DE9100081U1 - Zahntechnisch-prothetische Halbpassungen als Schichtkörper mit korrosionswidriger Oberflächenausrüstung der Funktionsflächen - Google Patents
Zahntechnisch-prothetische Halbpassungen als Schichtkörper mit korrosionswidriger Oberflächenausrüstung der FunktionsflächenInfo
- Publication number
- DE9100081U1 DE9100081U1 DE9100081U DE9100081U DE9100081U1 DE 9100081 U1 DE9100081 U1 DE 9100081U1 DE 9100081 U DE9100081 U DE 9100081U DE 9100081 U DE9100081 U DE 9100081U DE 9100081 U1 DE9100081 U1 DE 9100081U1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- metal
- percent
- approx
- silicide
- fit
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 27
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 27
- 229910021332 silicide Inorganic materials 0.000 claims description 14
- FVBUAEGBCNSCDD-UHFFFAOYSA-N silicide(4-) Chemical compound [Si-4] FVBUAEGBCNSCDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 claims description 9
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 claims description 9
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 claims description 9
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 claims description 7
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims description 6
- 238000005755 formation reaction Methods 0.000 claims description 6
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 6
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 claims description 6
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N silicon monoxide Chemical compound [Si-]#[O+] LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 206010010144 Completed suicide Diseases 0.000 claims description 4
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000000956 alloy Substances 0.000 claims description 4
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 claims description 4
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 claims description 4
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 150000001342 alkaline earth metals Chemical class 0.000 claims description 3
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000011651 chromium Substances 0.000 claims description 3
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 claims description 3
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 claims description 3
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 2
- 238000011534 incubation Methods 0.000 claims description 2
- 229910001507 metal halide Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 claims description 2
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000010970 precious metal Substances 0.000 claims description 2
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M Fluoride anion Chemical compound [F-] KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims 1
- PNTWXEIQXBRCPS-CLKGFSLHSA-N Pd-II Natural products C1=CC(=O)OC2=C3[C@H](OC(=O)C(/C)=C/C)[C@H](OC(=O)C(\C)=C\C)C(C)(C)OC3=CC=C21 PNTWXEIQXBRCPS-CLKGFSLHSA-N 0.000 claims 1
- 229910001508 alkali metal halide Inorganic materials 0.000 claims 1
- 150000008045 alkali metal halides Chemical class 0.000 claims 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 19
- 238000000034 method Methods 0.000 description 10
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 3
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 3
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 3
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 2
- 239000003564 dental alloy Substances 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 2
- PQXKHYXIUOZZFA-UHFFFAOYSA-M lithium fluoride Chemical compound [Li+].[F-] PQXKHYXIUOZZFA-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 238000005240 physical vapour deposition Methods 0.000 description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 2
- -1 titanium group metals Chemical class 0.000 description 2
- 229910052580 B4C Inorganic materials 0.000 description 1
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NRTOMJZYCJJWKI-UHFFFAOYSA-N Titanium nitride Chemical compound [Ti]#N NRTOMJZYCJJWKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 1
- INAHAJYZKVIDIZ-UHFFFAOYSA-N boron carbide Chemical compound B12B3B4C32B41 INAHAJYZKVIDIZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 description 1
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 230000004069 differentiation Effects 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 238000005868 electrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 1
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010439 graphite Substances 0.000 description 1
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 1
