DEM0024073MA - - Google Patents
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Description
BUNDESREPUBLIK DEUTSCHLAND
Tag der Anmeldung: 9. August 1954 Bekanntgemacht am 4. Oktober 1956
DEUTSCHES PATENTAMT
Gegenstand der Erfindung ist ein Verfahren zur Umwandlung von SiCl-Bindungen in SiH-Bindungen
an solchen Siliciumatomen einer Siliciumverbindung, die keine oder nur eine SiH-Bindung aufweisen.
Bekanntlich läßt sich Tetrachlorsilan, SiCl4, bequem
zu Monosilan, SiH4, mittels Lithiumalanat, LiAlH4, umwandeln, was aber leider sehr kostspielig
ist.
Man hat ein billigeres Hydrogenierungsverfahren zu entwickeln versucht, nach dem auch chlorhaltige
Silane, insbesondere das Dichlorsilan, SiH2Cl2, aus
SiCl4 gewonnen werden können. So ist bekannt, SiCl4 durch Einwirkung von Wasserstoff bei erhöhter
Temperatur in Gegenwart eines Säureakzeptors, wie Zn, Al und Si, zu hydrogenieren. Dabei kann man
aber nur kleine Mengen SiHCl3 neben Spuren von SiH2Cl2 und Si2Cl6 erhalten. Die Hydrogenierung des
SiCl4 mit schlechten Ausbeuten nur bis zum SiHCl3
ist aber nicht interessant, da bekanntlich SiHCl3 mit mäßiger Ausbeute billiger hergestellt werden kann,
wenn Silicium in Gegenwart von Kupfer mit einem Gemisch von Clilorwasserstoffgas und Wasserstoff bei
2500 zur Reaktion gebracht 'wird. Dabei entsteht auch SiCl4 und sehr wenig.SiH2Cl2.
Neuerdings wurde bekannt, daß sich SiCl4 mittels
Formaldehyd in Gegenwart von Gamma-Al2 O3 in der
Gasphase bei 400° hydrogenieren läßt. Es wurden SiH2Cl2 und SiHCl3 erhalten. Da bei niedrigem
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Druck gearbeitet wird, ist die Raumzeitausbeute schlecht. Wegen der Möglichkeit spontaner Polymerisation
des Formaldehyds ist das Verfahren gefährlich. Da oberhalb der Zersetzungstemperatur
des Formaldehyds gearbeitet wird, geht infolge von Nebenreaktionen ein Teil des eingesetzten Formaldehyds
verloren. Höhere Ausbeuten an SiH2Cl2
sind nur bei schlechtem Umsatz des. SiCl4 erreichbar. Der Katalysator wird schnell inaktiv.
ίο Eine weitere bekannte Bildungsweise für das
SiH2Cl2 ist die Disproportionierung des SiHCl3. Die
SiH2Cl2-Ausbeute ist hierbei ebenfalls schlecht.
Tatsächlich hat man noch kein technisch brauchbares Verfahren zur Hydrogenierung von SiCl4 oder
SiHCl3 bis zum SiH2Cl2 zur Verfügung. Diese Verbindung
ist aber besonders interessant als Zwischenprodukt für die Herstellung von Polydialkylsiloxanen,
und ein billiges Verfahren zur Hydrogenierung des SiCl4 oder wenigstens des SiHCl3 zum SiH2Cl2 wäre
daher besonders wertvoll. Darüber hinaus besteht der Wunsch nach einem Verfahren, Si Cl-Bindungen auch
in anderen, insbesondere organisch substituierten Mono- oder Polysilanen oder -siloxanen billiger als
mit Lithiumalanat hydrogenieren zu können. Denn der Ersatz einer SiCl-Bindung durch eine SiH-Bindung
würde z. B. gestatten, Silanolierungen oder Siloxanierungen statt auf hydrolytischem Wege auch
auf oxydativem Wege vornehmen zu können. Außerdem vermögen SiH-Bindungen Olefine unter Bildung
von Silicium-Alkyl-Bindungen anzulagern.
