DE927347C - Elektronenstrahlroehre mit elektrostatischem Ablenksystem - Google Patents

Description

• Elektronenstrahlröhre mit elektrostatischem Ablenksystem Die Erfindung betrifft eine Elektronenstrahlröhre mit elektrostatischem Ablenksystem. Bei derartigen Röhren tritt im allgemeinen bei Verwendung von rechteckförmig ausgebildeten Ablenkplatten durch das schirmnahe Ablenksystem die sogenannte Kissenverzeichnung auf, die dadurch hervorgerufen wird, daß der Elektronenstrahl in ausgelenlctem Zustand längere Zeit durch das schirmnahe Ablenksystem läuft als im nicht ausgelenkten Zustand. Er wird daher an den Rändern des Ablenksystems stärker ausgelenkt.
• Zur Vermeidung bzw. zur Verringerung dieser Kissenverzeichnung ist es bereits bekannt, die schirmnahen Ablenkplatten an der dem Schirm zugekehrten Seite so stark abzurunden, daß der Elektronenstrahl sie bei Auslenkung aus der Röhrenachse nicht länger durchläuft, als wenn er nicht ausgelenkt wäre. DieseAbrundung der schirmnahen Kanten des schirmnahen Ablenksystems besitzt jedoch den Nachteil, daß man dadurch eine Vergrößerung des Trapezfehlers, also jenes Fehlers, der bei unsymmetrischer Ablenkung des schirmnahen Ablenkplattenpaares auftritt, bewirkt. Den Trapezfehler kann man zwar durch unsymmetrische Ausbildung der schirmnahen Ablenkplatten wieder beseitigen, man nimmt dann aber den Nachteil in Kauf, daß eine in dieser Weise ausgebildete Röhre nur für unsymmetrische Ablenkung des schirmnahen Ablenkplattenpaares brauchbar ist, weil man bei symmetrischer Ablenkung gerade durch die unsymmetrische Ausbildung der Ablenkplatten erneut einen Trapezfehler erhalten würde.
• Zur Beseitigung dieses Nachteiles wird bei Anwendung des obenerwähnten bekannten Vorschlages, wonach zur Vermeidung einer Kissenverzeichnung das schirmseitige Ablenksystem derart ausgebildet werden soll, daß -die auf den Elektronenstrahl einwirkende Ablenkfeldstärke um so geringer ist, je weiter der Strahl aus der Röhrenachse ausgelenkt wird, gemäß der Erfindung vorgeschlagen, das schirmnahe Ablenksystem derart auszubilden, daß die das System umgebenden Elektroden keinen merkbaren Durchgriff auf diejenigen Stellen innerhalb des Ablenksystems haben, an denen im wesentlichen die Feldverminderung eintritt. Die für das Entstehen eines Trapezfehlers verantwortlichen Stellen der schirmnahen Ablenkplatten werden also gegenüber den die Ablenkplatten umgebenden Elektroden abgeschirmt.
• Für die Ausführung der Erfindung gibt es verschiedene Ausführungsmöglichkeiten, von denen einige in der Zeichnung dargestellt sind. In Abb. i und 2 ist zunächst in zwei zueinander senkrecht liegenden Schnitten eine Ausführungsform dargestellt, bei der das schirmnaheAblenksystem praktisch aus zwei Ablenkplattenpaaren besteht, die sich im Innern des nur schematisch dargestellten Röhren@hal@ses i befinden. Diese beiden Ablenkplattenpaare sind in den Abb. i und 2 mit 4 und 5 bezeichnet. Das Ablenkplattenpaar 4 besitzt abgerundete Kanten an der Strahleintrittsseite und nach einer anderen Funktion abgerundete Kanten an der Strahlaustrittsseite. Die erste Abrundung dient der Herabsetzung des Trapezfehlers, die zweite Abrundung der Herabsetzung bzw. der Vermeidung der Kissenverzeichnung. Diese Strahlaustrittskante des Plattenpaares 4 ist nahezu vollständig von den Ablenkplatten 5, die sich in größerem Abstand voneinander befinden und im übrigen parallel zu den Ablenkplatten 4 angeordnet sind, abgedeckt. Die, Strahlaustrittskante ist damit gegenüber den das Ablenkplattenpaar umgebenden Elektroden, beispielsweise einem auf der Innenwand des Röhrenhalses i .angeibrachten, auf Anodenpotential liegenden leitenden Belag, abgeschirmt. Die einander entsprechenden Platten der Plattenpaare 4 und 5 sind innerhalb der Röhre elektrisch leitend miteinander verbunden. Diese Verbindung kann so ausgebildet sein, daß sie gleichzeitig eine mechanische Halterung bedeutet, so daß lediglich die Platten 5 innerhalb des Röhrenhalses zu halten und abzustützen sind. In den Abb. i und :2 sind noch das kathodennahe Ablenkplattenpaar 2 und eine zwischen diesem Ablenkplattenpaar und dem schirmnahen Ablenkplattenpaar angeordnete Schlitzblende3 dargestellt. Abb. 3 zeigt im Schnitt und in Ansicht eine Platte des schirmnahen Ablenkplattenpaares, die aus einem Stück hergestellt ist und sowohl die eigentliche Ablenkplatte als auch die Abschirmplatte enthält. 'Die Ablenkplatte ist mit 7, die Abschirmplatte mit 6 bezeichnet. Diese Platte kann durch einen Drückvorgang aus einer ebenen Platte hergestellt werden.

Claims (4)

1. PATENTANSPRÜCHE: i. Elektronenstrahlröhre mit elektrostatischem Ablenksystem, bei der zur Vermeidung einer Kissenverzeichnung das schirmseitige Ablenksystem derart ausgebildet ist, daß die auf den Elektronenstrahl einwirkende Ablenkfeidstärke um so geringer ist, je weiter der Strahl aus der Röhrenachse ausgelenkt wird, dadurch gekennzeichnet, daß das Ablenksystem derart ausgebildet ist, daß die das System umgebenden Elektroden keinen merkbaren Durchgriff auf diejenigen Stellen innerhalb des Ablenksystems haben, an denen im wesentlichen die Feldverminderung eintritt.
2. 2. Elektronenstrahlröhre nach Anspruch i, dadurch gekennzeichnet, daß die Platten des schirmnahen Ablenksystems (4) gegenüber den das Ablenksystem umgebenden Elektroden durch zusätzliche, auf gleichem Potential liegende Platten (5) abgeschirmt sind.
3. 3. Elektronenstrahlröhre nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Ablenkplatten (4) in die von .den zusätzlichen Platten (5) gebildeten Räume hineinragen und daß jeweils entsprechende Platten beider Plattenpaare elektrisch leitend miteinander verbunden sind.
4. 4. Einrichtung nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, däß die Abschirmplatten (6) und die eigentlichen Ablenkplatten (7) eine mechanische Einheit bilden und daß letztere durch entsprechende Verformung derAbschirmplatten aus diesen z. B. mit Hilfe eines Drückwerkzeuges ausgedrückt sind.