DK150968B - Apparat til straalingsbehandling af langstrakte genstande - Google Patents

Description

150968

Opfindelsen angår et apparat til kontinuerlig bestrålingsbehandling af overfladen af et belagt produkt i bevægelse, og mere specielt angår opfindelsen et apparat til bestråling af overfladen af et belagt produkt i bevægelse i en i det væsentlige inaktiv atmosfære.

5 Det forhold at underkaste en hærdelig polymerbelægning en strålingsenergi for at forbedre egenskaberne, navnlig overfladeegenskaberne af belægningen, har været gjort til genstand for intense studier i mange år. Det har længe været anerkendt, at effektiviteten af en sådan bestråling, såvel som hærdehastigheden 10 kan forøges ved at opretholde en inaktiv atmosfære over overfladen af det belagte produkt under bestrålingsperioden. Dette gælder specielt, når elektromagnetisk energi eller elektroner med stor energi benyttes som bestrålingsmedium. Under kontrollerede laboratoriebetingelser har der ikke været nogen vanskeligheder forbundet med at opretholde 15 en inaktiv atmosfære over overfladen af det belagte produkt. Ved industriel drift er en af de væsentligste ting driftsomkostningerne, som primært skyldes det høje forbrug af inaktiv gas. Det er således klart, at enhver besparelse af gasforbruget i løbet af et tidsrum, f.eks. på et år, ved døgndrift medfører væsentligt reducerede drifts-20 omkostninger, hvilket kan være afgørende for sådanne processers kommercielle anvendelighed.

For at være kommercielt acceptabelt skal bestråling ske i produktionslinien og må derfor være forenelig med det øvrige apparaturs arbejdshastighed, der kan variere fra minimumshastigheder på 25 omkring 18,3 m/min. til dagens maksimumshastighed på omkring 183 m/min. Et belagt produkt, som bevæger sig med arbejdshastigheden, bærer en tynd film af luft med sig på overfladen, hvilken luft i det væsentlige må fortrænges af inaktiv gas for at tillade effektiv overfladehærdning, når overfladen underkastes bestrålingsenergi.

30 Fortrængningen af sådan luft skal ske før "eksponeringstiden", som herefter er defineret som det tidsinterval, i løbet af hvilket overfladen af et givet belagt produkt eksponeres for bestrålingsenergi. Ved arbejdshastigheder på 183 m/min., for et behandlingskammer med en total længde på f.eks. 91,5 cm og en bestrålingslængde på 30,5 cm, 35 er kammeropholdstiden 0,3 sek. og eksponeringstiden 0,1 sek., hvilket giver en maksimal tid, der kun er lig med eller mindre end 2 150968 0,2 sek. for at fortrænge luftfilmen på overfladen af det belagte produkt.

Generelt gælder det for en fikseret geometri for et sådant kammer, at jo hurtigere det belagte produkt bevæger sig gennem 5 kammeret, jo større må strømmen af inaktiv gas til kammeret være for at opretholde en inaktiv atmosfære. Desuden giver større hastigheder en reduceret tid til opnåelse af en stabilisering af strømningsmønstrene i kammeret, og enhver koncentrationsdifference for inaktiv gas langs overfladen af det belagte produkt, navnlig et bredt 10 produkt, kan resultere i en uensartet hærdning. Man kan øge strømningshastigheden kraftigt for at blæse atmosfærisk luft bort, som ellers ville blive trukket ind sammen med produktet,eller man kan på den anden side reducere arbejdshastigheden. Praksis er imidlertid, at arbejdshastigheden er fikseret i produktionslinien, og det inak-tive gassystem skal være foreneligt med denne hastighed. Endvidere vil den kommercielle bruger af processen ønske at fastsætte gasstrømningshastigheden kun én gang og af økonomiske årsager sætte denne hastighed så lavt som muligt. Endvidere vil ikke alene produktionsliniehastigheden periodisk varieres for tilpasning efter specielle pro-20 duktanvendelser, men også produktstørrelse, specielt produktbredder, som periodevis varieres under en maksimal værdi.

