://patents.darts-ip.com/?family=38523045&utm_source=google_patent&utm_medium=platform_link&utm_campaign=public_patent_search&patent=DK1997159(T3) "Global patent litigation dataset” by Darts-ip is licensed under a Creative Commons Attribution 4.0 International License.
Application filed by Megasonic Sweeping Inc filed Critical Megasonic Sweeping Inc
Application granted granted Critical
Publication of DK1997159T3 publication Critical patent/DK1997159T3/da

Links

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10N—ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10N30/00—Piezoelectric or electrostrictive devices
    • H10N30/20—Piezoelectric or electrostrictive devices with electrical input and mechanical output, e.g. functioning as actuators or vibrators
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B06—GENERATING OR TRANSMITTING MECHANICAL VIBRATIONS IN GENERAL
    • B06B—METHODS OR APPARATUS FOR GENERATING OR TRANSMITTING MECHANICAL VIBRATIONS OF INFRASONIC, SONIC, OR ULTRASONIC FREQUENCY, e.g. FOR PERFORMING MECHANICAL WORK IN GENERAL
    • B06B1/00—Methods or apparatus for generating mechanical vibrations of infrasonic, sonic, or ultrasonic frequency
    • B06B1/02—Methods or apparatus for generating mechanical vibrations of infrasonic, sonic, or ultrasonic frequency making use of electrical energy
    • B06B1/0207—Driving circuits
    • B06B1/0223—Driving circuits for generating signals continuous in time
    • B06B1/0269—Driving circuits for generating signals continuous in time for generating multiple frequencies
    • B06B1/0284—Driving circuits for generating signals continuous in time for generating multiple frequencies with consecutive, i.e. sequential generation, e.g. with frequency sweep
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B08—CLEANING
    • B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
    • B08B3/00—Cleaning by methods involving the use or presence of liquid or steam
    • B08B3/04—Cleaning involving contact with liquid
    • B08B3/10—Cleaning involving contact with liquid with additional treatment of the liquid or of the object being cleaned, e.g. by heat, by electricity or by vibration
    • B08B3/12—Cleaning involving contact with liquid with additional treatment of the liquid or of the object being cleaned, e.g. by heat, by electricity or by vibration by sonic or ultrasonic vibrations
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10N—ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10N30/00—Piezoelectric or electrostrictive devices
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10P—GENERIC PROCESSES OR APPARATUS FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10P50/00—Etching of wafers, substrates or parts of devices
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10P—GENERIC PROCESSES OR APPARATUS FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10P72/00—Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof
    • H10P72/04—Apparatus for manufacture or treatment
    • H10P72/0402—Apparatus for fluid treatment
    • H10P72/0406—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like
    • H10P72/0411—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like for wet cleaning or washing
    • H10P72/0416—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like for wet cleaning or washing with the semiconductor substrates being dipped in baths or vessels

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
  • Apparatuses For Generation Of Mechanical Vibrations (AREA)
  • Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
  • Oscillators With Electromechanical Resonators (AREA)
  • Piezo-Electric Or Mechanical Vibrators, Or Delay Or Filter Circuits (AREA)
  • Surface Acoustic Wave Elements And Circuit Networks Thereof (AREA)

Claims (12)

