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HINTERGRUND
DER ERFINDUNG
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Die
Erfindung bezieht sich auf eine Festkörper-Bildaufnahmevorrichtung
und insbesondere auf eine Festkörper-Bildaufnahmevorrichtung
mit Verstärkung
oder eine Festkörper-Bildaufnahmevorrichtung
wie etwa eine MOS-Festkörper-Bildaufnahmevorrichtung
(Metalloxidhalbleiter-Festkörper-Bildaufnahmevorrichtung).
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Da
eine Anforderung, dass eine Festkörper-Bildaufnahmevorrichtung
hochaulösend
ist, gestiegen ist, ist bisher eine Festkörper-Bildaufnahmevorrichtung
mit integrierter Verstärkung
entwickelt worden, wobei auch andere MOS-Festkörper-Bildaufnahmevorrichtungen
bislang bekannt geworden sind.
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Als
Festkörper-Bildaufnahmevorrichtung
mit integrierter Verstärkung
sind hauptsächlich
ein statischer Induktionstransistor (SIT), ein MOS-Bilderzeuger
mit Verstärkung
(AMI), eine Ladungsmodulationsvorrichtung (CMD) und verschiedene
Bildaufnahme-Vorrichtungsstrukturen wie etwa eine BASIS-Struktur
(Base Stored Image Sensor-Struktur) unter Verwendung von Bipolartransistoren
als Pixel bekannt.
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Die
folgende Festkörper-Bildaufnahmevorrichtung
mit Verstärkung
ist als eine von solchen Festkörper-Bildaufnahmevorrichtungen
mit integrierter Verstärkung
bekannt. Diese Festkörper-Bildaufnahmevorrichtung
mit Verstärkung
akkumuliert photoelektrisch umgewandelte Löcher (Signalladungen) in einer
p-Potentialwanne
in einem n-Kanal-MOS-Transistor (Pixel-MOS-Transistor) und gibt
die auf einer Potentialschwankung in der p-Potentialwanne (d. h.
einer Potentialänderung
im Substrat) beruhende Änderung
des Kanalstroms als ein Pixelsignal aus.
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Andererseits
hat der Anmelder der vorliegenden Anmeldung früher eine Festkörper-Bildaufnahmevorrichtung
mit Verstärkung
und einem Kapazitätslastbetrieb-System
vorgeschlagen, bei dem eine Empfindlichkeit gleichmäßig hergestellt
werden kann, eine hohe Auflösung
erzeugt werden kann sowie ein niedri ger Leistungsverbrauch realisiert
werden kann.
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1 der
beigefügten
Zeichnung zeigt ein Beispiel einer Festkörper-Bildaufnahmevorrichtung
mit Verstärkung
und einem Kapazitätslastbetrieb-System.
Bei dieser Festkörper-Bildaufnahmevorrichtung
mit Verstärkung
umfassen, wie in 1 gezeigt ist, lichtempfangende
Elemente mehrere Einzelpixel (Zellen), z. B. Pixel-Transistoren,
wobei in diesem Beispiel Pixel-MOS-Transistoren 2 matrixartig
angeordnet sind. Die Gates der Pixel-MOS-Transistoren 2 sind
in allen Zeilen mit Vertikalabtastleitungen 4 verbunden,
die durch eine aus einem Schieberegister gebildete Vertikalabtastschaltung 3 ausgewählt werden,
wobei ihre Drains mit einer Leistungsversorgungsquelle VDD verbunden sind. Ihre Sourcen sind in allen
Spalten mit vertikalen Signalleitungen 5 verbunden.
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Ein
Lastkapazitätselement 8 zum
Halten einer Signalspannung (elektrische Ladung) ist über einen Operations-MOS-Schalter 7 mit
der vertikalen Signalleitung 5 verbunden. Ein Arbeitsimpuls OP ist an das Gate des Operations-MOS-Schalters 7 angelegt.
Das Lastkapazitätselement 8 ist
mit dem Drain eines horizontalen MOS-Schalters 9 verbunden
und die Source dieses horizontalen MOS-Schalters 9 ist
mit einer horizontalen Signalleitung 10 verbunden.
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In 1 bezeichnet
das Bezugszeichen 11 eine Horizontalabtastschaltung, die
ein Schieberegister oder dergleichen umfasst. Die Horizontalabtastschaltung 11 legt
aufeinander folgend Horizontalabtastimpulse H [H1,
..., Hi, Hi+1, ...]
an die Gates der mit der horizontalen Signalleitung 10 verbundenen
horizontalen MOS-Schalter 9 an.
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Ein
Signalerfassungsmittel, in diesem Beispiel eine Ladungserfassungsschaltung 16,
die einen Operationsverstärker 13,
der einen invertierenden Verstärker,
z. B. einen Differenzverstärker,
verwendet, ein Erfassungskapazitätselement 14 und
einen Rücksetzschalter 15 umfasst,
ist mit dem Ausgangsanschluss der horizontalen Signalleitung 10 verbunden.
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Genauer
ist die horizontale Signalleitung 10 mit einem invertierenden
Eingangsanschluss des Operationsverstärkers 13 der Ladungserfassungsschaltung 16 verbunden,
wobei eine vorgegebene Vorspannung VB an
einen nicht invertierenden Eingangsanschluss des Operationsverstärkers 13 gelegt
ist. Diese Vorspannung VB wird verwendet,
um das Potential der horizontalen Signallei tung 10 zu bestimmen.
Das Erfassungskapazitätselement 14 ist
parallel zu dem Operationsverstärker 13 geschaltet,
d. h., das Erfassungskapazitätselement 14 ist
zwischen den invertierenden Eingangsanschluss des Operationsverstärkers 13 und
einen Ausgangsanschluss t1 geschaltet, während der
Rücksetzschalter 15 zum
Zurücksetzen
der horizontalen Signalleitung 10 und des Erfassungskapazitätselements 14,
z. B. ein MOS-Transistor, parallel zu dem Erfassungskapazitätselement 14 geschaltet
ist.
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Bei
dieser Festkörper-Bildaufnahmevorrichtung
mit Verstärkung
werden während
der Horizontalaustastzeit, in der die Leseoperation ausgeführt wird,
Vertikalabtastsignale (d. h. Vertikalauswahlimpulse) V [V1, ..., Vn, Vn+1, ...] von der Vertikalabtastschaltung 3 aufeinander
folgend an die Abtastleitungen 4 jeder Zeile angelegt,
so dass die Pixel-MOS-Transistoren 7 jeder Spalte aufeinander
folgend ausgewählt
werden. Ferner werden, wenn der Operations-MOS-Schalter 7 durch den Arbeitsimpuls OP eingeschaltet wird, der Pixel-MOS-Transistor 2 und
das Lastkapazitätselement 8 eingeschaltet,
so dass von dem Moment an, in dem der Operations-MOS-Schalter 7 eingeschaltet
ist, das Laden einer Signalladung in das Lastkapazitätselement 8 beginnt.
