DK151391B - Fremgangsmaade til rensning af genstande - Google Patents

Fremgangsmaade til rensning af genstande Download PDF

Info

Publication number
DK151391B
DK151391B DK477372A DK477372A DK151391B DK 151391 B DK151391 B DK 151391B DK 477372 A DK477372 A DK 477372A DK 477372 A DK477372 A DK 477372A DK 151391 B DK151391 B DK 151391B
Authority
DK
Denmark
Prior art keywords
mixture
room
solvent
rinsing
sump
Prior art date
Application number
DK477372A
Other languages
English (en)
Other versions
DK151391C (da
Inventor
James William Tipping
Bernard Patrick Whim
Original Assignee
Ici Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority claimed from GB4487671A external-priority patent/GB1399867A/en
Application filed by Ici Ltd filed Critical Ici Ltd
Publication of DK151391B publication Critical patent/DK151391B/da
Application granted granted Critical
Publication of DK151391C publication Critical patent/DK151391C/da

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23GCLEANING OR DE-GREASING OF METALLIC MATERIAL BY CHEMICAL METHODS OTHER THAN ELECTROLYSIS
    • C23G5/00Cleaning or de-greasing metallic material by other methods; Apparatus for cleaning or de-greasing metallic material with organic solvents
    • C23G5/02Cleaning or de-greasing metallic material by other methods; Apparatus for cleaning or de-greasing metallic material with organic solvents using organic solvents
    • C23G5/028Cleaning or de-greasing metallic material by other methods; Apparatus for cleaning or de-greasing metallic material with organic solvents using organic solvents containing halogenated hydrocarbons
    • C23G5/02809Cleaning or de-greasing metallic material by other methods; Apparatus for cleaning or de-greasing metallic material with organic solvents using organic solvents containing halogenated hydrocarbons containing chlorine and fluorine
    • C23G5/02812Perhalogenated hydrocarbons
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D3/00Distillation or related exchange processes in which liquids are contacted with gaseous media, e.g. stripping
    • B01D3/34Distillation or related exchange processes in which liquids are contacted with gaseous media, e.g. stripping with one or more auxiliary substances
    • B01D3/36Azeotropic distillation
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B08CLEANING
    • B08BCLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
    • B08B3/00Cleaning by methods involving the use or presence of liquid or steam
    • B08B3/04Cleaning involving contact with liquid
    • B08B3/08Cleaning involving contact with liquid the liquid having chemical or dissolving effect
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B08CLEANING
    • B08BCLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
    • B08B3/00Cleaning by methods involving the use or presence of liquid or steam
    • B08B3/04Cleaning involving contact with liquid
    • B08B3/10Cleaning involving contact with liquid with additional treatment of the liquid or of the object being cleaned, e.g. by heat, by electricity or by vibration
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C11ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
    • C11DDETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
    • C11D7/00Compositions of detergents based essentially on non-surface-active compounds
    • C11D7/50Solvents
    • C11D7/5036Azeotropic mixtures containing halogenated solvents
    • C11D7/5068Mixtures of halogenated and non-halogenated solvents
    • C11D7/5077Mixtures of only oxygen-containing solvents
    • C11D7/5081Mixtures of only oxygen-containing solvents the oxygen-containing solvents being alcohols only
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23GCLEANING OR DE-GREASING OF METALLIC MATERIAL BY CHEMICAL METHODS OTHER THAN ELECTROLYSIS
    • C23G5/00Cleaning or de-greasing metallic material by other methods; Apparatus for cleaning or de-greasing metallic material with organic solvents
    • C23G5/02Cleaning or de-greasing metallic material by other methods; Apparatus for cleaning or de-greasing metallic material with organic solvents using organic solvents
    • C23G5/028Cleaning or de-greasing metallic material by other methods; Apparatus for cleaning or de-greasing metallic material with organic solvents using organic solvents containing halogenated hydrocarbons
    • C23G5/02809Cleaning or de-greasing metallic material by other methods; Apparatus for cleaning or de-greasing metallic material with organic solvents using organic solvents containing halogenated hydrocarbons containing chlorine and fluorine
    • C23G5/02812Perhalogenated hydrocarbons
    • C23G5/02816Ethanes
    • C23G5/02819C2Cl3F3
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/22Secondary treatment of printed circuits
    • H05K3/26Cleaning or polishing of the conductive pattern
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K2203/00Indexing scheme relating to apparatus or processes for manufacturing printed circuits covered by H05K3/00
    • H05K2203/07Treatments involving liquids, e.g. plating, rinsing
    • H05K2203/0779Treatments involving liquids, e.g. plating, rinsing characterised by the specific liquids involved
    • H05K2203/0783Using solvent, e.g. for cleaning; Regulating solvent content of pastes or coatings for adjusting the viscosity
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K2203/00Indexing scheme relating to apparatus or processes for manufacturing printed circuits covered by H05K3/00
    • H05K2203/08Treatments involving gases
    • H05K2203/088Using a vapour or mist, e.g. cleaning using water vapor
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K2203/00Indexing scheme relating to apparatus or processes for manufacturing printed circuits covered by H05K3/00
    • H05K2203/15Position of the PCB during processing
    • H05K2203/1518Vertically held PCB

