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Die vorliegende Erfindung betrifft
generell die Kathodenemissionssysteme mit Elektronenemission durch
Feldeffekt, wie z. B. die flachen Matrixbildschirme, die für die Bildanzeige
benutzt werden. Sie betrtfft noch genauer ein Verfahren, das ermöglicht,
die Charakteristika der Mikrospitzenkathoden und ihre Gleichmäßigkeit
auf großen
Flächen
zu verbessern.
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Ein solches Mikrospitzen-Emissionssystem und
sein Herstellungsvertahren werden detailliert z. B. in dem Dokument
FR-A-2 593 953 vom 24.01.1986 beschrieben. Zunächst soll an die bekannte Herstellungstechnik
solcher Mikrospitzen bei einer Struktur wie derjenigen erinnert
werden, die mit Bezug auf die beigefügten 1, 2 und 3 aus dem oben erwähnten Dokument
hervorgeht.
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Die 1 zeigt
eine schon entwickelte Struktur mit einem von einem Isolator 7 überdeckten
Substrat 6, einem System aus leitenden Kathoden 8,
in gekreuzter Form überdeckt
von Gittern 10a und mit einem Zwischenisolator 12 sowie
einer Schicht 23, z. B. aus Nickel, an der Oberfläche abgeschieden,
um bei den Herstellungsoperationen der Mikrospitzen als Maske zu
dienen. Diese Nickelschicht 23, die Gitter 10a und
der Isolator 12 bilden Löcher 16, auf deren Boden
die zukünftigen
Mikrospitzen abgeschieden werden, die aus einem leitenden Metall
bestehen, das elektrisch mit der Kathodenelektrode 8 verbunden
ist.
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Die Herstellung der Mikrospitzen
erfolgt, wie in der 2 dargestellt.
Man beginnt z. B. damit, auf der gesamten Struktur eine Molybdänschicht 18a abzuscheiden.
Diese Schicht 18a weist eine Dicke von ungefähr 1,8 μm auf. Sie
wird bezüglich
der Struktur-Oberfläche
mit rechtwinkligem Einfall abgeschieden. Diese Abscheidungstechnik
ermöglicht,
Molybdän-Kegel 18 mit
einer Höhe
von 1,2 bis 1,5 μm
herzustellen, die sich in den Löchern 16 befinden.
Anschließend
löst man
die Nickelschicht 23 mit einem elektrochemischen Verfahren
selektiv auf, um, wie dargestellt in der 3, die perforierten Gitter 10a,
z. B. aus Niobium, und die elektronenemittierenden Mikrospitzen 18 freizulegen.
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Bis auf einige technische Varianten
wird die derart mit Bezug auf die 1, 2 und 3 beschriebene bekannte Technik bis heute
angewandt, um die Mikrospitzen der Systeme mit Emissionskathode
herzustellen.
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Leider weisen die derart hergestellten
Mikrospitzen gewisse Mängel
auf. Diese Mängel
beruhen zunächst
darauf, dass die vorhergehende Methode kaum zulässt, Mikrospitren herzustellen,
deren Form von einer Spitze zur anderen und/oder einer Kathode zur
anderen reproduzierbar wäre,
vor allem nicht auf großen
Flächen
bei einer Serienproduktion. Sie beruhen auch auf der Tatsache, dass
die hergestellten Mikrospitren außerdem weit davon entfernt
sind, immer die perfekte konische Form aufzuweisen, wie sie mit Bezugszeichen 18 in
den 2 und 3 zu sehen ist. Sie sind
nämlich
häufig
von ungleichmäßiger Form und
viele weisen einen viel zu großen
Krümmungsradius
auf, was ihnen ein kuppelförmiges
Profil verleiht, wie zu sehen in der 4.
Dieses kuppelförmige Profil
reduziert insbesondere erheblich ihre Emissionsfähigkeit, d. h. die für eine bestimmte
Mikrospitzen-Gitterspannung emittierte Stromdichte.