Wenn der Operations-MOS-Schalter 7 ausgeschaltet wird,
nachdem die Signalspannung hinreichend stabilisiert ist, wird in
dem Lastkapazitätselement 8 eine
Signalspannung gehalten, die einem Kanalpotential entspricht, das
der Menge der in dem Pixel-MOS-Transistor 2 akkumulierten
Signalladungen (Löchermenge)
entspricht.
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Die
in dem Lastkapazitätselement 8 gehaltene
Signalspannung fließt
als elektrische Ladung zur horizontalen Signalleitung 10 ab,
wenn die horizontalen MOS-Schalter 9 durch die Horizontalabtastsignale
(d. h. die Horizontalabtastimpulse) H [H1,
..., Hi, Hi+1, ...],
die während
der Horizontalabtastzeit von der Horizontalabtastschaltung 11 an
ihnen angelegt werden, aufeinander folgend eingeschaltet sind.
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Die
zur horizontalen Signalleitung 10 abgeflossene Signalladung
wird unter Verwendung des Operationsverstärkers 13 für das Erfassungskapazitätselement 14 der
Ladungserfassungsschaltung 16 als eine Signalspannung demoduliert
und daraufhin als ein Bildsignal an den Ausgangsanschluss t1 ausgegeben.
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Das
Erfassungskapazitätselement 14 der
Ladungserfassungsschaltung 16 schaltet den Rücksetzschalter 15 durch
einen Rücksetzimpuls
R ein und setzt in zurück,
bevor der dem nächsten
Pixel-MOS-Transistor entsprechende horizontale MOS-Schalter 9 eingeschaltet
wird.
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Gemäß dieser
Festkörper-Bildaufnahmevorrichtung
mit Verstärkung
fließt
im Wesentlichen kein Strom zu der vertikalen Signalleitung 5,
wenn die Signalspannung in dem Lastkapazitätselement 7 gehalten
wird, so dass eine gleich bleibende Empfindlichkeit erzielt werden
kann, ohne von einem Widerstand der vertikalen Signalleitung 5 sehr
stark beeinflusst zu werden.
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Ferner
können,
da die Last das Kapazitätselement 8 ist,
die Signalladungen im Gegensatz zum Last-MOS-Transistor nicht weniger
schwanken, wobei daher ein vertikales streifenförmiges Festmusterrauschen (FPN)
schwer zu erzeugen ist.
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Weiterhin
kann, da das Kanalpotential des Pixel-MOS-Transistors 2 ein
Potential wird, das in dem Lastkapazitätselement 8 gehalten
wird, wie es ist, im Vergleich zu dem Fall, dass der Pixel-MOS-Transistor von
dem Last-MOS-Transistor im stationären Zustand betrieben wird,
d. h. unter der Bedingung, dass ein konstanter Strom in den Kanal
fließt,
eine Empfindlichkeit vergrößert werden.
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Abgesehen
davon fließt
kein stationärer
Strom zu dem Pixel-MOS-Transistor 2, wobei ein Leistungsverbrauch
verringert werden kann.
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Als
horizontaler MOS-Schalter 9 dieser Festkörper-Bildaufnahmevorrichtung
mit Verstärker
wird ein MOS-Transistor verwendet, dessen Struktur in 2 veranschaulicht
ist.
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In
dem MOS-Transistor 9 sind ein Source-Gebiet 22S und
ein Drain-Gebiet 22D auf Halbleitergebieten ausgebildet,
die durch eine Feldisolationsschicht (eine so genannte LOCOS-Oxidschicht) 21,
die durch wahlweise Oxidation geschaffen ist, getrennt sind, wobei
eine aus polykristallinem Silicium hergestellte Gate-Elektrode 23 beispielsweise
zwischen dem Source-Gebiet 22S und dem Drain-Gebiet 22D durch
eine Gate-Isolationsschicht ausgebildet ist.
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Die
Gate-Elektrode 23 ist mit der horizontalen Abtastschaltung 11 verbunden.
Eine Source-Elektrode 24 und eine Drain-Elektrode 24D sind
jeweils z. B. aus A1 hergestellt, wobei die Drain-Elektrode 24D über den Operations-MOS-Schalter mit der
vertikalen Signalleitung 5 verbunden ist. Die Source-Elektrode 24S ist
mit der horizontalen Signalleitung 10 verbunden. In 2 bezeichnet
das Bezugszeichen 26 einen Kontaktabschnitt und 27 eine
A1-Verbindung.
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Mit
der oben erwähnten
Anordnung wird, da die Source-Gebiete 22S vieler horizontaler
Schalter 9 mit der horizontalen Signalleitung 10 verbunden
sind, eine parasitäre
Kapazität
der horizontalen Signalleitung 10 vergrößert, was folglich eine Erfassungsempfindlichkeit
der Ladungserfassungsschaltung 16 verringert.
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Außerdem offenbart
das Dokument US-A-5 016 108 eine Festkörper-Bildaufnahmevorrichtung
mit mehreren lichtempfangenden Elementen, die in einem Halbleitersubstrat
ausgebildet sind. Elektrische Signalladungen, die durch Licht, das
auf die lichtempfangenden Elemente auftrifft, erzeugt und in den
einzelnen lichtempfangenden Elementen gespeichert werden, werden über Signalleitungen
durch das Abtasten mehrerer Schalter aufeinander folgend ausgelesen.
Jeder der Schalter enthält
eine Reihenverbindung eines ersten MOS-Transistorschaltelements,
das in dem Halbleitersubstrat ausgebildet ist, und eines zweiten
MOS-Transistors, der in einem Halbleiter, der über dem Halbleitersubstrat
durch einen Isolator geschaffen ist, ausgebildet ist. Das erste
Schaltelement ist auf Seiten des lichtempfangenden Elements angeordnet
und das zweite Schaltelement ist auf Seiten des Signalausgangsanschlusses
angeordnet.
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Außerdem beziehen
sich die Patent Abstracts of Japan, Bd. 011, Nr. 309 (E-547) und
JP 62 104074 auf eine Verbesserung
der Empfindlichkeit in einem Festkörper-Bildaufnahmeelement mit
horizontaler Übertragung
durch die Verwendung eines FET mit einer Doppel-Gate-Struktur als
ein Schaltelement für
das Auslesen einer Signalladung aus einer optischen Diode.