For derfor at tilfredsstille kommercielle krav skal bestrålingssystemet være i stand til at give en acceptabel ensartet hærdning uanset variationer i den sædvanlige produktionslinie med henblik på 25 produktionsbredde og produktionsliniehastighed, helst ved anvendelse af kun en enkelt fikseret total strømningshastighed. Endvidere bør systemet være lineært regulerbart med henblik på dimensioner og strømningskrav for at tillade en ensartet behandling af et produkt med en hvilken som helst bredde ved en hvilken som helst nød-30 vendig arbejdshastighed. Når altså systemdimensionerne er oprettet for en maksimal produktbredde og arbejdshastighed, skal systemet give ligeværdig behandling af produkter med væsentligt reduceret bredde og/eller arbejdshastighed, uden at systemparametrene forandres.

3^ Beskrivelserne til de franske patenter nr. 2 058 090 og 2 058 091 beskæftiger sig direkte med denne tanke. Begge patenter beskriver forskellige alternative konstruktioner for at opretholde en relativ ren inaktiv nitrogenatmosfære i et delvis lukket 3 150968 kammer, hvorigennem produktet føres for behandling. I de givne eksempler er arbejdshastigheden fastlagt til omkring 54,8 m/min., og produkterne, som behandles, er begrænset til en bredde på ikke over 381 mm. 1 praksis vil produktbredden afhænge af den kommercielle 5 anvendelse og varieres tilsvarende i produktionslinien for at passe til en sådan anvendelse. En produktbredde på op til 203,2 mm er ikke usædvanlig. Selv om forholdsvis lav gasstrømningshastighed nævnes, er der ingen antydning af, at systemkonstruktionen er lineært varierbar for at behandle væsentligt bredere produkter og/eller 10 smallere produkter ved varierende arbejdshastigheder.

Hovedformålet med den foreliggende opfindelse er således at anvise et apparatur til "in-line" bestrålingsbehandling af den belagte overflade af et produkt i bevægelse, hvori der opretholdes en inaktiv gasatmosfære over det belagte produkt under behandlingen, 15 hvilket apparat er lineært regulerbart udtrykt ved den strømnings hastighed af den inaktive gas, som er nødvendig til at behandle en hvilken som helst produktbredde ved en hvilken som helst ønsket hastighed.

Apparaturet kræver endvidere kun en forholdsvis lille, i det 20 væsentlige konstant strømningshastighed af inaktiv gas for at opret holde den inaktive atmosfære, uanset sædvanlige produktvariationer med hensyn til produktbredde eller produktionshastighed under et på forhånd bestemt maksimum.

Det er formålet med den foreliggende opfindelse at forbedre 25 den kendte teknik, og opfindelsen angår således et apparat til bestrå lingsbehandling af langstrakte genstande, hvilket apparat har en første og en anden tunnel med konstant tværsnit og et behandlingskammer med mindst én bestrålingskilde, hvilket kammer er anbragt mellem udløbsenden fra den første tunnel og indløbsenden til den anden, såle-30 des at behandlingskammeret og de to tunneler eventuelt sammen med den langstrakte genstand danner en lukket enhed, gennem hvilken genstandene skal føres, samt et trykkammer for inaktiv gas og en åbning, gennem hvilken gassen skal strømme ind i apparatet for tilvejebringelse af en inaktiv atmosfære, og dette apparat er ifølge 35 opfindelsen ejendommeligt ved, at trykkammeret er forbundet med en gasinjektorkanal, som ender i en spalte i den første tunnels væg og i 150968 η afstand fra denne tunnels indløbsende, som er mindst ti gange denne tunnels mindste tværsnitsdimension, hvorhos udløbsspalten forløber tværs over den første tunnels længdeakse og har en længde, der i det væsentlige er lig med længden af bestrålingszonen målt på tværs 5 af længdeaksen af den første tunnel langs de sider af den langstrakte genstand, som skal bestråles, og er udformet og anbragt på en sådan måde, at den inaktive gas rettes vinkelret mod den af genstandens flader, der skal bestråles, eller i en retning modsat fremføringsretningen for genstanden under en spids vinkel i forhold til den flade, som 10 skal betråles, idet vinklen nedadtil er begrænset til 45°.

