DK151391B - Fremgangsmaade til rensning af genstande - Google Patents
Fremgangsmaade til rensning af genstande Download PDFInfo
- Publication number
- DK151391B DK151391B DK477372A DK477372A DK151391B DK 151391 B DK151391 B DK 151391B DK 477372 A DK477372 A DK 477372A DK 477372 A DK477372 A DK 477372A DK 151391 B DK151391 B DK 151391B
- Authority
- DK
- Denmark
- Prior art keywords
- mixture
- room
- solvent
- rinsing
- sump
- Prior art date
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23G—CLEANING OR DE-GREASING OF METALLIC MATERIAL BY CHEMICAL METHODS OTHER THAN ELECTROLYSIS
- C23G5/00—Cleaning or de-greasing metallic material by other methods; Apparatus for cleaning or de-greasing metallic material with organic solvents
- C23G5/02—Cleaning or de-greasing metallic material by other methods; Apparatus for cleaning or de-greasing metallic material with organic solvents using organic solvents
- C23G5/028—Cleaning or de-greasing metallic material by other methods; Apparatus for cleaning or de-greasing metallic material with organic solvents using organic solvents containing halogenated hydrocarbons
- C23G5/02809—Cleaning or de-greasing metallic material by other methods; Apparatus for cleaning or de-greasing metallic material with organic solvents using organic solvents containing halogenated hydrocarbons containing chlorine and fluorine
- C23G5/02812—Perhalogenated hydrocarbons
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D3/00—Distillation or related exchange processes in which liquids are contacted with gaseous media, e.g. stripping
- B01D3/34—Distillation or related exchange processes in which liquids are contacted with gaseous media, e.g. stripping with one or more auxiliary substances
- B01D3/36—Azeotropic distillation
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B08—CLEANING
- B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
- B08B3/00—Cleaning by methods involving the use or presence of liquid or steam
- B08B3/04—Cleaning involving contact with liquid
- B08B3/08—Cleaning involving contact with liquid the liquid having chemical or dissolving effect
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B08—CLEANING
- B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
- B08B3/00—Cleaning by methods involving the use or presence of liquid or steam
- B08B3/04—Cleaning involving contact with liquid
- B08B3/10—Cleaning involving contact with liquid with additional treatment of the liquid or of the object being cleaned, e.g. by heat, by electricity or by vibration
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
- C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
- C11D7/00—Compositions of detergents based essentially on non-surface-active compounds
- C11D7/50—Solvents
- C11D7/5036—Azeotropic mixtures containing halogenated solvents
- C11D7/5068—Mixtures of halogenated and non-halogenated solvents
- C11D7/5077—Mixtures of only oxygen-containing solvents
- C11D7/5081—Mixtures of only oxygen-containing solvents the oxygen-containing solvents being alcohols only
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23G—CLEANING OR DE-GREASING OF METALLIC MATERIAL BY CHEMICAL METHODS OTHER THAN ELECTROLYSIS
- C23G5/00—Cleaning or de-greasing metallic material by other methods; Apparatus for cleaning or de-greasing metallic material with organic solvents
- C23G5/02—Cleaning or de-greasing metallic material by other methods; Apparatus for cleaning or de-greasing metallic material with organic solvents using organic solvents
- C23G5/028—Cleaning or de-greasing metallic material by other methods; Apparatus for cleaning or de-greasing metallic material with organic solvents using organic solvents containing halogenated hydrocarbons
- C23G5/02809—Cleaning or de-greasing metallic material by other methods; Apparatus for cleaning or de-greasing metallic material with organic solvents using organic solvents containing halogenated hydrocarbons containing chlorine and fluorine
- C23G5/02812—Perhalogenated hydrocarbons
- C23G5/02816—Ethanes
- C23G5/02819—C2Cl3F3
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/22—Secondary treatment of printed circuits
- H05K3/26—Cleaning or polishing of the conductive pattern
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K2203/00—Indexing scheme relating to apparatus or processes for manufacturing printed circuits covered by H05K3/00
- H05K2203/07—Treatments involving liquids, e.g. plating, rinsing
- H05K2203/0779—Treatments involving liquids, e.g. plating, rinsing characterised by the specific liquids involved
- H05K2203/0783—Using solvent, e.g. for cleaning; Regulating solvent content of pastes or coatings for adjusting the viscosity
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K2203/00—Indexing scheme relating to apparatus or processes for manufacturing printed circuits covered by H05K3/00
- H05K2203/08—Treatments involving gases
- H05K2203/088—Using a vapour or mist, e.g. cleaning using water vapor
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K2203/00—Indexing scheme relating to apparatus or processes for manufacturing printed circuits covered by H05K3/00
- H05K2203/15—Position of the PCB during processing
- H05K2203/1518—Vertically held PCB
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Oil, Petroleum & Natural Gas (AREA)
- Wood Science & Technology (AREA)
- Detergent Compositions (AREA)
- Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
- Cleaning And De-Greasing Of Metallic Materials By Chemical Methods (AREA)
Description
151391
Opfindelsen angår en fremgangsmåde til rensning af en forurenet genstand ved neddypning af genstanden i en kogende blanding af et halogeneret hydrocarbonopløsningsmiddel og et hjælpeopløsningsmiddel, som kan danne en azeotrop med den halogenerede 5 hydrocarbon, idet blandingen indeholder hjælpeopløsningsmidlet i en koncentration, der er større end azeotropens, og idet blandingen befinder sig i et renserum med derover anbragt damprum, og ved efterfølgende skylning af genstanden.
