DE19828266C1 - Vorrichtung zum Verhindern von Dampf-, Gas- oder Kleinstpartikelniederschlägen auf den Spiegelelementen von UV-Bestrahlungsvorrichtungen sowie Verfahren zu deren Betrieb - Google Patents
Vorrichtung zum Verhindern von Dampf-, Gas- oder Kleinstpartikelniederschlägen auf den Spiegelelementen von UV-Bestrahlungsvorrichtungen sowie Verfahren zu deren BetriebInfo
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Abstract
Die Erfindung betrifft ein Verfahren und eine Vorrichtung zur Verhinderung von Dampf-, Gas- und/oder Kleinstpartikelniederschlägen. Dabei ist eine Vorrichtung innerhalb eines UV-Bestrahlungssystems derart angeordnet, daß ein Verfahren zur Strömungsführung innerhalb dieses UV-Bestrahlungssystems möglich ist. Die initiierte Strömungsführung vermeidet, daß sich niedermolekulare Dämpfe aus der zu härtenden Lack- oder Klebeschicht von außen aus der Umgebungsluft angesaugte Kleinstpartikel oder Ozon, das durch die intensive UV-Strahlung entsteht, zum Nachteil der Reflexionseigenschaften der Spiegelelemente auf diesen niederschlägt.
Description
Die Erfindung betrifft eine UV-Bestrahlungsvorrichtung zum
Aushärten von Beschichtungen, insbesondere Lacken, Kleb
stoffen und Druckfarben mit mindestens einer in einer Be
strahlungskammer angeordneten UV-Lichtquelle und mindestens
einem dieser UV-Lichtquelle zugeordneten Spiegelelement sowie
einer unter der UV-Bestrahlungsvorrichtung durchlaufenden
Substratbahn. Außerdem betrifft die Erfindung ein Verfahren
zum Verhindern von Niederschlägen, bestehend aus Dampf, Gas
und Kleinstpartikeln, auf den Spiegelelementen einer erfin
dungsgemäßen UV-Bestrahlungsvorrichtung.
Derartige UV-Bestrahlungsvorrichtungen werden eingesetzt, um
Beschichtungen, insbesondere Lacke, Klebstoffe und Druckfar
ben zu härten. Unter der UV-Bestrahlungsvorrichtung wird ein
Substrat mit der zu härtenden, bereits aufgebrachten Be
schichtung durchgeführt. Unter dem Einfluß der UV-Strahlung
reagiert die Beschichtung und härtet aus. Die während der
Aushärtung auftretende Wärme, die aus der von der UV-Licht
quelle emittierten Wärmestrahlung (IR) und aus der frei wer
denden Reaktionsenthalpie der aushärtenden Beschichtung be
steht, fördert das Verdampfen von niedermolekularen Bestand
teilen aus der Beschichtung. Durch thermische Konvektions
ströme und die Pumpwirkung der unter der UV-Bestrahlungsvor
richtung durchgeführten Substratbahn (Stoke'sche Haftbe
dingung auf der Substratbahn) gelangen dieser Dampf und aus
der Umgebungsluft angesaugte Verunreinigungen in Form von
Kleinstpartikeln sowie Umgebungsluft in die Bestrahlungs
kammer und schlagen sich auf den Spiegelelementen nieder, wo
durch die Leistung der UV-Bestrahlungsvorrichtung erheblich
abnimmt.
Es ist aus der DE 27 49 439 B2 bekannt, die Temperatur der
Spiegelelemente auf einen Wert zu bringen, der mindestens
ebenso hoch wie die Temperatur der Beschichtung ist. Durch
diese Maßnahme sollen die thermischen Konvektionsströme von
dem Substrat hin zu den Spiegelelementen vermieden werden.
Dämpfe, die trotz dieser Maßnahme auf den Spiegelelementen
kondensieren, sollen durch die hohe Oberflächentemperatur der
Spiegel sofort wieder verdampft werden.