Es wurde nun gefunden, daß man Silicium-Chlor-Bindungen
in SiH-Bindungen an solchen Siliciumatomen einer Siliciumverbindung, die Si Cl-Bindungen
und keine oder nur eine SiH-Bindung aufweisen, umwandeln kann, indem man diese Siliciumverbindung
bei erhöhter Temperatur, etwa bei 100 bis 4000, vorzugsweise 200 bis 3000, insbesondere in Gegenwart
von Friedel-Crafts-Katalysatoren, mit einer oder mehreren Siliciumverbindungen, die mindestens
zwei Si Η-Bindungen an einem Si-Atom aufweisen,
reagieren läßt.
Man kann , für diese Reaktion auch Siliciumverbindungen einsetzen, die zwei Siliciumatome im
Molekül enthalten, wobei das eine' Siliciumatom Si Cl-Bindungen und keine oder nur eine SiH-Bindung
aufweist und das andere Siliciumatom mindestens zwei SiH-Bindungen aufweist. Es findet dann eine
innermolekulare Austauschreaktion zwischen den SiCl- und den SiH-Bindungen statt.
Die Mitverwendung eines Friedel-Crafts-Katalysa^
tors ist für den schnellen Ablauf der Reaktion wichtig. Außerdem ist es vorteilhaft, in Druckgefäßen bei
hohen Füllungsgraden zu arbeiten.
Die erfindungsgemäße Reaktion ist eine dem Gleichgewicht
entsprechende Austauschreaktion zwischen SiCl- und SiH-Bindungen. Sie geht beispielsweise im
Falle der Hydrogenierung des SiGl4 mittels SiH4 zum
SiH2Cl2 nach folgender Gleichung vor sich:
SiCl4 + SiH4
2 SiH2Cl2.
Gleichzeitig entstehen SiHCl3 und SiH3Cl. Das
Gleichgewicht liegt weitgehend auf der Seite des Dichlorsilans, so daß es möglich ist, in einem Arbeitsgang
SiCl4 mit SiH4 praktisch restlos zu Chlorhydrogensilanen
umzusetzen. '
Man kann an Stelle von SiCl4 auch von SiHCl3
ausgehen, wenn man z. B. SiH2Cl2 herstellen will:
2 SiHCl3 + SiH4 » 3 SiH2Cl2. (2)
Der Bedarf an SiH4 ist dann geringer.
Nachdem SiH4 durch das Verfahren nach der
Patentschrift 926 069 bedeutend billiger und gefahrlos hergestellt werden kann als nach bisher bekannten
Methoden und die erfindungsgemäße Hydrogenierungsreaktion mittels Monosilan, vorzugsweise in
Gegenwart von AlCl3, glatt und praktisch ohne Bildung wertloser Nebenprodukte verläuft, ist somit
tatsächlich das lang gesuchte Hydrogenierungsverfahren gefunden worden.
Da nach dem erfindungsgemäßen Verfahren Chlorsilane ausgehend insbesondere von Monosilan erzeugt
werden, läßt es sich mit der bekannten Darstellungsweise der Chlorsilane durch Chlorierung des Monosilans
mittels HCl nach
SiH4 + HCl = SiH3Cl + H2
SiH4 + 2 HCl = SiH2Cl2 + H2
SiH4 + 2 HCl = SiH2Cl2 + H2
vergleichen. Ein wesentlicher Vorteil des erfindungsgemäßen Verfahrens ist der, daß nicht die gesamte
Menge des im Chlorsilan gebundenen Siliciums durch das verhältnismäßig teure Monosilan eingebracht
wird, sondern daß bei der Reaktion (1) nur die Hälfte des Siliciums aus Monosilan und bei der Reaktion (2)
nur ein Drittel aus Monosilan stammt und die restliche Menge des Siliciums durch das billige SiCl4
bzw. SiHCl3 eingebracht wird.
Daß die erfindungsgemäße Reaktion-so glatt verläuft,
ist überraschend. Man konnte nicht erwarten, daß das sehr stabile SiCl4 und das sehr labile SiH4
so leicht unter Austausch der Cl- und Η-Atome miteinander reagieren.