10 Halogenerede hydrocarboner anvendes i mange tilfælde til rensning af mange forskellige genstande. Til forøgelse af rense-virkningen er det sædvanligt at opvarme dette opløsningsmiddel til kogepunktet. Således anvendes f.eks. 1,1,2-trichlor- 1,2,2-trifluorethan som rensevæske til fjernelse af loddeflus-midler på kolofoniumbasis, som efter fremstilling af trykte kredsløb findes på disse. Opløsningsevnen af et rent opløsningsmiddel er imidlertid ofte utilstrækkelig, hvorfor der til disse opløsningsmidler sættes kraftigere virkende tilsætninger. For eksempel er det sædvanligt at sætte en alkohol til 20 trichlortrifluorethan for at fjerne det nævnte flusmiddel virksomt. Ved anvendelse af opløsningsmiddelblandinger kan der imidlertid opstå vanskeligheder, når en bestanddel fortrinsvis fordamper fra blandingen, hvorved denne sammensætning så ændres. Denne ulempe, som især optræder ved anvendelsen af 25 kogende opløsningsmidler, kan afhjælpes, når man til rensningen anvender en azeotrop opløsningsmiddelblanding. Således kendes det fra DE-offentl iggørel sesskr i f t nr. 20 03 189 til rensning af trykte kredsløb, som er forurenet med kolofonium, at anvende en azeotrop blanding af tetrachlordifluorethan og 30 acetonitril, som indeholder ca. 23% af sidstnævnte bestanddel. Anvendelsen af azeotrope blandinger ved en rensemetode ifølge den kendte teknik fører imidlertid til en metode, som kun vanskeligt lader sig afpasse til bestemte forhold, da man er tvunget til at finde frem til en egnet azeotrop til hvert en-35 kelt tilfælde.
Rensningsanlæg til behandling af forurenede genstande omfatter sædvanligvis en væsketank, hvori genstanden neddyppes, og en 2 151391 nærliggende sumptank, hvorved der under rensningen vedvarende strømmer væske fra rensetanken til sumptanken. Over disse rum findes et fælles damprum, som er forsynet med en køleslange. Væskerne i sumprummet og i renserummet holdes kogende og den 5 på køleslangen kondenserede væske ledes tilbage til renserummet. Ved hjælp af denne anordning sikres, at væsken i renserummet forbliver ren, og at de ved behandlingen frigjorte forureninger opsamles i sumpen. Et anlæg af denne art er beskrevet i US-patentskrift nr.. 21 53 577. Anlægget tjener til fjernel-10 se af skæreolier fra metaller, hvortil der anvendes en blanding af trichlorethylen og oliesyre. På grund af den kendsgerning, at oliesyren ikke er flygtig ved de anvendte rense-temperaturer, forbliver de i vidt omfang i rensetanken. Et sådant anlæg kan imidlertid ikke anvendes til opløsningsmiddel-15 blandinger, ved hvilke en bestanddel foreligger i en mængde, som overstiger de azeotrope forhold, da de ovennævnte vanskeligheder med hensyn til en ændring af sammensætningen af opløsningsmiddelblandingen i renserummet så umiddelbart ville optræde.