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Andererseits erfordert die Herstellung
der Kathode wenigstens einen Photolithographie-Schritt nach der
Herstellung der Spitzen, insbesondere zur Definition der die Gitter
bildenden leitenden Streifen. Dieser Schritt verursacht große Verunreinigungsrisiken
der Spitzen (organische Rückstände, Reinigungsspuren,
...).
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Nun variiert die Emissionsfähigkeit
einer Mikrospitze exponential mit der Form ihrer Spitze und ihrem
Oberflächenzustand.
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Unter diesen Bedingungen stellt nur
ein kleiner Teil der Mikrospitren den elektrischen Strom des Systems
sicher. Aus diesem Grund ist der Mittelwertseffekt (effet de moyenne)
schlecht und die Emission nicht gleichmäßig über die gesamte Kathode verteilt.
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Die Patentanmeldung EP-434330 lehrt
einen Angriff auf die Spitzen nach ihrer Herstellung, um ihren Krümmungsradius
zu reduzieren. Aber dieses Verfahren eignet sich nicht für großflächige Kathoden.
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Darstellung
der Erfindung
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Ein erfindungsgemäßes Verfahren zur Herstellung
von Mikrospitzenelektronenquellen ermöglicht, zugleich den Oberflächenzustand
der Mikrospitren gleichmäßig zu machen
und ihre Geometrie zu verfeinern.
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Dieses Verfahren ermöglicht also,
indem es die Streuungen von einer Spitze zur anderen und von einer
Quelle zur anderen reduziert, die vorhergehenden Nachteile zu beseitigen
und die Herstellung von Mikrospitrenkathoden mit gleichmäßigen und
reproduzierbaren Eigenschaften, die ein hohes Emissionsniveau haben,
leichter zu machen.
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Noch genauer unterzieht ein Herstellungsverfahren
einer erfindungsgemäßen Mikrospitren-Elektronenquelle,
die ein Kathodenleitersystem, überlagerte
Gitter mit einem Zwischenisolator und Mikrospitren umfasst, wobei
die Gitter geometrisch zwischen einer unteren Ebene und einer oberen
Ebene enthalten sind, die Mikrospitren:
- - einem
ersten Reinigungsschritt, und dann
- - einem Verfeinerungsschritt durch Oberflächenätzung.
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Mit anderen Worten schlägt das Verfahren vor,
nach der Herstellung der Mikrospitzen, so wie sie z. B. in dem Dokument
FR-A-2 953 erklärt
wird, zunächst
einen ersten Reinigungsschritt durchzuführen, der ermöglicht,
den Oberflächenzustand
gleichmäßig zu machen,
und dann einen Verfeinerungsschritt, aus einer zusätzlichen Ätzung bestehend,
um den Mikrospitren ein Profil zu verleihen, das der erwünschten
Idealform möglichst
nahe kommt, d. h. mit einem Krümmungsradius,
der so klein wie möglich
ist (kleiner als einige Deka-Nanometer).
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In der Praxis besteht diese Optimierung dann,
den Mikrospitren ein Profil zu verleihen, das einem spitz zulaufenden
Konus möglichst
nahe kommt, oder, anders ausgedrückt,
zu versuchen, einen höheren
Spitzen-Effekt zu verwirklichen, um eine große Amplitude des elektrischen
Feldes zu garantieren.
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Vorteilhafterweise folgt auf den
Verteinerungsschritt ein zweiter Reinigungsschritt, der aus einer
nasschemischen Reinigung besteht.
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Vorzugsweise umfasst der erste Reinigungsschritt
einen ersten Teilschritt der nasschemischen Reinigung und einen
zweiten Teilschritt der Reinigung mit Plasma, z.B. O2-Plasma.
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Der Verteinerungsschritt durch Oberflächenätzung kann
durch. irgendeine der bekannten Methoden realisiert werden, insbesondere
dem kontrollierten chemischen oder elektrochemischen Angriff, dem
Angrift durch reaktives Ionenätzen
und dem Angriff durch Ionenbeschuss.
