DK150990B - Fremgangsmaade til rensning af en forurenet genstand - Google Patents

Fremgangsmaade til rensning af en forurenet genstand Download PDF

Info

Publication number
DK150990B
DK150990B DK493473AA DK493473A DK150990B DK 150990 B DK150990 B DK 150990B DK 493473A A DK493473A A DK 493473AA DK 493473 A DK493473 A DK 493473A DK 150990 B DK150990 B DK 150990B
Authority
DK
Denmark
Prior art keywords
mixture
solvent
rinsing
halogenated hydrocarbon
purification
Prior art date
Application number
DK493473AA
Other languages
English (en)
Other versions
DK150990C (da
Inventor
James William Tipping
Bernard Patrick Whim
Original Assignee
Ici Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Ici Ltd filed Critical Ici Ltd
Publication of DK150990B publication Critical patent/DK150990B/da
Application granted granted Critical
Publication of DK150990C publication Critical patent/DK150990C/da

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C11ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
    • C11DDETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
    • C11D7/00Compositions of detergents based essentially on non-surface-active compounds
    • C11D7/22Organic compounds
    • C11D7/26Organic compounds containing oxygen
    • C11D7/261Alcohols; Phenols
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C11ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
    • C11DDETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
    • C11D7/00Compositions of detergents based essentially on non-surface-active compounds
    • C11D7/50Solvents
    • C11D7/5004Organic solvents
    • C11D7/5018Halogenated solvents
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23GCLEANING OR DE-GREASING OF METALLIC MATERIAL BY CHEMICAL METHODS OTHER THAN ELECTROLYSIS
    • C23G5/00Cleaning or de-greasing metallic material by other methods; Apparatus for cleaning or de-greasing metallic material with organic solvents
    • C23G5/02Cleaning or de-greasing metallic material by other methods; Apparatus for cleaning or de-greasing metallic material with organic solvents using organic solvents
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C11ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
    • C11DDETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
    • C11D7/00Compositions of detergents based essentially on non-surface-active compounds
    • C11D7/22Organic compounds
    • C11D7/26Organic compounds containing oxygen
    • C11D7/263Ethers
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C11ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
    • C11DDETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
    • C11D7/00Compositions of detergents based essentially on non-surface-active compounds
    • C11D7/22Organic compounds
    • C11D7/26Organic compounds containing oxygen
    • C11D7/267Heterocyclic compounds
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C11ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
    • C11DDETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
    • C11D7/00Compositions of detergents based essentially on non-surface-active compounds
    • C11D7/22Organic compounds
    • C11D7/28Organic compounds containing halogen

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Wood Science & Technology (AREA)
  • Oil, Petroleum & Natural Gas (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Emergency Medicine (AREA)
  • Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
  • Detergent Compositions (AREA)
  • Cleaning And De-Greasing Of Metallic Materials By Chemical Methods (AREA)
  • Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)