20
Det er også kendt, f.eks. fra det allerede nævnte US-patentskrift nr. 21 53 577, at skylle de i renserummet rensede genstande i et egnet skyllerum, som ligeledes i rensningsanlægget er anbragt under den nævnte slange, med et opløsningsmiddel 25 for at afvaske de sidste forureningsrester.
Formålet med den foreliggende opfindelse var at forbedre en én gang nærmere beskrevet fremgangsmåde på en sådan måde, at den uden videre kan anvendes med en opløsningsmiddelblanding, hvor- i den ene komponent foreligger i en mængde som overstiger de 30 azeotrope forhold af opløsningsmiddelblandingen, uden at der i renserummet indtræder en ændring af opløsningsmiddelblandingens sammensætning.
Dette opnås ifølge opfindelsen ved den i krav 1 definerede 35 fremgangsmåde. Da der med de rensede genstande bliver medført opløsningsmiddelblanding fra rensningsanlægget, og da der også fordampes opløsningsmiddel, må dette stadigt suppleres. På grund af, at de rensede genstande bliver ført gennem det fæl- 3 151391 les damprum, og opløsningsmiddeldampene derfor heri foreligger i det azeotrope forhold, udviser den medførte eller fordampede opløsningsmiddelblanding et azeotropt forhold. Det foretrækkes derfor til supplering af opløsningsmiddelblandingen at indføre 5 halogeneret hydrocarbonopløsningsmiddel og hjælpeopløsningsmiddel i azeotropt forhold særskilt eller blandet i azeotropt forhold kontinuerligt eller intermitterende i rense- og/eller skyl lerummet.
10 Blandt de halogenerede hydrocarbonopløsningsmidler, der kan anvendes ifølge opfindelsen, skal nævnes fluor, chlor, hydro-carboner, især med 2 eller 3 carbonatomer, som f.eks. 1,1,2,2-tetrach1or-l,2-difluorethan og 1,1,2-trichlor-l,2,2-trifluor-ethan.
15
Eksempler på hjælpeopløsningsmidler er methylacetat, nitropa-raffiner, som f.eks. nitromethan, og alkoholer. Trichlortri-fluorethan danner azeotroper med alkoholer, som det foretrækkes at anvende ved fremgangsmåden ifølge opfindelsen. Eksempler på alkoholer er sådanne med 1-4 carbonatomer, som 20 f.eks. methylalkohol, ethylalkohol, tert.-butanol og især isopropyl al kohol . Når 1,1,2-trichlor-l,2,2,-trifluorethan anvendes som hovedopløsningsmiddel og isopropanol som hjælpeopløsningsmiddel, foretrækkes det at koncentrationen af isopropanol udgør under 70 vægt% i renserummet. Ved isopropanolkon-25 centrationer mellem 10 og 70% i renserummet kan der anvendes koncentrationer på indtil 14 vægt% isopropanol i skyllerummet.
I almindelighed anvendes der i renserummet isopropanolkoncen- trationer på 10 - 40 vægt% og især foretrækkes 22 - 27 vægt%.
Ved dette lave område i renserummet anvendes i skyllerummet 30 fortrinsvis koncentrationer på indtil 4% over den azeotrope blanding.
Ved anvendelse af ethylalkohol som hjælpeopløsningsmiddel sammen med 1,1,2-trich1or-1,2,2-trif1uorethan som hovedopløs-35 ningsmiddel foretrækkes alkoholkoncentrationer på 25 - 30 vægt% i·renserummet, medens der med methylalkohol fortrinsvis anvendes koncentrationer på 17 - 22 vægt%. Med disse koncentrationer i renserummet indeholder skyllerummet fortrinsvis en 4 151391 ethylalkoholkoncentration på 6 - 8 vægt% og en methylalkohol-koncentration på 8 - 10 vægt%.
Ved den foreliggende fremgangsmåde kan opløsningsmiddelblan- 5 dingen også tilføres andre sædvanlige tilsætninger, når det er ønskeligt at modificere rense- og opløsningsevnen. Egnede tilsætninger er kationiske, anioniske og ikke-ioniske detergenter .
10 pet er sædvanligvis unødvendigt at anvende stabilisatorer i opløsningsmiddelblandingen. Det er dog muligt, at stabilisatorer kan være ønskelige under korrosive betingelser, som f.eks. under sådanne betingelser, hvor opløsningsmiddelblandingen kommer i kontakt med let-metaller, som f.eks. zink og 15 aluminium.