Opfindelsen skal herefter forklares nærmere under henvisning til tegningen, hvor fig. li længdesnit skematisk viser en udførelsesform for appa ratet ifølge opfindelsen, 15 fig, 2 i forstørret målestok en perspektivisk skitse af et hoved kammer og en injektorkanal til inaktiv gas til apparatet i fig. 1, fig. 3 et billede set oppefra af apparatet ifølge fig. 1 vist delvis i perspektiv, 20 fig. 4a-c tre typiske tunneludformninger i perspektiv, fig. 5a-b i perspektiv typiske apparaturgeometrier for runde, henholdsvis trekantede substrater, fig. 6 et diagram, som illustrerer strømningsvejene for adskilte elementære volumener af inaktiv gas, som forlader 25 injektorkanalen og strømmer ud gennem henholdsvis ind gangs- og udgangstunnelen, fig. 7 perspektivisk et typisk apparatur ifølge opfindelsen, fig. 8 et længdesnit efter linien 8-8 i fig. 7, og fig. 9 et sidebillede efter linien 9-9 i fig. 8.

30 Statiske systemer til opretholdelse af en inaktiv gasformig omgivel se rundt om et arbejdsområde er velkendt. Det grundlæggende konstruktionsprincip, som danner basis for alle sådanne systemer, er at opretholde et strømningsmønster af inaktiv gas, som vil bevirke, at luften i arbejdsrummet erstattes af den inaktive gas uden at tillade, 35 at den inaktive gas blandes med luft. Vanskelighederne består i at tilpasse dette til et dynamisk system, hvor et belagt produkt er i bevægelse i forhold til arbejdsområdet. Det belagte produkt i bevægel- 150968 s se har en tendens til at trække luft ind i arbejdsområdet, hvilket forstyrrer strømningsbetingelserne og skaber turbulens. Problemet accentueres yderligere i kemiske bestrålingsprocesser, hvor kun en lille tilstedeværelse af oxygen på overfladen af det belagte produkt 5 kån inhibere overfladehærdning.

Fig. 1 viser skematisk en udførelsesform for apparatet ifølge opfindelsen. Produktet P, som kan repræsentere en kemisk belægning eller et belagt substrat med kontinuerlig længde, som f.eks. en bane, eller med veldefineret længde, som f.eks. en skumplade, føres 10 gennem behandlingskammeret 10, hvor det eksponeres for elektromagnetisk bestråling fra en ikke vist kilde for strålingsenergi. Strålingsenergikilden er anbragt i bestrålingskammeret 12 med en egnet, ikke vist optik for at rette den elektromagnetiske strålingsenergi mod produktet P, når dette passerer. En hvilken som helst kilde 15 for elektromagnetisk strålingsenergi kan benyttes, selv om en internt afkølet eller ikke-afkølet kilde foretrækkes. Hvis kilden kræver ekstern køling, må der anbringes et optisk transparent medium for fysisk at adskille strålingszonen 14 fra strålingskammeret 12.

Internt afkølede kilder og ikke-afkølede kilder kræver ingen 20 fysisk separering fra bestrålingszonen 14 og danner således en integral del af behandlingskammeret 10. En typisk foretrukket, internt afkølet elektromagnetisk strålingskilde er en plasmabue således som beskrevet i beskrivelsen til USA patenterne nr. 3.364.387 og 3.597.650. Typiske foretrukne, ikke-afkølede elektromagnetiske strålingskilder 25 er kortbølgede ultraviolette lavtrykskviksølvrør eller bakteriedræbende lamper.