Die Niederschläge auf den Spiegelelementen lassen sich mit
der vorgeschlagenen Maßnahme jedoch nicht vollständig vermei
den. Durch das Erhitzen der Spiegelelemente auf ein Tempe
raturniveau oberhalb der Kondensationstemperatur der Dämpfe
steigt das gesamte Temperaturniveau in der UV-Bestrahlungs
vorrichtung. Hierdurch steigen zwangsläufig auch die Tempera
turen an der Substratoberfläche, so daß ein Einsatz dieses
Verfahrens bei wärmesensibelen Substraten nicht sinnvoll ist.
Darüber hinaus berücksichtigt die Lösung nach der DE
27 49 439 B2 die Pumpwirkung der unter der UV-Bestrahlungs
vorrichtung durchlaufenden Substratbahn nicht, die eine la
minare Grenzschicht aus der mitgerissenem Umgebungsluft
(Gas), dem niedermolekularem Dampf und Kleinstpartikeln aus
der Umgebungsluft in die Bestrahlungskammer fördert. Bei Ge
schwindigkeiten der Substratbahn von bspw. 200 m/min ist dabei
mit einem Volumenstrom zu rechnen, der in der Bestrahlungs
kammer zu erheblichen Strömungen führt, die die Gase, die
Dämpfe und die Kleinstpartikel auch zu den Spiegelflächen
fördern.
Die Dämpfe, Gase und Kleinstpartikel, die in die Be
strahlungskammer gelangen, werden durch die intensive ener
giereiche UV-Bestrahlung polymerisiert, verbrannt oder rea
gieren derart, daß sich die dabei entstehenden Produkte an
der Oberfläche der Spiegelelemente niederschlagen, dort fest
setzen und die Reflexionseigenschaften deutlich verschlech
tern. Die Idee aus der DE 27 49 439 B2 die Oberflächen der
Spiegelelemente auf einem derart hohen Temperaturniveau zu
halten, daß die niedermolekularen Niederschläge sofort wieder
verdampfen, funktioniert in der Praxis nicht, da die Poly
merisation auf den Spiegelelementen nicht mehr rückführbar
ist und verbrannte Kleinstpartikel mit den Spiegelelementen
reagieren.
Ausgehend von diesem Stand der Technik liegt der Erfindung
die Aufgabe zugrunde, eine UV-Bestrahlungsvorrichtung sowie
ein Verfahren zu deren Betrieb vorzuschlagen, bei der die
Bildung von Niederschlägen auf den Spiegelelementen wirksam
verhindert wird.
Die Lösung basiert auf dem Gedanken, die Gasströme innerhalb
der UV-Bestrahlungsvorrichtung in ihrer Zusammensetzung und
ihren Eigenschaften zu beeinflussen. Dabei soll sowohl der
Einfluß der thermischen Konvektionsströmungen als auch die
Pumpwirkung kompensiert werden.
Im einzelnen wird diese Aufgabe bei einer UV-Bestrahlungs
vorrichtung der eingangs erwähnten Art dadurch gelöst, daß
innerhalb der UV-Bestrahlungsvorrichtung eine als Be
strahlungskammer ausgebildete Überdruckkammer und mindestens
eine Unterdruckkammer vorgesehen ist. Diese Vorrichtung wird
mit den Verfahrensbedingungen des Anspruchs 6 betrieben.
In die die Spiegelelemente und die UV-Lichtquelle aufweisende
Überdruckkammer wird ein Gas oder Gasggemisch unter Druck
eingespeist, während in der Unterdruckkammer beispielsweise
mit einer Absaugvorrichtung ein Unterdruck erzeugt wird. Es
hat sich gezeigt, daß erfindungsgemäß ausgebildete Vorrich
tungen auch im Dauerbetrieb keine Niederschläge auf den Spie
gelelementen aufweisen.