Et anlæg af egnet type, der kan anvendes I forbindelse med den foreliggende fremgangsmåde, er vist på den medfølgende tegning (fig.
20 1), som skematisk viser et lodret tværsnit og ikke er forsynet med målestok. På tegningen er en beholder (l) opdelt i en sumpafdeling (2) og en skylleafdeling (4) adskilt af en væg (3). Sumpafdelingen (2) indeholder en portion af den første azeotropdannende blanding som tidligere beskrevet i en tilstrækkelig mængde til at de forure·^ 25 nede genstande kan neddyppes deri, og er forsynet med varmegiver (5). Skylleaf de ling C'4) ved siden af sumpafdelingen (2) er forsynet med varmegiver (6) og indeholder et volumen af den anden væske, som tidligere beskrevet, med en sammensætning, som er forskellig fra den i sumpafdelingen (2). Dampzone (7) står i forbindelse med både 30 sump- og skylleafdelingeme (2) og (4). Kølespiral (8) er anbragt i dampzonen (7) til fortætning af damp sammen med rende (9). Sidstnævnte er til opsamling af kondenseret væske og rør (10) er til tilbageløb af kondensat til skylleafdeling (4). Et kølerør (li) er fastgjort til beholderens udvendige side, og gennem dette kølerør 35 kan der sendes et kølemedium til frembringelse af ekstra køling. En tilledning (12) kan tilvejebringes til fødning af en i hovedsagen 5 151391 azeotropisk blanding, som tidligere beskrevet; den er på tegningen vist,som om den leder til sumpafdelingen (2), men den kan anbringes således, at tilledningen til systemet sker på et hvilket som helst hensigtsmæssigt sted. Midler (ikke angivet) tilvejebringes også til at transportere de forurenede genstande gennem anlægget, idet.gen- 5 standenes bane er angivet ved hjælp af linien, som begynder ved indgangspunktet (13) og fører gennem sumpafdeling (2), dampzone (7) og skylleafdeling (4) og ender ved slutpunktet (14).
I brug bliver opløsningsmiddelblandingerne i begge afdelinger (2) og (4) opvarmet,og dampene fra dem blandet i dampzonen (7), kondenseret på kølespiralen (8) og strømmer til bage som væske til skylle-afdeling (4), hvorfra overskudsvæske strømmer over væg (3) til sumpafdelingen (2). Denne vedvarende strøm af væske og damp opretholder en ren skyllevæske i afdeling (4) og sikrer, at snavs og forurenin-15 ger akkumuleres i afdeling (2), hvorfra det kan udtages eller fjernes på en hvilken som helst hensigtsmæssig måde, f.eks. ved periodisk at fjerne en del af eller hele den snavsede væskemængde. Væskemængderne eller dybderne opretholdes ved at tilsætte frisk opløsningsmiddelblanding efter behov, til erstatning af tab eller even- 20 tueile fjernede mængder.
De følgende eksempler illustrerer den foreliggende opfindelse.
25
Eksempel 1.
Materialet, der skal renses, består af plader med trykte kredsløb, og bestående af harpiksbundet karton, hvorpå en flussmiddelaflej-30 ring sidder fast. Flussmiddelbelægningen var blevet frembragt ved hjælp af et penselstrøg med flussmiddel på kartonnet efterfulgt af to minutters tørring ved 70°C, dyppelodning i 5 sekunder ved 250°C efterfulgt af en pause på 15 minutter. Flussmidlerne var aktiverede colofoniumharpiksbaserede loddemidler, der sælges under 35 varemærkerne Zeva C4, Fry’s R8, Fry’s S64, Multicore PC25, Alpha 711, Alpha 809 og Alpha 862.
151391 6
Fremgangsmåden til rensning var som tidligere beskrevet og omfattede neddypning af de forurenede genstande i sumpafdelingen af et rensekammer i en periode på 1 minut efterfulgt af neddypning i et efterfølgende skyllekar i 10 sekunder. Opløsningsmiddelblandingen i sumpen bestod af l,l,2-trichlor-l,2,2-trifluorethan, indeholdende 23-24,5 vægt$ isopropanol. Blandingen i skylletanken bestod af 94,6 vægt$ af nævnte trichlortrifluorethan og 5,4 vægt$ isopropa= nol. Begge væsker blev holdt ved kogepunktet. Damp over væskeoverfladerne blev kondenseret ved hjælp af kølespiraler, og kondensatet blev returneret til skylletanken. En azeotropisk blanding af nævnte trichlortrifluorethan og nævnte alkohol blev ledt til sumpen med en hastighed, som opretholdt væskestanden i sumpen.