Behandlingskammeret 10 omfatter endvidere en indgang eller en indtagningsdel 16, en injektorkanal 18, gennem hvilken inaktiv gas føres fra et kammer 10, og en udtagstunnel 24. Inaktiv gas leveres 30 til kammeret 20 fra en ikke vist kilde for tilførsel af inaktiv gas.

Selv om en hvilken som helst inaktiv gas kan benyttes, foretrækkes nitrogen.

Udtrykket "tunnel" i den foreliggende beskrivelse er defineret som en hul gennemgang med enhedsmæssigt tværsnit, som enten kan 35 have en selvlukkende periferi eller en delvis lukket periferi, som forbliver i det væsentlige helt lukket, når det belagte produkt i 6 150968 bevægelse er tilstede. Længden af indgangstunnelen 16 og længden af udgangstunnelen 24 bør være så lang, som det er praktisk gennemførligt.

Anbringelsen, geometrien og orienteringen af injektorkanalen 5 18 er væsentlig for at opnå en ikke turbulent og ikke blandende inaktiv gasstrøm i behandlingskammeret 10, således at en gasstrøm under omkring 46,545 liter/time og m tunnelbredde og helst under omkring 37.236 liter/time og m tunnelbredde er alt, hvad der er nødvendigt for at opnå et enhedsmæssigt inaktivt tæppe over den % 10 belagte overflade af produktet i bevægelse, uanset produkthastigheder på op til omkring 183 m/min. Når der er oprettet en gasstrømningshastighed som angivet for en givet maksimal tunnelbredde, vi! behandlingsenheden tilpasse sig og enhedsmæssigt dække den belagte overflade af et produkt i bevægelse med en hvilken som 15 helst bredde op til den nævnte givne tunnelbredde ved en hvilken som helst hastighed op til omkring 183 m/min.

injektorkanalen 18 skal være anbragt nedstrøms i forhold til indløbsenden 27 af indgangstunnelen 16 og i en afstand, som er mindst ti gange den mindste tværsnitsdimension af tunnelen 16. Højden 20 H af kanalen 18 bør helst være mindst omkring fire gange større end bredden W, d.v.s. afstanden mellem sidefladerne af kanalen, således som vist tidligere i fig. 2. Længden L af kanalen skal være mindst i det væsentlige svarende til bredden af produktet P og helst svarende til bredden af indgangstunnelen 16 og skal være ori-25 enteret i det væsentlige parallelt med tunnelbredden. Endvidere skal kanalen 18 også være orienteret på en sådan måde, at den inaktive gas rettes gennem kanalåbningen 26 til kammeret 10 under en vinkel i forhold til kammeret 10's længdeakse på mellem 45 og 90°, helst 90°. Afstanden mellem åbningen 26 og produktet i bevægelse P bør 30 være så lille, som sædvanlige produktoverfladeuregelmæssigheder tillader. Forholdet mellem højden H og bredden W er ikke så vigtig, hvis der benyttes et porøst medium til at fylde kanalrummet, men dette gør monteringen noget vanskeligere og noget dyrere. Selv om kanalen 18 er vist i fig. 1 som et par plane flader, der strækker 35 sig fra en spalte i tunnelen 16's øverste væg, kan spalten selv repræ sentere kanalen, forudsat at den øverste væg af tunnelen 16 har en tilstrækkelig tykkelse til at tilfredsstille det ønskede forhold mellem højden H og bredden W.

7 150968

Gassen, som føres til injektorkanalen 18, strømmer fra kammeret 20, hvilket kammer er et gasreservoir med et væsentligt større tværsnit end længdetværsnittet af kanalen 18. Kammeret 20 bør helst have et tværsnitsareal, som, når det betragtes vinkelret på injek-5 torkanalens længde L, er mindst omkring ti gange så stor som længdetværsnitsarealet af kanalen 18.