Description

150990
Opfindelsen angår en fremgangsmåde til rensning af en forurenet genstand ved neddykning af genstanden i en kogende blanding af et halogeneret hydrocarbonopløsningsmiddel og et hjælpeopløsningsmiddel, hvor blandingen befinder sig i et rensningsrum med 5 derover indrettet damprum, og ved påfølgende skylning af genstan den, ved hvilken skylningen sker ved neddykning af genstanden i en anden kogende blanding af det halogenerede hydrocarbonopløsningsmiddel og hjælpeopløsningsmidlet, idet koncentrationen af hjælpeopløsningsmidlet i den anden blanding er mindre end i den ^q første blanding, og hvor den anden kogende blanding befinder 2 150990 sig i et skyllerum ved siden af rensningsrummet, hvorover der strækker sig et fælles damprum, og ved hvilken endvidere den anden blanding strømmer over fra skyllerummet til rensningsrummet, og ved hvilken dampen i det fælles damprum kondenseres, og 5 kondensatet ledes ind i skyllerummet.
Halogenerede hydrocarboner anvendes hyppigt til rensning af de mest forskelligartede genstande. For at forøge rensevirkningen er det sædvanligt at opvarme disse opløsningsmidler til koge-10 punktet. Således anvendes f.eks. l,l,2-trichlor-l,2,2-trifluor- ethan som rensevæske til fjernelse af loddeflusmidler på kolo-forniumbasis, som befinder sig på trykte kredsløb efter disses fremstilling. Opløsningskraften af et rent opløsningsmiddel er dog ofte ikke tilstrækkelig, hvorfor der så til disse opløs-15 ningsmidler sættes stærkere virkende tilsætninger. F.eks. er det sædvanligt at sætte en alkohol til trichlortrifluorethan for effektivt at fjerne det nævnte flusmiddel. Ved anvendelse af opløsningsmiddelblandinger kan der imidlertid opstå vanskeligheder, hvis en bestanddel fortrinsvis fordamper fra blandin-20 gen, fordi dennes sammensætning så ændrer sig. Denne ulempe, der især optræder ved anvendelse af kogende opløsningsmidler, kan imødegås, hvis man til rensningen anvender en azeotrop opløsningsmiddelblanding. Anvendelse af azeotrope blandinger til en rensningsmetode af den her omhandlede art fører imidlertid 25 til en fremgangsmåde, der kun dårligt kan tilpasses til bestem te forhold, fordi man er tvunget til i hvert enkelt tilfælde at finde en egnet azeotrop.
Renseanlæg til behandling af forurenede genstande har sædvanlig-30 vis en rensetank, hvori genstandene neddykkes, og en sumptank ved siden af, idet der under rensningen stadig strømmer væske fra rensetanken over i sumptanken. Over disse rum findes et fælles damprum, der er udstyret med en køleslange. Væskerne i sumprummet og i rensningsrummet holdes på kogning, og den på køle-35 slangen kondenserende væske ledes tilbage til rensningsrummet.
Herved sikres, at væsken i rensningsrummet forbliver ren, og at de ved fremgangsmåden løsgjorte forureninger samles i sumpen.
Et sådant anlæg kunne imidlertid ikke anvendes til opløsnings- 3 150990 middelblandinger, hvori en bestanddel foreligger i en mængde, der overstiger det azeotrope forhold, fordi der uundgåeligt vilde optræde de ovennævnte vanskeligheder med hensyn til ændring af sammensætningen af opløsningsmiddelblandingen i rens-5 ningsrummet.
Den tvingende anvendelse af opløsningsmidler, som kan danne en azeotrop, ved den kendte fremgangsmåde er dog stadig en ulempe, da det frie valg af opløsningsmiddel er begrænset.
10
Formålet med den foreliggende opfindelse er at afhjælpe denne ulempe.
Dette sker ved fremgangsmåden ifølge opfindelsen, som er ejen-15 dommelig ved, at der anvendes en opløsningsmiddelblanding, som ikke danner en azeotrop, og at hjælpeopløsningsmidlet anvendes i den første blanding i en mængde på mindst 2,5 vægtdele pr.
100 vægtdele af det halogenerede hydrocarbonopløsningsmiddel.