Alle spor af flussmiddelrester blev fjernet ved hjælp af denne be-handling uden at beskadige pladerne.
Eksempel 2.
Materialet, som skal renses, og fremgangsmåderne til rensning var som beskrevet i eksempel 1 med undtagelse af,at: (i) Opløsningsmiddelblandingen i sumpen bestod af 1,1,2-trichlor- 1,2,2-trifluorethan indeholdende 24-25,5 vægt fo industrielt denatureret sprit (96 vægt$ ethylalkohol, 4 vægt$ methylalkohol).
25 * .
(ii) Blandingen i skylletanken bestod af 94,6 vægt % af nævnte tri= chlort rifluor ethan og 5,4 vægt fo industrielt denatureret sprit.
(iii) Den azeotrope blanding,ledt til sumpen, indeholdt 96,2 vægt$ af nævnte trichlortrifluorethan og 3,8 vægt$ industrielt denatureret sprit.
Alle spor af flussmiddelrester blev fjernet ved hjælp af denne behandling, uden at beskadige pladerne.
35
Eksempel 5.
Materialet, som skal renses og fremgangsmåderne til rensning, var som beskrevet i eksempel 1, bortset fra, at:
Claims (2)
1. Fremgangsmåde til rensning af en forurenet genstand ved neddypning af genstanden i en kogende blanding af et halogeneret hydrocarbonopløsningsmiddel og et hjælpeopløsningsmid- 15 del, som kan danne en azeotrop med den halogenerede hydrocarbon, hvorhos blandingen indeholder hjælpeopløsningsmidlet i en koncentration, som er større end azeotropens, og hvorhos blandingen befinder sig i et renserum med derover anbragt damprum, og ved efterfølgende skylning af genstanden, kende-20 tegnet ved, at skylningen sker ved neddypning af genstanden i en anden kogende blanding af det halogenerede hydro-carbonopløsningsmiddel og hjælpeopløsningsmidlet, hvorhos hjælpeopløsningsmiddelkoncentrationen i den anden blanding er lavere end i den første blanding, men mindst lig med azeotro-25 pens hjælpeopløsningsmiddelkoncentration og maksimalt ligger 11 vægt% over azeotropens hjælpeopløsningsmiddelkoncentration i de to opløsninger, og hvorhos den anden kogende blanding befinder sig i et skyllerum ved siden af renserummet, over hvilket der strækker sig et fælles damprum, at den anden blanding 30 desuden strømmer fra skyllerummet til renserummet, og at dampen i det fælles damprum kondenseres, og kondensatet ledes til skyl lerummet.
2. Fremgangsmåde ifølge krav 1, kendetegnet ved, 35 at det halogenerede hydrocarbonopløsningsmiddel og hjælpeopløsningsmidlet i azeotropt forhold særskilt eller blandet i a-zeotropt forhold indføres kontinuerligt eller intermitterende i' rense- og/eller skyllerummet.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
GB4487671A GB1399867A (en) | 1971-09-27 | 1971-09-27 | Cleaning process |
GB4487671 | 1971-09-27 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DK151391B true DK151391B (da) | 1987-11-30 |
DK151391C DK151391C (da) | 1988-05-16 |
Family
ID=10435079
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DK477372A DK151391C (da) | 1971-09-27 | 1972-09-27 | Fremgangsmaade til rensning af genstande |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5820677B2 (da) |
BE (1) | BE789006A (da) |
DK (1) | DK151391C (da) |
IT (1) | IT967890B (da) |
SE (1) | SE413416B (da) |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3903009A (en) * | 1973-11-16 | 1975-09-02 | Du Pont | Azeotrope of 1,1,2-trichloro-1,2,2-trifluoroethane, ethanol and nitromethane |