- 238000002372 labelling Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- RJSRQTFBFAJJIL-UHFFFAOYSA-N niobium titanium Chemical class [Ti].[Nb] RJSRQTFBFAJJIL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- JRTYPQGPARWINR-UHFFFAOYSA-N palladium platinum Chemical compound [Pd].[Pt] JRTYPQGPARWINR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PIBWKRNGBLPSSY-UHFFFAOYSA-L palladium(II) chloride Chemical compound Cl[Pd]Cl PIBWKRNGBLPSSY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000007750 plasma spraying Methods 0.000 description 1
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 230000002393 scratching effect Effects 0.000 description 1
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005476 soldering Methods 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C30/00—Coating with metallic material characterised only by the composition of the metallic material, i.e. not characterised by the coating process
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61C—DENTISTRY; APPARATUS OR METHODS FOR ORAL OR DENTAL HYGIENE
- A61C13/00—Dental prostheses; Making same
- A61C13/225—Fastening prostheses in the mouth
- A61C13/265—Sliding or snap attachments
- A61C13/2653—Sliding attachments
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61K—PREPARATIONS FOR MEDICAL, DENTAL OR TOILETRY PURPOSES
- A61K6/00—Preparations for dentistry
- A61K6/20—Protective coatings for natural or artificial teeth, e.g. sealings, dye coatings or varnish
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61K—PREPARATIONS FOR MEDICAL, DENTAL OR TOILETRY PURPOSES
- A61K6/00—Preparations for dentistry
- A61K6/80—Preparations for artificial teeth, for filling teeth or for capping teeth
- A61K6/84—Preparations for artificial teeth, for filling teeth or for capping teeth comprising metals or alloys
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61K—PREPARATIONS FOR MEDICAL, DENTAL OR TOILETRY PURPOSES
- A61K6/00—Preparations for dentistry
- A61K6/80—Preparations for artificial teeth, for filling teeth or for capping teeth
- A61K6/84—Preparations for artificial teeth, for filling teeth or for capping teeth comprising metals or alloys
- A61K6/844—Noble metals
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C10/00—Solid state diffusion of only metal elements or silicon into metallic material surfaces
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C4/00—Coating by spraying the coating material in the molten state, e.g. by flame, plasma or electric discharge
- C23C4/04—Coating by spraying the coating material in the molten state, e.g. by flame, plasma or electric discharge characterised by the coating material
- C23C4/10—Oxides, borides, carbides, nitrides or silicides; Mixtures thereof
Landscapes
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Oral & Maxillofacial Surgery (AREA)
- Veterinary Medicine (AREA)
- Animal Behavior & Ethology (AREA)
- Public Health (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Epidemiology (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Plastic & Reconstructive Surgery (AREA)
- Dentistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Dental Preparations (AREA)
Description
Dr. Giselher Wall Luawigstr. 13
Arzt Zahnarzt D-8730 Bad Kissinyen
Anmelder Code-Nr 37 808 48
Titel:
Zahntechnisch-prothetische Halbpassungen als Schichtkörper mit korrosionswidriger Oberflächenausrüstung der Funktionsflächen.
Die Erfindung betrifft eine zahntechnisch-prothetische Halbpassung, die
durch eine korrosionswidrige Beschichtung ihrer Funktionsfläche als Schichtkörper ausgebildet ist.
Bewegliche Passungen, wie sie als Halteelemente für herausnehmbaren, oder
geteilten festsitzenden Zahnersatz in vielfältigster spezieller Gestaltung der Raumform Einsatz finden, sind im Ionenleitermilieu des Mundes durch
Spaltkorrosion in ganz besonderem Maße gefährdet. Der hierfür ursächliche Spalt ist an derartigen zahntechnischen Konstruktionselementen aber
unverzichtbares, funktionelles Kennzeichen. Auch anderenorts hochgradig korrosionsfeste Metalle und Legierungen können auf Passungsflächen durch
die Einwirkungen eines Sauerstoffdiffusionsgradienten längs des
Dr. Giselher Wall Lud'vigstr, IS
Arzt Zahnarzt D-8730 Bad Kissiiujen
Anmelder Code-Nr 37 808 48
Passungsspaltes empfindliche Korrosionsschäden erleiden. Notwendig ist
daher der Schutz der Passungsflächen vor einem direkten Kontakt mit dem Mundmilieu. Aufgrund der räumlichen Beengtheit sowie der teils auf
ahntechnischen Passungsflächen lastenden Reibungskräften sind bei
traditionell hergestellten Geschiebeteilen als Schutzschichten nur dünne und hochverschleißfeste Schichten anwendbar.
Inzwischen kennt auch die Zahnheilkunde nach PVD- oder CVD-Methoden
aufgetragene Schichten, zumeist aus Titannitrid, Titanniobverbindungen, wie auch den Nitriden der übrigen Titangruppenmetallen oder Aluminiumoxid, die
freien Zahnersatzoberflächen neben einem verbesserten ästhetischen Aussehen
auch eine höhere Korrosionsfestigkeit verleihen sollen.