20 Overraskende har det vist sig, at denne fremgangsmåde også kan udføres med blandinger af opløsningsmidler, som ikke danner nogen azeotrop med hinanden.
En fremgangsmåde af den art, som den foreliggende opfindelse 2 c angår, har den fordel, at den uden videre kan anvendes med en opløsningsmiddelblanding, hvori en komponent foreligger i en mængde, der overstiger blandingens azeotrope forhold, uden at der i rensningsrummet sker en ændring af sammensætningen af opløsningsmiddelblandingen.
30
Fra DE-Offentliggørelsesskrift nr. 2138547 kendes en fremgangsmåde, ved hvilken de forurenede genstande neddykkes i et koldt bad af en væske, som kan være en opløsningsmiddelblanding, og derefter overføres til en dampzone, hvori dampene kondenserer 35 på den kolde ganstand, hvorved kondensatet igen løber tilbage til væskebadet. Denne fremgangsmåde adskiller sig fra fremgangsmåden ifølge den foreliggende opfindelse ved anvendelse af et kogende rensningsbad og ved skylning af genstandene i et kogen- 4 150990 de skyllebad. Især ved anvendelsen af et kogende rensebad frem-skyndes og intensiveres rensningen af genstandene.
Fortrinsvis udføres fremgangsmåden ifølge opfindelsen på den må-5 de at det halogenerede hydrocarbonopløsningsmiddel og hjælpeop løsningsmidlet suppleres ved kontinuerlig eller intermitterende tilledning til rensnings og/eller skyllerummet· På den måde opretholdes samænsætningen af væskéblandingeme i det væsentlige konstant.
10 Fortrinsvis indeholder rensningsbadet mindst 5 vægtdele af hjæl peopløsningsmidlet pr. 100 vægtdele af hele blandingen.
Af de halogenerede hydrocarboner, som kan anvendes ifølge fremgangsmåden, skal omtales fluorchlorhydrocarboner, specielt de, 1 ^ der indeholder 2 eller 3 carbonatomer, f.eks. 1,1,2,2-tetrachlor-1,2-difluorethan.. Specielt giver l,l,2-trichlor-l,2,2-trifluor= ethan gode resultater.
^ Eksempler på hjælpeopløsningsmidler, som kan anvendes i forbindelse med den halogenerede hydrocarbon, er alkoholer (som ikke danner azeotroper med det halogenerede hydrocarbonopløsningsmiddel), f. eks. n-butanol, alkoxyalkoholer, f.eks. 2-methoxyethanol, 2-ethoxy= ethanol og 2-butoxyethanol, og cykliske ethere, f.eks. 1,4-dioxan. De ikke-azeotrope opløsningsmiddelblandinger, der anvendes ifølge den omhandlede fremgangsmåde, er de, der ikke har evne til at danne en azeotrop, som f.eks. ikke omfatter blandinger af l,l,2-tri= chloral^2,2-trifluorethan, der har en høj koncentration af iso= propylalkohol, som ved fraktionering giver en azeotrop af den nævnte trichlortrifluorethan og en lille mængde isopropylalkohol.
30 I sumpafdelingen, når man f.eks. anvender ljl^-trichlor^l^,?-trifluorethan, er koncentrationen af hjælpeopløsningsmidlet passende ikke større end 90 vægt% af væskeblandingen deri. Man foretrækker, at denne koncentration af hjælpeopløsningsmidlet ikke er 35 større end 70%, og man foretrækker navnlig, at denne koncentration ikke er større end 40 vægt% af væskeblandingen i sumpafdelingen.
5 150990
Koncentrationen af hjælpeopløsningsmidlet i skylietanken er for-skellig fra den i væskeblandingen i sumpafdelingen. Væskeblandingen i skylleafdelingen har, når der er opnået stabile betingelser, en koncentration af hjælpeopløsningsmidlet i det primære haloge-5 nerede hydrocarbonopløsningsmiddel, som i almindelighed svarer til 0,5-10 vægt% af denne væskeblanding. Når man arbejder ifølge den foreliggende fremgangsmåde med forsyning fra en ydre kilde af det primære opløsningsmiddel og hjælpeopløsningsmidlet, er denne anden væskeblanding i ligevægt med den første væskeblanding i sumpafde-10 lingen og med dampen i den fælles dampzone, d.v.s., at sammensætningen af den anden væskeblanding i det væsentlige er konstant, medens væskeblandingen i sumpafdelingen og dampen i den fælles damp zone forbliver i det væsentlige konstant.