JPS5157617A (ja) * | 1974-11-18 | 1976-05-20 | Sumitomo Chemical Co | Keeburushiisuzai |
FR2353651A1 (fr) * | 1976-06-04 | 1977-12-30 | Rhone Poulenc Ind | Compositions a base de chlorofluoroalcanes et d'alcools |
JPS5634798A (en) * | 1979-08-29 | 1981-04-07 | Daikin Ind Ltd | Azeotropic mixed solvent composition |
JPS5634799A (en) * | 1979-08-29 | 1981-04-07 | Daikin Ind Ltd | Azeotropic mixed solvent composition |
JPS6167889U (da) * | 1984-10-10 | 1986-05-09 | ||
CN112452838A (zh) * | 2020-11-24 | 2021-03-09 | 江苏筑磊电子科技有限公司 | 脱芳烃类溶剂油在火灾后电器表面处理的方法 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2153577A (en) * | 1935-03-07 | 1939-04-11 | Du Pont | Process of degreasing |
US3085918A (en) * | 1959-05-22 | 1963-04-16 | Ici Ltd | Cleaning process |
DE2003189A1 (de) * | 1969-02-06 | 1970-09-03 | Allied Chem | Loesungsmittelgemisch |
-
0
- BE BE789006D patent/BE789006A/xx not_active IP Right Cessation
-
1972
- 1972-09-26 SE SE1240472A patent/SE413416B/sv unknown
- 1972-09-26 IT IT2970672A patent/IT967890B/it active
- 1972-09-27 JP JP9629872A patent/JPS5820677B2/ja not_active Expired
- 1972-09-27 DK DK477372A patent/DK151391C/da active
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2153577A (en) * | 1935-03-07 | 1939-04-11 | Du Pont | Process of degreasing |
US3085918A (en) * | 1959-05-22 | 1963-04-16 | Ici Ltd | Cleaning process |
DE2003189A1 (de) * | 1969-02-06 | 1970-09-03 | Allied Chem | Loesungsmittelgemisch |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
BE789006A (fr) | 1973-03-19 |
JPS5820677B2 (ja) | 1983-04-25 |
JPS4843004A (da) | 1973-06-22 |
SE413416B (sv) | 1980-05-27 |
DK151391C (da) | 1988-05-16 |
IT967890B (it) | 1974-03-11 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US5300154A (en) | Methods for cleaning articles | |
DK150990B (da) | Fremgangsmaade til rensning af en forurenet genstand | |
US3957531A (en) | Two tank cleaning process using a contaminated cleaning mixture capable of forming an azeotrope | |
AU664586B2 (en) | Multiple solvent cleaning system | |
NL8700517A (nl) | Oplosmiddelmengsels. | |
US4753735A (en) | Solvent and apparatus and method for cleaning and drying surfaces of non absorbent articles | |
DK151391B (da) | Fremgangsmaade til rensning af genstande | |
KR20160145620A (ko) | 용매 증기상 디그리싱 및 디플럭싱 조성물, 방법, 장치 및 시스템 | |
JP3945659B2 (ja) | 洗浄方法および装置 | |
JP2006521460A (ja) | 汚染された物品の洗浄ための組成物及び方法 | |
EP0194589B1 (en) | Apparatus and method for cleaning and drying surfaces of non-absorbent articles | |
US5298082A (en) | Method for degreasing solid objects | |
EP0475596B1 (en) | Methods for cleaning articles | |
US5242502A (en) | Method and apparatus for cleaning articles | |
US5114495A (en) | Use of azeotropic compositions in vapor degreasing | |
JPH05202390A (ja) | フッ素含有エーテルを含む組成物及びそれらの組成物の使用 | |
JP4601124B2 (ja) | 引火点を持たない洗浄剤組成物及び洗浄方法 | |
JP5627881B2 (ja) | 汚れ分離除去方法 | |
IE902948A1 (en) | Methods and compositions for cleaning articles | |
JP2015527196A (ja) | 二重溶媒蒸気脱脂システムにおけるすすぎ液からの洗浄用溶媒の連続的分離のための方法および装置 | |
JP4721579B2 (ja) | 洗浄方法及び洗浄装置 | |
JP2001200293A (ja) | 安定化された非引火性洗浄剤、洗浄方法および洗浄装置 | |
USRE35975E (en) | Cleaning and drying of electronic assemblies | |
JP2001240898A (ja) | 引火点を抑制した洗浄剤、洗浄方法および洗浄装置 | |
JPS5818471A (ja) | 洗浄・脱水・乾燥方法 |