Überraschend ist es, daß auch das SiHCl3 der
Reaktion mit SiH4 zugänglich ist, da sich Siliciumchloroform
gegenüber den wasserstoffreicheren, gegebenenfalls chlorhaltigen Silanen durch eine wesentlich
größere Stabilität auszuzeichnen schien und da die wasserstoffreicheren, chlorhaltigen Silane bisher
bei allen Reaktionen, die bei erhöhter Temperatur arbeiteten, kaum anfielen.
Gelegentlich von Untersuchungen der Halogenierung des Monosilans durch Chlorwasserstöffgas wurde
bereits nebenbei erwähnt (Berichte der Deutschen Chemischen Gesellschaft, 52, 1919, S. 719 und 720),
daß sich das Monosilan nicht nur mit H Cl in Gegenwart von AlCl3 umsetzt zu SiH3Cl und SiH2Cl2 sowie sehr
wenig SiHCl3 und SiCl4, sondern daß auch das noch
nicht verbrauchte SiH4 seinerseits mit dem durch H Cl-Einwirkung auf SiH4 gebildeten SiH2Cl2 einer
gleichgewichtsmäßigen Umlagerung bei ioo° in Gegenwart
von AlCl3 unterliegt gemäß
SiHd + SiH9CL
2 SiH,Cl.
(3)
Es war damit aber keineswegs gesagt, daß sich Monosilan mit dem thermisch sehr viel beständigeren
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SiHGl3 oder gar SiCl4 umlagern würde. Man mußte
vielmehr vermuten, daß hierzu derart hohe Temperaturen nötig sind, daß das SiH4, SiH3Cl und SiH2Cl2
bereits thermisch vollständig und schnell zerfallen. Es ist also durchaus überraschend, daß die erfindungsgemäße
Umlagerung z.B. von 75g SiCl4 mit etwa
16 g SiH4 in Gegenwart von 5 g AlCl3 bei 3000 im
Druckgefäß von 200 ecm Inhalt in weniger als 4 Stunden weitgehend beendet war. Die ausgebrachten
chlorhaltigen Silane bestanden zu 17% aus SiH3Cl, zu 30% aus SiH2Cl2, zu 4O°/0 aus SiHCl3,
zu 13% aus SiCl4.
Etwas SiH4 war noch nicht umgesetzt, nur 11 H2
(Spaltwasserstoff) und ganz wenig einer festen, siliciumreichen Abscheidung wurden im Druckgefäß gebildet.
Selbstverständlich ist die nicht zum Gegenstand
vorliegender Erfindung gehörende Reaktion gemäß Gleichung (3) bei Durchführung des erfindungsgemäßen
Verfahrens als Folgereaktion kaum auszuschließen.
Die bekannte Reaktionsmöglichkeit (3) befaßt sich im übrigen gar nicht mit der Darstellung von SiH2Cl2.
Die Herstellung dieser Verbindung ist aber eine besonders wichtige durch die vorliegende Erfindung
gelöste Aufgabe. In bekannter Weise kann durch Äthylenanlagerung das SiH2Cl2 z.B. in Diäthyldichlorsilan
verwandelt und hieraus leicht PoIydiäthylsiloxan hergestellt werden.
Ohne Al Cl3 verläuft die erfindungsgemäße Reaktion
langsam. Die Beschleunigung durch AlCl8 ist sehr bedeutend, wenn die AlCl3-Menge nicht zu gering ist.
Statt Al Cl3 können auch andere Aluminiumhalogenide, die Halogenide des Bors sowie andere Friedel-Crafts-Katalysatoren
eingesetzt werden. AlCl3 ist jedoch besonders wirksam, bequem anzuwenden und am
billigsten.