15 Koncentrationen af hjælpeopløsningsmidlet i det halogenerede hy= drocarbonopløsningsmiddel i rensningsruminet og i skyllerummet retter sig også efter det særligt anvendte hjælpeopløsningsmiddel.
Således får. man, når man anvender 1,1,2-trichlor-l,2,2-trifluorethan som det primære opløsningsmiddel, gode resultater, f.eks. når man an-20 vender en koncentration på 15-25 vægt% n-butanol (hjælpeopløsningsmiddel) beregnet af hele væskeblandingen i rensningsrummat og 1-1,5 vægt% n-butanol i skyllerummet. På lignende måde kan man i praksis anvende eri koncentration på -8.-.12 vægt% 1,.4-dioxan i rensnings-rummet og 2-4 vægt% 1,4-dioxan i' skyllerummet, 25 ' * -
Den ydre kilde til halogeneret hydrocarbonopløsningsmiddel og hjælpeopløsningsmiddel, der tilføres systemet, vil variere ifølge de særlige anvendte opløsningsmidler. De to opløsningsmidler kan indføres separat i rensnings rummet dg/eller skyllerummet, eller 30 man kan anvende en forud fremstillet blanding af opløsningsmidlerne. Mængden af disse opløsningsmidler, der indføres i systemet, er fortrinsvis den, der kræves til opretholdelse af et konstant niveau i •rensningsruminet.
35 Man kan tilsætte andre opløsningsmidler eller additiver til opløs-ningsmiddelsammensætningeme, der anvendes ved den omhandlede proces, hvis det ønskes at modificere rense- eller opløsningsevnen.
6 150990
Passende additiver er cationiske, anioniske og non-ioniske rensemidler, Vand kan også tilsættes i visse tilfælde, specielt når kompositionerne indeholder et rensemiddel, men dette er ikke væsentligt.
5
Det er sædvanligvis unødvendigt at anvende stabilisatorer i opløsningsmiddelblandingerne . Imidlertid er det muligt, at stabilisatorer kan være ønskelige, hvor der er tale om korrosion, f.eks. under de omstændigheder, hvor opløsningsmiddelblandingerne kommer i 10 berøring med letmetaller, f.eks. zink og aluminium.
Den -foreliggende fremgangsmåde er nyttig i et stort område af anvendelser til rensning af forurenede genstande omfattende fjernelse af klæbrige loddeflusmidler fra elektrisk udstyr. Navnlig er den 15 egnet til fjernelse af flusjuidler fra udstyr, der bæres på et plast- eller harpiksunderlag, idet det ikke ødelægger tavlerne eller komponenterne derpå.
Ved en anden udførelsesform for fremgangsmåden ifølge opfindelsen bringer man 2Q en forurenet genstand ned i en kogende blanding af et halogeneret hydrocarbon-opløsningsmiddel og et hjælpeopløsningsmiddel i et rensningsrum, og derefter ind i dampzonen over rensningsrummet, hvori den skylles med den nævnte anden vaagk-Ahlending, som dannes ved kondensation af dampe fra dampzonen. Ved en modifikation af denne fremgangsmåde føres den forurenede genstand efter neddykning 25 i det kogende rensebad gennem og ud af dampzonen, får lov til at køle oven over dampzonen, men inde i rensebeholderen, og føres så tilbage til dampzonen, hvor den skylles med den anden væskeblanding fremkommet ved direkte kondensation af dampe fra dampzonen på den afkølede genstand.
30
En egnet apparattype, som kan anvendes ved den omhandlede fremgangsmåde er vist på den ledsagende tegning, fig. 1, som viser et skematisk billede i vertikalt snit og ikke efter målestok. På tegningen er en beholder 1 delt i en sumpafdeling 2 og en skylleafde- 3 5 ling 4, adskilt af en væg 3. Sumpafdelingen 2 indeholder et kvantum af den første blanding (som ikke danner en azeotrop) af tilstrækkelig dybde for de forurenede genstande, som skal neddyppes deri, og er forsynet med et varmelegeme 5. Skyileafdelingen 4, der er tilsluttet sumpafdelingen 2, har et varmelegeme 6 og indeholder et kvantum af den anden væskeblanding som ovenfor beskrevet, af en 7 150990 sammensætning, der er forskellig fra den i sumpafdelingen 2. Dampzonen 7 kommunicerer med såvel sumpen som