DE69421477T2 - Optische Wellenleiter-Vorrichtung - Google Patents

Optische Wellenleiter-Vorrichtung

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Description

  • Die vorliegende Erfindung betrifft optische Wellenleitervorrichtungen, umfassend ein optisches Wellenleitersubstrat aus ferroelektrischen Kristallen.
  • Auf dem Gebiet optischer Messsysteme, optischer Kommunikationssysteme usw. ist es bekannt, optische Wellenleitervorrichtungen herzustellen, indem dreidimensionale optische Wellenleiter in verschiedenen elektrooptischen Kristallen ausgebildet werden.
  • Als optische Wellenleitervorrichtungen sind optische Verzweigungsvorrichtungen, optische Modulationsvorrichtungen, optische Polarisationsvorrichtungen, optische Schalter, Multiplexer usw. bekannt. Die optischen Wellenleitervorrichtungen sind mit Vorteilen wie geringer Größe, guter Stabilität, niedrigem Energiebedarf und Hochgeschwindigkeits-Signalübertragung verbunden.
  • Die Anmelder untersuchten die Verwendung einer optischen Wellenleitervorrichtung, die durch Ausbilden des dreidimensionalen optischen Wellenleiters des Y-Verzweigungstyps im Substrat aus LiNbO&sub3; als Modulator für faseroptische Gyroskope hergestellt wird. In diesem Modulator wird Eicht, das auf ein Ende des optischen Wellenleiters auftrifft, in einem Verzweigungsabschnitt des optischen Wellenleiters in einem Verhältnis von 50 : 50% geteilt. Einer der geteilten Lichtanteile wird durch Anlegen einer bestimmten Spannung phasenmoduliert. Phasendifferenzen aufgrund von Sagnac-Effekten, die durch Rotation der vorliegenden optischen Systeme entstehen, werden durch die optische Wellenleitervorrichtung detektiert. Die so erhaltene Phasendifferenz wird in eine Formel miteinbezogen, aus der die Beziehung zwischen der Drehwinkelrate des optischen Systems und der Phasendifferenz ersichtlich ist, um die Drehwinkelrate zu erhalten.
  • Die Anmelder untersuchten ferner einen Mach-Zehnder-intensitätsmoduiator, der durch Anordnen eines optischen Wellenleiters des Mach-Zehnder-Typs im Substrat gebildet wird. In diesem Intensitätsmodulator wird das auf den Intensitätsmodulator auftreffende Licht geteilt. Die geteilten Lichtanteile werden jeweils durch Anlegen einer Spannung daran phasenmoduliert. Die modulierten Lichtabschnitte werden zur Interferenz gebracht, um die Intensität zu variieren.
  • Während der Untersuchungen stießen die Anmelder auf die unten beschriebenen Probleme. Im Modulator für ein faseroptisches Gyroskop ist es notwendig, das Teilungsverhältnis auf 50 : 50 einzustellen. Insbesondere im Modulator für ein faseroptisches Gyroskop ist der zulässige Bereich des Teilungsverhältnisses jedoch sehr klein. Wenn nämlich das Teilungsverhältnis nicht 50 : 50 beträgt, variiert die detektierte Drehwinkelrate stark, selbst wenn die Rotationsrate des optischen Systems nicht variiert.
  • Unter der Annahme, dass das Teilungsverhältnis vorübergehend von 50 : 50 auf z. B. 40 : 60 umgestellt wird, variiert die erhaltene Drehwinkel rate um etwa 20%. Daher ist es im Modulator für ein faseroptisches Gyroskop erforderlich, das Teilungsverhältnis innerhalb des Bereichs von 48 : 52 bis 50 : 50 einzustellen. Außerdem muss die optische Wellenleitervorrichtung generell in einem breiten Temperaturbereich stabil sein. Wenn jedoch die Umgebungstemperatur der optischen Wellenleitervorrichtung variierte, variierte auch das Teilungsverhältnis im Verzweigungsabschnitt des optischen Wellenleiters vorübergehend stark. In der Folge veränderte sich das Teilungsverhältnis von 50 : 50 zu 30 : 70, insbesondere zu 100 : 0. Neben der Variation des Lichtteilungsverhältnisses kam es auch zu Lichteinstrahlungsverlusten der optischen Wellenleitervorrichtung.