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Oil, Petroleum & Natural Gas (AREA)
  • Wood Science & Technology (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Detergent Compositions (AREA)
  • Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
  • Cleaning And De-Greasing Of Metallic Materials By Chemical Methods (AREA)

Description

151391
Opfindelsen angår en fremgangsmåde til rensning af en forurenet genstand ved neddypning af genstanden i en kogende blanding af et halogeneret hydrocarbonopløsningsmiddel og et hjælpeopløsningsmiddel, som kan danne en azeotrop med den halogenerede 5 hydrocarbon, idet blandingen indeholder hjælpeopløsningsmidlet i en koncentration, der er større end azeotropens, og idet blandingen befinder sig i et renserum med derover anbragt damprum, og ved efterfølgende skylning af genstanden.
10 Halogenerede hydrocarboner anvendes i mange tilfælde til rensning af mange forskellige genstande. Til forøgelse af rense-virkningen er det sædvanligt at opvarme dette opløsningsmiddel til kogepunktet. Således anvendes f.eks. 1,1,2-trichlor- 1,2,2-trifluorethan som rensevæske til fjernelse af loddeflus-midler på kolofoniumbasis, som efter fremstilling af trykte kredsløb findes på disse. Opløsningsevnen af et rent opløsningsmiddel er imidlertid ofte utilstrækkelig, hvorfor der til disse opløsningsmidler sættes kraftigere virkende tilsætninger. For eksempel er det sædvanligt at sætte en alkohol til 20 trichlortrifluorethan for at fjerne det nævnte flusmiddel virksomt. Ved anvendelse af opløsningsmiddelblandinger kan der imidlertid opstå vanskeligheder, når en bestanddel fortrinsvis fordamper fra blandingen, hvorved denne sammensætning så ændres. Denne ulempe, som især optræder ved anvendelsen af 25 kogende opløsningsmidler, kan afhjælpes, når man til rensningen anvender en azeotrop opløsningsmiddelblanding. Således kendes det fra DE-offentl iggørel sesskr i f t nr. 20 03 189 til rensning af trykte kredsløb, som er forurenet med kolofonium, at anvende en azeotrop blanding af tetrachlordifluorethan og 30 acetonitril, som indeholder ca. 23% af sidstnævnte bestanddel. Anvendelsen af azeotrope blandinger ved en rensemetode ifølge den kendte teknik fører imidlertid til en metode, som kun vanskeligt lader sig afpasse til bestemte forhold, da man er tvunget til at finde frem til en egnet azeotrop til hvert en-35 kelt tilfælde.
Rensningsanlæg til behandling af forurenede genstande omfatter sædvanligvis en væsketank, hvori genstanden neddyppes, og en 2 151391 nærliggende sumptank, hvorved der under rensningen vedvarende strømmer væske fra rensetanken til sumptanken. Over disse rum findes et fælles damprum, som er forsynet med en køleslange. Væskerne i sumprummet og i renserummet holdes kogende og den 5 på køleslangen kondenserede væske ledes tilbage til renserummet. Ved hjælp af denne anordning sikres, at væsken i renserummet forbliver ren, og at de ved behandlingen frigjorte forureninger opsamles i sumpen. Et anlæg af denne art er beskrevet i US-patentskrift nr.. 21 53 577. Anlægget tjener til fjernel-10 se af skæreolier fra metaller, hvortil der anvendes en blanding af trichlorethylen og oliesyre. På grund af den kendsgerning, at oliesyren ikke er flygtig ved de anvendte rense-temperaturer, forbliver de i vidt omfang i rensetanken. Et sådant anlæg kan imidlertid ikke anvendes til opløsningsmiddel-15 blandinger, ved hvilke en bestanddel foreligger i en mængde, som overstiger de azeotrope forhold, da de ovennævnte vanskeligheder med hensyn til en ændring af sammensætningen af opløsningsmiddelblandingen i renserummet så umiddelbart ville optræde.
20
Det er også kendt, f.eks. fra det allerede nævnte US-patentskrift nr. 21 53 577, at skylle de i renserummet rensede genstande i et egnet skyllerum, som ligeledes i rensningsanlægget er anbragt under den nævnte slange, med et opløsningsmiddel 25 for at afvaske de sidste forureningsrester.