skyileafdelingerne 2 og 4. En køleslange 8 er anbragt i dampzonen 7 til kondensering af dampen sammen med et trug 9. Det sidste er til opsamling af kon-5 denseret væske, og et rør 10 er anbragt til tilbageføring af kon densatet til skylleafdelingen 4. En kold ledning 11 er forbundet med ydersiden af beholderen, således at et kølemedium kan føres igennem til ekstra køling. Der kan være en tilførselsåbning 12 til stede til tilførsel af et tilskud fra en ydre kilde af en blanding 10 af det primære opløsningsmiddel og hjælpeopløsningsmidlet som tidligere beskrevet. Den er vist på tegningen som førende til sumpafdelingen 2, men den kan også anbringes, så man kan tilføre systemet opløsningsmidlerne på ethvert andet passende sted. Der forefindes også midler (ikke angivet detaljeret) til transport af 15 de forurenede genstande gennem apparatet, idet sporet for genstandene er vist ved den linie, der begynder ved indgangspunktet 13 og fører gennem sumpafdelingen 2, dampzonen 7 og skylleafdelingen 4 og ender ved udgangspunktet 14.
20 Under arbejdet er opløsningsmiddelblandingerne i begge afdelinger 2 og 4 opvarmet, og dampene fra disse blander sig i dampzonen 7, kondenseres på køleslangen 8 og flyder tilbage som væske i skylleaf delingen 4, hvorfra overskud af væske flyder over væggen 3 ind i sumpafdelingen 2. Denne stadige strøm af væske og damp opretholder 25 en ren skyllevæske i afdelingen 4 og sikrer, at snavset og forureningen opsamles i afdelingen 2, hvorfra det kan fjernes på enhver passende måde, f.eks. ved periodisk fjernelse af hele eller en del af den snavsede væske. Væskeniveauerne opretholdes ved, at man tilsætter frisk opløsningsmiddelblanding, som kræves til erstatning 30 af de mængder, der fjernes.
Følgende eksempler belyser opfindelsen.
35 Eksempel 1
Materialet, som skulle renses, bestod af trykte kredsløbtavler bestående af harpiksbundne papirstavler, på hvilke der var en aflej- nø1 af "PI πvrni ria! . TP1 ιτντηϊ drlol FrOm.Q-hi 1 1 e>-h VAd ATI- 8 150990 vendelse af et penselstrøg flux på tavlen, efterfulgt af 2 minutters tørring ved 70°C, dyppelodning i 5 sekunder ved 250°C, efterfulgt af en ventetid på 15 minutter. Fluxmidlet var et aktiveret fluxmiddel på harpiks'basis, som kan fås i handlen under handelsnav-5 net Zeva C4.
Fremgangsmåden til rensning var som tidligere beskrevet og omfattede neddypning af de forurenede genstande i sumpafdelingen i renseanlægget i en periode på 1 minut, efterfulgt af neddypning i en 10 tilsluttende skylleafdeling i 10 sekunder. Opløsningsmiddelblandingen i sumpen bestod af 1,1,2-trichloro-l,2,2-trifluoroethan, der indeholdt 14,8 vægt% n-butanol. Blandingen i skylletanken bestod af 98,8 vægt% af det nævnte trichlorotrifluoroethan og 1,2 vægt% n-butanol. Begge væsker holdtes i kog. Dampe oven over væskeni-2_5 veauerne kondenseredes ved køleslanger, og kondensatet tilbageførtes til.skylletanken. Der krævedes en blanding af den nævnte tri= chlorotrifluoroethan indeholdende 8,4 vægt% n-butanol til opretholdelse af sammensætningen og væskeniveaueme i sumpen og skylleaf delingerne .
20
Alle spor af fluxrester fjernedes ved denne behandling uden beskadigelse af tavlerne.
Eksempel 2 25
Ved dette eksempel var opløsningsmiddelblandingerne til behandling af de trykte kredsløbtavler følgende: (i) Sump: 1,1,2-trichloro-l,2,2-trifluoroethan indeholdende D Λ 9,3 vægt% 1,4-dioxan, (ii) Skylning: 97>3 vægt% af den nævnte trichlorofluoroethan . og 2,7 vægt% 1,4-dioxan, (iii) Blandingen, der krævedes til opretholdelse af sammensæt-(5 ningen og væskeniveauerne i sumpen og skylleafdelingen, bestod af nævnte trichlorotrifluoroethan, der indeholdt 9,8% 1,4-dioxan.
Alle spor af fluxrester (som angivet i eksempel 1) fjernedes ved denne behandling, uden at tavlerne beskadigedes.