  • Wenn im Mach-Zehnder-Intensitätsmodulator das Lichtteilungsverhältnis variiert wird, variiert das Extinktionsverhältnis stark, und der Lichteinstrahlungsverlust der gesamten optischen Wellenleitervorrichtung nimmt gleichzeitig vorübergehend zu.
  • In Verbindung mit dem pyroelektrischen Effekt, d. h. die Erzeugung von Ladungen in Kristallflächen in einer spontanen elektrischen Polarisationsrichtung, infolge der Variation der Umgebungstemperatur beschreibt die JP-A-5-88125, dass eine Pufferschicht auf der Oberfläche einer optischen Wellenleiters und eine Antistatik-Schicht auf der Pufferschicht ausgebildet wird. Außerdem wird eine Steuerelektrode auf der Antistatik-Schicht ausgebildet. In dieser Konstruktion werden jedoch die durch die pyroelektrischen Effekte erzeugten Ladungen infolge der Wirkung der Steuerelektrode ungleichmäßig auf der Kristalloberfläche umgeleitet. Die Antistatik-Schicht verhindert nur die Ladungsungleichmäßigkeit und bewirkt keine sofortige Neutralisierung der durch die pyroelektrischen Effekte erzeugten Ladungen. Außerdem besitzt der optische Wellenleiter lineare Form, weshalb hinsichtlich der Variation des Lichtteilungsverhältnisses keine Probleme auftauchen.
  • Außerdem wird in der JP-A-2-257108 beschrieben, dass ein Paar ferroelektrischer Substrate über ein leitendes Element so verbunden ist, dass jeweilige spontane elektrische Polarisationen umgekehrt werden, sodass die pyroelektrischen Effekte abgeschwächt werden. In dieser Erfindung können jedoch die an Verbindungsflächen der ferroelektrischen Substrate entstehenden Ladungen neutralisiert werden, doch die in den anderen Flächen als den Verbindungsflächen erzeugten Ladungen können nicht neutralisiert werden. Daher bleiben elektrische Felder in den ferroelektrischen Substraten bestehen, wodurch die pyroelektrischen Effekte nicht eliminiert werden können. Außerdem besitzt der optische Wellenleiter lineare Form, weshalb hinsichtlich der Variation des Lichtteilungsverhältnisses keine Probleme auftauchen.
  • Die EP-A-490.387 beschreibt ein Wellenleitersubstrat, in dem gegenüberliegende Z- Oberflächen, auf denen elektrische Ladungen entgegengesetzter Polarität aufgrund des pyroelektrischen Effekts entstehen, über einen Leiter auf der Bodenfläche miteinander verbunden sind. Der Wellenleiter befindet sich auf der Deckfläche, einer X-Oberfläche. Auf diese Weise werden die Oberflächenladungen neutralisiert.
  • JP-A-4-104221 offenbart eine Wellenleitervorrichtung, in welcher der Wellenleiter auf einer Z-Oberfläche des Substrats angeordnet ist. Um den die Leistung beeinträchtigenden pyroelektrischen Effekt zu verhindern, ist ein darüberliegendes Dummysubstrat aus dem gleichen Material an dieser Oberfläche mittels Elektroden an Teilen der gegenüberliegenden Oberflächenbereiche angebracht. Das Dummysubstrat besitzt die gleiche Po larisationsrichtung wie das Wellenleitersubstrat, sodass auf diesen gegenüberliegenden Oberflächen entgegengesetzte Ladungen erzeugt werden.
  • Es ist ein Ziel der Erfindung, eine optische Wellenleitervorrichtung bereitzustellen, die ein optisches Wellenleitersubstrat aus ferroelektrischen Kristallen und einen im optischen Wellenleitersubstrat ausgebildeten optischen Wellenleiter umfasst, worin beispielsweise das Lichtteilungsverhältnis und der Lichteinstrahlungsverlust nicht variieren, selbst wenn die Umgebungstemperatur der optischen Wellenleitervorrichtung variiert.