Leider haben sich die anfangs in die mechanische Beständigkeit solcher
Schichten gesetzten Hoffnungen nur zum Teil erfüllt. Die Beständigkeit gegen instrumenteHe Kratzeffekte ist oft geringer, als vermutet; einmal
gesetzte Defekte können durch eine hier lokal erhöhte Dichte des Korrosionsstromes zu verstärkten örtlichen Korrosionseffekten wie auch
nachfolgenden Abplatzungen führen, so daß die bisher in der Zahnheilkunde bekannten Schichtbildungen für die besondere Anwendung auf den
Geschiebeflächen von Zahnersatzankern, wie Konus- und Teleskopkronen, Geschieben, Stegen oder Riegeln ungeeignet sind. Hinzu kommt noch das teils
verfahrensbedingte Unvermögen der apparativen Ausrüstungen, die teils sehr komplizierten Raumformen solcher Passungsflächen allerseits gleichmäßig auf
rationellem Wege zu erreichen.
Dr. Giselher Wall Ludwirjstr IB
Arzt Zahnarzt D-8730 Bad Klssingen
Anmelder Code-Nr 37 808 48
Die technische Aufgabe besteht in der Schaffung einer als Schichtkörper
ausgebildeten primären,sowie sekundären zahntechnisch-prothetischen
Halbpassung aus einer edlen oder alternativ edelmetallfreien Legierung die oberflächlich aus einem korrosionswidrigen und verschleißfesten Stoff
besteht.
Die technische Aufgabe wird gelöst durch Ausbildung einer zahntechnisch-prothetischen primären, wie auch der zugehörigen sekundären
Halbpassung als Schichtkörper, bei welchem das Corpus (Fig. 1, a) aus einer edlen oder edelmetallfreien Dentallegierung besteht, die dem Passungsspalt
zugekehrte Oberfläche, die Funktionsfläche (Fig. 1, b) jedoch aus einer der nachfolgenden Komponenten gebildet wird:
a. aus einem Metallsilizid
b. aus einem Metallborid
c. aus einem Metallcarbid
d. aus einem Nitrid der Metalle Tantal, Chrom, Molybdän und Wolfram.
e. tri- und polynäre Mischphasenbildung zwischen a. bis d.
Dabei treten als Metalle in den Klassifikationen a.und b. Elemente der
III. bis VIII.(beide eingeschlossen) Nebengruppen des Periodischen Systems
Dr. Giselher Wall Ludwigsti. 18
Arzt Zahnarzt D-8730 Bad Kissingen
Anmelder Code-Nr 37 808 48
der Elemente auf; in der Klassifikation c. treten als Metalle die Elemente
der IV. bis VII. Nebengruppe des Periodensystems der Elemente auf.
Die Dicke der eine Funktionsfläche bedeckenden, erfindungsgemäßen Silizid-, Borid-, Carbid- oder Nitridschicht
liegt zwischen etwa 5 und 100 Mikrometern, beträgt bevorzugt zwischen 10
und 20 Mikrometern.
Der erfindungsgemäße Schichtkörper ist hergestellt durch Auftrag einer
Schicht nach a. bis e. auf das Passungscorpus, sowie auch durch Eintragen
einer Schicht in die ursprüngliche Oberfläche des Passungscorpus, wobei die
Metallbestandteile des Corpus selbst als Metallpartner der Schichtbildner Bor, Silizium und Kohlenstoff auftreten können.
Der Grundkörper des erfindungsgemäßen Schichtkörpers besteht aus einer
edlen oder alternativ edelmetallfreien Legierung und folgt in seiner speziellen Raumform jeweils der zweckentsprechenden Ausbildungsvariante des
zugrunde liegenden, bekannten Patrizen-Matrizen-Prinzips einer beweglichen
Dr. Giselher Wall Ludwigstr 18
Arzt Zahnarzt D-8730 Bad Kissingen
Anmelder Code-Nr 37 808 48
Passung, bzw. eines Riegelmechanismus. Stets gehören also zwei
erfindungsgemäß gestaltete Halbpassungen zu einer einzigen funktioneilen Passungseinheit zusammen.
Kennzeichen der erfindungsgemäßen Halbpassung und Abgrenzung gegenüber dem
Stand der Technik ist jedoch der dauerhaft mehrschichtige Aufbau beider zueinander gehörigen Passungspartner durch Ausbildung ihrer funktioneilen
Oberflächen (Geschiebeflächen) als korrosionswidrige Schicht.