18
1. Megasonisk bearbejdningsapparat, omfattende: en tank (12), som er indrettet til at indeholde fluidum (14) og en eller flere dele (15), der skal bearbejdes, et antal piezoelektriske transducere (16), der er indrettet til at bibringe tanken (12) og dens indhold vibrationer, hvorved hver transducer (16) har en fundamental resonansfrekvens på i det mindste 3000 KHz, og en generator (26), som er koblet til transducerne med henblik på levering af et drivsignal, hvorved i det mindste nogle af transducernes (15) fundamentale resonansfrekvenser er forskellige og bestemmer et interval af transducerresonansfrekvenser, idet en piezoelektrisk transducers fundamentale resonansfrekvens bestemmer en maksimal fundamental resonansfrekvens, og den anden piezoelektriske transducers fundamentale resonansfrekvens bestemmer en minimal fundamental resonansfrekvens, og generatoren (26) har en fejefrekvensfunktion, som er anvendelig til at levere det drivsignal ved en variabel frekvens over et forudbestemt frekvensfejningsinterval (30), som strækker sig fra en maksimal drivfrekvens, som lige netop overskrider den maksimale fundamentale resonansfrekvens, og en minimal drivfrekvens, som er lige netop mindre end den minimale fundamentale resonansfrekvens, hvorved den størrelse, hvorved den maksimale drivfrekvens overstiger den maksimale fundamentale resonansfrekvens, er lig med den størrelse, som den minimale drivfrekvens er mindre end den minimale fundamentale resonansfrekvens, hvorved generatoren (26) har en brugerinterface (28) til at indstille et indstilleligt frekvensinterval og en indstillelig fejehastighed.
2. Apparat ifølge krav 1, hvorved fejehastigheden ligger i intervallet fra 50 til 1200 fejninger per sekund. 19
3. Apparat ifølge krav 1, hvorved det har i det mindste fire transducere (16) og to generatorer (26), hvorved transducerne (16) er grupperet ved hjælp af ens resonansfrekvenser til opdeling af frekvensfejeintervallet i mindre delintervaller, og hvorved hver gruppe af transducere er drevet ved hjælp af en separat generator, som genererer et drivsignal, som har en variabel frekvens, der varierer i et frekvensinterval, som omfatter og overskrider intervallet for alle transducernes fundamentale resonansfrekvens i den tilhørende gruppe.
4. Apparat ifølge krav 1, hvorved de piezoelektriske transducere (16) virker i tykkelsesmodus.
5. Apparat ifølge krav 1, og som omfatter i det mindste to tanke, hvor hver tank er indrettet til at indeholde fluidum og en eller flere dele, der skal bearbejdes, hvorved antallet af piezoelektriske transducere er grupperet ved hjælp af ens fundamentale resonansfrekvenser til deling af frekvensfejeintervallet i mindre delintervaller, og hvorved hver gruppe af transducere er drevet ved hjælp af en separat generator, som genererer et drivsignal, som har en variabel frekvens, der varierer i et frekvensfejeinterval, som omfatter og overskrider intervallet for alle transducernes fundamentale resonansfrekvens i den tilhørende gruppe, og hvorved forskellige transducere i hver gruppe af transducere er koblet til forskellige af de i det mindste to tanke.
6. Apparat ifølge krav 1, hvorved generatoren (26) leverer et drivsignal ved et forudbestemt frekvensfejeinterval og en forudbestemt fejehastighed, og hvorved generatoren omfatter programmerbare midler til at bestemme et frekvensfejeinterval og en fejehastighed for drivsignalet.
7. Megasonisk bearbejdningsfremgangsmåde omfattende trinnene: tilvejebringelse af en tank (12), som er indrettet til at indeholde fluidum (14) og en eller flere dele (15), der skal bearbejdes, 20 tilvejebringelse af et antal piezoelektriske transducere (16), der er indrettet til at bibringe tanken (12) og dens indhold vibrationer, hvorved hver transducer (16) har en fundamental resonansfrekvens på i det mindste 3000 KHz, og hvorved i det mindste nogle af transducernes (15) fundamentale resonansfrekvenser er forskellige og bestemmer et interval af transducerresonansfrekvenser, idet en piezoelektrisk transducers fundamentale resonansfrekvens bestemmer en maksimal fundamental resonansfrekvens, og den anden piezoelektriske transducers fundamentale resonansfrekvens bestemmer en minimal fundamental resonansfrekvens, tilvejebringelse af en generator, som er koblet til transducerne for at levere et drivsignal, hvorved generatoren har en fejefrekvensfunktion, som er anvendelig til at levere det drivsignal ved en variabel frekvens over et fre-kvensfejeinterval (30), som strækker sig fra en maksimal drivfrekvens, som lige netop overskrider den maksimale fundamentale resonansfrekvens, og en minimal drivfrekvens, som er lige netop mindre end den minimale fundamentale resonansfrekvens, hvorved den størrelse, hvorved den maksimale drivfrekvens overstiger den maksimale fundamentale resonansfrekvens, er lig med den størrelse, som den minimale drivfrekvens er mindre end den minimale fundamentale resonansfrekvens, hvorved generatoren (26) har en brugerinterface (28) til modtagelse af en brugerprogrammeret fejehastighed og frekvenshastigheden for generatoren.
8. Fremgangsmåde ifølge krav 7, hvorved fejehastigheden ligger i intervallet fra 50 til 1200 fejninger per sekund.
9. Fremgangsmåde ifølge krav 7, og som omfatter: tilvejebringelse af i det mindste fire transducere og to generatorer, gruppering af transducerne ved hjælp af ens resonansfrekvenser til opdeling af frekvensfejeintervallet i mindre delintervaller, og drivning af hver gruppe af transducere ved hjælp af en separat generator, som genererer et drivsignal, som har en variabel frekvens, der varierer i et 21 frekvensinterval, som omfatter og overskrider intervallet for alle transducernes fundamentale resonansfrekvens i den tilhørende gruppe.
10. Fremgangsmåde ifølge krav 7, hvorved de piezoelektriske transducere opererer i tykkelsesmodus.
11. Fremgangsmåde ifølge krav 7, omfattende tilvejebringelse af i det mindste to tanke, hvor hver tank er indrettet til at indeholde fluidum og en eller flere dele, der skal bearbejdes, gruppering af antallet af piezoelektriske transducere ved hjælp af ens fundamentale resonansfrekvenser til deling af frekvensfejeintervallet i mindre delintervaller, og hvorved hver gruppe af transducere er drevet ved hjælp af en separat generator, som genererer et drivsignal, som har en variabel frekvens, der varierer i et frekvensinterval, som omfatter og overskrider intervallet for alle transducernes fundamentale resonansfrekvens i den tilhørende gruppe, og kobling af forskellige transducere i hver gruppe af transducere til forskellige af de i det mindste to tanke.
12. Fremgangsmåde ifølge krav 7, og som omfatter programmering af generatoren til at bestemme frekvensfejeintervallet og fejehastigheden for drivsignalet.
DK07753508T 2006-03-17 2007-03-18 Megasonisk bearbejdningsapparat med frekvensfejning af tykkelse-modus-transducere DK1997159T3 (da)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US78321306P 2006-03-17 2006-03-17
PCT/US2007/006885 WO2007109255A2 (en) 2006-03-17 2007-03-18 Megasonic processing apparatus with frequency sweeping of thickness mode transducers