  • Gemäß der Erfindung wird eine optische Wellenleitervorrichtung nach Anspruch 1 bereitgestellt.
  • Es folgt eine Beschreibung von Beispielen für Ausführungsformen der Erfindung unter Bezugnahme auf die folgenden Abbildungen.
  • Fig. 1 ist eine Draufsicht einer Form einer optischen Wellenleitervorrichtung, die zum Vergleich mit den Vorrichtungen der Erfindung dargestellt ist;
  • Fig. 2 ist eine Draufsicht einer Ausführungsform der optischen Wellenleitervorrichtung gemäß der Erfindung;
  • die Fig. 3a und 3b sind jeweils Seitenansichten der in Fig. 2 gezeigten Wellenleitervorrichtung;
  • Fig. 4 ist eine Seitenansicht einer weiteren Ausführungsform der erfindungsgemäßen optischen Wellenleitervorrichtung;
  • Fig. 5a ist eine Ansicht einer weiteren erfindungsgemäßen Ausführungsform der optischen Wellenleitervorrichtung, Fig. 5b ist eine Querschnittsansicht entlang der Linie Vb- Vb in Fig. 5a;
  • Fig. 6a ist eine Seitenansicht einer weiteren Ausführungsform der optischen Wellenleitervorrichtung, Fig. 6b ist eine Querschnittsansicht entlang der Linie VIb-VIb in Fig. 6a;
  • die Fig. 7a und 7b sind jeweils Seitenansichten einer weiteren Ausführungsform der erfindungsgemäßen Wellenleitervorrichtung;
  • Fig. 8a ist eine Seitenansicht einer weiteren Ausführungsform der erfindungsgemäßen Wellenleitervorrichtung, Fig. 8b ist eine Querschnittsansicht entlang der Linie VIIIb- VIIIb in Fig. 8a;
  • Fig. 9 ist eine Draufsicht einer weiteren erfindungsgemäßen Ausführungsform der optischen Wellenleitervorrichtung;
  • Fig. 10 ist eine Draufsicht einer weiteren Ausführungsform der erfindungsgemäßen Wellenleitervorrichtung;
  • Fig. 11 ist eine Draufsicht einer weiteren Ausführungsform der erfindungsgemäßen Wellenleitervorrichtung;
  • Fig. 12 ist eine Draufsicht einer Vorrichtung zur Messung des Lichteinstrahlungsverlusts und Lichtteilungsverhältnisses der optischen Wellenleitervorrichtung;
  • Fig. 13 ist eine grafische Darstellung der Beziehung zwischen der Umgebungstemperatur und dem Lichteinstrahlungsverlust oder Lichtteilungsverhältnis im Vergleichsbeispiel;
  • Fig. 14 ist eine grafische Darstellung der Beziehung zwischen der Umgebungstemperatur und dem Lichteinstrahlungsverlust oder Lichtteilungsverhältnis.
  • In einer Ausführungsform der erfindungsgemäßen Wellenleitervorrichtung ist ein Dummysubstrat aus ferroelektrischen Kristallen beabstandet vom optischen Wellenleitersubstrat ausgebildet. In diesem Fall können die folgenden Effekte erzielt werden.
  • Da in diesem Fall keine Leitungsmuster im optischen Wellenleiter ausgebildet sind, beeinflussen sie den optischen Wellenleiter nicht. Außerdem ist es nicht notwendig, die Zahl der Fertigungsschritte im Vergleich zu jenem Fall, in dem die Leitungsmuster in der entgegengesetzten Hauptebene ausgebildet sind, auf der kein optischer Wellenleiter ausgebildet ist, zu erhöhen. Da nämlich sowohl die leitende Schicht im Dummysubstrat als auch die leitende Schicht im optischen Wellenleiter in Seitenebenen ausgebildet sind, die in rechten Winkel zur Hauptebene stehen, in welcher die pyroelektrischen Effekte auftreten, können die leitenden Schichten gleichzeitig in der gleichen Dampfvorrichtung oder in der gleichen Druckvorrichtung gebildet werden.