Både indgangstunnelen 16 og udgangstunnelen 24 udgør forlængelser af bestrålingskammeret 12 og tjener til at begrænse tabet af inaktiv gas fra kammeret 10, såvel som at rette den udstrømmende 10 inaktive gas over den belagte overflade af produktet P, således at størsteparten af luften skydes væk fra overfladen af produktet P, før produktet kommer ind i området for bestråling 14. En lille, men tilstrækkeligt stor trykgradient foreligger mellem injektorkanalåbnin-gen 26 og indtagsenden 27 for indgangstunnelen 16, hvilket skaber en 15 tilbagestrøm af inaktiv gas ud af indgangstunnelen 16 for at forhindre, at ikke acceptable mængder af luft trækkes med ind sammen med den belagte overflade af produktet P. Udgangstunnelen 24 tjener i tillæg som undvigelsesvej for de mindre mængder luft, som strømmer ind i kammeret 10 på den belagte overflade af produktet P og føres med 20 af produktet. Den inaktive gas holder sådan luft ved den belagte overflade af produktet P og fejer sådan luft ud gennem udgangstunnelen 24 sammen med produktet i modsætning til at lade sådan luft blive blandet med den inaktive atmosfære i kammeret 12 og akkumulere sig til et ikke antageligt niveau.

25 Tværsnitsdimensionerne af indgangs- og udgangstunnelerne 16 og 24 vælges helst for at stemme overens med tværsnitsdimensionerne af det belagte produkt P, som skal behandles. Fig. 4a-c viser geometrien for tre typiske tunneler for tre typiske produktformer, henholdsvis rektangulær, trekantet og cylindrisk. Som vist i fig. 5a og b bør 30 injektorkanalen 18 og kammeret 20 på samme måde i geometri passe til tværsnitsgeometrien for det belagte produkt P. Dette gælder også for bestrålingskammeret 12, hvor enhedsmæssig bestråling er ønsket rundt langs hele periferien af produktet, men dette behøver ikke at betyde, at strålingskilden skal have en sådan geometri, fordi man 35 ved hjælp af egnet optik i kammeret 12 kan opnå det samme resultat.

Som tidligere nævnt skal tunnellængden for injektorkanalen 8 150968 for en hvilken som helst tunneludformning være omkring ti gange den mindste tværsnitsdimension af tunnelen. For en rektangulær tunnelgeometri er såiedes = 10 og < T^, hvor = tun nelhøjden og Tyy= tunnelbredden; for en trekantet tunnelgeometri 5 (fig. 5a) er TL = 10 og for en cylindrisk tunnelgeometri (fig. 5b) er = 10 D, hvor D er diameteren af cylinderen.

Når det belagte produkt P befinder sig i tunnelkammeret 10 og strækker sig gennem dette, kan det belagte produkt selv danne bunden af hver tunnel. I sådanne tilfælde, hvor det belagte produkt 10 p kontinuerligt er tilstede, således som ved en bane, danner det belagte produkt P effektivt bunden af kammeret, og der kræves ikke nogen yderligere bund. Generelt bør der ikke være nogen del af bestrålingsarealet 14, som fysisk befinder sig lavere end bunden af den eksponerede overflade for indgangs- og udgangstunnelerne, 15 henholdsvis 16 og 24. Hvis det er nødvendigt, at nogen del af bestrålingsområdet 14 er lavere end nogen del af de nedre flader i tunnelen, bør der i sådanne tilfælde foreligge regulerede udslip til atmosfæren langs en sådan fysisk lavere flade. I et sådant tilfælde vil den inaktive nitrogenatmosfære fortrænge enhver luft, som er båret 20 ind sammen med produktet P og tvinge denne luft ud gennem udluftningsmekanismerne. Geometrien for kammeret 10 er beskrevet i det foregående i forbindelse med anvendelsen af inaktive gasser, som er lettere end oxygen. Det vil være klart, at man ved egne valg af kontrollerede udluftninger kan anvende en gas, som er tungere 25 end oxygen. Endvidere kan kammeret også, hvis det ønskes, være omvendt fysisk set.