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Nach einer Anwendungscharakteristik
des Verfahrens erfolgt der Mikrospitzen-Oberflächenangriff über eine
Dicke von einigen zehn bis einigen tausend Angström.
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Einer der Vorteile des Verfahrens
besteht dann, dass es sich für
die Behandlung sehr großer Emissionsflächen eignet,
so wie man sie insbesondere bei den flachen Bildschirmen vorfindet.
Das Verfahren ermöglicht
also, die bis heute erhaltene Annäherungsform der Mikrospitren
auf sehr einfache Weise zu verbessern und, indem man die Streuungen der
Emissionscharakteristika von einem Punkt zum andern beseitigt, ein
sehr hohes Elektronenemissionsniveau zu ermöglichen, das deutlich über dem
der vorhergehenden Technik liegt. Dies ermöglicht auch, die zwischen den
Gittern und den Kathodenleitern zur Elektronenextraktion nötige Versorgungsspannung
zu reduzieren.
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Generell besteht das Prinzip des
Verfahrens dann, eine Herstellungsmethode der Mikrospitzen zu wählen, die
diesen eine angenäherte
Form verleiht (bei großen
Flächen
leichter und billiger herzustellen), dann die Mikrospitren zu reinigen
und schließlich
ihren Krümmungsradius
zu verbessern und zu homogenisieren, insbesondere mittels eines
reaktiven Ionenätrens
oder anderer Methoden der chemischen oder elektrochemischen Ätzung.
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Die Anwendung des Verfahrens ist
besonders vorteilhaft, wenn die Mikrospitren durch wenigstens zwei
Teile gebildet werden:
- – einem ersten, als Basis dienenden,
im wesentlichen kegelstumpfförmigen
Teil, aus einem ersten leitenden Material bestehend, derart gewählt, dass
es durch den Verfeinerungsschritt nicht oder nur wenig angegriffen
wird,
- – einem
zweiten Teil, der die eigentliche Spitze bildet und auf dem ersten
Teil abgeschieden wird, wobei dieser zweite Teil aus einem zweiten
leitenden Material besteht, das derart gewählt wird, dass es durch den
Verfeinerungsschritt angegriffen wird.
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Vorzugsweise hat der erste Teil (Basis)
eine solche Höhe,
dass sich seine Spitze bzw. Oberseite ungefähr auf derselben Höhe wie die
untere Ebene des Gitters befindet.
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Der Vorteil, dieses Verfahren in
diesem speziellen Fall anzuwenden, wird in der Folge beschrieben.
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Wenn die Mikrospitzen durch ein einziges,
im Verteinerungsschritt empfindliches Material gebildet werden,
muss die Verfeinenangszeit kontrolliert werden: wenn sie zu lang
ist, kann sich die Spitze der Mikrospitze schnell unterhalb der
unteren Ebene des Gitters befinden, was für die Elektronenemission sehr
nachteilig ist. Wenn sie zu kurz ist, wird der Krümmungsradius
nicht optimal und der durch die Verfeinerung angestrebte Effekt
wird nicht erzielt.
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Wenn hingegen die Mikrospitren durch
zwei Teile gebildet werden, wie oben beschrieben, muss die Verfeinerungszeit
zwar ausreichend lang sein, um den optimalen Krümmungsradius der Spitze zu erhalten,
jedoch bleibt, wenn sie zu lang ist, die Spitze der Mikrospitze
immer über
der unteren Ebene des Gitters, da sie auf dem nicht angegriffenen
oder wenig angegriffenen Material ruht.
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Nach einem Ausführungsbeispiel besteht der erste
Teil aus Niobium (Nb) und der zweite Teil aus Molybdän oder Chrom
oder Silizium oder Eisen oder Nickel.