  • In diesem Fall ist es vorzuziehen, das optische Wellenleitersubstrat und das Dummysubstrat so zu schichten, dass die jeweils miteinander verbundenen Kristallebenen in jedem Fall auf der gleichen Seite ausgerichtet sind, um die leitenden Schichten kontinuierlich auszubilden. Wenn die leitenden Schichten auf diese Weise einstückig geformt werden, kann der Bildungsschritt der leitenden Schichten unter den gleichen Bedingungen durchgeführt werden, weshalb eine Fertigung in großem Maßstab möglich ist. Wenn das Dummysubstrat und das optische Wellenleitersubstrat auf diese Weise einstückig verbunden sind, können die folgenden Wirkungen erzielt werden.
  • Bei tatsächlicher Verwendung ist das optische Wellenleitersubstrat an einer Packung mit vorbestimmten Dimensionen angebracht, wobei die Packung als optische Vorrichtung verwendet wird. Wenn das optische Wellenleitersubstrat mittels Klebstoffen usw. direkt an der Packung befestigt ist und die Umgebungstemperatur variiert, werden auf das optische Wellenleitersubstrat über die Kleberschicht Spannungen übertragen, und die Eigenschaften des optischen Wellenleiters variieren je nach der angelegten mechanischen Spannung. Dieses Problem kann durch einstückiges Ausbilden des Dummysubstrats und optischen Wellenleitersubstrats und Befestigen des Dummysubstrats an der Packung überwunden werden.
  • Außerdem können die oben erwähnten Wirkungen in der optischen Wellenleitervorrichtung mit einer Vielzahl optischer Wellenleitersubstrate erzielt werden, wobei die Kristallebenen der optischen Wellenleitersubstrate mit Kristallebenen des Dummysubstrats verbunden sind. In diesem Fall ist es möglich, die Anzahl an Dummysubstraten zu verringern.
  • Außerdem ist es möglich, das Dummysubstrat zwischen zwei optischen Wellenleitersubstraten so zu schichten, dass jeweils miteinander verbundene Kristallebenen auf der gleichen Seite ausgerichtet sind, und die leitenden Schichten kontinuierlich auszubilden. Es ist in diesem Fall möglich, optische Wellenleitersubstrat und Dummysubstrate alternierend zu schichten.
  • Wie bereits erwähnt, ist es im Fall der kontinuierlichen Ausbildung der leitenden Schichten in optischen Wellenleitersubstraten und Dummysubstraten vorzuziehen, die Kleberschichten zwischen den optischen Wellenleitersubstraten und Dummysubstraten anzuordnen. Da in diesem Fall die Haftkraft zwischen dem optischen Wellenleitersubstrat und dem Dummysubstrat erhöht werden kann, können die leitenden Schichten leicht ausgebildet werden. Wenn die leitende Schicht durch das Dampfablagerungsverfahren gebildet wird, ist es notwendig, die Kleberschicht zwischen dem optischen Wellenleitersubstrat und dem Dummysubstrat anzuordnen, da die leitende Schicht das optische Wellenleitersubstrat und das Dummysubstrat nicht miteinander verbindet.
  • Wenn außerdem die einstückige leitende Schicht durch Anordnen einer leitenden Paste auf dem optischen Wellenleitersubstrat und Dummysubstrat und Brennen der leitenden Paste gebildet wird und die leitende Paste dick aufgetragen wird, kann die Verbindung und einstückige Ausbildung des optischen Wellenleitersubstrats und Dummysubstrats durch die leitenden Schichten durchgeführt werden.
  • Gemäß der Erfindung ist es ferner möglich, eine Vielzahl optischer Wellenleitersubstrate ohne Verwendung der oben erwähnten Dummysubstrate anzuordnen und die Kristallebenen eines optischen Wellenleitersubstrats mit den Kristallebenen des anderen optischen Wellenleitersubstrats elektrisch zu verbinden. In diesem Fall können die gleichen Wirkungen wie bei Verwendung des Dummysubstrats erzielt werden. Da es außerdem nicht notwendig ist, das Dummysubstrat zu verwenden, das nicht als optische Vorrichtung dient, ist dies eine bevorzugte Ausführungsform.