Injektorkanalen 18 sikrer en jævn strømfordeling af inaktiv gas til kammeret 10 med den nævnte strøm rettet i det væsentlige mod overfladen af det belagte produkt P i bevægelse og enhedsmæssigt for-30 delt over bredden af produktet P. Geometrien for injektorkanalen 18 som beskrevet i det foregående menes at forårsage, at ethvert elementarvolumen af inaktiv gas følger i det væsentlige parallelle strømningsveje med tilsvarende længde til indtagsåbningen for indgangstunnelen 16 og parallelle strømningsveje med en sådan læng-35 de til udtagsåbningen af udgangstunnelen 24. Dette er i form af et diagram vist i fig. 6, hvor -V repræsenterer i det væsentlige 9 150968 ens adskilte elementærvolumener af inaktiv gas, som strømmer mod åbningen 27, og -V 1 repræsenterer i det væsentlige ens adskilte elementærvolumener af inaktiv gas, som strømmer mod åbningen 29. De adskilte elementærvolurnener V.-V behøver ikke at være lig 5 med de adskilte elementærvolumener V^'-V 1 . Endvidere behøver strømningsvejlængden fra åbningen 26 til indtagsenden 27 i tunnelen 16 ikke at være lig med strømningsvejlængden fra åbningen 26 til Udtagsenden 29 af udtagstunnelen 24. Det er imidlertid vigtigt at bemærke sig, at strømmen af inaktiv gas, som kommer ud fra injektor-10 kanalen 18, ophæves vektorielt i alle retninger, bortset fra i længderetningen. Dette fænomen er den primære faktor for at opnå et enhedsmæssigt tæppe af inaktiv gas over bredden af det belagte produkt, og for at oprette det lineært indstillelige forhold mellem den inaktive gasstrøm og tunnelbredden, helt uafhængigt af bredden af det belagte 15 produkt. Så længe tunnelåbningerne således er brede nok til at passe til det belagte produkt P, kan et hvilket som helst smallere belagt produkt, uanset hvor smalt det er, på samme måde behandles uden at forandre de fysiske dimensioner eller strømningshastigheden. Endvidere kan produkthastighederne varieres efter ønske op til omkring 183 m/min.

20 uden at påvirke behandlingen under de i det foregående angivne betingelser, selv om eksponeringstiden ved de højere hastigheder forkortes væsentligt.

Fig. 7 viser i perspektiv et typisk apparat ifølge opfindelsen, således som det kan se ud installeret i en produktionslinie. En trans-25 portør 30 bærer det belagte produkt P til behandlingskammeret 10, som er båret af en ramme 34. Trykbetjente cylindre 32 regulerer højden af tunnelerne i behandlingskammeret 10 over transportøren 30. Cylinderne 32 er manuelt regulerbare for at justere tunnelhøjden, ligesom de automatisk reagerer på et passerende produkt med en uregel-30 mæssig eller hvælvet overflade, som ikke skal behandles. Når et sådant produkt passerer, bliver behandlingskammeret 10 automatisk hævet til et på forhånd bestemt niveau, og en lukker sættes i gang, som føres hen under bestrålingskammeret 12. Lukkeren forhindrer udslip af strålingsenergi, således som det skal forklares nærmere i 35 forbindelse med fig. 8.

Strålingskammeret 12 rummer den elektromagnetiske strålingskilde og egnet optik for at rette strålingsenergien mod bestrålingszonen 150968 ίο transportøroverfladen delvis som bundoverflade i behandlingskammeret 10. Transportøroverfladen og det belagte produkt P danner således, når det strækker sig gennem behandlingskammeret 10, en integreret del af kammeret og virker som bund i dette. Dette vises tydeligere i 5 fig. 8 og 9.

Injektorkanalen 18 er fortrinsvis udformet som en forlænget spalte i væggen af kammeret 20. Den skal imidlertid have det geometriske forhold, som er beskrevet i det foregående, d.v.s. at den må være anbragt på en sådan måde, at den retter den inaktive gas mod pro-10 duktet, som bevæger sig, i en vinkel i forhold til behandlingskammerets længdeakse på mellem 45° og 90°.