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Die Erfindung hat eine Mikrospitren-Elektronenquelle
zum Gegenstand, die ein Kathodenleitersystem, überlagerte Gitter mit einem
Zwischenisolator und Mikrospitzen umfasst, die in Löchern abgeschieden
sind, die in den Gittern und dem Isolator vorgesehen sind, wobei
die Giften geometrisch zwischen einer unteren Ebene und einer oberen
Ebene enthalten sind, dadurch gekennzeichnet, dass die Mikrospitzen
jeweils wenigstens zwei Teile umfassen:
- – einen
ersten, kegelstumpfförmigen
Teil mit der Höhe
H, der durch ein erstes leitendes oder halbleitendes Material gebildet
wird,
- – einen
zweiten Teil, einen konischen Punkt bildend, abgeschieden auf dem
ersten Teil und gebildet durch ein zweites leitendes oder halbleitendes
Material,
wobei das erste und das zweite Material
so gewählt werden,
dass das zweite Material in Bezug auf das erste Material durch eine
selektive Ätzung
verfeinert werden kann, und diese Ätzung ein kontrollierter chemischer
oder elektrochemischer Angriff, ein reaktives Ionenätzen oder
ein Ionenbeschuss ist.
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Die Höhe H wird vorzugsweise so gewählt, dass
sich die Spitze bzw. Oberseite des ersten Teil im wesentlichen in
Höhe der
unteren Ebene der Gitter befindet.
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Die Erfindung betrifft also Quellen,
bei denen die Mikrospitzen nicht direkt auf den Kathodenleitern abgeschieden
werden, sondern zum Beispiel auf einer resistiven Schicht; eingefügt zwischen
den Mikrospitzen und den Kathodenleitern.
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Kurzbeschreibung
der Zeichnungen
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Die Charakteristika und Vorteile
der Erfindung gehen besser aus der nachfolgenden Beschreibung hervor.
Diese Beschreibung betrifft erläuternde und
nicht einschränkende
Ausführungsbeispiele,
bezogen auf die beigefügten
Zeichnungen:
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die 1 bis 3 zeigen verschiedene Schritte zur
Bildung von Mikrospitzen eines bekannten Verfahrens nach dem Stand
der Technik,
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die 4 zeigt
schematisch die Form der durch ein bekanntes Verfahren hergestellten
Mikrospitzen,
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die 5 stellt
schematisch das erwünschte konusförmige Profil
dar,
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die 6a und 6b zeigen einerseits die Emissionsfähigkeit
der Mikrospitzen vor und nach der Verfeinerungsbehandlung und andererseits
vor und nach dem zweiten Reinigungsschritt,
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die 7a, 7b und 7c zeigen schematisch die für die Mikrospitzen
aus einem einzigen Metall erzielten Formen im Falle einer übertriebenen
bzw. unzureichenden bzw. optimalen Verfeinerung,
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die 8a bis 8c zeigen das Verfeinerungsverfahren
bei einer zweiteiligen Mikrospitze.
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Detailliertes
Beispiel von Ausführungsarten
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Die Schritte des erfindungsgemäßen Verfahrens
vervollständigen
die bekannten Verfahren zur Bildung von elektronenemittierenden
Mikrospitrenkathoden. Ein solches Verfahren wird z. B. in dem Dokument
FR-A-2 593 953 beschrieben (entspricht dem amerikanischen Patent
US-A-4 857161). Resümierend
umfasst es die folgenden Schritte:
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- - Sputtern einer Siliziumdioxidschicht 7 von
ungefähr
100 nm auf das Substrat 6 (s: 1),
- – Sputtern
einer ersten, leitenden Schicht aus Indiumoxid, in der die Kathodenleiter 8 realisiert werden
(Dicke ungefähr
160 nm), auf die Schicht 7,
- – Ätzen der
ersten leitenden Schicht, um erste parallele Streifen oder Kathodenleiter 8 zu
bilden,
- – Chemische
Gasphasenabscheidung (aus Silan-, Phosphin-, Sauerstoffgas) einer
zweiten, isolierenden Schicht aus Siliziumdioxid von ungefähr 1 μm Dicke (12),
- – Abscheiden
einer dritten, leitenden Schicht durch Aufdampfen unter Vakuum,
in der die Gitter 10a (Niobium, ungefähr 0,4 μm dick) ausgebildet werden,
- – Öffnen der
Löcher 16 (Durchmesser
ungefähr 1,3 μm) in der
dritten, leitenden Schicht durch reaktives Ionenätren (RIE) unter Verwendung
eines SF6-Plasmas, und in der zweiten Schicht 12 durch reaktives
Ionenätzen
in einem CHF3-Plasma oder durch chemischen
Angriff in einer Lösung
aus Flusssäure
und Ammoniumfluorid.