  • Ferner ist es möglich, eine Vielzahl optischer Wellenleitersubstrate solcherart zu schichten, dass die jeweils miteinander verbundenen Kristallebenen in jedem Fall auf der gleichen Seite ausgerichtet sind, und die leitenden Schichten auf den Kristallebenen kontinuierlich auszubilden. Es ist in diesem Fall möglich, die Kleberschicht zwischen den optischen Wellenleitersubstraten anzuordnen. Außerdem können - wie bereits erwähnt - mehrere optische Wellenleitersubstrate mittels der gebrannten Paste miteinander verbunden werden.
  • Wenn die Verbindung und einstückige Ausbildung des optischen Wellenleitersubstrats und Dummysubstrats oder die Verbindung und einstückige Ausbildung einer Vielzahl optischer Wellenleitersubstrate über die Kleberschicht oder die gebrannte Paste erfolgen, können die nachstehenden Wirkungen erzielt werden.
  • Wenn optische Fasern mit dem optischen Wellenleitersubstrat verbunden sind, ist es notwendig, optische Wellenleitersubstrate jeweils mit einem optischen Faserträgersubstrat zu verbinden (siehe unten). Da jedoch die Dicke des optischen Wellenleitersubstrats etwa 1 mm beträgt, ist die Handhabung während des Montagevorgangs sehr schwierig, und es ist erforderlich, den Montagevorgang ruht großer Vorsicht durchzuführen. Wenn die Verbindung und einstückige Ausbildung des optischen Wellenleitersubstrats und des anderen optischen Wellenleitersubstrats oder Dummysubstrats wie oben erfolgen, ist die Gesamtdicke mehr als zweimal so groß als die Dicke des optischen Wellenleitersubstrats, wodurch die Handhabung leichter wird.
  • Als ferroelektrische Kristalle ist es vorzuziehen, ein oder mehrere ferroelektrische Kristalle zu verwenden, die aus der aus LiNbO&sub3;, LiTaO&sub3;, Li(Nbx, Ta1-x), BaTiO&sub3;, ZnO, NH&sub4;H&sub2;PO&sub4;, KH2PO4 und KTiOPO&sub4; bestehenden Gruppe ausgewählt sind. Außerdem ist es noch bevorzugter, ein oder mehrere ferroelektrische Kristalle zu verwenden, die aus LiNbO&sub3;, LiTaO&sub3; und Li(Nbx, Ta1-x)) ausgewählt sind. Als optischen Wellenleiter verwendet man vorzugweise (1) einen optischen Wellenleiter, der durch thermische Diffusion von Titan oder Kupfer in einen ferroelektrischen Kristall gebildet wird, oder (2) einen optischen Wellenleiter, der durch ein Protonenaustauschverfahren, in dem Lithiumatome im LiNbO&sub3;-Kristall, LiTaO&sub3;-Kristall oder Li(Nbx, Ta1-x)O&sub3;-Kristall gegen Wasserstoffatome ausgetauscht werden. Die Erfindung ist auch auf optische Wellenleiter vom Kammtyp, mit Dielektrikum beladene optische Wellenleiter, mit Metall beladene optische Wellenleiter usw. anwendbar.
  • In der optischen Wellenleitervorrichtung der Erfindung ist der optische Wellenleiter an der Ausgangsseite des optischen Wellenleitersubstrats in mehrere Reihen unterteilt. Die Form des optischen Wellenleiters kann planar oder kurvenförmig sein. Ein Verzweigungsabschnitt des optischen Wellenleiters kann eine sogenannte Y-Verzweigung sein. In diesem Fall ist im Verzweigungsabschnitt dieser optischen Wellenleiter eine Reihe des optischen Wellenleiters an der Eingangsseite an zwei Reihen optischer Wellenleiter an der Ausgangsseite gekoppelt.
  • Der Verzweigungsabschnitt des optischen Wellenleiters kann als sogenannter Richtungskoppler ausgebildet sein. Der Richtungskoppler wird durch sehr enges Anordnen benachbarter optischer Wellenleiter ausgebildet und dient dazu, geleitetes Licht von einem optischen Wellenleiter zum anderen optischen Wellenleiter zu übertragen. Geleitetes Licht kann daher durch den Richtungskoppler geteilt werden. Außerdem kann der Richtungskoppler zusammen mit einer Y-Verzweigung verwendet werden.