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DK1997159T3 true DK1997159T3 (da) 2015-03-30

Family

ID=38523045

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DK07753508T DK1997159T3 (da) 2006-03-17 2007-03-18 Megasonisk bearbejdningsapparat med frekvensfejning af tykkelse-modus-transducere

Country Status (13)

Country Link
US (2) US7598654B2 (da)
EP (1) EP1997159B1 (da)
JP (1) JP5328044B2 (da)
KR (1) KR101095912B1 (da)
CN (1) CN101517766B (da)
AU (1) AU2007227293B2 (da)
CA (1) CA2645933C (da)
DK (1) DK1997159T3 (da)
ES (1) ES2527092T3 (da)
MX (1) MX2008011778A (da)
MY (1) MY157699A (da)
TW (1) TWI393595B (da)
WO (1) WO2007109255A2 (da)

Families Citing this family (28)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI393595B (zh) 2006-03-17 2013-04-21 麥克 固得桑 Ｊ 具有頻率掃描的厚度模式轉換器之超高頻音波處理設備
US20090173358A1 (en) * 2008-01-09 2009-07-09 Micron Technology, Inc. Megasonic cleaning with controlled boundary layer thickness and associated systems and methods
JP2009248066A (ja) * 2008-04-11 2009-10-29 Tiyoda Electric Co Ltd 超音波洗浄装置
DE102008037067B4 (de) * 2008-08-08 2012-03-29 Turbo-Clean Gmbh Schwingförderer mit Ultraschallreinigung
JP5261138B2 (ja) * 2008-11-05 2013-08-14 富士フイルム株式会社 超音波洗浄機における超音波振動子の駆動装置及び駆動方法
US20100126942A1 (en) * 2008-11-20 2010-05-27 Thottathil Sebastian K Multi-frequency ultrasonic apparatus and process with exposed transmitting head
US9108232B2 (en) * 2009-10-28 2015-08-18 Megasonic Sweeping, Incorporated Megasonic multifrequency apparatus with matched transducers and mounting plate
US20110132575A1 (en) * 2009-12-07 2011-06-09 Goodson J Michael Cleaning Industrial Heat Exchangers Through Utilization of Thicknenss Mode Ultrasonics
JP2011165911A (ja) * 2010-02-10 2011-08-25 Pre-Tech Co Ltd 洗浄装置及び被洗浄物の洗浄方法並びに超音波の発振方法
KR101639635B1 (ko) * 2010-06-03 2016-07-25 삼성전자주식회사 메가소닉 세정 방법 및 세정 장치
JP5693081B2 (ja) * 2010-08-06 2015-04-01 キヤノン株式会社 振動発生装置、その駆動方法、異物除去装置および光学装置
US9056338B2 (en) 2012-07-20 2015-06-16 Scientific Industrial Nano Engineering, LLC Self cleaning piezoelectric chemical apparatus and method of use
EP2703094B1 (en) 2012-08-27 2019-10-02 IMEC vzw A system for delivering ultrasonic energy to a liquid and its use for cleaning of solid parts
GB2506939B (en) * 2012-10-15 2017-04-05 Alphasonics (Ultrasonic Cleaning Systems) Ltd Improvements in and relating to ultrasonic cleaning
KR20160001726A (ko) * 2014-06-12 2016-01-07 한국세라믹기술원 스위핑 구동신호를 이용한 배관 내부 부산물 부착 방지 장치
US11141762B2 (en) 2015-05-15 2021-10-12 Acm Research (Shanghai), Inc. System for cleaning semiconductor wafers
KR102359795B1 (ko) 2015-05-20 2022-02-08 에이씨엠 리서치 (상하이) 인코포레이티드 반도체 웨이퍼를 세정하는 방법 및 장치
JP6511353B2 (ja) * 2015-07-07 2019-05-15 クラリオン株式会社 報知装置および報知方法
DE102016101660B4 (de) * 2016-01-29 2026-02-26 Weber Ultrasonics AG Verfahren zur Anregung von piezoelektrischen Wandlern und Schallerzeugungsanordnung
KR102548597B1 (ko) 2016-04-06 2023-06-28 에이씨엠 리서치 (상하이), 인코포레이티드 반도체 웨이퍼를 세정하는 방법 및 장치
WO2018036630A1 (en) 2016-08-25 2018-03-01 Electrolux Appliances Aktiebolag Dishwasher comprising a dietergent container for dispensing detergent
KR102603465B1 (ko) 2016-09-19 2023-11-17 에이씨엠 리서치 (상하이), 인코포레이티드 기판을 세정하는 방법 및 장치
US11037804B2 (en) 2016-09-20 2021-06-15 Acm Research, Inc. Methods and apparatus for cleaning substrates
US11581205B2 (en) 2017-11-20 2023-02-14 Acm Research, Inc. Methods and system for cleaning semiconductor wafers
ES2928996T3 (es) * 2017-12-28 2022-11-24 Greentech Laser Manufactoring S P A Planta automática para limpiar moldes para neumáticos
CN114101204A (zh) * 2021-11-22 2022-03-01 无锡市锡山德嘉电子有限责任公司 基于超声波技术处理脱盐脱水罐淤泥的清理器
KR102881821B1 (ko) * 2022-10-19 2025-11-11 주식회사 듀라소닉 진동 전달 부재의 두께와 주파수 변화를 이용한 초음파 세정 장치
JP2024120563A (ja) * 2023-02-24 2024-09-05 日本発條株式会社 ワークの洗浄方法および洗浄装置