- – Abscheiden
einer Nickelschicht 23 (2) durch
Aufdampfen unter Vakuum mit streifendem Einfall in Bezug auf die
Oberfläche
der Struktur, wobei der Winkel α,
gebildet zwischen der Aufdampfungsachse und der Schicht 10a,
ungefähr 15° beträgt. Die
Nickelschicht weist eine Dicke von ungefähr 150 nm auf,
- – Bildung
der Mikrospitren durch ein in der Einführung der vorliegenden Anmeldung
in Verbindung mit den 2 und 3 beschriebenes Verfahren,
- – Ätzen der
dritten Schicht, um parallel zu den Gittern die zweiten leitenden
Streifen zu bilden.
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Auf diese Schritte folgt zunächst ein
Reinigungsschritt, der die Aufgabe hat, vor jedem anderen Schritt
den Zustand der Oberfläche
gleichmäßig zu machen.
Diese Reinigungsschritt kann zwei Teilschritte umfassen:
- – eine
nasschemische Reinigung in einem Laugenbad (TFD4 mit 10% in Wasser)
bei 60°C,
unterstützt
durch Ultraschall, während
ungefähr
5 Minuten,
- – eine
Reinigung durch reaktives Ionenätren
in einem Sauerstoffplasma z. B. mit Hilfe einer Ausrüstung, die
im Handel unter der Bezeichnung NEXTRAL 550 erhältlich ist.
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Letztere Operation, die ungefähr zehn
Minuten dauert, erfolgt z. B. mit einer Leistung von 250 W, einem
Plasmadruck von 100 mTorr und einem Durchsatz von 100 cm3/mn.
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Auf den Reinigungsschrtt folgt ein
Verfeinerunngs- oder Ätzschritt
der Spitzen. Für
Molybdänspitzen
z. B. durch reaktives Ionenätren
in einem SF6-Plasma (mit der gleichen Ausrüstung wie
oben). Dieser Schritt ermöglicht
die Beseitigung einer Molybdänoxidschicht,
die sich bei der Reinigung mit O2-Plasma
gebildet haben könnte.
Er ermöglicht auch
eine Ätzung
der Mikrospitren, mit der ihre Form modifiziert und insbesondere
ihr Krümmungsradius reduziert
werden kann. Die Wirkbedingungen des Schwefelhexafluorid-Plasmas
sind z. B. folgende: die Operation dauert ungefähr 20 Sekunden mit einer Leistung
von 400 W, einem Durchsatz von 40 cm3/mn unter
einem Plasmadruck von ungefähr
30 mTorr. Am Ende dieser Behandlung hat ein großer Teil der Mikrospitren dasselbe
Profil, das sich dem Idealprofil des Kegels der 5 annähert,
und einen sehr gleichmäßigen Oberflächenzustand.
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Die 6a ist
eine Kurve, die die Emissionsfähigkeit
der Mikrospitzen vor (gestrichelt) und nach (Vollstrich) der Verfeinerungsbehandlung
zeigt. In diesem Diagramm ist die Stromdichte in μA/mm2 als Ordinate aufgetragen, und die Gitter-Mikrospitzen-Spannung
als Abszisse. Die Zunahme der Emissionsfähigkeit infolge der Behandlung
zeigt sich deutlich. Man erhält
also tatsächlich
Mikrospitren, bei denen der Endkrümmungsradius kleiner als einige
Deka-Nanometer ist.
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Die 6b zeigt
die Emissionsfähigkeit
(mit denselben Einheiten wie die 6a)
von Mikrospitren nach der Verfeinerung aber vor (gestrichelt) und nach
(Vollstrich) dem zweiten Reinigungsschritt. Man sieht, dass dieser
zweite Reinigungsschritt eine weitere Verbesserung der Emissionsfähigkeit
um einen großen
Faktor ermöglicht.