  • Die optischen Wellenleitervorrichtungen der Erfindung können für aktive und passive Geräte verwendet werden. Als passive Geräte werden Strahlenteiler, Sternkoppler mit einem Kaskaden-Wellenleiter, bestehend aus einer Vielzahl an Y-Verzweigungsabschnitten, usw. verwendet. Als aktive Geräte werden Phasenmodulatoren, optische Schaltvorrichtungen, akustisch-optische Geräte, Logikgeräte für optische Computer (UND-Element, ODER-Element), Mehrfachmodulatoren, deren Konstruktion solcherart ist, dass optische Modulationselektroden dem Stern koppler zugeordnet sind, usw. verwendet.
  • Wenn insbesondere in den optischen Modulatoren für das faseroptische Gyroskop das Lichtteilungsverhältnis des geteilten Lichts außerhalb des vorbestimmten Werts liegt, schwankt die zu messende Rotationsrate des optischen Systems außerordentlich, wodurch es nicht möglich ist, präzise Werte zu messen. Daher können die optischen Wellenleitervorrichtungen der Erfindung vorzugsweise für die oben erwähnten Ziele verwendet werden.
  • Außerdem werden in den optischen Wellenleitervorrichtungen zum Teilen von Licht, wie z. B. Strahlenteilern, optischen Schaltvorrichtungen, Logikgeräten usw. falsche Werte ausgegeben, wenn die geteilten Lichtabschnitte variieren. Daher kommt die Erfindung vorzugsweise in diesen Vorrichtungen zum Einsatz. Insbesondere in den optischen Schaltvorrichtungen und Logikgeräten werden EIN-AUS-Zustände anhand der durch zwei Reihen optischer Wellenleiter übertragenen geteilten Lichtabschnitte detektiert. Wenn die geteilten Lichtabschnitte über dem Schwellenwert variieren, wechseln der EIN- und der AUS-Zustand, wodurch ihre Verwendung ummöglich wird.
  • In den Sternkopplern und Mehrfachmodulatoren ist eine Vielzahl an Y-Verzweigungsabschnitten angeordnet, um eine Kaskadenkonstruktion zu ergeben. Wenn das Lichtteilungsverhältnis der jeweiligen Y-Verzweigungsabschnitte außerhalb des vorbestimmten Werts liegt, werden diese Variationen vom Eingang zum Ausgang multipliziert. Selbst wenn also die Variation des Lichtteilungsverhältnisses in einem Y-Verzweigungsab schnitt z. B. 5% beträgt, wachsen die multiplizierten Variationen zu einem außerordentlich hohen Wert an. Die Erfindung kann vorzugsweise auf die Stern koppler und Mehrfachmodulatoren angewendet werden.
  • Zur Ausbildung der leitenden Schichten in den Vorrichtungen der Erfindung werden folgende Verfahrensschritte durchgeführt.
  • (1) Mittels des Dampfablagerungsverfahrens wird eine dünne Schicht aus Halbleitern oder Metallen, wie z. B. Indiumoxid, Indiumoxid-Zinnoxid, Kupferoxid, Si/Ge usw., gebildet.
  • (2) Auf die Kristallebene wird eine Pastenschicht mit Halbleitern oder Metallen, wie z. B. Indiumoxid, Indiumoxid-Zinnoxid, Kupferoxid, Si/Ge usw., aufgebracht und die aufgebrachte Pastenschicht gebrannt.
  • (3) Mittels Durchführung einer Plasmabehandlung oder Oxidationsbehandlung an der Kristallebene wird die Kristallstruktur der Kristallebene beeinträchtigt, um die leitende Schicht zu bilden.
  • (4) Eine dünne Schicht aus Halbleitern oder Metallen mit leitenden und lichtabschirmenden Eigenschatten, wie z. B. Ruß, Graphit usw., wird ausgebildet. Die dünne Schicht wird durch Anordnen einer Ruß oder Kohlenstoff enthaltenden Pastenschicht auf der Kristallebene und Brennen der Pastenschicht ausgebildet.