Das zu hydrogenierende Ausgangsmaterial ist vorzugsweise SiCl4, da dieses die billigste und überall
erhältliche, flüchtige Siliciumverbindung ist. In zweiter Linie kommt SiHCl3 in Betracht. Aber auch
Si2Cl6 oder sonstige chlorhaltige Silane, auch organosubstituierte
mit oder ohne Si Si-Bindungen, sind der Hydrogenierung an den Si Cl-Bindungen zugänglich.
Die Erfindung beschränkt sich auf solche chlorhaltigen Silane als Ausgangsstoff, die höchstens eine SiH-Bindung
je Siliciumatom aufweisen. Vorzugsweise werden chlorhaltige Silane mit zwei Si Η-Bin düngen
je Siliciumatom hergestellt. .
Hydrogenierend vermögen z. B. SiH4, SiH3Cl,
SiH2Cl2 und Si2H6 zu wirken. SiH3Cl reagiert beispielsweise
mit SiCl4 gemäß
SiCl4 + 2 SiH3Cl
3 SiH2Cl2
und vermag daher SiH4 ganz oder teilweise zu ersetzen.
Das SiH3Cl fällt als Nebenprodukt bei der Umsetzung von SiCl4 mit SiH4 an.
Ein Beispiel für die Hydrogenierung einer siliciumorganischen Verbindung ist folgendes:
(CHg)2SiCl2 + SiH3Cl >
(CH3)2SiHCl + SiH2Cl2
und
2 (CH3)2SiCl2 + SiH3Cl
> 2 (CH3)2SiHCi+ SiHCl3.
Solche Produkte wie das Dimethylhydrogenchlorsilan fallen bei der Synthese nach Rochow (Si, Cu
+ CH3Cl + H2) an und wurden bisher durch Grignardierung
aus SiHCl3 und CH3MgBr gewonnen. Beide
Verfahren sind kostspielig. Das erste, weil das Dimethylhydrogenchlorsilan nur in sehr geringer Menge
entsteht, das zweite, weil viel Magnesium benötigt wird.
Die erfindungsgemäße Reaktion läßt sich auch ohne Anwendung von Druck und z.B. kontinuierlich durchführen.
Zur weiteren Erläuterung der Erfindung seien einige Versuche näher beschrieben:' ■ .
In ein 50 ecm fassendes Druckgefäß aus V2A-Stahl wurden 15 ecm SiCl4 und 81 Si H4-C H4-GeHUScIi,
SiH4: CH4 = 1:1, gebracht. Das CH4 wurde zugegeben,
um die Selbstentzündlichkeit des SiH4 herabzusetzen. (Da kein Kompressor zur Verfügung
stand, wurde das SiH4-CH4-Gemisch unter Luftausschluß
in einem mit flüssigem Stickstoff gekühlten Glasgefäß kondensiert, dieses dann offen in das
Druckgefäß gebracht und das Druckgefäß rasch verschlossen. An dem kalten Gefäß mit SiH4 kondensierte
immer etwas Wasser aus der Luft.) Das-Druckgefäß wurde 20 Stunden lang auf 3000 erhitzt (Druck bei
3000 = 150 Atm.).
Beim Ablassen des Druckgefäßes wurde das Gas durch eine mit flüssigem Stickstoff gekühlte Falle
geleitet. CH4, SiH4 sowie Cl-Silane kondensieren in
der Falle, nur der durch Si H4-Zersetzung entstandene H2 geht durch. Es wurden 1,5 1 H2 gemessen.
Die Falle wurde auf — 8o° temperiert. SiH4 und
CH4 entweichen. In dem zurückbleibenden Kondensat wurde der H bestimmt. Es enthält 0,016 °/0 H.
An der Druckgefäßwand hatte sich Si abgeschieden.
Derselbe Versuch wurde mit AlCl3-Zusatz wiederholt.