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Überdies
offenbart das Dokument US-A-5 288 988 eine Lichtumwandlungsvorrichtung,
die mehrere Zellen umfasst, von denen jede ein bipolares Sensorelement
besitzt, dessen Basis mit einem Rücksetzschalt-FET verbunden
und ferner kapazitiv an eine Steuerelektrode gekoppelt ist.
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Das
Dokument EP-A-0 480 611 bezieht sich schließlich auf eine FET-Signal schaltvorrichtung,
die einen ersten und einen zweiten Ausgang, ein Gate, einen Drain
sowie Steuerelektroden zum wahlweisen Schalten eines Eingangssignals
von einer Eingangsleitung, um eine von zwei Ausgangsleitungen auszuwählen, enthält.
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ZUSAMMENFASSUNG
DER ERFINDUNG
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Im
Hinblick auf die oben genannten Aspekte ist es eine Aufgabe der
Erfindung, eine Festkörper-Bildaufnahmevorrichtung
zu schaffen, bei der eine Erfassungsempfindlichkeit durch Vergrößern einer
parasitären Kapazität einer
horizontalen Signalleitung verbessert werden kann.
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Gemäß der Erfindung
wird diese Aufgabe durch eine Festkörper-Bildaufnahmevorrichtung,
wie sie in Anspruch 1 definiert ist, gelöst.
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Vorteilhafte
Weiterentwicklungen der Erfindung sind Gegenstand der beigefügten abhängigen Ansprüche.
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KURZBESCHREIBUNG
DER ZEICHNUNG
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1 ist
ein Schaltbild, das eine Anordnung einer Festkörper-Bildaufnahmevorrichtung
mit Verstärkung
gemäß einem
Vergleichsbeispiel zeigt;
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2 ist
eine fragmentarische Draufsicht, die einen in 1 gezeigten
horizontalen MOS-Schalter veranschaulicht;
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3 ist
ein Schaltbild, das eine Festkörper-Bildaufnahmevorrichtung
mit Verstärkung
gemäß einer Ausführungsform
der Erfindung zeigt;
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4 ist
eine fragmentarische Draufsicht, die einen in 3 gezeigten
horizontalen MOS-Schalter veranschaulicht;
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5 ist
eine Querschnittsansicht, die eine Halbleiterstruktur eines Pixel-MOS-Transistors zeigt;
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6 ist
ein Ansteuerablaufplan der in 3 gezeigten
Festkörper-Bildaufnahmevorrichtung
mit Verstärkung;
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7 ist
ein Ersatzstromlaufplan, der zur Erläuterung der Erfindung verwendet
wird;
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8 ist
ein schematisches Schaltbild, das zur Erläuterung eines Source-Kondensators
verwendet wird;
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9 ist
eine fragmentarische Draufsicht, die ein Entwurfsmuster eines horizontalen
MOS-Schalters gemäß einer
zweiten Ausführungsform
der Erfindung zeigt;
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10 ist
eine fragmentarische Draufsicht, die ein Entwurfsmuster eines horizontalen
MOS-Schalters gemäß einer
dritten Ausführungsform
der Erfindung zeigt;
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11 ist
eine fragmentarische Draufsicht, die ein Entwurfsmuster eines horizontalen
MOS-Schalters gemäß einer
vierten Ausführungsform
der Erfindung zeigt;
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12 ist
eine fragmentarische Draufsicht, die ein Entwurfsmuster eines horizontalen
MOS-Schalters gemäß einer
fünften
Ausführungsform
der Erfindung zeigt;
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13 ist
eine fragmentarische Draufsicht, die ein Entwurfsmuster eines horizontalen
MOS-Schalters gemäß einer
sechsten Ausführungsform
der Erfindung zeigt; und
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14 ist
eine fragmentarische Draufsicht, die ein Entwurfsmuster eines horizontalen
MOS-Schalters gemäß einer
siebenden Ausführungsform
der Erfindung zeigt.
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AUSFÜHRLICHE
BESCHREIBUNG DER BEVORZUGTEN AUSFÜHRUNGSFORMEN
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Vor
der Beschreibung der Erfindung sind unten die Prinzipien der Erfindung
zusammengefasst.
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Eine
Festkörper-Bildaufnahmevorrichtung
gemäß der Erfindung
ist eine Festkörper-Bildaufnahmevorrichtung,
bei der mehrere Pixel matrixartig angeordnet sind, die Signale der
Pixel als Signalladungen über
horizontale Schalter horizontalen Signalleitungen zugeführt werden
und Signalerfassungsmittel, die mit dem Ende der horizontalen Signalleitungen
verbunden sind, ein Signal ausgeben. Ein Feldeffekttransistor mit
isolierendem Gate, der den horizontalen Schalter umfasst, ist so
angeordnet, dass ein Kanal zwischen einer ersten und einer zweiten
Hauptelektrode, die mit der horizontalen Signalleitung hiervon verbunden
sind, in wenigsten zwei Richtungen ausgebildet ist.
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In
einer Festkörper-Bildaufnahmevorrichtung
gemäß der Erfindung
können
horizontale Schalter, die in den horizontalen Richtungen benachbarten
Pixeln entsprechen, in der oberen und der unteren Richtung über die
horizontale Signalleitung hinweg angeordnet sein.
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In
einer Festkörper-Bildaufnahmevorrichtung
gemäß der Erfindung
enthält
die Festkörper-Bildaufnahmevorrichtung
mehrere horizontale Signalleitungen, wobei horizontale Schalter,
die Pixeln in den horizontalen Leitungen entsprechend, auf jeweiligen
horizontalen Signalleitungen verteilt sein können.
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In
einer Festkörper-Bildaufnahmevorrichtung
gemäß der Erfindung
enthält
die Festkörper-Bildaufnahmevorrichtung
mehrere Signalleitungen, wobei die horizontalen Schalter, die Pixeln
in den horizontalen Leitungen entsprechen, auf jeweiligen horizontalen
Signalleitungen verteilt und ferner in der oberen und der unteren Richtung über jede
horizontale Signalleitung hinweg angeordnet sein können.
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Nachstehend
ist eine Festkörper-Bildaufnahmevorrichtung
gemäß der Erfindung
anhand der Zeichnung beschrieben.
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Die 3 und 4 zeigen
eine Festkörper-Bildaufnahmevorrichtung
gemäß einer
ersten Ausführungsform
der Erfindung, die in einer Festkörper-Bildaufnahmevorrichtung
des verstärkenden
Typs mit einem Lastkapazitäts-Arbeitssystem
eingesetzt ist.
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Die
in 3 gezeigte Festkörper-Bildaufnahmevorrichtung
besitzt eine Ersatzschaltungsanordnung ähnlich derjenigen, die in 1 gezeigt
ist. In 3 be zeichnet das Bezugszeichen 31 allgemein
eine Festkörper-Bildaufnahmevorrichtung
mit Verstärkung.