  • Wenn zwei leitende Schichten elektrisch miteinander verbunden sind und der Widerstand des leitenden Abschnitts groß ist, ist es nicht möglich, die in der ersten Kristallebene erzeugten Ladungen rasch zu neutralisieren. Daher sollte der Widerstand R des leitenden Abschnitts solcherart eingestellt sein, dass die an den optischen Wellenleiterabschnitt angelegten elektrischen Felder bei normalen Temperaturvariationsraten immer unter 10 V/cm liegen.
  • Unter verschiedenen Temperaturbedingungen wird eine Spannung V, die infolge pyroelelektrischer Effekte an den optischen Wellenleiterabschnitt angelegt wird, anhand der folgenden Formel erhalten:
  • V = Q R/d
  • worin Q die Ladungen (Coulomb) sind, die pro Zeiteinheit erzeugt werden, welcher Wert von den Umgebungstemperaturen abhängt, R der Widerstand (Ω) des leitenden Abschnitts ist und d der Abstand zwischen der ersten Kristallebene und der zweiten Kristallebene ist.
  • Um die an den optischen Wellenleiterabschnitt angelegte Spannung bei normalen Temperaturvariationsraten unter 10 V/cm zu halten, sollte die Bedingung 10 > QR/d erfüllt sein. Der Widerstand des leitenden Abschnitts sollte solcherart sein, dass er R < 10d/Q erfüllt. Wenn es notwendig ist, dass die optische Wellenleitervorrichtung bei normalen Umgebungstemperaturen immer gute Leistung erbringt, können die Widerstände der ersten und der zweiten leitenden Schicht auf unter 100 &Omega;/cm2 eingestellt werden.
  • Es folgt eine Beschreibung von Ausführungsformen der Erfindung unter Bezugnahme auf die Fig. 2 bis 14.
  • Fig. 1 ist eine Draufsicht einer optischen Wellenleitervorrichtung, die zwecks Vergleich mit den Vorrichtungen der Erfindung dargestellt ist. In Fig. 1 ist ein optisches Wellenleitersubstrat 3 aus einer X-geschnittenen Platte aus LiNbO&sub3;, LiTaO&sub3;, Li(NbX, Ta1-x)O&sub3; usw. ausgebildet. Ein dreidimensionaler optischer Wellenleiter 7 ist auf einer Hauptebene 3a des optischen Wellenleitersubstrats 3 ausgebildet. Das optische Wellenleitersubstrat 3 umfasst einen linearen Abschnitt 7a auf der Lichteingangsseite, einen Y-Verzweigungsabschnitt 7b und ein Paar linearer Abschnitte 7c, 7d auf der Lichtausgangsseite.
  • Elektroden 6A und 6C sind solcherart parallel ausgebildet, dass der lineare Abschnitt 7c zwischen den Elektroden 6A und 6C angeordnet ist. Elektroden 6B und 6C sind auch solcherart parallel ausgebildet, dass der lineare Abschnitt 7d zwischen den Elektroden 6B und 6C angeorndet ist. Daher ist es möglich, eine Steuerspannung an die linearen Abschnitte 7c, 7d anzulegen und die Phase des durch die jeweiligen linearen Abschnitte 7c, 7d übertragenen Lichts zu modulieren.
  • Ein optisches Faserträgersubstrat 2A ist mit der Lichteingangsseite des optischen Wellenleitersubstrats 3 verbunden, um eine optische Faser 1 A zu stützen. Die optische Faser 1A und der lineare Abschnitt 7a sind optisch gekoppelt. Außerdem ist das optische Faserträgersubstrat 2B mit der Lichtausgangsseite des optischen Wellenleitersubstrats 3 verbunden, um ein Paar optischer Fasern 1 B zu stützen. Jeweilige optische Fasern 1 B und jeweilige lineare Abschnitte 7c, 7d sind optisch gekoppelt.