Es wurden etwa 2 g reines AlCl3 zugesetzt. Das Kondensat von diesem Versuch war leichtflüchtig
und wurde bei niedrigem Druck (2 bis 3 mm Hg) in fünf Fraktionen geteilt:
1. Fraktion
bei — 80° abdestilliert , 0,96 g
Tension bei — 6o° 150,0 mm Hg
2. Fraktion
bei — 6o° abdestilliert 3,33 g
Tension bei — 60° 40,0 mm Hg
3. Fraktion
bei — 500 abdestilliert 5,98 g
Tension bei 0° 400,0 mm Hg
4. Fraktion
bei — 400 abdestilliert 4,97 g
Tension bei 150 430,0 mm Hg
Rest 0,41 g
Tension bei 150 400,0 mm Hg
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Aus den bekannten Dampf drucken der Cl-Silane
kann die Zusammensetzung der einzelnen Fraktionen geschätzt werden:
1. Fraktion 87% SiH3Cl 0,835 g
13% SiH2Cl2 .. 0,125 g
2. Fraktion 18% SiH3Cl 0,59 g
82% SiH2Cl2 2,71 g
3. Fraktion 20% SiH2Cl2 1,20 g .
80% SiHCl3 4.78 g
4. Fraktion
und Rest 100% SiHCl3 5.38 g
15.62 g
Etwa 5 g des Kondensats sind verlorengegangen.
Das Kondensat enthält also 8% SiH3Cl, 26%
SiH2Cl2, 66% SiHCl3.
Bei diesem Versuch war in deni Druckgefäß ein
rotes Pulver, das beim Erhitzen (schwache Rotglut) graubraun wird (Si). Mit NaOH entwickelt dieses
Pulver H2, 0,04 g davon geben mit NaOH 14 ecm H2.
Es ist ein Gemisch von SiO2 (aus SiCl4 und dem
mit dem SiH4 eingebrachten H2O) und Si.
Es wurden etwa 3 g von diesem Gemisch gefunden («*p,7g Si). >
Um aussagen zu können, wie weit die Reaktion zwischen SiH4 und SiCl4 in einigen Stunden bei 300°
und 100 Atm. Druck (bei 300 °) geht, wurden größere Mengen zur Umsetzung gebracht.
In eine 200 ecm fassende Schüttelbombe wurden 5 g reines AlCl3, 50 ecm SiCl4 und 12 1 SiH4 (ohne
CH4) gebracht. (Das SiH4 wurde wie bei dem zuerst
beschriebenen Versuch unter Luftausschluß kondensiert.) Die Schüttelbombe wurde 4 Stunden bei 3000
geschüttelt, dann das Gas in eine mit flüssigem Stickstoff gekühlte Falle abgelassen. Es kondensiert alles
außer H2. Es wurde 1 1 H2 gemessen (Si-Abscheidung
im Druckgefäß). Die Falle mit Cl-Silanen wird auf —1500 temperiert und abgesaugt. Es entweicht
SiH4 und HCl. Der Rest wird wieder durch Destillation
bei niedrigem Druck in fünf Fraktionen geteilt.
Fraktion | Destillations temperatur |
Tension bei — 60° in mm Hg |
Menge | Menge H2, die aus 100 mg Kondensat bei Zersetzen mit NaOH entsteht |
I II III IV Rest |
0000 0000 OO Cv IO H I . |
160 22 16 . 620 bei + 20° 360 bei 20° |
9.7 g 10,2 g 10,2 g 8,3 g 55.5 g |
84 Neon 39 - 30 - 14 - (etwa 5 g Verlust) |
Zusammensetzung der einzelnen Fraktionen
Nach den gefundenen Tensionen geschätzt |
Nach der entstandenen H2-Menge bei der Zersetzung mit NaOH berechnet |
|
I | 90 ο/« SiH3Cl 10% SiH2Cl2 |
70% SiH3Cl -30% SiH2Cl2 |
II | 100% SiH2Cl2 | 80% SiH2Cl2 20% SiHCl3 |
III | 75% SiH2Cl2 1 25% SiHCl3 |
50% SiH2Cl2 50% SiHCl3 |
IV | 100% SiHCl3 | 85% SiHCl3 15% SiCl4 |
Rest | 30% SiHCl3 | 100% SiCl4 |
Das Kondensat enthält also etwa 17% SiH3Cl,
30% SiH2Cl2, 40% SiHCl3, 13% SiCl1..