Kanalen 18 bør desuden have et forhold mellem højden og bredden på mindst 4:1. 1 den viste prototype udgøres højden H af en 12,5 mm tyk plade med en kanalbredde på 1,59 mm (W). Mellem transportørdelene 15 38 og 40 og hvilende på rammen 34 er der anbragt en platformsmekanis me 42, som i forbindelse med transportøroverfladerne danner bundfladen af behandlingskammeret 10. Platformen 42 består af et første ark af "teflon" med et antal spejl sektioner 44, som er direkte eksponeret før strålingskammeret 12, og et andet bæreark, som ligger under det 20 første ark. Spejlsektionerne 44 for platformen 32 reflekterer noget af den elektromagnetiske energi til kanterne og undersiden af produktet, som føres forbi.

Som tidligere nævnt i forbindelse med fig. 7 vil, når et produkt ankommer til apparatet, og som ikke skal behandles på grund af 25 uregelmæssig overflade eller af anden grund, de trykbetjente cylindre 32 automatisk blive sat i virksomhed ved hjælp af ikke viste mekanismer for derved at hæve behandlingskammeret 10 til en på forhånd fastsat højde over transportørerne 38 og 40 og platformen 42.

I sådanne tilfælde arbejder en yderligere trykbetjent cylinder 36 30 i forbindelse med de trykbetjente cylindere 32. Cylinderen 36 har en stempelstang 46, hvor den frie ende er forbundet med en konsol 48, som ved hjælp af kuglelejer er fastgjort til en fast aksel 52.

Konsollen 48 er også forbundet med en lukker 50, som er monteret for aksial bevægelse på den faste aksel 52. Bundfladen af lukkeren 50 35 repræsenterer den øverste overflade af udgangstunnelen 24. Når cylinderen 36 aktiveres, bevæger stempelstangen 46 sig tilbage og bevirker, at lukkeren 50 kommer til at strække sig ind under og 11 150968 lukker strålingskammeret 18. Et afkølingsmedium føres gennem forbindelsesledningen 54 for at afkøle lukkeren 50.

Fig. 9 viser et snit efter linien 9-9 i fig. 8. Tunnelgennemgangen, som fører til bestrålingszonen 14, er vist med den øverste flade repræ-5 senteret af kammerfladen 56 og bundoverfladen repræsenteret af platformen 42. Når behandlingskammeret 10 sænkes til driftsstillingen, vil afstandsplader 58, som er anbragt på modsatte sider af dette, lægge sig an mod platformen 42 og danne et par sidevægge for hele behandlingskammeret 10. Et par ikke viste sideklapper kan også benyt-10 tes, hvis kontrolleret driftsvariation i tunnelhøjden over det første fastsatte niveau bestemt af afstandspladerne 58 er ønskelig.

Det apparat, som er vist i fig. 7-9, har en indvendig bredde af kammeret på ca. 127 cm, d.v.s. at et produkt med en hvilken som helst bredde op til et maksimum på ca. 122 cm, kan behandles.

15 Højden af tunnelerne 16 og 24 i driftsstillingen er 9,5 mm. Længden af kammeret 10 fra ende til ende er 152 cm. Afstanden fra indtagsenden af indtagstunnelen 16 til injektorkanalen er omtrent 457 mm, medens afstanden fra injektorkanalen 18 til bestrålingskammeret 12 er ca. 152 mm. Bestrålingskammeret 12 har en længde på ca.

20 457 mm. De fysiske dimensioner, som her er angivet, er kun illustre rende og kan forstørres eller formindskes for at passe til et specielt produktionsprogram. Det skal bemærkes, at fordi kravene med hensyn til gasstrøm kan fastsættes på forhånd, kan de fysiske dimensioner vælges i forhold til den tilgængelige plads på produktionsstedet.