Das Bezugszeichen 32 bezeichnet ein lichtempfangendes Element,
das ein Einzelpixel (Zelle), z. B. einen Pixeltransistor, d. h.
in dieser Ausführungsform
einen Pixel-MOS-Transistor, umfasst. Mehrere Pixel-MOS-Transistoren 32 sind
matrixartig angeordnet. Das Bezugszeichen 34 bezeichnet
Vertikalabtastleitungen, die mit den Gates der in jeder Zeile vorgesehenen
Pixel-MOS-Transistoren 32 verbunden sind. Die Vertikalabtastleitungen 34 sind
mit einer Vertikalabtastschaltung 33 verbunden und werden
von der Vertikalabtastschaltung 33 aufeinander folgend
mit Vertikalabtastsignalen, d. h. Vertikalabtastimpulsen V [V1, ..., Vn, Vn+1, ...], gespeist. Die Source des Pixel-MOS-Transistors 32 ist
mit einer vertikalen Signalleitung 35 in jeder Spalte verbunden,
wobei ihr Drain mit der Spannungsversorgungsquelle VDD verbunden
ist.
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Ein
Lastkapazitätselement 38 zum
Halten einer Signalspannung (elektrische Ladung) ist über einen Operations-MOS-Schalter 37 mit
jeweils einer vertikalen Signalleitung 35 verbunden. Genauer
ist das Lastkapazitätselement 38 zwischen
die vertikale Signalleitung 35 und ein erstes Potential,
z. B. ein Massepotential in dieser Ausführungsform, geschaltet, wobei
der Arbeitsimpuls OP an das Gate des Operations-MOS-Schalters 37 gelegt
ist. Das Lastkapazitätselement 38 ist
mit dem Drain eines horizontalen Schalters 39, d. h. eines
Feldeffekttransistors mit isolierendem Gate (der im Folgenden als
ein "horizontaler
MOS-Schalter" bezeichnet
ist), verbunden, wobei die Source des horizontalen MOS-Schalters 39 mit
einer horizontalen Signalleitung 40 verbunden ist.
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Das
Bezugszeichen 41 bezeichnet eine Horizontalabtastschaltung,
die geeignete Mittel wie etwa ein Schieberegister umfasst. Die Horizontalabtastleitung 41 liefert
aufeinander folgend die Horizontalabtastimpulse H [H1,
..., Hi, Hi+1, ...]
an die Gates der horizontalen MOS-Schalter 39, die mit
der horizontalen Signalleitung 40 verbunden sind.
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Mit
dem Ausgangsende der horizontalen Signalleitung 40 ist
ein Signalerfassungsmittel verbunden, z. B. eine Ladungserfassungsschaltung 46,
die einen Operationsverstärker 43 unter
Verwendung eines invertierenden Verstärkers, z. B. eines Differenzverstärkers, ein
Erfassungskondensatorelement 44 und einen Rücksetzschalter 45 umfasst.
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Genauer
ist die horizontale Signalleitung 40 mit einem invertierenden
Eingangsanschluss des Operationsverstärkers 43 in der Ladungserfassungsschaltung 46 verbunden,
wobei eine vorgegebene Vorspannung VB an
den nicht invertierenden Eingangsanschluss des Operationsverstärkers 43 angelegt
ist. Die Vorspannung VB wird verwendet,
um ein Potential der horizontalen Signalleitung 40 zu bestimmen.
Das Erfassungskondensatorelement 44 ist parallel zu dem
Operationsverstärker 43 geschaltet,
d. h. zwischen den invertierenden Eingangsanschluss des Operationsverstärkers 43 und
einen Ausgangsanschluss t2, wobei der Rücksetzschalter 45,
der die horizontale Signalleitung 40 und das Erfassungskondensatorelement 44 zurücksetzt,
parallel zu dem Erfassungskondensatorelement 44 geschaltet
ist.
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Der
Rücksetzschalter 45 ist
z. B. aus einem MOS-Transistor aufgebaut, wobei an das Gate des
Rücksetzschalters 45 ein
Rücksetzimpuls
R angelegt ist.
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Der
Operationsverstärker 43 ist
vorzugsweise aus einem MOS-Transistor aufgebaut, weil kein Eingangsstrom
zu dem MOS-Transistor fließt
oder eine Eingangsimpedanz des MOS-Transistors groß ist.
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5 ist
eine Querschnittsansicht, die eine Halbleiterstruktur des Einzelpixels
(d. h. des Pixel-MOS-Transistors) 32 veranschaulicht.
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In 5 bezeichnet
das Bezugszeichen 51 einen ersten Leitfähigkeitstyp, z. B. ein p-Siliciumsubstrat, 52 einen
zweiten Leitfähigkeitstyp,
z. B. ein n-Wannengebiet, und 53 ein p-Wannengebiet, in
dem photoelektrisch umgewandelte Löcher (Signalladungen) 54 akkumuliert
werden, wenn von dieser Festkörper-Bildaufnahmevorrichtung
Licht empfangen wird.
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Ein
n-Source-Gebiet 55 und ein Drain-Gebiet 56 sind
auf dem p-Wannengebiet 53 ausgebildet, wobei eine aus einem
polykristallinen Siliciumdünnfilm
hergestellte Gate-Elektrode 58G zwischen den zwei Gebieten 55 und 56 durch
eine Gate-Isolationsschicht 57 ausgebildet ist. Die Löcher 54,
die in dem p-Wannengebiet 53, das sich unter der Gate-Elektrode 58G befindet,
durch photoelektrische Umwandlung akkumuliert werden, werden verwendet,
um einen Kanalstrom (Drain-Strom) bei einer Leseoperation zu steuern,
wobei der geänderte
Betrag des Kanalstroms zu einer Signalausgabe wird.
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Die
Gate-Elektrode 58G ist mit der Vertikalabtastleitung 34 verbunden,
eine Drain-Elektrode 58D ist mit der Spannungsversorgungsquelle
VDD verbunden und eine Source-Elektrode 58S ist
mit der vertikalen Signalleitung 35 verbunden.
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6 zeigt
einen Ansteuerablaufplan dieser Festkörper-Bildaufnahmevorrichtung
mit Verstärkung 31.
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In
der Festkörper-Bildaufnahmevorrichtung
mit Verstärkung 31 wird,
wenn der Operations-MOS-Schalter 37 mit einem Drain, der
mit der vertikalen Signalleitung 35 verbunden ist, durch
das Anlegen des Arbeitsimpulses OP an seinem
Gate eingeschaltet wird, in der ersten Hälfte der Horizontalaustastzeit HBK
eine Signalspannung von dem Pixel-MOS-Schalttransistor 32 in
das Lastkapazitätselement 38 ausgelesen.