. Auch bei Normaldruck reagiert bei Anwesenheit von AlCl3 SiH4 mit SiCl4.
Zum Beispiel setzt sich SiH4 und SiCl4 im Molverhältnis
ι: i, in ein Glasgefäß gebracht, in 4 Stunden bei 300° zum größten Teil um. In dem Glasgefäß
(11 Volumen) war ig AlCl3. Es blieben 1% der
angewandten SiCl4-Menge und Spuren SiH4 unverändert.
Auch hier entsteht H2 und Si durch SiH4-Zersetzung.
Nach der gefundenen H2-Menge hatten sich 8% des angewandten SiH4 nach der Gleichung
SiH4 > Si + 2 H2 zersetzt.
Bei 24 stündigem Erhitzen hatten sich nach der gefundenen H2-Menge 20% des angewandten SiH4
zersetzt. Die Reaktionsprodukte wurden, wie bei den obigen Versuchen, unter vermindertem Druck fraktioniert.
Es wurden gefunden 6,4% SiH3Cl, 43,6% SiH2Cl2,
48% SiHCl3, 2% SiCl4 (nach der durch NaOH-Zersetzung
entstandenen H2-Menge berechnet).
Methyltrichlorsilan, wie es bekanntlich als hauptsächliches Nebenprodukt bei der Erzeugung von
Dimethyldichlorsilan aus Silicium und Methylchlorid entsteht, wird mit einer äquimolaren Menge Monochlorsilan
6 Stunden auf 250° in Gegenwart von Borfhiorid erhitzt. Das flüssige Reaktionsprodukt wird
durch Rektifikation zerlegt. Es besteht zu 30% aus Monomethyldichlorsilan, etwa 40 % Dichlorsilan, 10 %
Monomethylmonochlorsilan, ferner Dimethyldichlor-
555/152
M 24073 IVa/12 i
silan und Tetrachlorsilan sowie etwas nicht umgesetztes
Methyltrichlorsilan.
i-Methyl-i, ι -dichlor^-äthyl-disiloxan
Cl H
CH, — Si — O — Si — C9H,
Cl H
wird mit io °/0 wasserfreiem Aluminiumchlorid versetzt
und 24 Stunden auf 2000 erhitzt. Es entsteht das i-Methyl-i, 2-dichlor-2-äthyl-disiloxan
Cl H
CH, — Si — O — Si — C0H
2H5
H Cl
Die Viskositäten der Hydrolyseprodukte von I: II verhalten
sich wie 76:53.
Claims (5)
- PATENTANSPRÜCHE:i. Verfahren zur Umwandlung von Si Cl-Bindungen in SiH-Bindungen, dadurch gekennzeichnet, daß man Siliciumverbindungen, die Si Cl-Bindungen und keine oder nur eine SiH-Bindung aufweisen, bei erhöhter Temperatur, etwa bei 100 bis 4000, vorzugsweise 200 bis 3000, insbesondere in Gegenwart von Friedel-Crafts-Katalysatoren, entweder allein oder zusammen mit einer oder mehreren Siliciumverbindungen, die mindestens zwei SiH-Bindungen aufweisen, reagieren läßt.
- 2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß Siliciumtetrachlorid oder Süiciumchloroform (SiHCl3) mit Monosilan oder SiH3Cl zu SiH2Cl2 umgesetzt' wird.
- 3. Verfahren nach Anspruch r, dadurch gekennzeichnet, daß nur eine Siliciumverbindung, die zwei Siliciumatome enthält, wobei das eine Siliciumatom Si Cl-Bindungen und keine oder nur eine SiH-Bindung und das andere Siliciumatom mindestens zwei SiH-Bindungen aufweist, umgesetzt wird. .
- 4. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß ein Aluminiunlchloridkatalysator verwendet wird.
- 5. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß die Reaktion im Druckgefäß bei hohem Füllungsgrad durchgeführt wird.In Betracht gezogene Druckschriften:USA.-Patentschrift Nr. 2 627 451.
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