DE895353C

DE895353C - Verfahren zur Herstellung uebermikroskopischer Durchstrahlungsbilder

Info

Publication number: DE895353C
Application number: DEA6968D
Authority: DE
Inventors: Hans Dr-Ing Mahl
Original assignee: AEG AG
Current assignee: AEG AG
Priority date: 1942-01-13
Filing date: 1942-01-14
Publication date: 1953-11-02

Description

Bei der Herstellung von übermikroskopischen Aufnahmen sind in manchen Fällen die Bildkontraste verhältnismäßig gering. Dieses kann sich beispielsweise bei der Durchstrahlung von Objekten, bei denen die Neigungsunterschiede der einzelnen Oberflächenelemente nur sehr gering sind, störend bemerkbar machen. Bei Anwendung des plastischen Abdruckverfahrens zur übermikroskopischen Abbildung von Oberflächen bei polierten Oberflächen wird die polierte Oberfläche zunächst mit einem gleichmäßig dünnen Überflächenfilm versehen, was einerseits durch chemische Behandlung, wie Oxydierung u. dgl., erreicht werden kann oder andererseits auch durch Aufbringen von vorzugsweise organischen Filmen, wie Zaponfilmen, erfolgen kann. Die dünnen Filme werden dann beispielsweise durch chemische Behandlung öder auch in anderer Weise abgelöst. Das übermikroskopische Bild dieser Filme ergibt dann eine Übersicht über die Oberflächenformen des untersuchten Körpers. Da jedoch bei einer polierten Oberfläche die Neigungsunterschiede der Oberflächenelemente sehr gering sind, werden auch die Bildkontraste gemäß den obigen Ausführungen dementsprechend gering sein.
Es zeigte sich nun, daß eine Steigerung der Kontraste erreicht werden kann, wenn das Verfahren zur Herstellung von übermikroskopischen Durchstrahlungsbildern erfindungsgemäß so ausgebildet wird, daß der Objektträger derart im Übermikroskop angebracht wird, daß das zu untersuchende Objekt sich in einer um 3o bis 6o°, vorzugsweise um 45° schrägen Lage zur Achse des Elektronenstrahlbündels befindet. Es ergibt sich nämlich aus der Fig. i a, daß bei einem Neigungswinkel a des zu untersuchenden Objektes die Dicke der durchstrahlten Schicht sich aus folgender Beziehung berechnet: Ds = D , in derD = Dicke der cos a durchstrahlten Schicht bei einem Neigungswinkel von o° ist. Aus dieser Beziehung ergibt sich die in der Fig. i b dargestellte Kurve, wenn man Ds in Abhängigkeit von dem Winkel a aufträgt. Die Kurve zeigt, daß die größte Empfindlichkeit, bei der also die stärksten Bildkontraste erhalten werden, bei einem Neigungswinkel von 3o bis 6o° liegt. Eine Neigung des Objektes über 6o° bringt eine Erschwerung des Verfahrens mit sich, da dann verhältnismäßig dicke Schichten durchstrahlt werden müssen.
Zur Durchführung des erfindungsgemäßen Verfahrens ist es also erforderlich, das Objekt auf einem Objektträger anzubringen, welcher unter dem angegebenen Winkel zur Strahlachse angeordnet wird. In manchen Fällen hat es sich auch als zweckmäßig erwiesen, einen Objektträger zu- benutzen, welcher wenigstens in dem die Bohrung ür den Strahldurchtritt umgebenden Bereich mit einer schräg zur Bohrung, welche parallel zur Strahlrichtung ausgeführt ist, verlaufenden Oberfläche zu versehen. In der Fig. 2 ist ein Ausführungsbeispiel in zum Teil schematischer Weise nach der Erfindung dargestellt. Bei der in der Fig. 2 dargestellten Ausführungsform des Objektträgers verlaufen die Oberflächenelemente 2 und 4 parallel zur Grundfläche 5, während die als Objektauflage dienende Fläche 3 unter einem Winkel von 45° zur Bohrung 6 und damit zur Strahlrichtung angeordnet ist. Die Bohrung 6 des Objektträgers i hat beispielsweise einen Durchmesser von o,i bis 0,5 mm, während der Gesamtdurchmesser des Objektträgers 5 mm beträgt.
Durch das Anbringen des Objektes in schräger Lage zur Achse des Elektronenstrahles wird eine geringe Verzerrung des Bildes eintreten, welche sich jedoch kaum störend bemerkbar macht, da die Bildverzerrung beispielsweise bei einem Winkel von 45° nur im Verhältnis 1 : 1,4 erfolgt. Ein derartiges Bild läßt sich jedoch, falls es erwünscht ist, in bekannter Weise leicht entzerren.

Claims

PATENTANSPRÜCHE: i. Verfahren zur Herstellung von übermikroskopischen Durchstrahlungsbildern, dadurch gekennzeichnet, daß der Obj ektträger derart im Übermikroskop angebracht wird, daß das zu untersuchende Objekt sich in einer um 3o bis 6o°, vorzugsweise um 45° schrägen Lage zur Achse des Elektronenstrahles befindet.
2. Anordnung zur Ausübung des Verfahrens nach Anspruch i, dadurch gekennzeichnet, daß die dem Strahlerzeugungssystem zugewandte Oberfläche des Objektträgers wenigstens in dem die parallel zur Achse des Elektronenstrahles verlaufende Durchbohrung umgebenden Bereich unter einem Winkel von 3o bis 6o°; vorzugsweise um 45° zur Strahlachse verläuft. Angezogene Druckschriften: Deutsche Patentschrift Nr. 659 0g2; Wissenschaftliche Veröffentlich. aus dem Siemens-Konzern, XIII. Bd., 1934, S. 41 bis 47.