Family Cites Families (56)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3233213A (en) * 1960-04-15 1966-02-01 Harris Transducer Corp Transducer
US3140859A (en) * 1961-01-17 1964-07-14 Internat Ultrasonics Inc Electroacoustic sandwich transducers
US3315102A (en) * 1963-01-14 1967-04-18 Electromation Components Corp Piezoelectric liquid cleaning device
US3371233A (en) * 1965-06-28 1968-02-27 Edward G. Cook Multifrequency ultrasonic cleaning equipment
US3432148A (en) * 1967-08-21 1969-03-11 Paul P Krolik Vibratory devices for cleaning dentures or the like
US3596883A (en) * 1968-11-08 1971-08-03 Branson Instr Ultrasonic apparatus
US3575383A (en) * 1969-01-13 1971-04-20 John A Coleman Ultrasonic cleaning system, apparatus and method therefor
US3833163A (en) * 1973-03-08 1974-09-03 Branson Instr Ultrasonic apparatus
GB1488252A (en) 1973-12-15 1977-10-12 Kerry Ultrasonics Ultrasonic cleaning apparatus
US3945618A (en) * 1974-08-01 1976-03-23 Branson Ultrasonics Corporation Sonic apparatus
US4118649A (en) * 1977-05-25 1978-10-03 Rca Corporation Transducer assembly for megasonic cleaning
US4233477A (en) * 1979-01-31 1980-11-11 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Navy Flexible, shapeable, composite acoustic transducer
DE3027533C2 (de) * 1980-07-21 1986-05-15 Telsonic Aktiengesellschaft für elektronische Entwicklung und Fabrikation, Bronschhofen Verfahren zur Erzeugung und Abstrahlung von Ultraschallenergie in Flüssigkeiten sowie Ultraschallresonator zur Ausführung des Verfahrens
US5834871A (en) * 1996-08-05 1998-11-10 Puskas; William L. Apparatus and methods for cleaning and/or processing delicate parts
US4527901A (en) * 1983-11-21 1985-07-09 Ultrasonic Power Corporation Ultrasonic cleaning tank
GB8333696D0 (en) * 1983-12-17 1984-01-25 Glasshome Ltd Transistor amplifier
DK63284A (da) * 1984-02-13 1985-08-14 Ajax Internationel Machinery & Fremgangsmaade til fremkaldelse af et billede og en maskine til udoevelse af fremgangsmaaden
JPS6336534A (ja) * 1986-07-30 1988-02-17 Puretetsuku:Kk 洗浄装置
US4736130A (en) * 1987-01-09 1988-04-05 Puskas William L Multiparameter generator for ultrasonic transducers
US4998549A (en) * 1987-04-29 1991-03-12 Verteq, Inc. Megasonic cleaning apparatus
JPH0234923A (ja) 1988-07-25 1990-02-05 Toshiba Corp 超音波洗浄装置
JP2832443B2 (ja) * 1988-11-22 1998-12-09 本多電子株式会社 マルチ周波数超音波洗浄方法及び洗浄装置
WO1990014175A1 (fr) * 1989-05-17 1990-11-29 Minsky Radiotekhnichesky Institut Dispositif de traitement ultrasonique d'articles dans un milieu liquide
EP0455837B1 (de) * 1990-03-09 1992-05-13 Martin Walter Ultraschalltechnik GmbH Ultraschall-Resonator
JPH04150981A (ja) 1990-10-15 1992-05-25 Kokusai Denki Erutetsuku:Kk 超音波洗浄装置
WO1992022385A1 (en) * 1991-06-14 1992-12-23 Halcro Nominees Pty. Ltd. Ultrasonic vibration generation and use
US5247954A (en) * 1991-11-12 1993-09-28 Submicron Systems, Inc. Megasonic cleaning system
JPH05308067A (ja) * 1992-05-01 1993-11-19 Hitachi Ltd 超音波洗浄装置および方法
