DE721580C - Gaszuleitung und Gasableitung fuer Kathodenzerstaeubungsapparate - Google Patents
Gaszuleitung und Gasableitung fuer KathodenzerstaeubungsapparateInfo
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- DE721580C DE721580C DEB181253D DEB0181253D DE721580C DE 721580 C DE721580 C DE 721580C DE B181253 D DEB181253 D DE B181253D DE B0181253 D DEB0181253 D DE B0181253D DE 721580 C DE721580 C DE 721580C
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Classifications
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/34—Sputtering
Description
- Gaszuleitung und Gasableitung für Kathodenzerstäubungsapparate Es wurde bei Versuchen festgestellt, daß die Gaszuleitung bzw. Gasableitung durch die Wandung von Kathodenzerstäubttngsapparaten Schwierigkeiten bietet, wenn die Wandung als Kathode geschaltet ist. Es bildet sich dabei leicht eine Glimmentladung im, Gaszuleitungsrohr oder Gasableitungsrohr aus, die die kathodenzerstäubung stört. Durch die Erfindung werden diese unerwünschten Entladungen vermieden.
- Die Erfindung betrifft eine durch die Kathode geführte Gaszuleitung und Gasableitung für Kathodenzerstäubungsapparate und zeichnet sich dadurch aus, daß die Gaszuleitung und Gasableitung als Anode geschaltet und abgeschirmt in die Kathodenzerstäubungskamme:r eingeführt ist und daß der Abstand zwischen dem Zuleitungs- bzw. Ableitungsrohr und der Kathode kleiner gehalten ist als idter Glimmsaum.
Claims (1)
- PATENTANSPRUCH: Durch die Kathode geführte Gaszuleitung und Gasableitung für Kathode:pzerstäubungsapparate, dadurch gekennzeichnet, daß die Gaszuleitung und Gasableitung als Anode geschaltet und abgeschirmt in die Kathodenzerstäubungskammer eingeführt ist und daß der Abstand zwischen dem Zuleitungs- bzw. Ableitungsrohr und der Kathode kleiner gehalten ist .als der Glimmsaum.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DEB181253D DE721580C (de) | 1937-12-25 | 1937-12-25 | Gaszuleitung und Gasableitung fuer Kathodenzerstaeubungsapparate |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DEB181253D DE721580C (de) | 1937-12-25 | 1937-12-25 | Gaszuleitung und Gasableitung fuer Kathodenzerstaeubungsapparate |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| DE721580C true DE721580C (de) | 1942-06-10 |
Family
ID=7009035
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| DEB181253D Expired DE721580C (de) | 1937-12-25 | 1937-12-25 | Gaszuleitung und Gasableitung fuer Kathodenzerstaeubungsapparate |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| DE (1) | DE721580C (de) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2316350A1 (fr) * | 1975-06-18 | 1977-01-28 | Philips Nv | Procede et dispositif pour l'application de minces couches par pulverisation cathodiques |
-
1937
- 1937-12-25 DE DEB181253D patent/DE721580C/de not_active Expired
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2316350A1 (fr) * | 1975-06-18 | 1977-01-28 | Philips Nv | Procede et dispositif pour l'application de minces couches par pulverisation cathodiques |
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