Das Lastkapazitätselement 38 wird
auf einem Potential gehalten, d. h. einer Spannung, die einem Kanalpotential
entspricht, das einer in jedem Pixel-MOS-Transistor 32 akkumulierten
Menge von Signalladungen entspricht. Die in das Lastkapazitätselement 38 ausgelesene
Signalspannung schaltet die horizontalen MOS-Schalter 39 ein,
die während
einer Horizontalbildzeit von der Horizontalabtastschaltung 41 aufeinander folgend
abgetastet und an die horizontale Signalleitung 40 ausgegeben
werden.
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Genauer
werden die Vertikalabtastimpulse V [V1,
..., Vn, Vn+1, ...]
von der Vertikalabtastschaltung 33 aufeinander folgend
an die Abtastleitungen 34 der jeweiligen Zeilen angelegt,
wobei die Pixel-MOS-Transistoren 32 der jeweiligen Zeilen
aufeinander folgend abgetastet werden. Wenn das Potential des beispielsweise an
die Abtastleitung 34 der n-ten Zeile angelegten Vertikalabtastimpulses
Vn zu einem hohen Pegel übergeht, wird der Pixel-MOS-Transistor 32 der
n-ten Zeile in den Auswahlzustand gesetzt. Das Potential der Abtastleitung 34,
die der Nichtauswahl entspricht, geht in einen niedrigen Pegel über, wobei
daher ein anderer Pixel-MOS-Schalter 32, der mit dieser
Abtastleitung 34 verbunden ist, in den Nichtauswahlzustand
gesetzt wird.
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Wenn
der Operations-MOS-Schalter 37 durch den Arbeitsimpuls OP eingeschaltet ist, wird der Pixel-MOS-Transistor 32 der
n-ten Zeile mit Strom versorgt, wobei in Reaktion auf eine Menge
von Signalladungen (Löcher),
die in Bezug auf die Lichtmenge, die auf dem Pixel-MOS-Transistor 32 auftrifft,
akkumuliert werden, ein Signal am Anschluss des Lastkapazitätselements 38 gebildet
wird. Hierauf wird, wenn der Operations-MOS-Schalter 37 in
der Horizontalaustastzeit HBK ausgeschaltet ist, eine Signalspannung,
die dem Kanalpotential des Pixel-MOS-Schalters 32 entspricht,
in dem Lastkapazitätselement 38 gehalten.
Dieser Vorgang wird als "Kapazitätslastbetrieb" bezeichnet und wird
im Allgemeinen in der Horizontalaustastzeit HBK ausgeführt.
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Wenn
der Kapazitätslastbetrieb
in der Horizontalaustastzeit HBK ausgeführt wird, fließt die von
dem Pixel-MOS-Transistor 32 in dem Lastkapazitätselement 38 gehaltene
Signalladung (elektrische Ladung) aufeinander folgend als Signalladungen
zu der horizontalen Signalleitung 40 ab, weil die horizontalen
MOS-Schalter 39 durch
die Horizontalabtastimpulse H [H1, ...,
Hi, Hi+1, ...] (gezeigt
in 6) von der Horizontalabtastschaltung 41 aufeinander
folgend eingeschaltet werden.
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Die
zu der horizontalen Signalleitung 40 abgeflossene Signalladung
wird unter Verwendung des Operationsverstärkers 43 als eine
Signalspannung für
das Erfassungskondensatorelement 44 der Ladungserfassungsschaltung 46 demoduliert
und daraufhin an den Ausgangsanschluss t2 als
ein Bildsignal ausgegeben.
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Das
Erfassungskondensatorelement 44 in der Ladungserfassungsschaltung 46 schaltet
den Rücksetzschalter 45 durch
den Rücksetzimpuls
R ein und setzt ihn zurück,
bevor der horizontale MOS-Schalter 39, der dem nächsten Pixel-MOS-Schalter 32 entspricht,
eingeschaltet wird. Durch diesen Rücksetzvorgang werden die horizontale
Signalleitung 40 und eine Spannung über dem Erfassungskondensatorelement 44 auf
die Vorspannung VB zurückgesetzt. Genauer wird, nachdem
z. B. der horizontale MOS-Schalter 39 ausgeschaltet worden
ist und die Signalausgabe des Pixel-MOS-Transistors 32 am
Ausgangsanschluss t2 gebildet worden ist,
wenn der Rücksetzschalter 45 eingeschaltet
wird, die erfasste Kapazität
der Ladungserfassungsschaltung 46 zurückgesetzt, wobei sie die Erfassungskapazität initialisiert
und zur Erfassung der Signalausgabe des nächsten Pixel-MOS-Transistors 32 bereit
wird.
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Gemäß dieser
Ausführungsform
und wie insbesondere in 4 gezeigt ist, umfasst der Feldeffekttransistor
mit isolierendem Gate den horizontalen Schalter, d. h. der horizontale
MOS-Schalter 39 besitzt einen Kanal, der in zwei Richtungen.
zwischen einer ersten und einer zweiten Hauptelektrode, die mit der
horizontalen Signalleitung 40 verbunden sind, angeordnet
ist. 4 ist eine Draufsicht, die ein Beispiel eines
Entwurfs des horizontalen MOS-Schalters 39 veranschaulicht.
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In
dem in 4 gezeigten horizontalen MOS-Schalter 39 ist
ein Source-Gebiet 62S in der Mitte eines Halbleitergebiets,
das durch eine durch wahlweise Oxidation ausgebildete Feldisolationsschicht
(eine so genannte LOCOS-Oxidschicht) 61 getrennt ist, angeordnet,
wobei gegenüberliegende
Drain-Gebiete 62D1 , 62D2 auf beiden Seiten des Source-Gebiets 62S angeordnet
sind. Die beispielsweise aus polykristallinem Silicium hergestellten
Gate-Elektroden 63G1 und 63G2 , die durch Gate-Isolationsschichten
mit der Horizontalabtastschaltung 41 verbunden sind, sind
zwischen dem Source-Gebiet 62S und dem Drain-Gebiet 62D1 bzw. zwischen dem Sourcegebiet 62S und
dem Drain-Gebiet 62D2 ausgebildet.
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Eine
mit dem Source-Gebiet 62S verbundene Source-Elektrode 635,
die beispielsweise aus A1 hergestellt ist, ist mit der horizontalen
Signalleitung 40 verbunden und mit den Drain-Gebieten 62D1 , 62D2 verbundene
Drain-Elektroden 63D1 , 63D2 , die beispielsweise aus A1 hergestellt
sind, sind mit der gemeinsamen vertikalen Signalleitung 35 verbunden.