Sofern die UV-Bestrahlungsvorrichtung eine Kollisionskammer
aufweist, ist diese sinnvollerweise unmittelbar am Eingang
der durchlaufenden Substratbahn in die UV-Bestrahlungsvor
richtung angeordnet, um einer Kollision der kontrollierten
Gasströmung mit der Grenzschicht Raum zu geben. Darüber
hinaus kann mit der erfindungsgemäßen Vorrichtung so die Gas
zusammensetzung in der Bestrahlungskammer bestimmt werden, da
die von außen durch die Substratbahn geförderte Grenzschicht
bereits vor Eintritt in die Bestrahlungskammer in der Kolli
sionskammer gestoppt wird und sich in der Bestrahlungskammer
lediglich das eingespeiste Gas oder Gasgemisch befindet. Die
ses Gasgemisch wird über die erste und vorzugsweise eine
zweite, am Ausgang angeordnete Kollisionskammer der UV-Be
strahlungsvorrichtung abgezogen. Zur Schonung der Umwelt wird
in der zweiten Kollisionskammer die sich durch das in die
Überdruckkammer eingespeiste Gas oder Gasgemisch auf die Sub
stratbahn gelegte neue Grenzschicht mit der Umgebungsluft zur
Kollision gebracht, so daß aus der Bestrahlungskammer entwei
chende Gase auf ein Minimum reduziert sind. Realisiert wird
dieses durch ein starkes Ansaugen der Außenluft und des Gases
bzw. Gasgemisches mittels der Unterdruckkammer, die sich
oberhalb der zweiten Kollisionskammer befindet.
Die Kühlung des gesamten UV-Systems erfolgt über die Strömung
der Umgebungsluft und die kontrollierte Gasströmung und/oder
über eine zusätzliche Flüssigkeitskühlung des Gehäuses.
Wenn in vorteilhafter Ausgestaltung der Erfindung zur Kühlung
der UV-Bestrahlungsvorrichtung eine Flüssigkeitskühlung, ins
besondere eine Wasserkühlung, vorgesehen ist, kann die Druck
differenz zwischen Über- und Unterdruckkammer auf ein Minimum
eingestellt werden.
Kombinationen aus Luft- und Flüssigkeitskühlung haben sich
als besonders vorteilhaft erwiesen.
Die kontrollierte Gasströmung innerhalb der UV-Bestrahlungs
vorrichtung von der Überdruck- zur Unterdruckkammer wird aus
gebildet, in dem die Druckdifferenz zwischen der Überduck
kammer und der Unterdruckkammer eingestellt wird. Durch die
Höhe der Druckdifferenz kann der Volumenstrom der kon
trollierten Gasströmung so eingestellt werden, daß der Ein
fluß der thermischen Konvektionsströmung und der Pumpwirkung
vollständig kompensiert wird. Damit gelangt die von der Sub
stratbahn mitgerissene Grenzschicht aus Gas, Dampf und
Kleinstpartikeln nicht in die Überdruckkammer. Da die für die
Reflexion relevanten Spiegelelemente innerhalb der Überdruck
kammer angeordnet sind, wird die Bildung von Niederschlägen
auf den Spiegelelementen vollständig verhindert. In der Über
druckkammer entstehende Schadstoffe, wie bspw. Ozon, die beim
Einschalten und oder dem Betrieb der UV-Lichtquelle entste
hen, werden direkt in die Unterdruckkammer geleitet und von
dort abgesaugt.
Die Zugabe von Inertgasen in die Überdruckkammer gemäß den
Merkmalen des Anspruchs 8 hat sich als besonders sinnvoll
herausgestellt. Der Ausschluß von Luftsauerstoff bei der
Härtungsreaktion führt zu verkürzten Härtungszeiten und ver
besserten Eigenschaften der UV-Schicht.
Die kontrollierte Gasströmung bildet ein Geschwindigkeitspro
fil aus, das am Eingang der Substratbahn in die UV-Be
strahlungsvorrichtung dem Geschwindigkeitsprofil der lamina
ren Grenzschicht entgegen gerichtet ist. Die exakte Ein
stellung der kontrollierten Gasströmung über die Druck
differenz ermöglicht es, den Kollisionsbereich der beiden
Gasströme zu bestimmen.