Die korrosionswidrige Oberflächenschicht ist mit einer Dicke von etwa 5 bis
etwa 100 Mikrometer in das Passungscorpus ein-, oder auf dasselbe aufgetragen und besteht mindestens aus einem Silizid oder Borid der
Metalle der Nebengruppen drei bis acht des periodischen Systems der Elemente, einem Carbid der Metalle der Nebengruppen vier bis sieben des
periodischen Systems der Elemente oder einem Nitrid der Metalle Tantal, Molybdän, Chrom, Wolfram, wobei in Verbindung mit einem Edelmetallcorpus
bevorzugt die Suizide und Boride von Palladium oder Platin eingesetzt
werden.
Die äußere Umrißform der erfindungsgemäßen zahntechnisch-prothetischen
Halbpassung folgt dem bekannten Prinzip des Aufbaues einer beweglichen
Dr. Giselher Wall Ludwigstr. 18
Arzt Zahnarzt D-8730 Bad Kissingen
Anmelder Code-Nr 37 808 48
Passung aus Matrize und Patrize, bzw. Riegelanker und Riegelbett oder
Rotationsachse und Achslager und richtet sich nach den jeweiligen, speziellen räumlichen, wie funktioneilen Erfordernissen. Stellvertretend
und beispielhaft ist in Fig. 2 eine intracoronale Geschiebepassung, in Fig. 3 eine Konuskronenpassung dargestellt. Stets gehören also mindestens
zwei der erfindungsgemäß hergestellten Halbpassungen zu einer funktionierenden Einheit zusammen.
Das Corpus (Fig. 1 a) der erfindungsgemäß als Schichtkörper ausgebildeten
Halbpassung wird traditionell aus einer edlen oder edelmetallfreien Dentallegierung hergestellt. Besonders bevorzugt ist hierbei ein
Aufgußverfahren, bei welchem die zur Aufnahme der korrosionswidrigen Beschichtung (Fig. 1 b) der Funktionsflächen (in allen Figuren
strukturiert) Toleranz unschwer über die Dicke und Art der Trennschicht eingestellt werden kann. Ein Untermaß der Corpora dem Endmaß gegenüber ist
erforderlich, da durch Schichtauftrag eine Größenzunahme erfolgt. Diese tritt durch Aufweitung des Gitters auch dann ein, wenn die
korrosionswidrige Verschleißschicht innerhalb der Oberfläche selbst unter Teinahme autochthoner Metallbestandteile gebildet wird.
Dabei ist die korrosionswidrige Schicht bevorzugt nach einem Cementationsverfahren durch Incubation und Erhitzen in einer entsprechend
reaktiven Pulvermischung, oder durch Immersion in ein entsprechend reaktives Bad aus geschmolzenen Salzen mit oder ohne Zuhilfenahme des
Elektrolyseprozesses herstellbar. Anderen Methoden gegenüber bereitet die allseitig gleichmäßige Beschichtung so keine besonderen Schwierigkeiten.
Badzusammensetzungen und Pulvermischungen kann der Fachmann unschwer der
Dr. Giselher Wall Ludwigstr. 18
Arzt Zahnarzt D-8730 Bad Kissingen
Anmelder Code-Nr 37 808 48
Fachliteratur entnehmen.
Bewährt hat es sich, bei der Bildung von Silizidschichten Siliziumcarbid
als Trägermedium und Erdalkalimetallsilizide zusammen mit Siliziummonoxid als Reduktionsmittel und labile Siliziumquelle unter Zugabe eines
Halogenids zu verwenden. Als Metallquelle für den Metallpartner des Suizids kann ein Metallcarbid, ein Metalloxid, jedoch auch das
pulverförmige Silizid selbst dienen. Zur Bildung der Suizide wie Boride
der Platinmetalle benutzt man möglichst hoch schmelzende Halogenide, wie z. B. Palladium-II-Chlorid oder Platin-II-Chlorid.
Die Zusammensetzung für ein jeweils noch durch ein Carbidpulver des
gewünschten Metallpartners, bzw. ein Platinmetallhalid zu modifizierendes Silizierungsmedium lautet:
Siliciumcarbid ca. 70% - 80%
Siliziummonoxid ca. 5% - 15%
Erdalkalimetallsilizid, z. B. Mg-Silizid ca. 2% - 10%
Lithiumfluorid ca. 1% - 5%
Me-Carbid, oder Pd/Pt-halogenid, oder Me-Oxid ca. 1% - 10%
Bei Boridbildung ist Borcarbid als Trägermedium, bei Carbidbildung
kolloidaler Graphitin Mischung mit technischem Graphitpulver als Medium und zugleich C-Quelle geeignet.
