DE69428327D1 - Verfahren und System zur Detektion einer Winkelabweichung unter Verwendung eines periodischen Musters - Google Patents

Verfahren und System zur Detektion einer Winkelabweichung unter Verwendung eines periodischen Musters

Info

Publication number
DE69428327D1
DE69428327D1 DE69428327T DE69428327T DE69428327D1 DE 69428327 D1 DE69428327 D1 DE 69428327D1 DE 69428327 T DE69428327 T DE 69428327T DE 69428327 T DE69428327 T DE 69428327T DE 69428327 D1 DE69428327 D1 DE 69428327D1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
periodic pattern
angular deviation
detecting angular
detecting
deviation
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
DE69428327T
Other languages
English (en)
Other versions
DE69428327T2 (de
Inventor
Kenji Saitoh
Koichi Sentoku
Takahiro Matsumoto
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Canon Inc
Original Assignee
Canon Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority claimed from JP25217294A external-priority patent/JP3323666B2/ja
Application filed by Canon Inc filed Critical Canon Inc
Publication of DE69428327D1 publication Critical patent/DE69428327D1/de
Application granted granted Critical
Publication of DE69428327T2 publication Critical patent/DE69428327T2/de
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70483Information management; Active and passive control; Testing; Wafer monitoring, e.g. pattern monitoring
    • G03F7/70605Workpiece metrology
    • G03F7/70616Monitoring the printed patterns
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70483Information management; Active and passive control; Testing; Wafer monitoring, e.g. pattern monitoring
    • G03F7/70605Workpiece metrology
    • G03F7/70616Monitoring the printed patterns
    • G03F7/70633Overlay, i.e. relative alignment between patterns printed by separate exposures in different layers, or in the same layer in multiple exposures or stitching
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F9/00Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically
    • G03F9/70Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically for microlithography
    • G03F9/7049Technique, e.g. interferometric

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
DE69428327T 1993-10-29 1994-10-28 Verfahren und System zur Detektion einer Winkelabweichung unter Verwendung eines periodischen Musters Expired - Lifetime DE69428327T2 (de)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP29391093 1993-10-29
JP25217294A JP3323666B2 (ja) 1994-10-18 1994-10-18 周期的パターンを用いた物体の回転ずれ検出装置及び方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
DE69428327D1 true DE69428327D1 (de) 2001-10-25
DE69428327T2 DE69428327T2 (de) 2002-07-04

Family

ID=26540582

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE69428327T Expired - Lifetime DE69428327T2 (de) 1993-10-29 1994-10-28 Verfahren und System zur Detektion einer Winkelabweichung unter Verwendung eines periodischen Musters

Country Status (3)

Country Link
US (1) US5550635A (de)
EP (1) EP0652487B1 (de)
DE (1) DE69428327T2 (de)

Families Citing this family (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3187093B2 (ja) * 1991-09-27 2001-07-11 キヤノン株式会社 位置ずれ測定装置
JP3292022B2 (ja) * 1996-01-17 2002-06-17 キヤノン株式会社 位置検出装置及びそれを用いた半導体素子の製造方法
JPH1022213A (ja) * 1996-06-28 1998-01-23 Canon Inc 位置検出装置及びそれを用いたデバイスの製造方法
JPH11241908A (ja) 1997-12-03 1999-09-07 Canon Inc 位置検出装置及びそれを用いたデバイスの製造方法
TWI240849B (en) 2000-02-10 2005-10-01 Asml Netherlands Bv Object positioning method for a lithographic projection apparatus
US7561270B2 (en) 2000-08-24 2009-07-14 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus, device manufacturing method and device manufactured thereby
TW527526B (en) 2000-08-24 2003-04-11 Asml Netherlands Bv Lithographic apparatus, device manufacturing method, and device manufactured thereby
EP1182509B1 (de) * 2000-08-24 2009-04-08 ASML Netherlands B.V. Lithographischer Apparat, Verfahren zu dessen Kalibrierung und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
US7289212B2 (en) 2000-08-24 2007-10-30 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus, device manufacturing method and device manufacturing thereby
US6562528B2 (en) 2001-06-20 2003-05-13 Nikon Corporation Method for determining and calibrating image plane tilt and substrate plane tilt in photolithography
JP4533044B2 (ja) * 2003-08-27 2010-08-25 キヤノン株式会社 センサ
JP4958614B2 (ja) * 2006-04-18 2012-06-20 キヤノン株式会社 パターン転写装置、インプリント装置、パターン転写方法および位置合わせ装置
US7573584B2 (en) 2006-09-25 2009-08-11 Asml Netherlands B.V. Method and apparatus for angular-resolved spectroscopic lithography characterization
EP2252857B1 (de) * 2008-03-10 2011-06-22 Heidelberg Instruments Mikrotechnik GmbH Verfahren und Anordnung zur Verschiebung
WO2013007285A1 (de) * 2011-07-08 2013-01-17 Carl Zeiss Industrielle Messtechnik Gmbh Korrektur und/oder vermeidung von fehlern bei der messung von koordinaten eines werkstücks
JP5841398B2 (ja) * 2011-10-07 2016-01-13 株式会社キーエンス 拡大観察装置
JP5867916B2 (ja) 2011-12-06 2016-02-24 国立研究開発法人産業技術総合研究所 露光装置および露光方法