Durch den am Kollisionsbereich anliegenden Unterdruck wird
das aus der Grenzschicht und der kontrollierten Gasströmung
gebildete Gasgemisch von der Substratbahn weg in die Unter
druckkammer geführt und es bildet sich in der Überdruckkammer
eine neue Grenzschicht über der Substratbahn aus, die aus dem
in die Überdruckkammer eingespeisten Gas oder Gasgemisch be
steht.
Die Eigenschaften der beiden entgegengesetzten Gasströme an
dem Kollisionsbereich ändern sich grundlegend, da die la
minare Strömung der Grenzschicht durch die kontrollierte
Gasströmung aufgerissen wird und durch einen turbulenten Wir
bel, auch als Turbulenzballen bezeichnet, ersetzt wird. Die
ser turbulente Wirbel, bestehend aus Gas, Dampf und
Kleinstpartikeln sowie den Schadstoffen aus der Bestrahlungs
kammer und dem Gas zur Erzeugung der kontrollierten Gasströ
mung wird in die Unterdruckkammer abgezogen, die sich ober
halb des Kollisionsbereiches befindet.
Innerhalb der Bestrahlungskammer befindet sich lediglich das
Gas oder Gasgemisch, das in die Überdruckkammer von außen
eingespeist wird, um die kontrollierte Gasströmung zu erzeu
gen. Die Eigenschaften dieses Gases oder Gasgemisches unter
stützen die Härtung der Beschichtung, indem sich das Gas oder
Gasgemisch auf die beschichtete Substratbahn legt. Aufgrund
der UV-Einstrahlung entstandene Reaktionsprodukte wie Ozon,
können so entweder ganz vermieden werden, da praktisch kein
Sauerstoff vorhanden ist, oder werden von der kontrollierten
Gasströmung aus der Bestrahlungskammer abgefördert. Das Ab
fördern läßt sich mit einer weiteren, anders gestalteten
und/oder symmetrisch gleichen Unterdruckkammer unterstützen.
Die kontrollierte Gasströmung kann zur Kühlung der UV-Be
strahlungsvorrichtung benutzt werden. Durch eine Veränderung
der Druckdifferenz zwischen Über- und Unterdruckkammer sowie
die Wahl des in die Überdruckkammer eingespeisten Gasge
misches läßt sich die Temperatur der UV-Lichtquelle beein
flussen. Der Arbeitspunkt der UV-Lichtquelle kann damit exakt
eingestellt werden und ermöglicht optimale Arbeitsbedingungen
und ein lange Lebensdauer der UV-Lichtquelle.
Weitere Einzelheiten und vorteilhafte Weiterbildungen der Er
findung ergeben sich aus den im folgenden beschriebenen und
in den Zeichnungen dargestellten, in keiner Weise als Ein
schränkung der Erfindung zu verstehenden Ausführungsbeispie
len. Es zeigen
Fig. 1 eine Vorderansicht eines bevorzugten Ausführungs
beispiels einer erfindungsgemäßen Vorrichtung,
Fig. 2 den Ausschnitt A aus Fig. 1 mit schematischer Dar
stellung von Strömungsprozessen,.
Fig. 3 den Ausschnitt B aus Fig. 1 mit schematischer Dar
stellung von Strömungsprozessen.