Claims (2)

150990 -9-
1. Fremgangsmåde til rensning af en forurenet genstand ved neddykning af genstanden i en kogende blanding af et halogeneret hydrocarbonopløsningsmiddel og et hjælpeopløsningsmiddel, hvor blandingen befinder sig i et rensningsrum med derover indrettet 5 damprum, og ved påfølgende skylning af genstanden, ved hvilken skylningen sker ved neddykning af genstanden i en anden kogende blanding af det halogenerede hydrocarbonopløsningsmiddel og hjælpeopløsningsmidlet, idet koncentrationen af hjælpeopløsningsmidlet i den anden blanding er mindre end i den første blanding, og hvor 10 den anden kogende blanding befinder sig i et skyllerum ved siden af rensningsrummet, hvorover der strækker sig et fælles damprum, og ved hvilken endvidere den anden blanding strømmer over fra skyllerummet til rensningsrummet, og ved hvilken dampen i det fælles damprum kondenseres, og kondensatet ledes ind i skyllerum- 15 met, kendetegnet ved, at der anvendes en opløsningsmi dde lb landing, som ikke danner en azeotrop, og at hjælpeopløsningsmidlet anvendes i den første blanding i en mængde på mindst 2,5 vægtdele px. 100 vægtdele af det halogenerede hydrocarbonopløsningsmiddel · 20
2. Fremgangsmåde ifølge krav 1, kendetegnet ved, at det halogenerede hydrocarbonopløsningsmiddel og hjælpeopløsningsmidlet suppleres ved kontinuerlig eller intermitterende tilledning til rensnings- og/eller skyllerummmet. 25
DK493473A 1972-09-07 1973-09-07 Fremgangsmaade til rensning af en forurenet genstand DK150990C (da)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
GB4148472 1972-09-07
GB4148472A GB1440438A (en) 1972-09-07 1972-09-07 Cleaning process