KR940019363A (ko) * 1993-02-22 1994-09-14 요시히데 시바노 초음파세정에 있어서의 초음파진동자의 발진방법
US5355048A (en) * 1993-07-21 1994-10-11 Fsi International, Inc. Megasonic transducer for cleaning substrate surfaces
JP3336323B2 (ja) * 1993-10-28 2002-10-21 本多電子株式会社 超音波洗浄方法及びその装置
JPH09199464A (ja) 1996-01-17 1997-07-31 Shibaura Eng Works Co Ltd 超音波洗浄装置
JPH1052669A (ja) 1996-05-22 1998-02-24 Daishinku Co 超音波振動子ユニットおよび超音波洗浄装置および投げ込み型超音波洗浄装置
US7629726B2 (en) * 2007-07-11 2009-12-08 Puskas William L Ultrasound system
US6313565B1 (en) * 2000-02-15 2001-11-06 William L. Puskas Multiple frequency cleaning system
JP3343775B2 (ja) * 1996-09-04 2002-11-11 東京エレクトロン株式会社 超音波洗浄装置
FR2762240B1 (fr) * 1997-04-18 1999-07-09 George Lucien Michel Procede et dispositif de nettoyage d'elements electroniques par moyennes ou hautes frequences
US5895997A (en) * 1997-04-22 1999-04-20 Ultrasonic Power Corporation Frequency modulated ultrasonic generator
US6047246A (en) * 1997-05-23 2000-04-04 Vickers; John W. Computer-controlled ultrasonic cleaning system
US5865199A (en) * 1997-10-31 1999-02-02 Pedziwiatr; Michael P. Ultrasonic cleaning apparatus
US6150753A (en) * 1997-12-15 2000-11-21 Cae Blackstone Ultrasonic transducer assembly having a cobalt-base alloy housing
US6314974B1 (en) * 1999-06-28 2001-11-13 Fairchild Semiconductor Corporation Potted transducer array with matching network in a multiple pass configuration
US6188162B1 (en) * 1999-08-27 2001-02-13 Product Systems Incorporated High power megasonic transducer
US6819027B2 (en) * 2002-03-04 2004-11-16 Cepheid Method and apparatus for controlling ultrasonic transducer
US20040055621A1 (en) * 2002-09-24 2004-03-25 Air Products And Chemicals, Inc. Processing of semiconductor components with dense processing fluids and ultrasonic energy
GB0222421D0 (en) * 2002-09-27 2002-11-06 Ratcliff Henry K Advanced ultrasonic processor
JP3846584B2 (ja) * 2002-10-24 2006-11-15 荒川化学工業株式会社 部品類の洗浄装置及び洗浄方法
US6880560B2 (en) * 2002-11-18 2005-04-19 Techsonic Substrate processing apparatus for processing substrates using dense phase gas and sonic waves
US7104268B2 (en) * 2003-01-10 2006-09-12 Akrion Technologies, Inc. Megasonic cleaning system with buffered cavitation method
EP1635960A2 (en) * 2003-06-06 2006-03-22 P.C.T. Systems, Inc. Method and apparatus to process substrates with megasonic energy
TW200517192A (en) * 2003-09-11 2005-06-01 Fsi Int Inc Semiconductor wafer immersion systems and treatments using modulated acoustic energy
EP1701781A4 (en) * 2003-11-05 2010-02-03 Crest Group Inc ULTRASONIC PROCESSING AND DEVICE WITH MULTI-FREQUENCY TRANSFORMERS
CN2683269Y (zh) * 2004-03-19 2005-03-09 上海科导超声仪器有限公司 一种功率无级连续可调超声波清洗器的控制电路
US20060006761A1 (en) * 2004-06-09 2006-01-12 Goodson J M Ultrasonic process and apparatus with programmable sweep frequency
JP2006035139A (ja) * 2004-07-28 2006-02-09 Ptc Engineering:Kk 超音波洗浄装置
TWI393595B (zh) 2006-03-17 2013-04-21 麥克 固得桑 Ｊ 具有頻率掃描的厚度模式轉換器之超高頻音波處理設備