Das Bezugszeichen 64 in 4 bezeichnet
einen Kontaktabschnitt.
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Bei
diesem horizontalen MOS-Schalter 39 sind die Drain-Gebiete 62D1 , 62D2 in
einer einander gegenüberliegenden
Beziehung quer über
das Source-Gebiet 62S hinweg angeordnet, wobei der Kanal
zwischen der Source und dem Drain in zwei Richtungen ausgebildet
ist. Mit anderen Worten, der Bereich des Source-Gebiets 62S ist
auf etwa die Hälfte
von dem reduziert, der in dem in 1 gezeigten
Vergleichsbeispiel erhalten wird.
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Die
Menge von Signalladungen, die am Ausgangsanschluss t2 der
Ladungserfassungsschaltung 46 entsteht, hängt stark
von einer parasitären
Kapazität
CB der horizontalen Signalleitung 40 ab.
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Genauer
nimmt in der in 7 gezeigten Ersatzschaltung
CL eine Kapazität eines Lastkapazitätselements 38 an,
CB nimmt die parasitäre Kapazität der horizontalen Signalleitung 40 an,
Cn nimmt eine Kapazität des Erfassungskapazitätselements 44 der
Ladungserfassungsschaltung 46 an, –G nimmt eine Verstärkung des
Operationsverstärkers 43 an,
Vsig nimmt eine in dem Lastkapazitätselement 38 gehaltene
Signalspannung an und Vout nimmt ein Ausgangssignal
von der Ladungserfassungsschaltung 46 an. Hierauf wird
eine Erfassungsempfindlichkeit (d. h. die Verstärkung der Ladungserfassungsschaltung 46)
Gain des Ausgangssignals Vout in
Bezug auf die Signalspannung Vsig durch
die folgende Gleichung (1) ausgedrückt:
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Da
die parasitäre
Kapazität
CB der horizontalen Signalleitung 40 den
größten Teil
der Source-Kapazität des
horizontalen MOS-Schalters 39 einnimmt, kann hierauf in
der oben genannten Gleichung (1) eine Empfindlichkeit der Festkörper-Bildaufnahmevorrichtung
verbessert werden, falls die parasitäre Kapazität CB verringert
wird.
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Entsprechend
der Festkörper-Bildaufnahmevorrichtung 31 gemäß dieser
in den 3 und 4 gezeigten Ausführungsform
ist der Bereich des Source-Gebiets 62S des horizontalen
MOS-Schalters 39, der mit der horizontalen Signalleitung 40 verbunden
ist, im Vergleich mit dem Bereich des Source-Gebiets des horizontalen
MOS-Schalters 9 in dem in 2 gezeigten
Vergleichsbeispiel auf etwa die Hälfte verringert. Abgesehen
davon ist ein Teilstück
des mit der Feldisolationsschicht 61 in Kontakt befindlichen
Source-Gebiets 62S deutlich verkleinert, wobei daher eine
Source-Sperrschichtkapazität
deutlich verringert sein kann.
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Um
eine Source-Kapazität
Csource der in 4 gezeigten
Ausführungsform
mit der von 2 zu vergleichen, ist in der
Tabelle 1 unten ein Vergleichsergebnis veranschaulicht.
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Wie
allerdings in 8 gezeigt ist, repräsentiert
entsprechend Cj die eindimensionale Sperrschichtkapazität des Source-Gebiets 62S (22S),
Cjsw die Querrichtungs-Sperrschichtkapazität der Feldisolationsschicht 61 (21)
des Source-Gebiets 62S (22S) und Cgso die
Kapazität
zwischen der Source und dem Gate. LD ist
die Source-Breite und W ist die Kanalbreite (siehe 2).
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Bei
der Berechnung eines speziellen Beispiels sind Cj =
5·10–4 F/m2, Cjsw = 3·10–10 F/m,
Cgso = 1·10–10 F/m,
W = 10 μm
und LD = 2 μm.
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Wird
nun angenommen, dass 80% der parasitären Kapazität der horizontalen Signalleitung
durch die Source-Kapazität
des horizontalen MOS-Schalters eingenommen wird, dann wird die parasitäre Kapazität CB der horizontalen Signalleitung 40 um
etwa 40% unter die Bedingungen in der obigen Tabelle 1 verringert,
wenn der horizontale MOS-Schalter 39 der in 4 gezeigten
Ausführungsform
verwendet wird.
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Wenn
beispielhaft die Kapazität
CL des Lastkapazitätselements 38 (8)
1 pF ist, die Kapazität
Cn des Erfassungskapazitätselements 44 (14)
1 pF ist, die parasitäre
Kapazität
CB von 7 10 pF
ist und die Verstärkung –G des Differenzverstärkers 43 (13)
20 ist, ergibt gemäß der Gleichung
(1) ein errechnetes Ergebnis des in 2 gezeigten
Vergleichsbeispiels 0,62, wobei ein errechnetes Ergebnis des erfindungsgemäßen Beispiels
von 4 0,714 ergibt. Folglich kann die Empfindlichkeit
um 14% erhöht
werden.
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Wenn
in der tatsächlichen
Praxis die parasitäre
Kapazität
CB der horizontalen Signalleitung 40 verringert
wird, kann gleichzeitig damit die Kanalbreite des horizontalen MOS-Schalters 39 verringert
werden. Deshalb wird die Source-Kapazität des horizontalen
MOS-Schalters 39 verringert, wobei daher die Empfindlichkeit viel
mehr verbessert werden kann.
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Da
der horizontale MOS-Schalter 39 gemäß dieser Ausführungsform
zwei Drains und zwei Gates für eine
Source enthält,
ist die Breite des horizontalen MOS-Schalters 39 in der
horizontalen Richtung vergrößert. Im
Ergebnis wird häufig
beobachtet, dass ein horizontaler MOS-Schalter nicht in den horizontalen
Abstand des Pixel-MOS-Transistors 32 eingefügt werden
kann.
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9 zeigt
eine zweite Ausführungsform,
die den oben genannten Nachteil der ersten Ausführungsform verbessern kann.
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In
der zweiten Ausführungsform
sind horizontale MOS-Schalter 39, die in der horizontalen
Richtung benachbarten Pixel-MOS-Transistoren 32 entsprechen, über eine
horizontale Signalleitung 40 hinweg in der oberen und der
unteren Richtung angeordnet. Genauer ist jeder horizontale MOS-Schalter,
der jedem zweiten Pixel-MOS-Transistor 32 in der horizontalen
Richtung entspricht, über
der horizontalen Signalleitung 40 angeordnet und mit der
horizontalen Signalleitung 40 verbunden, wobei jeder horizontale
MOS-Schalter 39, der jedem anderen zweiten Pixel-MOS-Transistor 32 entspricht,
unter der horizontalen Signalleitung 40 angeordnet und
mit der horizontalen Signalleitung 40 verbunden ist.