Ferner ist die korrosionswidrige Verschleißschicht bildbar durch
Dr. Giselher Wall Ludwigstr. 18
Arzt Zahnarzt D-8730 Bad Kissmgen
Anmelder Code-Nr 37 808 48
1. CVD-Verfahren
2. PVD-Verfahren
3. Plasmaspritzverfahren
4. Kathodenzerstäubungsverfahren
Diese Verfahren kommen insbesondere für die Nitridschichtbildung in Frage.
Problematisch können Nitridschichten immer dann sein, wenn fertiggestellte Passungen an Zahnersatzgerüste angelötet werden müssen, da sie als dünne
Schicht oder in feiner Verteilung großenteils nur beschränkt oxidationsfest sind. Die Mischphasen einiger Carbonitride weisen bessere Beständigkeit
auf, im Rahmen zahntechnischer Lötarbeiten völlig beständig sind dagegen die Suizide und Boride von Molybdän und Wolfram. Sie dürfen lediglich
nicht mit geschmolzenen Flußmitteln, oder Loten in Berührung kommen.
Claims (6)
1. Zahntechnisch-prothetisehe, reversibel zu einer Vollpassung fügbare,
oder in einer zugehörigen Gegenpassung gleichen Kennzeichens bewegliche Halbpassung dadurch gekennzeichnet, daß sie als Schichtkörper ausgebildet
ist und mindestens auf ihrer Funktionsfläche von einer korrosionswidrigen und verschleißfesten Schicht bedeckt ist.
2. Korrosionswidrige und verschleißfeste Schicht nach Anspruch 1. dadurch
gekennzeichnet, daß sie eine Dicke von etwa 5&mgr; bis &Igr;&Ogr;&Ogr;&mgr;, bevorzugt 10&mgr; bis
20&mgr; hat.
3. Korrosionswidrige und verschleißfeste Schicht nach Anspruch 1. dadurch
gekennzeichnet, daß sie aus mindesten einer der nachfolgenden Komponenten besteht, nämlich aus:
a. einem Metallsilizid
b. einem Metallborid
c. einem Metallcarbid
d. einem Nitrid der Metalle Tantal, Chrom, Molybdän und Wolfram
e. tri- oder polynären Mischphasenbildungen zwischen a. bis d,
wobei als Metalle in den Klassifikationen a. und b. Elemente der dritten
bis achten (beide eingeschlossen) Nebengruppen des Periodischen Systems der
Dr. Giselher Wall Ludwigstr. 18
Arzt Zahnarzt D-8730 Bad Kissingen
Anmelder Code-Nr 37 808 48
Elemente, in der Klassifikation c. die Elemente der vierten bis siebenten
(einschließlich) Nebengruppe des Periodischen Systems der Elemente auftreten.
4. Korrosionswidrige und verschleißfeste Schicht nach Anspruch 3. dadurch
gekennzeichnet, daß sie auf einem Halbpassungscorpus aus Edelmetallen oder deren Legierungen bevorzugt aus den Suiziden und Boriden von Palladium und
Platin besteht.