Also Published As

Publication number Publication date
ES2527092T3 (es) 2015-01-20
TW200810849A (en) 2008-03-01
KR20090009801A (ko) 2009-01-23
AU2007227293A1 (en) 2007-09-27
US20100012148A1 (en) 2010-01-21
KR101095912B1 (ko) 2011-12-21
TWI393595B (zh) 2013-04-21
JP2009530856A (ja) 2009-08-27
AU2007227293B2 (en) 2011-09-15
WO2007109255A2 (en) 2007-09-27
CN101517766B (zh) 2015-11-25
CA2645933C (en) 2012-01-03
MX2008011778A (es) 2009-01-14
WO2007109255A3 (en) 2007-12-21
EP1997159B1 (en) 2014-12-17
MY157699A (en) 2016-07-15
US7598654B2 (en) 2009-10-06
CN101517766A (zh) 2009-08-26
JP5328044B2 (ja) 2013-10-30
CA2645933A1 (en) 2007-09-27
US8310131B2 (en) 2012-11-13
EP1997159A4 (en) 2010-11-03
US20070182285A1 (en) 2007-08-09
EP1997159A2 (en) 2008-12-03
HK1127438A1 (en) 2009-09-25

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DK1997159T3 (da) Megasonisk bearbejdningsapparat med frekvensfejning af tykkelse-modus-transducere
US9610617B2 (en) Megasonic multifrequency apparatus with matched transducer
CA2262540C (en) Apparatus and methods for cleaning delicate parts
US7741753B2 (en) Megasonic apparatus, circuitry, signals and methods for cleaning and/or processing
WO2007011520A2 (en) Apparatus, circuitry, signals, probes and methods for cleaning and/or processing with sound
WO2004001869A1 (en) Circuitry for cleaning with sound waves
HK1127438B (en) Megasonic processing apparatus with frequency sweeping of thickness mode transducers
HK1174737B (en) Megasonic multifrequency apparatus with matched transducers and mounting plate
HK1174737A (en) Megasonic multifrequency apparatus with matched transducers and mounting plate