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Eine
Struktur des horizontalen MOS-Schalters 39 ist die gleiche,
wie diejenige, die in 4 gezeigt ist. Das Entwurfsmuster
des horizontalen MOS-Schalters gemäß der in 9 gezeigten
zweiten Ausführungsform
wird vorteilhaft, wenn der horizontale Abstand des Pixel-MOS-Schalters 32 eng
ist.
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10 zeigt
einen Entwurf eines horizontalen MOS-Schalters gemäß einer
dritten Ausführungsform, der
erhalten wird, wenn der horizontale Abstand des Pixel-MOS-Transistors 32 enger
als die Breite des horizontalen MOS-Schalters 39 ist. Gemäß dieser
Ausführungsform
sind mehrere, d. h. zwei, horizontale Signalleitungen 40A und 40B bereitgestellt,
wobei die horizontalen MOS-Schalter 32,
die den in der horizontalen Richtung benachbarten Pixel-MOS-Transistoren 32 entsprechen,
getrennt mit der ersten und der zweiten horizontalen Signalleitung 40A und 40B verbunden
sind.
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Genauer
sind die horizontalen MOS-Schalter 39, die allen zweiten
Pixel-MOS-Transistoren 32 in
der horizontalen Richtung entsprechen, und die horizontalen MOS-Schalter 39,
die allen anderen zweiten Pixel-MOS-Transistoren 32 entsprechen,
in zwei Stufen angeordnet. Die horizontalen MOS-Schalter 39 in
der ersten Stufe sind mit der ersten horizontalen Signalleitung 40A verbunden
und die horizontalen MOS-Schalter 39 in der zweiten Stufe
sind mit der zweiten horizontalen Signalleitung 40B verbunden.
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Eine
Transistorstruktur des horizontalen MOS-Schalters ist ähnlich der
von 4.
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Die
Enden der beiden horizontalen Signalleitungen 40A, 40B können elektrisch
verbunden sein, wobei sie an eine Ladungserfassungsschaltung 46 angeschlossen
sein können,
oder es kann jede Ladungserfassungsschaltung 46 mit den
Signalleitungen 40A, 40B (ein so genannter Zweileitungsausgang)
verbunden sein. In dieser Ausführungsform
sind die Ladungserfassungsschaltungen 46A und 46B mit
den horizontalen Signalleitungen 40A bzw. 40B verbunden.
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Gemäß dieser
Ausführungsform
können,
selbst wenn der horizontale Abstand des Pixel-MOS-Transistors 32 schmaler
als die Breite der horizontalen MOS-Schalter 39 ist, die horizontalen
MOS-Schalter angeordnet werden, wobei die Festkörper-Bildaufnahmevorrichtung
gemäß der Erfindung
für eine
Packung hoher Dichte geeignet sein kann. Falls die Ladungserfassungsschaltung 46 für jede der
horizontalen Signalleitungen 40 [40A und 40B]
bereitgestellt ist, kann eine Taktfrequenz der Horizontalabtastschaltung 41 auf
die Hälfte
verringert werden, wobei daher die Frequenzkenngröße der Ladungserfassungsschaltung 40 gesenkt
werden kann, wodurch es möglich
wird, einen S/N-Abstand (Signal-Rausch-Abstand)
zu verbessern.
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11 zeigt
ein Entwurfsmuster des horizontalen MOS-Schalters 39 gemäß einer
vierten Ausführungsform
der Erfindung.
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Das
Entwurfsmuster gemäß dieser
Ausführungsform
ist eine Kombination der Entwurfsmuster der 9 und 10.
Wie in 11 gezeigt ist, sind mehrere,
in dieser Ausführungsform
zwei, horizontale Signalleitungen 40A und 40B bereitgestellt.
Ferner sind horizontale MOS-Schalter 39, die den ersten
jeweils drei Pixel-MOS-Transistoren in der horizontalen Richtung
entsprechen, in der oberen Richtung über die erste horizontale Signalleitung 40A hinweg
angeordnet, horizontale MOS-Schalter 39, die deb zweiten
jeweils drei Pixel-MOS-Transistoren
entsprechen, sind in der oberen Richtung über die zweite horizontale
Signalleitung 40B hinweg angeordnet, horizontale MOS-Schalter 39,
die den dritten jeweils drei Pixel-MOS-Transistoren entsprechen,
sind in der unteren Richtung über
die erste horizontale Signalleitung 40A hinweg angeordnet
und horizontale MOS-Schalter 39, die den vierten jeweils
drei Pixel-MOS-Transistoren entsprechen, sind in der unteren Richtung über die
zweite Signalleitung 40B hinweg angeordnet.
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Die
in der oberen und der unteren Richtung der ersten horizontalen Signalleitung 40A angeordneten horizontalen
MOS-Schalter 39 sind mit der ersten horizontalen Signalleitung 40A verbunden,
während
die in der oberen und der unteren Richtung der zweiten horizontalen
Signalleitung 40B angeordneten horizontalen MOS-Schalter 39 mit
der zweiten horizontalen Signalleitung 40B verbunden sind.
Die Gates der über
der ersten und der zweiten Signalleitung 40A und 40B angeordneten
horizontalen MOS-Schalter 39 sind gemeinsam verbunden,
wobei sie ferner mit der Horizontalabtastschaltung 41 verbunden
sind. Die Gates der unter der ersten und der zweiten Signalleitung 40A und 40B angeordneten
horizontalen MOS-Schalter 39 sind gemeinsam verbunden,
wobei sie ferner mit der Horizontalabtastschaltung 41 verbunden
sind. Die Struktur des horizontalen MOS-Schalters 39 ist
die gleiche wie die von 4.
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Die
Enden der beiden horizontalen Signalleitungen 40A und 40B können elektrisch
verbunden und an eine Ladungserfassungsschaltung 46 angeschlossen
sein. Alternativ kann jede Ladungserfassungsschaltung 46 mit
zwei horizontalen Signalleitungen 40A und 40B verbunden
sein. In dieser Ausführungsform
sind die Ladungserfassungsschaltungen 46A und 46B mit
den zwei horizontalen Signalleitungen 40A bzw. 40B verbunden.
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Gemäß dem Entwurfsmuster
dieser Ausführungsform
kann die Festkörper-Bildaufnahmevorrichtung für den Fall
eingesetzt werden, dass der horizontale Abstand der Pixel-MOS-Transistoren
weiter verengt wird.