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4433585A (en) * 1981-12-21 1984-02-28 North American Philips Corporation Device for measurement of the torsional angular deviation of a loaded rotating or static shaft
JPS6077273A (ja) * 1983-10-04 1985-05-01 Nec Corp パタ−ン位置ずれ検出装置
JPS6166926A (ja) * 1984-09-10 1986-04-05 Canon Inc ロ−タリ−エンコ−ダ−
US4804270A (en) * 1987-09-23 1989-02-14 Grumman Aerospace Corporation Multi-axis alignment apparatus
JP2756331B2 (ja) * 1990-01-23 1998-05-25 キヤノン株式会社 間隔測定装置
JP2893823B2 (ja) * 1990-03-20 1999-05-24 株式会社ニコン 位置合わせ方法及び装置
DE69133626D1 (de) * 1990-03-27 2010-03-11 Canon Kk Messverfahren und -vorrichtung
JP3029133B2 (ja) * 1990-03-27 2000-04-04 キヤノン株式会社 測定方法及び装置
JPH0480762A (ja) * 1990-07-23 1992-03-13 Canon Inc 位置検出装置及びその検出方法
JPH0540013A (ja) * 1991-08-05 1993-02-19 Canon Inc ずれ測定方法及びこの方法を用いた露光装置
JPH0590126A (ja) * 1991-09-27 1993-04-09 Canon Inc 位置検出装置
JP3187093B2 (ja) * 1991-09-27 2001-07-11 キヤノン株式会社 位置ずれ測定装置

Also Published As

Publication number Publication date
EP0652487B1 (de) 2001-09-19
DE69428327T2 (de) 2002-07-04
EP0652487A1 (de) 1995-05-10
US5550635A (en) 1996-08-27

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE69428327D1 (de) Verfahren und System zur Detektion einer Winkelabweichung unter Verwendung eines periodischen Musters
DE69422072T2 (de) System und Verfahren zur schnellen Verschlüsselung unter Verwendung eines Vielfachschlüsselgenerators
DE69032557T2 (de) Verfahren und system zur regelung eines verfahrens
DE69717516T2 (de) Verfahren zur Detektion einer Oberflächenlage und Abtastbelichtungsverfahren unter Verwendung desselben
DE68905536D1 (de) Verfahren zur anordnung der steuereinheit eines farbspritzsystems und einer farbspritzmaschine zur verwendung in einer farbspritzkabine.
DE69734614D1 (de) System und Verfahren zur Positionsbestimmung auf einer Oberfläche
DE794839T1 (de) Verfahren zur beschichtung einer oberfläche
DE58903479D1 (de) Verfahren zur wirksamschaltung eines sicherheitssystems.
DE69402661D1 (de) Verfahren zur verstärkung eines glasgegenstandes
DE69425640T2 (de) Verfahren und Vorrichtung zur selektiven Verwendung eines geeigneten Objektbesitzrechtsmodells
DE69408747T2 (de) Verfahren zur Prüfung von einer Rohrauskleidung
DE69423942T2 (de) Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung unter Verwendung einer Ellipsometrietechnik
DE59400559D1 (de) Verfahren zur überprüfung der konvertierungsfähigkeit eines katalysators
DE69122356D1 (de) Verfahren und Gerät zur Mustererkennung unter Verwendung eines neuronalen Netzwerks
DE59809907D1 (de) Verfahren und Vorrichtung zur Erkennung und Korrektur einer Faserorientierungs-Querprofil-Veränderung
DE59404052D1 (de) Verfahren zur überprüfung der konvertierungsfähigkeit eines katalysators
DE69730823D1 (de) Verfahren und vorrichtung zur aufbereitung von modulierten signalen unter verwendung einer fensterfunktion
DE69729915D1 (de) Verfahren und Vorrichtung zur ferngesteuerten Änderung von Sicherheitsmerkmalen einer Frankiermaschine
DE69408563D1 (de) Verfahren zur überwachung eines laufenden fadens
DE69401413D1 (de) Verfahren und Vorrichtung zur Steuerung von hydraulischen Systemen einer Baumaschine
AT400157B (de) Verfahren und vorrichtung zur reinigung einer umlaufenden gewebebahn
DE69626083T2 (de) System und Verfahren zur Implementierung einer Druckerarchitektur unter Verwendung veränderlicher Binarisierungsverarbeitung
DE69933787D1 (de) Verfahren und Vorrichtung zur Dekodierung eines Steuersignals unter Verwendung Pseudo-Signalen
DE59304473D1 (de) Verfahren zur überwachung eines gebietes
DE69428031T2 (de) Verfahren zur bezeichnung eines gebietes

Legal Events

Date Code Title Description
8364 No opposition during term of opposition