5. Metallsilizid nach Anspruch 3. dadurch gekennzeichnet, daß es bevorzugt
durch Incubation und Erhitzen in einem möglichst feinpulverigen (Teilchengröße bis etwa 5&mgr;) Cementationsmedium der nachfolgenden
Zusammensetzung erzeugbar ist (Angaben in Masse-Prozenten):
1. Silciumcarbid ca. 70 bis 80 Prozent
2. Silicium-mono-Oxid ca. 5 bis 15 Prozent
3. Erdalkalimetall-Silizid, bevorzugt Mg-Silizid ca. 2 bis 10 Prozent
4. Alkalimetall-Halogenid, bevorzugt Li-Fluorid ca. 1 bis 5 Prozent
5. Platinmetall-Halogenid, bevorzugt Pd-II-Chlorid ca. 0,1 bis 5 Prozent
6. alternativ zu 5. Metallcarbid, Metalloxid,
des im Silizid erwünschten Metallpartners ca. 1 bis 10 Prozent
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE9100081U DE9100081U1 (de) | 1991-01-05 | 1991-01-05 | Zahntechnisch-prothetische Halbpassungen als Schichtkörper mit korrosionswidriger Oberflächenausrüstung der Funktionsflächen |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE9100081U DE9100081U1 (de) | 1991-01-05 | 1991-01-05 | Zahntechnisch-prothetische Halbpassungen als Schichtkörper mit korrosionswidriger Oberflächenausrüstung der Funktionsflächen |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| DE9100081U1 true DE9100081U1 (de) | 1991-03-28 |
Family
ID=6863109
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| DE9100081U Expired - Lifetime DE9100081U1 (de) | 1991-01-05 | 1991-01-05 | Zahntechnisch-prothetische Halbpassungen als Schichtkörper mit korrosionswidriger Oberflächenausrüstung der Funktionsflächen |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| DE (1) | DE9100081U1 (de) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE19616618A1 (de) * | 1996-04-25 | 1997-11-06 | Friatec Keramik Kunststoff | Halteelement für einen herausnehmbaren Zahnersatz |
-
1991
- 1991-01-05 DE DE9100081U patent/DE9100081U1/de not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE19616618A1 (de) * | 1996-04-25 | 1997-11-06 | Friatec Keramik Kunststoff | Halteelement für einen herausnehmbaren Zahnersatz |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| DE3506623C2 (de) | Verfahren zum Beschichten eines thermisch widerstandsfähigen Gegenstandes | |
| DE69706850T2 (de) | Artikel mit schutzschicht, enthaltend eine verbesserte verankerungsschicht und seine herstellung | |
| DE2920198C2 (de) | Pulver zum Auftragen auf ein Metallsubstrat zur Ausbildung eines Überzugs mit hoher Verschleißfestigkeit und Korrosionsbeständigkeit | |
| EP0055383B1 (de) | Aufsinterbare Grundmasse zur Herstellung einer Zwischenschicht zwischen einer hochschmelzenden Dentalmetall-Legierung und Zahnporzellan | |
| DE2632871C3 (de) | Porzellanüberzogene Metallkrone und Verfahren zu ihrer Herstellung | |
| DE2531113C2 (de) | Verfahren zur Herstellung eines Metall-Keramik-Zahnersatzes | |
| EP0689617B1 (de) | Cermet und verfahren zu seiner herstellung | |
| EP0284699B1 (de) | Intermetallische Verbindung und ihre Verwendung | |
| EP0478932B1 (de) | Hochgoldhaltige gelbe Dentallegierung | |
| DE3640086A1 (de) | Dekorative schwarze verschleissschutzschicht | |
| DE4216150A1 (de) | Hochkorrosionsfeste amorphe legierungen | |
| DE3209977C2 (de) | Dentalfuellmaterial | |
| DE4143230C2 (de) | Verfahren zur Herstellung von Zahnersatz auf Titan-Basis | |
| DE9100081U1 (de) | Zahntechnisch-prothetische Halbpassungen als Schichtkörper mit korrosionswidriger Oberflächenausrüstung der Funktionsflächen | |
| EP3135781A1 (de) | Edelmetall-schmucklegierung | |
| AT394643B (de) | Roentgenroehrenanode mit oxidbeschichtung | |
| EP0691123B1 (de) | Hochgoldhaltige Dentallegierung | |
| DE3844151C2 (de) | ||
| DE4427264C2 (de) | Anstreifbelag für Triebwerksbauteile und Verfahren zu seiner Herstellung | |
| DE2303756B2 (de) | Verfahren zur erzeugung einer mischkarbidschicht aus vanadium und chrom auf kohlenstoffhaltigen eisenwerkstoffen | |
| DE4419408C1 (de) | Dental-Goldlegierung für Zahnersatz | |
| DE4114792A1 (de) | Nicht gesinterter keramischer zahnersatz aus sonderkeramischen hartstoffen | |
| JP3231873B2 (ja) | 銀色焼結合金およびその製造方法 | |
| DE3812568C1 (en) | Use of palladium alloy, which can be cast on, in dental engineering | |
| Okabe et al. | A Study of High Copper Amalgams IV. Formation of η Cu-Sn (Cu6Sn 5) Crystals in a High Copper Dispersant Amalgam Matrix |