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Andere Verfeinerungsverfahren der
Spitzen können
alternativ zu den oben genannten angewandt werden, z. B. der kontrollierte
chemische (oder elektrochemische) Angriff oder der Ionenbeschuss.
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Vorteilhafterweise kann man außerdem den zweiten
nasschemischen Reinigungsschrtt in dem oben erwähnten Laugenbad während einer
Dauer von ungefähr
30 Minuten realisieren.
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Die Dauer, während der man den Verfeinerungsschritt
realisiert, muss kontrolliert werden, falls die Mikrospitren aus
einem einzigen, für
die Verfeinerung empfindlichen Metall bestehen, z. B. aus Molybdän.
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Das Gitter 10a ist geometrisch
zwischen zwei Ebenen enthalten oder wird durch diese begrenzt, nämlich eine
untere Ebene (I) und eine obere Ebene (S) (s. 7a, in der wie in den 7b, 7c, 8a–c die Bezugszeichen 6, 8, 10a, 12 dieselbe
Bedeutung wie in den 1 bis 5 haben).
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Wenn die Verfeinerungsdauer zu groß ist, befindet
sich die Spitze 18, wie dargestellt in der 7a, sehr schnell unterhalb der unteren
Ebene I des Gitters 10a; was für die Emission sehr nachteilig ist.
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Wenn die Verfeinerungsdauer zu kurz
ist, wird der Krümmungsradius
nicht optimal (s. 7b) und
die erwünschte
Wirkung wird nicht erzielt.
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Bei der Struktur mit einem einzigen
Metall muss die Verfeinerungszeit nämlich ausreichend lang sein,
um den optimalen Krümmungsradius
zu erhalten, darf aber, damit die Spitze über der unteren Ebene I bleibt
(7c), nicht zu lang
sein.
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Wenn hingegen die Spitze durch wenigstens zwei übereinanderliegende
Metalle gebildet wird, ist die Verfeinerungszeit, wie man in der
Folge sehen wird, sehr viel weniger kritisch.
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Die Struktur der Spitze vor der Verfeinerung ist
in der 8a dargestellt
und umfasst:
- – einen ersten Teil (oder Basis) 20,
kegelstumpfförmig
mit der Höhe
H. Er besteht aus einem ersten Material, das so gewählt wurde,
dass es durch den oben beschriebenen Verteinerungsschritt nicht
oder nur sehr wenig angegriffen wird. Dieses Material kann z. B.
Niobium sein,
- – einen
zweiten Teil 22, der den eigentlichen Punkt bildet. Er
wird direkt auf dem ersten Teil abgeschieden. Er besteht aus einem
zweiten, für den
Verfeinerungsschritt empfindlichen Material, z. B. aus Molybdän oder Chrom
(Cr) oder Silizium (Si) oder Eisen (Fe) oder Nickel (Ni).
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Ein Verfahren zum Herstellen von
Mikrospitzen mit dieser Struktur wird von dem schon in der Einleitung
beschriebenen Verfahren zur Herstellung von Mikrospitzen aus nur
einem einzigen Metall abgeleitet. Man beginnt mit dem Abscheiden
einer Schicht 18a, z. B. aus Niobium, auf der Nickelschicht 23 durch
Aufdampfen im Vakuum unter normalem bzw. rechtwinkligem Einfall,
wie dargestellt in der 2.
Es gibt ein direktes Verhältnis
zwischen der Höhe
des in dem Loch 16 abgeschiedenen Materials und der Dauer
der Aufdampfung unter Vakuum. Man kann diese Aufdampfung also unterbrechen,
wenn die erwünschte
Höhe des
die Basis bildenden Kegelstumpfs erreicht ist, und anschließend die
Aufdampfung mit dem zweiten Material, z. B. Molybdän, fortsetzen,
um den zweiten Teil 22 zu erhalten. Der Aufbau hat dann
die im wesentlichen konische Gesamtform der 8a.