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Gemäß der oben
erwähnten
Ausführungsform
kann die Erfassungsempfindlichkeit vergrößert werden, da die Source-Kapazität des mit
der horizontalen Signalleitung 40 verbundenen horizontalen
MOS-Schalters 39 deutlich verringert ist. Mit anderen Worten
die Verstärkung
der Ladungserfassungsschaltung 46 kann vergrößert werden,
wobei daher der S/N-Abstand verbessert werden kann.
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Während der
horizontale MOS-Schalter 39 eine solche Transistorstruktur
besitzt, dass die Drain-Gebiete 62D1 , 62D2 auf beiden Seiten des mittleren Source-Gebiets 62S angeordnet
sind, so dass Kanäle
in den beiden Richtungen geschaffen sind, wie oben beschrieben ist,
kann das Prinzip der Erfindung außerdem auf andere Transistorstrukturen,
die in den 12, 13 und 14 gezeigt
sind, angewendet werden.
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Bei
einem in 12 gezeigten horizontalen MOS-Schalter 39 ist
ein umgekehrt U-förmiges
Drain-Gebiet 62D3 in einer den
beiden Seiten und der oberen Seite des mittleren Source-Gebiets 62S gegenüberliegenden
Beziehung lückenlos
ausgebildet, wobei eine Gate-Elektrode 63G3 zwischen
den beiden Gebieten 62S und 62D3 durch
eine Gate-Isolationsschicht ausgebildet ist, wodurch ein Kanal in
den drei Richtungen ausgebildet ist. In 12 bezeichnet
das Bezugszeichen 63S eine Source-Elektrode und 63D3 dementsprechend eine Drain-Elektrode.
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Bei
einem in 13 gezeigten horizontalen MOS-Schalter 39 ist
ein umgekehrt L-förmiges
Drain-Gebiet 62D4 in einer einem
Seitenabschnitt und einem oberen Seitenabschnitt des Source-Gebiets 62S gegenüberliegenden
Beziehung ausgebildet, wobei eine Gate-Elektrode 63G4 zwischen den beiden Gebieten 62S und 62D4 durch die Gate-Isolationsschicht ausgebildet
ist, wodurch Kanäle
in den zwei Richtungen ausgebildet sind. In 13 bezeichnet
das Bezugszeichen 63S eine Source-Elektrode und 63D4 bezeichnet dementsprechend eine Drain-Elektrode.
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Bei
einem in 14 gezeigten horizontalen MOS-Schalter 39 ist
ein Drain-Gebiet 62D5 so ausgebildet, dass es das Source-Gebiet 62S umgibt,
wobei eine Gate-Elektrode 63G5 zwischen
den beiden Gebieten 62S und 62D5 durch
eine Gate-Isolationsschicht ausgebildet ist, wodurch ein Kanal in
der 360°-Ausrichtungen ausgebildet
ist. In 14 bezeichnet das Bezugszeichen 63S eine
Source-Elektrode, wobei 63D5 dementsprechend
eine Drain-Elektrode bezeichnet.
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Im
Fall, dass die horizontalen MOS-Schalter 39 die in den 12 bis 14 gezeigten
Transistorstrukturen aufweisen, kann die Source-Kapazität im Vergleich
zu dem oben erwähnten
Vergleichsbeispiel verringert werden, wobei die parasitäre Kapazität CB der horizontalen Signalleitung 40 herabgesetzt
werden kann, wodurch es möglich
wird, die Erfassungsempfindlichkeit zu verbessern.
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Während die
Festkörper-Bildaufnahmevorrichtung
mit Verstärkung
gemäß der Erfindung
die Ladungserfassungsschaltung 46 als das Signalerfassungsmittel
verwendet, das mit der horizontalen Signalleitung verbunden ist,
ist die Erfindung nicht darauf eingeschränkt, wobei eine Signalladung
durch einen Ver stärker
mit einer auf Masse gelegten Basis oder einem Lastwiderstand in
eine Spannung zurückgewandelt
werden kann.
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Während die
Erfindung auf die Festkörper-Bildaufnahmevorrichtung
mit Verstärkung
und einem Kapazitätslastbetrieb-System
angewendet ist, kann das Prinzip der Erfindung ferner auch auf andere
Festkörper-Bildaufnahmevorrichtungen
mit Verstärkung
und MOS-Festkörper-Bildaufnahmevorrichtungen
usw. angewendet werden.
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Gemäß der Festkörper-Bildaufnahmevorrichtung
der Erfindung kann die Source-Kapazität des mit der horizontalen
Signalleitung verbundenen horizontalen Schalters deutlich verringert
werden, wobei daher die Erfassungsempfindlichkeit, d. h. die Verstärkung des
Signalerfassungsmittels, vergrößert werden
kann, wodurch der S/N-Abstand verbessert wird.
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Gemäß der Festkörper-Bildaufnahmevorrichtung
der Erfindung kann der horizontale Abstand der Pixel verengt werden,
wenn die horizontalen Schalter, die den in der horizontalen Richtung
benachbarten Pixeln entsprechen, in der oberen und der unteren Richtung über die
horizontale Signalleitung hinweg angeordnet werden.
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Ferner
können
gemäß der Festkörper-Bildaufnahmevorrichtung
der Erfindung die horizontalen Schalter angeordnet werden, selbst
wenn der horizontale Abstand der Pixel schmaler als die Breite eines
horizontalen Schalters ist, da die horizontalen Schalter, die mehrere
horizontale Signalleitungen aufweisen und die horizontalen Pixeln
entsprechen, auf jeweilige horizontale Signalleitungen verteilt
und mit ihnen verbunden werden.
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Abgesehen
davon können
gemäß der Festkörper-Bildaufnahmevorrichtung
der Erfindung die horizontalen Schalter angeordnet werden, auch
wenn der horizontale Abstand der Pixel weiter verengt wird, wenn
die horizontalen Schalter, die mehrere horizontale Signalleitungen
aufweisen und die den Pixeln einer horizontalen Leitung entsprechen,
auf mehrere horizontale Signalleitungen verteilt und mit ihnen verbunden
werden sowie in der oberen und der unteren Richtung über jede
horizontale Signalleitung hinweg angeordnet werden.
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Während die
bevorzugten Ausführungsformen
der Erfindung anhand der bei gefügten
Zeichnung beschrieben sind, ist die Erfindung selbstverständlich nicht
auf diese genauen Ausführungsformen
beschränkt, wobei
durch den Fachmann auf dem Gebiet Änderungen und Abwandlungen
daran ausgeführt
werden können,
ohne von dem Umfang der Erfindung, wie er in den beigefügten Ansprüchen definiert
ist, abzuweichen.