In Fig. 1 wird schematisch eine Vorderansicht einer UV-Be
strahlungsvorrichtung gezeigt. Schematisch wird die Funk
tionsweise des Verfahrens anhand von Strömungsrichtungen dar
gestellt und die dafür erforderlichen erfindungsgemäßen Be
standteile der UV-Bestrahlungsvorrichtung dargestellt. Die
Strömung von der Überdruckkammer (1) zur Unterdruckkammer (2)
ist durch Pfeile dargestellt. Innerhalb der Überdruckkammer
(1) befinden sich eine UV-Lichtquelle (3) und Spiegelelemente
(4) und (5). Unterhalb der Bestrahlungsvorrichtung wird eine
Substratbahn (8) mit der Geschwindigkeit uW (10) und einer
darauf befindlichem Beschichtung (9) aus Lack oder Klebstoff
hindurchgefahren. Diese Beschichtung (9) liegt am Eingang in
die Bestrahlungsvorrichtung (Ausschnitt A) zumindest teil
weise in flüssiger Form vor und verläßt die Bestrahlungsvor
richtung am Ausgang (Ausschnitt B) gehärtet.
Eine Absaugvorrichtung (7) stellt den Unterdruck in der Un
terdruckkammer (2) ein, während der Druckaufbau in der Über
druckkammer (1) über eine Einspeisung (6) eines von außen zu
geführten Gasgemisches erfolgt. Hierdurch stellt sich in der
Unterdruckkammer (2) bezogen auf den Umgebungsdruck ein Un
terdruck und in der Überdruckkammer (1) ein Überdruck ein.
Folglich bilden sich innerhalb der gesamten UV-Bestrahlungs
vorrichtung zwei unterschiedliche Druckniveaus aus, die für
die eingezeichneten Strömungsrichtungen sorgen.
In Fig. 2 wird der Ausschnitt A aus Fig. 1 vergrößert darge
stellt, wobei die Stromlinien von besonderer Bedeutung für
das Verständnis des Verfahrens sind. Im Mittelpunkt der Dar
stellung steht eine Kollisionskammer (14b). Die Kollisions
kammer (14b) ist zur oberhalb angeordneten Unterdruckkammer
(2) hin offen und wird an ihrer unteren Öffnung von der unter
ihr herlaufenden Substratbahn (8) begrenzt. Die Substratbahn
(8) mit der Beschichtung (9) bildet eine laminare Grenz
schicht (16) mit dem Geschwindigkeitsprofil uG aus. Das Maxi
mum von uG ist auf der Oberfläche der Beschichtung zu er
kennen, hier ist uG gleich uW.
Diese laminare Grenzschicht (16) fördert aufgrund ihrer
Sogwirkung Dampf, Gas und Kleinstpartikel in die UV-Be
strahlungsvorrichtung bis zur Kollisionskammer (14b). Dort
trifft die laminare Grenzschicht (16) auf das aus der Über
druckkammer (1) strömende Gasgemisch (18b) und läßt dort ei
nen Turbulenzballen (15b) entstehen. In dem Turbulenzballen
(15b) ist keine einheitliche Strömungsrichtung vorhanden, was
durch die kurzen ziellosen Strömungspfeile innerhalb des Tur
bulenzballens angedeutet ist. Die Kanalisierung des Turbu
lenzballens (15b) erfolgt durch die Unterdruckkammer (2), so
daß sämtliche Bestandteile, die sich innerhalb des Turbulenz
ballens (15b) befinden, zur Unterdruckkammer (2) abgesaugt
werden. Des weiteren ist der Eingang in die als Über
druckkammer (1) ausgebildete Bestrahlungskammer gezeigt, aus
dem das in die Bestrahlungskammer eingespeiste Gasgemisch
(18b) strömt. Das Gasgemisch (18b), das sich vorteilhaft
durch zudosiertes Inertgas auf die Härtungseigenschaften der
Beschichtung (9) auswirkt, legt sich als laminare Gasschicht
(17b) auf die Substratbahn (8), die von der laminaren Grenz
schicht (16) am Kollisionsbereich befreit wird. Somit wird
nun am Eingang in die Bestrahlungskammer eine neue Grenz
schicht (19) gebildet, die näher anhand von Fig. 3 erläutert
wird. Die laminare Gasschicht (17b) ist Bestandteil der
neuen Grenzschicht 19.