Formålet med den foreliggende opfindelse var at forbedre en én gang nærmere beskrevet fremgangsmåde på en sådan måde, at den uden videre kan anvendes med en opløsningsmiddelblanding, hvor- i den ene komponent foreligger i en mængde som overstiger de 30 azeotrope forhold af opløsningsmiddelblandingen, uden at der i renserummet indtræder en ændring af opløsningsmiddelblandingens sammensætning.
Dette opnås ifølge opfindelsen ved den i krav 1 definerede 35 fremgangsmåde. Da der med de rensede genstande bliver medført opløsningsmiddelblanding fra rensningsanlægget, og da der også fordampes opløsningsmiddel, må dette stadigt suppleres. På grund af, at de rensede genstande bliver ført gennem det fæl- 3 151391 les damprum, og opløsningsmiddeldampene derfor heri foreligger i det azeotrope forhold, udviser den medførte eller fordampede opløsningsmiddelblanding et azeotropt forhold. Det foretrækkes derfor til supplering af opløsningsmiddelblandingen at indføre 5 halogeneret hydrocarbonopløsningsmiddel og hjælpeopløsningsmiddel i azeotropt forhold særskilt eller blandet i azeotropt forhold kontinuerligt eller intermitterende i rense- og/eller skyl lerummet.
10 Blandt de halogenerede hydrocarbonopløsningsmidler, der kan anvendes ifølge opfindelsen, skal nævnes fluor, chlor, hydro-carboner, især med 2 eller 3 carbonatomer, som f.eks. 1,1,2,2-tetrach1or-l,2-difluorethan og 1,1,2-trichlor-l,2,2-trifluor-ethan.
15
Eksempler på hjælpeopløsningsmidler er methylacetat, nitropa-raffiner, som f.eks. nitromethan, og alkoholer. Trichlortri-fluorethan danner azeotroper med alkoholer, som det foretrækkes at anvende ved fremgangsmåden ifølge opfindelsen. Eksempler på alkoholer er sådanne med 1-4 carbonatomer, som 20 f.eks. methylalkohol, ethylalkohol, tert.-butanol og især isopropyl al kohol . Når 1,1,2-trichlor-l,2,2,-trifluorethan anvendes som hovedopløsningsmiddel og isopropanol som hjælpeopløsningsmiddel, foretrækkes det at koncentrationen af isopropanol udgør under 70 vægt% i renserummet. Ved isopropanolkon-25 centrationer mellem 10 og 70% i renserummet kan der anvendes koncentrationer på indtil 14 vægt% isopropanol i skyllerummet.
I almindelighed anvendes der i renserummet isopropanolkoncen- trationer på 10 - 40 vægt% og især foretrækkes 22 - 27 vægt%.
Ved dette lave område i renserummet anvendes i skyllerummet 30 fortrinsvis koncentrationer på indtil 4% over den azeotrope blanding.
Ved anvendelse af ethylalkohol som hjælpeopløsningsmiddel sammen med 1,1,2-trich1or-1,2,2-trif1uorethan som hovedopløs-35 ningsmiddel foretrækkes alkoholkoncentrationer på 25 - 30 vægt% i·renserummet, medens der med methylalkohol fortrinsvis anvendes koncentrationer på 17 - 22 vægt%. Med disse koncentrationer i renserummet indeholder skyllerummet fortrinsvis en 4 151391 ethylalkoholkoncentration på 6 - 8 vægt% og en methylalkohol-koncentration på 8 - 10 vægt%.
Ved den foreliggende fremgangsmåde kan opløsningsmiddelblan- 5 dingen også tilføres andre sædvanlige tilsætninger, når det er ønskeligt at modificere rense- og opløsningsevnen. Egnede tilsætninger er kationiske, anioniske og ikke-ioniske detergenter .
10 pet er sædvanligvis unødvendigt at anvende stabilisatorer i opløsningsmiddelblandingen. Det er dog muligt, at stabilisatorer kan være ønskelige under korrosive betingelser, som f.eks. under sådanne betingelser, hvor opløsningsmiddelblandingen kommer i kontakt med let-metaller, som f.eks. zink og 15 aluminium.
Et anlæg af egnet type, der kan anvendes I forbindelse med den foreliggende fremgangsmåde, er vist på den medfølgende tegning (fig.
20 1), som skematisk viser et lodret tværsnit og ikke er forsynet med målestok. På tegningen er en beholder (l) opdelt i en sumpafdeling (2) og en skylleafdeling (4) adskilt af en væg (3). Sumpafdelingen (2) indeholder en portion af den første azeotropdannende blanding som tidligere beskrevet i en tilstrækkelig mængde til at de forure·^ 25 nede genstande kan neddyppes deri, og er forsynet med varmegiver (5). Skylleaf de ling C'4) ved siden af sumpafdelingen (2) er forsynet med varmegiver (6) og indeholder et volumen af den anden væske, som tidligere beskrevet, med en sammensætning, som er forskellig fra den i sumpafdelingen (2). Dampzone (7) står i forbindelse med både 30 sump- og skylleafdelingeme (2) og (4). Kølespiral (8) er anbragt i dampzonen (7) til fortætning af damp sammen med rende (9). Sidstnævnte er til opsamling af kondenseret væske og rør (10) er til tilbageløb af kondensat til skylleafdeling (4). Et kølerør (li) er fastgjort til beholderens udvendige side, og gennem dette kølerør 35 kan der sendes et kølemedium til frembringelse af ekstra køling. En tilledning (12) kan tilvejebringes til fødning af en i hovedsagen 5 151391 azeotropisk blanding, som tidligere beskrevet; den er på tegningen vist,som om den leder til sumpafdelingen (2), men den kan anbringes således, at tilledningen til systemet sker på et hvilket som helst hensigtsmæssigt sted. Midler (ikke angivet) tilvejebringes også til at transportere de forurenede genstande gennem anlægget, idet.gen- 5 standenes bane er angivet ved hjælp af linien, som begynder ved indgangspunktet (13) og fører gennem sumpafdeling (2), dampzone (7) og skylleafdeling (4) og ender ved slutpunktet (14).
I brug bliver opløsningsmiddelblandingerne i begge afdelinger (2) og (4) opvarmet,og dampene fra dem blandet i dampzonen (7), kondenseret på kølespiralen (8) og strømmer til bage som væske til skylle-afdeling (4), hvorfra overskudsvæske strømmer over væg (3) til sumpafdelingen (2). Denne vedvarende strøm af væske og damp opretholder en ren skyllevæske i afdeling (4) og sikrer, at snavs og forurenin-15 ger akkumuleres i afdeling (2), hvorfra det kan udtages eller fjernes på en hvilken som helst hensigtsmæssig måde, f.eks. ved periodisk at fjerne en del af eller hele den snavsede væskemængde. Væskemængderne eller dybderne opretholdes ved at tilsætte frisk opløsningsmiddelblanding efter behov, til erstatning af tab eller even- 20 tueile fjernede mængder.
De følgende eksempler illustrerer den foreliggende opfindelse.
25
Eksempel 1.
Materialet, der skal renses, består af plader med trykte kredsløb, og bestående af harpiksbundet karton, hvorpå en flussmiddelaflej-30 ring sidder fast. Flussmiddelbelægningen var blevet frembragt ved hjælp af et penselstrøg med flussmiddel på kartonnet efterfulgt af to minutters tørring ved 70°C, dyppelodning i 5 sekunder ved 250°C efterfulgt af en pause på 15 minutter. Flussmidlerne var aktiverede colofoniumharpiksbaserede loddemidler, der sælges under 35 varemærkerne Zeva C4, Fry’s R8, Fry’s S64, Multicore PC25, Alpha 711, Alpha 809 og Alpha 862.
151391 6
Fremgangsmåden til rensning var som tidligere beskrevet og omfattede neddypning af de forurenede genstande i sumpafdelingen af et rensekammer i en periode på 1 minut efterfulgt af neddypning i et efterfølgende skyllekar i 10 sekunder. Opløsningsmiddelblandingen i sumpen bestod af l,l,2-trichlor-l,2,2-trifluorethan, indeholdende 23-24,5 vægt$ isopropanol. Blandingen i skylletanken bestod af 94,6 vægt$ af nævnte trichlortrifluorethan og 5,4 vægt$ isopropa= nol. Begge væsker blev holdt ved kogepunktet. Damp over væskeoverfladerne blev kondenseret ved hjælp af kølespiraler, og kondensatet blev returneret til skylletanken. En azeotropisk blanding af nævnte trichlortrifluorethan og nævnte alkohol blev ledt til sumpen med en hastighed, som opretholdt væskestanden i sumpen.
Alle spor af flussmiddelrester blev fjernet ved hjælp af denne be-handling uden at beskadige pladerne.
Eksempel 2.
Materialet, som skal renses, og fremgangsmåderne til rensning var som beskrevet i eksempel 1 med undtagelse af,at: (i) Opløsningsmiddelblandingen i sumpen bestod af 1,1,2-trichlor- 1,2,2-trifluorethan indeholdende 24-25,5 vægt fo industrielt denatureret sprit (96 vægt$ ethylalkohol, 4 vægt$ methylalkohol).
25 * .
(ii) Blandingen i skylletanken bestod af 94,6 vægt % af nævnte tri= chlort rifluor ethan og 5,4 vægt fo industrielt denatureret sprit.
(iii) Den azeotrope blanding,ledt til sumpen, indeholdt 96,2 vægt$ af nævnte trichlortrifluorethan og 3,8 vægt$ industrielt denatureret sprit.
Alle spor af flussmiddelrester blev fjernet ved hjælp af denne behandling, uden at beskadige pladerne.
35
Eksempel 5.
Materialet, som skal renses og fremgangsmåderne til rensning, var som beskrevet i eksempel 1, bortset fra, at:

Claims (2)

7 151391 (i) opløsningsmiddelblandingen i sumpen bestod af 1,1,2-trichlor- 1,2,2-trifluorethan indeholdende 22,5-23 vægt$ isopropanol. (ii) Der blev anvendt to skylletanke, den ene ved siden af sumpen, indeholdende 5,4 vægt$ isopropanol, og den anden adskilt fra sumpen, 5 indeholdende 4,7 1° isopropanol. Alle spor af flussmiddelrester blev fjernet ved hjælp af denne behandling, uden beskadigelse af pladerne. Patentkrav. 10
1. Fremgangsmåde til rensning af en forurenet genstand ved neddypning af genstanden i en kogende blanding af et halogeneret hydrocarbonopløsningsmiddel og et hjælpeopløsningsmid- 15 del, som kan danne en azeotrop med den halogenerede hydrocarbon, hvorhos blandingen indeholder hjælpeopløsningsmidlet i en koncentration, som er større end azeotropens, og hvorhos blandingen befinder sig i et renserum med derover anbragt damprum, og ved efterfølgende skylning af genstanden, kende-20 tegnet ved, at skylningen sker ved neddypning af genstanden i en anden kogende blanding af det halogenerede hydro-carbonopløsningsmiddel og hjælpeopløsningsmidlet, hvorhos hjælpeopløsningsmiddelkoncentrationen i den anden blanding er lavere end i den første blanding, men mindst lig med azeotro-25 pens hjælpeopløsningsmiddelkoncentration og maksimalt ligger 11 vægt% over azeotropens hjælpeopløsningsmiddelkoncentration i de to opløsninger, og hvorhos den anden kogende blanding befinder sig i et skyllerum ved siden af renserummet, over hvilket der strækker sig et fælles damprum, at den anden blanding 30 desuden strømmer fra skyllerummet til renserummet, og at dampen i det fælles damprum kondenseres, og kondensatet ledes til skyl lerummet.
2. Fremgangsmåde ifølge krav 1, kendetegnet ved, 35 at det halogenerede hydrocarbonopløsningsmiddel og hjælpeopløsningsmidlet i azeotropt forhold særskilt eller blandet i a-zeotropt forhold indføres kontinuerligt eller intermitterende i' rense- og/eller skyllerummet.
DK477372A 1971-09-27 1972-09-27 Fremgangsmaade til rensning af genstande DK151391C (da)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
GB4487671A GB1399867A (en) 1971-09-27 1971-09-27 Cleaning process
GB4487671 1971-09-27

Publications (2)