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Die Höhe H der Basis 20 muss
ausreichend groß sein,
damit die Spitze A des Konus sich oberhalb der unteren Ebene des
Gitters 10a befindet. Vorzugsweise befindet sich A nach
den oben beschriebenen Abscheidungsoperationen oberhalb der oberen
Ebene des Gitters 10a; zu diesem Zweck ist die Höhe H im
wesentlichen gleich der Dicke des Isolators 12, d. h. bei
diesem Ausführungsbeispiel
gleich dem Abstand, der den Kathodenleiter 8 von der unteren
Ebne des Gitters 10a trennt.
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Wenn eine resistive Schicht zwischen
die Mikrospitren und die Kathodenleiter eingefügt wird, muss man der Dicke
dieser resistivem Schicht selbstverständlich Rechnung tragen.
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Man kann anschließend die Reinigungs- und Verfeinerungsoperationen
durchführen,
die vorhergehend beschrieben wurden. Aufgrund einer entsprechenden
Wahl der Materialien, aus denen die Teile 20 und 22 bestehen,
wird nur der Teil 22 durch die Verfeinerung angegriffen.
Die durch das Verfahren (8b oder 8c) realisierte Struktur
hat die folgende Form:
- – einen ersten, im wesentlichen
kegelstumpfförmigen
Teil mit der Höhe
H, wobei H vorzugsweise im wesentlichen gleich dem Abstand ist,
der den Kathodenleiter 8 von der unteren Ebene des Gitters 10a trennt,
d. h. im wesentlichen gleich der Dicke e des Isolators 12;
z. B. ist H zwischen 0,8e und 1,1e enthalten (auch hier muss man
wieder dem eventuellen Vorhandensein einer resistiven Schicht zwischen
den Mikrospitren und den Kathodenleitern Rechnung tragen),
- – einen
zweiten konischen Teil, dessen Basis einen Durchmesser d hat, der
kleiner ist als der Durchmesser D des oberen Querschnitts des Kegelstumpfs 20.
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Die Dauer, während der man die Verfeinerung
durchführt,
muss ausreichend sein, um den angestrebten Krümmungsradius (8b) zu erhalten, wenn aber diese Dauer
länger
ist, bleibt die Spitze A der Mikrospitze immer noch über der
unteren Ebene des Gitters 10a, denn der Teil 22,
angegriffen durch die Verfeinerung, ruht auf dem Teil 20,
der durch die Verfeinerung nicht angegriffen wird. Die Spitze kann also
nur nach einer sehr viel längeren
Angriffszeit verschwinden.
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Nach dem nicht einschränkenden
Ausführungsbeispiel:
- – ist
das Isoliermaterial ein Siliziumdioxid mit einer Dicke von ungefähr 1 μm,
- – ist
das Gitter aus Niobium (Nb) mit einer Dicke von ungefähr 0,4 μm; die Löcher in
dem Gitter haben einen Durchmesser in der Größenordnung von 1,4 μm,
- – ist
das die Basis 20 der Mikrospitze bildende Material Nb mit
einer Dicke enthalten zwischen 0,8 und 1,1 μm,
- – ist
der Teil 22 aus Molybdän
mit einer Dicke, die ausreicht, um die Mikrospitze zu bilden, z.
B. 1 μm vor
der Verfeinerung, wobei die Verfeinerung dieses Teils so erfolgen
kann wie vorhergehen in dem Ausführungsbeispiel
beschrieben, wo die Mikrospitzen ganz aus Molybdän sind.
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Schließlich kann eine durch die in
der vorliegenden Erfindung beschriebene Methode hergestellte Mikrospitzenkathode
mit einer Struktur verbunden werden, die wenigstens eine Anode und
ein kathodolumineszentes Material umfasst, um eine Anzeigevorrichtung
zu realisieren wie beschrieben in den Dokumenten US.4 857 161 (FR-2
593 953), US.4 940 916, US.5 225 820 (FR-2 633 763) oder US.5 194 780
(FR-A-2 663 462).