Publications (2)

Publication Number Publication Date
DK150990B true DK150990B (da) 1987-10-05
DK150990C DK150990C (da) 1988-02-22

Family

ID=10419909

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DK493473A DK150990C (da) 1972-09-07 1973-09-07 Fremgangsmaade til rensning af en forurenet genstand

Country Status (12)

Country Link
US (1) US3904430A (da)
JP (1) JPS4992861A (da)
BE (1) BE804181R (da)
CA (1) CA1011223A (da)
CH (1) CH579952A5 (da)
DE (1) DE2345037C2 (da)
DK (1) DK150990C (da)
FR (1) FR2198795B2 (da)
GB (1) GB1440438A (da)
IT (1) IT1053745B (da)
NL (1) NL7312267A (da)
SE (1) SE392921B (da)

Families Citing this family (26)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4070425A (en) * 1976-02-24 1978-01-24 E. I. Du Pont De Nemours And Company Polyamide gel removal
US4056403A (en) * 1976-05-27 1977-11-01 Olin Corporation Solvent composition used to clean polyurethane foam generating equipment
US4269630A (en) * 1979-10-01 1981-05-26 George M. Stephenson Two-step process and composition for cleaning polished surfaces
US4478364A (en) * 1980-11-07 1984-10-23 Re-Al, Inc. Method of mounting and cleaning electrical slide switch of flush through design
EP0090496B1 (en) * 1982-03-18 1986-01-15 Imperial Chemical Industries Plc Cleaning compositions
US4711256A (en) * 1985-04-19 1987-12-08 Robert Kaiser Method and apparatus for removal of small particles from a surface
US4787941A (en) * 1986-06-30 1988-11-29 Wang Laboratories, Inc. Cleaning method for keyboard assemblies
US4973420A (en) * 1989-05-04 1990-11-27 Hoechst Celanese Corporation Stripper composition for removal of protective coatings
MY113225A (en) * 1989-10-26 2001-12-31 Momentive Performance Mat Jp Vapor drying with polyorganosiloxane
WO1991011269A1 (en) * 1990-01-24 1991-08-08 Motorola, Inc. A method for electrical assembly cleaning
CA2050333A1 (en) * 1990-03-16 1991-09-17 Kabushiki Kaisha Toshiba Cleaning method and cleaning apparatus
US5503681A (en) * 1990-03-16 1996-04-02 Kabushiki Kaisha Toshiba Method of cleaning an object
US5593507A (en) * 1990-08-22 1997-01-14 Kabushiki Kaisha Toshiba Cleaning method and cleaning apparatus
US5304253A (en) * 1990-09-12 1994-04-19 Baxter International Inc. Method for cleaning with a volatile solvent
US5113883A (en) * 1990-10-22 1992-05-19 Baxter International Inc. Apparatus for cleaning objects with volatile solvents
US5106425A (en) * 1990-10-22 1992-04-21 Baxter International, Inc. Method for maintaining a flammable solvent in a non-flammable environment
US5082503A (en) * 1990-10-22 1992-01-21 Baxter International Inc. Method for removing contaminants from the surfaces of articles
SG48238A1 (en) * 1991-06-14 1998-04-17 Petroferm Inc A composition and a process for removing rosin solder flux with terpene and hydrocarbons
US5273592A (en) * 1991-11-01 1993-12-28 Alliesignal Inc. Method of cleaning using partially fluorinated ethers having a tertiary structure
US6355113B1 (en) 1991-12-02 2002-03-12 3M Innovative Properties Company Multiple solvent cleaning system
MX9206771A (es) * 1991-12-02 1993-06-01 Allied Signal Inc Mejoras en sistema de limpieza por solventes multiples
US5401429A (en) * 1993-04-01 1995-03-28 Minnesota Mining And Manufacturing Company Azeotropic compositions containing perfluorinated cycloaminoether
US5494601A (en) * 1993-04-01 1996-02-27 Minnesota Mining And Manufacturing Company Azeotropic compositions
US5482563A (en) * 1993-04-06 1996-01-09 Motorola, Inc. Method for electrical assembly cleaning using a non-azeotropic solvent composition
US6187729B1 (en) * 1993-12-14 2001-02-13 Petroferm Inc. Cleaning composition comprising solvating agent and rinsing agent
US5534078A (en) * 1994-01-27 1996-07-09 Breunsbach; Rex Method for cleaning electronic assemblies

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB440732A (en) * 1934-07-05 1936-01-06 Walter Frederick Jesson Improved apparatus for degreasing metal and like non-absorbent articles
US2153577A (en) * 1935-03-07 1939-04-11 Du Pont Process of degreasing
US2104992A (en) * 1935-04-22 1938-01-11 Wacker Chemie Gmbh Machine for cleaning and degreasing articles
GB472342A (en) * 1935-05-22 1937-09-22 Ici Ltd Improvements in or relating to the cleaning and degreasing of materials
US2220124A (en) * 1938-07-20 1940-11-05 Westvaco Chlorine Products Cor Degreasing
FR1178073A (fr) * 1956-07-04 1959-05-04 Montedison Spa Procédé en phase vapeur pour le dégraissage des métaux
NL121693C (da) * 1959-05-22
NL129954C (da) * 1964-04-02
US3553142A (en) * 1968-12-23 1971-01-05 Allied Chem Azeotrope and solvent compositions based on 1,1,2-trichloro-1,2,2-trifluoroethane and acetonitrile
GB1335705A (en) * 1970-08-03 1973-10-31 Imp Smelting Corp Nsc Ltd Cleaning of articles
US3723332A (en) * 1970-11-27 1973-03-27 Allied Chem Stabilized perchlorofluorocarbon compositions
US3733218A (en) * 1971-11-15 1973-05-15 Diamond Shamrock Corp Removal of solder flux with azeotropic solvent mixtures