Im Mittelpunkt der Darstellung nach Fig. 3 steht ebenfalls die
Kollisionskammer (14c). Die Kollisionskammer (14c) ist zur
oberhalb angeordneten Unterdruckkammer (2) hin offen und wird
an ihrer unteren Öffnung von der unter ihr herlaufenden Sub
stratbahn (8) begrenzt. Die Substratbahn (8) mit der nunmehr
gehärteten Beschichtung (9) bewegt sich mit einer Geschwin
digkeit von uW und hat in der Bestrahlungskammer die neue
Grenzschicht (19) ausgebildet, die aus dem in die Überdruck
kammer (1) eingespeisten Gasgemisch sowie geringen Anteilen
an Schadstoffen besteht, wie bspw. Ozon, deren Entstehung ge
zielt von dem eingespeisten Gasgemisch vermieden beziehungs
weise auf ein Minimum reduziert wird. Das Ozon entsteht auf
grund von Sauerstoff, der trotz der in Fig. 2 gezeigten Maß
nahmen in die Bestrahlungskammer gelangt und durch die inten
sive UV-Bestrahlung zu Ozon umgewandelt wird.
Die neue Grenzschicht (19) erreicht die Kollisionskammer
(14c) und trifft dort auf die von außen stark angesaugte Um
gebungsluft (12). Auch hier entsteht beim Zusammenprall der
Gasströme ein Turbulenzballen (15c). Die Kanalisierung des
Turbulenzballens (15c) erfolgt ebenfalls durch die Unter
druckkammer (2), so daß sämtliche Bestandteile, die sich
innerhalb des Turbulenzballens (15b) befinden, zur Unter
druckkammer (2) abgesaugt werden. Schadstoffe in der neuen
Grenzschicht (19) gelangen so nicht in die Umgebungsluft (12)
und werden gezielt über die Unterdruckkammer (2) abgesaugt.
Auf die Substratbahn (8) legt sich am Ausgang aus der UV-Be
strahlungsvorrichtung wieder eine Luftgrenzschicht (20).
1
Überdruckkammer
2
Unterdruckkammer
3
UV-Lichtqulle
4
Spiegelelement
5
Spiegelelement
6
Einspeisung
7
Absaugvorrichtung
8
Substratbahn
9
Beschichtung
10
Geschwindigkeit (
8
)
11
b
12
Umgebungsluft
13
b, cGehäuse
14
b, cKollisionskammer
15
b, cTurbulenzballen
16
Grenzschicht
17
bGasschicht
18
bGasgemisch aus (
1
)
19
neue Grenzschicht
20
Luftgrenzschicht
Claims (11)
1. UV-Bestrahlungsvorrichtung zum Aushärten von Beschich
tungen, insbesondere Lacken, Klebstoffen und Druckfarben
mit mindestens einer in einer Bestrahlungskammer angeord
neten UV-Lichtquelle (3) und mindestens einem dieser UV-
Lichtquelle (3) zugeordneten Spiegelelement(4, 5) sowie
einer unter der UV-Bestrahlungsvorrichtung durchlaufenden
Substratbahn (8), dadurch gekennzeichnet, daß innerhalb
der UV-Bestrahlungsvorrichtung eine als Bestrahlungs
kammer ausgebildete Überdruckkammer (1) und mindestens
eine Unterdruckkammer (2) vorgesehen ist.
2. UV-Bestrahlungsvorrichtung nach Anspruch 1, dadurch ge
kennzeichnet, daß zwischen Über- und Unterdruckkammer (1,
2) zumindest eine mit der Unterdruckkammer (2) verbundene
Kollisionskammer (14b, 14c) angeordnet ist.
3. UV-Bestrahlungsvorrichtung nach Anspruch 2, dadurch ge
kennzeichnet, daß eine erste Kollisionskammer (14b) am
Eingang der durchlaufenden Substratbahn (8) in die UV-Be
strahlungsvorrichtung und eine zweite Kollisionskammer
(14c) am Ausgang der durchlaufenden Substratbahn aus der
UV-Bestrahlungsvorrichtung angeordnet ist.