25 Når det i det foregående beskrevne apparat er i drift, kan strøm men af inaktiv gas, fortrinsvis nitrogen, bestemmes i henhold til forholdet mellem strøm og tunnelbredde, således som tidligere angivet, nemlig omkring 37,236 liter/time og m tunnelbredde. Alternativt kan en totalstrøm svarende til en sædvanlig produktbredde 30 og således maksimal tunnelbredde for en speciel kommerciel anvendelse fastsættes, uden at det er nødvendigt at foretage yderligere justeringer for produktbreddevariationer.

I det følgende er der angivet nogle eksempler, hvor den totale strømningshastighed er blevet sat til omkring 42,480 I/time for produk-35 ter med stærkt varierende bredde op til et maksimum på omkring 122 cm, og stærkt varierende hastigheder fra 54,9 m/min. til 152,4 m/min. Tykkelsen af produktet varierede optil 6,35 mm.

12 150968

En belægningsblanding blev fremstillet af 50 g acryleret, epoxyderet soyabønneolie, 30 g hydroxyetylacrylat og 20 g neopentylglycol-diacrylat. Til enheder på 10 g af denne blanding blev der tilsat 0,01 mol af forskellige sensibilisatorer. Belægningerne blev påført med en > vådfilmtykkelse på 0,05 mm på "Bonderite No. 37" stålplader, og be strålet i de angivne eksponeringstider under et nitrogentæppe ved anvendelse af en plasmabuestrålingskilde. Analyseresultaterne fra de hærdede film er angivet i det følgende:

Sensibilisator Eksponeringstid (sek.)/ Sward Acetonemod- 1) ΙΟ produktionshast. (m/min.) hårdhed standsevne

Benzoinmethylether 0,33 sek. /m/min.54,9 24 45

Benzoinmethylether 0,25 " 73,2 10 25

Benzoinmethylether 0,17 11 109,7 6 15 2.2- dimethoxy-2- 15 phenylacetophenon 0,33 " 180 24 40 2.2- dimethoxy-2- phenylacetophenon 0,25 " 240 16 45 2.2- dimethoxy-2- phenylacetophenon 0,17 11 360 10 25 ^ 2,2-dimethoxy-2- phenylacetophenon 0,12 11 152,4 4 25

Acetone-modstandsevne: den tid, det tager i sekunder, for acetonen at trænge igennem og hæve filmen fra metalsubstratet.

Claims (1)

150968 Patentkrav. Apparat til bestrålingsbehandling af langstrakte genstande, hvilket apparat har en første og en anden tunnel (16,24) med konstant tværsnit og et behandlingskammer (12) med mindst én bestrålingskilde, 5 hvilket kammer er anbragt mellem udløbsenden fra den første tunnel og indløbsenden til den anden, således at behandlingskammeret (12) og de to tunneler (16,24) eventuelt sammen med den langstrakte genstand danner en lukket enhed, gennem hvilken genstandene skal føres, samt et trykkammer (20) for inaktiv gas og en åbning, gennem 10 hvilken gassen skal strømme ind i apparatet for tilvejebringelse af en inaktiv atmosfære, kendetegnet ved, at trykkammeret (20) er forbundet med en gasinjektorkanal (18), som ender i en spalte i den første tunnels (16) væg, og i en afstand fra denne tunnels (16) indløbsende, som er mindst ti gange denne tunnels (16) mindste tvær-15 snitsdimension, hvorhos udløbsspalten (26) forløber på tværs af den første tunnels (16) længdeakse og har en længde, der i det væsentlige er lig med længden af bestrålingszonen (14) målt på tværs af længdeaksen af den første tunnel langs de sider af den langstrakte genstand, som skal bestråles, og er udformet og anbragt på en sådan måde, at 20 den inaktive gas rettes vinkelret mod den af genstandens flader, som skal bestråles, eller i en retning modsat fremføringsretningen for genstanden under en spids vinkel i forhold til den flade, som skal bestråles, idet vinklen nedadtil er begrænset til 45°. 25