Publication Number Publication Date
DK151391B true DK151391B (da) 1987-11-30
DK151391C DK151391C (da) 1988-05-16

Family

ID=10435079

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DK477372A DK151391C (da) 1971-09-27 1972-09-27 Fremgangsmaade til rensning af genstande

Country Status (5)

Country Link
JP (1) JPS5820677B2 (da)
BE (1) BE789006A (da)
DK (1) DK151391C (da)
IT (1) IT967890B (da)
SE (1) SE413416B (da)

Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3903009A (en) * 1973-11-16 1975-09-02 Du Pont Azeotrope of 1,1,2-trichloro-1,2,2-trifluoroethane, ethanol and nitromethane
JPS5157617A (ja) * 1974-11-18 1976-05-20 Sumitomo Chemical Co Keeburushiisuzai
FR2353651A1 (fr) * 1976-06-04 1977-12-30 Rhone Poulenc Ind Compositions a base de chlorofluoroalcanes et d'alcools
JPS5634799A (en) * 1979-08-29 1981-04-07 Daikin Ind Ltd Azeotropic mixed solvent composition
JPS5634798A (en) * 1979-08-29 1981-04-07 Daikin Ind Ltd Azeotropic mixed solvent composition
JPS6167889U (da) * 1984-10-10 1986-05-09
CN112452838A (zh) * 2020-11-24 2021-03-09 江苏筑磊电子科技有限公司 脱芳烃类溶剂油在火灾后电器表面处理的方法

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2153577A (en) * 1935-03-07 1939-04-11 Du Pont Process of degreasing
US3085918A (en) * 1959-05-22 1963-04-16 Ici Ltd Cleaning process
DE2003189A1 (de) * 1969-02-06 1970-09-03 Allied Chem Loesungsmittelgemisch

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2153577A (en) * 1935-03-07 1939-04-11 Du Pont Process of degreasing
US3085918A (en) * 1959-05-22 1963-04-16 Ici Ltd Cleaning process
DE2003189A1 (de) * 1969-02-06 1970-09-03 Allied Chem Loesungsmittelgemisch

Also Published As

Publication number Publication date
DK151391C (da) 1988-05-16
JPS5820677B2 (ja) 1983-04-25
JPS4843004A (da) 1973-06-22
IT967890B (it) 1974-03-11
BE789006A (fr) 1973-03-19
SE413416B (sv) 1980-05-27

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5300154A (en) Methods for cleaning articles
DK150990B (da) Fremgangsmaade til rensning af en forurenet genstand
US3957531A (en) Two tank cleaning process using a contaminated cleaning mixture capable of forming an azeotrope
KR100248175B1 (ko) 오염물 제거를 위한 비-수성 세척공정
NL8700517A (nl) Oplosmiddelmengsels.
US4753735A (en) Solvent and apparatus and method for cleaning and drying surfaces of non absorbent articles
DK151391B (da) Fremgangsmaade til rensning af genstande
KR20160145620A (ko) 용매 증기상 디그리싱 및 디플럭싱 조성물, 방법, 장치 및 시스템
JP3945659B2 (ja) 洗浄方法および装置
JP2006521460A (ja) 汚染された物品の洗浄ための組成物及び方法
EP0194589B1 (en) Apparatus and method for cleaning and drying surfaces of non-absorbent articles
US5298082A (en) Method for degreasing solid objects
EP0475596B1 (en) Methods for cleaning articles
US5242502A (en) Method and apparatus for cleaning articles
US5114495A (en) Use of azeotropic compositions in vapor degreasing
JPH05202390A (ja) フッ素含有エーテルを含む組成物及びそれらの組成物の使用
JP4601124B2 (ja) 引火点を持たない洗浄剤組成物及び洗浄方法
JP5627881B2 (ja) 汚れ分離除去方法
IE902948A1 (en) Methods and compositions for cleaning articles
JP2015527196A (ja) 二重溶媒蒸気脱脂システムにおけるすすぎ液からの洗浄用溶媒の連続的分離のための方法および装置
JP4721579B2 (ja) 洗浄方法及び洗浄装置
JP2001200293A (ja) 安定化された非引火性洗浄剤、洗浄方法および洗浄装置
USRE35975E (en) Cleaning and drying of electronic assemblies
JP2001240898A (ja) 引火点を抑制した洗浄剤、洗浄方法および洗浄装置
JPS5818471A (ja) 洗浄・脱水・乾燥方法