4. UV-Bestrahlungsvorrichtung nach einem der vorhergehenden
Ansprüche dadurch gekennzeichnet, daß eine Absaugvorrich
tung (7) an der Unterdruckkammer (2) angeschlossen ist.
5. UV-Bestrahlungsvorrichtung nach einem der vorhergehenden
Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß zur Kühlung der
UV-Bestrahlungsvorrichtung eine Flüssigkeitskühlung vor
gesehen ist.
6. Verfahren zum Verhindern von Niederschlägen, bestehend
aus Dampf, Gas und Kleinstpartikeln, auf den Spiegelele
menten einer UV-Bestrahlungsvorrichtung nach einem der
vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet,
- 1. daß innerhalb der UV-Bestrahlungsvorrichtung eine kontrollierte Gasströmung von der Überdruck- zur Un terdruckkammer (1, 2) ausgebildet wird, in dem die Druckdifferenz zwischen der Überdruckkammer (1) und der Unterdruckkammer (2) eingestellt wird,
- 2. daß eine von der Substratbahn (8) mitgerissene Grenz schicht (16) aus Gas, Dampf und Kleinstpartikeln vor dem Eintritt in die Überdruckkammer (1) zumindest teilweise durch die kontrollierte Gasströmung abge löst und in die Unterdruckkammer (2) geleitet und von dort abgesaugt wird und
- 3. daß in der Überdruckkammer (1) entstehende Schad stoffe aus der Überdruckkammer (1) in die Unterdruck kammer (2) geleitet und von dort abgesaugt werden.
7. Verfahren nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, daß
mittels der Absaugvorrichtung (7) ein Unterdruck bezogen
auf den Umgebungsdruck in der Unterdruckkammer (2) einge
stellt wird und daß mittels der Einspeisung eines der
Überdruckkammer (1) von außen zugeführten Gases oder Gas
gemisches ein Überdruck in der Überdruckkammer (1) bezo
gen auf den Umgebungsdruck eingestellt wird.
8. Verfahren nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, daß
der Überdruckkammer (1) von außen ein Inertgas zudosiert
wird, das von dort über die beschichtete Substratbahn (8)
in die Unterdruckkammer (2) geleitet und von dort abge
saugt wird.
9. Verfahren nach einem der Ansprüche 6 bis 8, dadurch ge
kennzeichnet, daß die Druckdifferenz zwischen der Über
duckkammer (1) und der Unterdruckkammer (2) so einge
stellt wird, daß die kontrollierte Gasströmung mit der
Grenzschicht (16) in einem Bereich kollidiert, der sich
in der ersten Kollisionskammer (14b) befindet.
10. Verfahren nach Anspruch 8 oder 9, dadurch gekennzeichnet,
daß in der Überdruckkammer (1) eine Gasschicht (17b) auf
der Substratbahn (8) die zumindest teilweise abgelöste
Grenzschicht (16) ersetzt.
11. Verfahren nach einem der Ansprüche 6 bis 10, dadurch ge
kennzeichnet, daß die kontrollierte Gasströmung von der
Überdruck- zur Unterdruckkammer (1, 2) zur Kühlung des Ge
häuses (13b, 13c) und/oder der Spiegelelemente (4, 5)
und/oder der UV-Lichtquelle (3) verwendet wird.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE1998128266 DE19828266C1 (de) | 1998-06-25 | 1998-06-25 | Vorrichtung zum Verhindern von Dampf-, Gas- oder Kleinstpartikelniederschlägen auf den Spiegelelementen von UV-Bestrahlungsvorrichtungen sowie Verfahren zu deren Betrieb |
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DE1998128266 Expired - Fee Related DE19828266C1 (de) | 1998-06-25 | 1998-06-25 | Vorrichtung zum Verhindern von Dampf-, Gas- oder Kleinstpartikelniederschlägen auf den Spiegelelementen von UV-Bestrahlungsvorrichtungen sowie Verfahren zu deren Betrieb |
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