Also Published As

Publication number Publication date
FR2198795B2 (da) 1975-03-21
CH579952A5 (da) 1976-09-30
IT1053745B (it) 1981-10-10
SE392921B (sv) 1977-04-25
US3904430A (en) 1975-09-09
DE2345037A1 (de) 1974-03-14
DK150990C (da) 1988-02-22
JPS4992861A (da) 1974-09-04
AU5980873A (en) 1975-03-06
BE804181R (fr) 1974-02-28
CA1011223A (en) 1977-05-31
NL7312267A (da) 1974-03-11
FR2198795A2 (da) 1974-04-05
GB1440438A (en) 1976-06-23
DE2345037C2 (de) 1986-03-13

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DK150990B (da) Fremgangsmaade til rensning af en forurenet genstand
US3957531A (en) Two tank cleaning process using a contaminated cleaning mixture capable of forming an azeotrope
US5300154A (en) Methods for cleaning articles
US4947881A (en) Method of cleaning using hydrochlorofluorocarbons
JPWO2001092456A1 (ja) 洗浄剤、洗浄方法および洗浄装置
KR100248175B1 (ko) 오염물 제거를 위한 비-수성 세척공정
US5091104A (en) Azeotrope-like compositions of tertiary butyl 2,2,2-trifluoroethyl ether and perfluoromethylcyclohexane
JP3587873B2 (ja) ペンタフルオロブタンを含む組成物及びその組成物の使用
WO2001092456A1 (en) Cleaning agent, cleaning method and cleaning apparatus
US5288422A (en) Azeotrope-like compositions of 1,1,1,3,3,5,5,5-octafluoropentane, chlorinated ethylenes, and optionally nitromethane
NL8700517A (nl) Oplosmiddelmengsels.
KR19980025367A (ko) 옥타메틸트리실록산과 지방족 또는 지환족 알콜의 공비혼합물
JPH02150499A (ja) 安定化した共沸若しくは共沸様組成物
KR20160145620A (ko) 용매 증기상 디그리싱 및 디플럭싱 조성물, 방법, 장치 및 시스템
CZ289873B6 (cs) Způsob čiątění a zařízení k provádění tohoto způsobu
DK151391B (da) Fremgangsmaade til rensning af genstande
AU657500B2 (en) Composition containing c7-c10 organic polar compound, and method of cleaning articles using the same
US5152845A (en) Method of cleaning using 1-chloro-3,3,3-trifluoropropane
JPH06211718A (ja) 1−クロロ−2,2,2−トリフルオロエチル−ジフルオロメチルエーテルおよび部分的にフッ素化されたアルカノールからなる組成物、それからなる冷却潤滑剤および表面の清浄化および水除去法
JPH08506615A (ja) 多重溶剤クリーニング系
US5114495A (en) Use of azeotropic compositions in vapor degreasing
US3785987A (en) Ternary azeotropic cleaning solution based on tetradichlorodifluoroethane
EP0475596B1 (en) Methods for cleaning articles
US5965511A (en) Cleaning or drying compositions based on 1,1,1,2,3,4,4,5,5,5-decafluoropentane
US5259983A (en) Azeotrope-like compositions of 1-H-perfluorohexane and trifluoroethanol or n-propanol