  • In der in Fig. 1 gezeigten optischen Wellenleitervorrichtung besitzt das optische Wellenleitersubstrat 3 eine erste Kristallebene 20 (z. B. eine -Z-Ebene) und eine zweite Kristallebene 30 (z. B. eine +Z-Ebene). Eine erste leitende Schicht 4 ist auf der ersten Kristallebene 20 ausgebildet. Eine zweite leitende Schicht 14 ist auf der zweiten Kristallebene 30 ausgebildet. Negative Ladungen werden in der ersten Kristallebene 20 erzeugt, positive Ladungen in der zweiten Kristallebene 30. In dieser Ausführungsform sind die erste leitende Schicht 4 und die zweite leitende Schicht 14 über eine leitende Schicht (Leitungsmuster 5) auf der Hauptebene 3a miteinander elektrisch verbunden.
  • Fig. 2 ist eine Draufsicht einer Ausführungsform der optischen Wellenleitervorrichtung gemäß dem ersten Aspekt der Erfindung. Fig. 3a ist eine Seitenansicht von der Seite der Kristallebene 20B der optischen Wellenleitervorrichtung aus Fig. 2, und Fig. 3b ist eine Seitenansicht von der Seite der Kristallebene 20A der optischen Wellenleitervorrichtung aus Fig. 2. In der in den Fig. 2, 3a und 3b gezeigten Ausführungsform sind ähnliche Abschnitte wie in Fig. 1 mit den gleichen Bezugszeichen versehen und werden an dieser Stelle nicht erklärt.
  • In der optischen Wellenleitervorrichtung gemäß dieser Ausführungsform ist ein Dummysubstrat 13 aus ferroelektrischem Kristall unter der anderen Hauptebene 3b des opti schen Wellenleitersubstrats 3 angeordnet. Eine Hauptebene 13a ist nicht gegenüber vom optischen Wellenleitersubstrat 3 angeordnet, während die andere Hauptebene 13b gegenüber von der Hauptebene 3b des optischen Wellenleitersubstrats 3 angeordnet ist. Daher ist - wie aus Fig. 3a ersichtlich - eine zweite Kristallebene 30A (-Z-Ebene) des Dummysubstrats 13 auf der gleichen Seite wie die ersten Kristallebene 20B (+Z-Ebene) angeordnet. Wie aus Fig. 3b ersichtlich, ist eine zweite Kristallebene 30B (+Z-Ebene) des Dummysubstrats 13 auf der gleichen Seite angeordnet wie die erste Kristallebene 20A (-Z-Ebene). Wie aus Fig. 3a ersichtlich, ist eine erste leitende Schicht 4B auf der ersten Kristallebene 20B ausgebildet und eine zweite leitende Schicht 14A auf der zweiten Kristallebene 30A ausgebildet. Die erste leitende Schicht 4B und die zweite leitende Schicht 14A sind über Leitungselemente 8 miteinander elektrisch verbunden. In Fig. 3 sind die leitenden Schichten durch einen schraffierten Bereich dargestellt. Wie aus Fig. 3b ersichtlich, ist eine erste leitende Schicht 4A auf der ersten Kristallebene 20A ausgebildet und eine zweite leitende Schicht 14B auf der ersten Kristallebene 4A. Die erste leitende Schicht 4A und die zweite leitende Schicht 14B sind über die Leitungselemente 8 miteinander elektrisch verbunden.
  • Um die pyroelektrischen Effekte zu eliminieren, sollten Materialien und Dimensionen des Dummysubstrats 13 jenen des optischen Wellenleitersubstrats 3 gleichen. Wenn jedoch das Material des Dummysubstrats 13 nicht jenen des optischen Wellenleitersubstrats 3 gleicht, ist es möglich, die dort erzeugten Ladungen durch geeignetes Einstellen der Dimensionen des Dummysubstrats 3 zu neutralisieren.
  • Fig. 4 ist eine Seitenansicht einer weiteren Ausführungsform der Erfindung, in der jeweilige erste Kristallebenen 20B zweier optischer Wellenleitersubstrate 3 mit der zweiten Kristallebene 30a eines Dummmysubstrats 13 elektrisch verbunden sind. In Fig. 4 sind ähnliche Abschnitte wie in Fig. 1 mit den gleichen Bezugszeichen versehen und werden daher nicht erklärt. In dieser Ausführungsform ist das Dummysubstrat 13 zwischen zwei optischen Wellenleitersubstraten 3 angeordnet. Eine Hauptebene 13a des Dummysubstrats 13 ist gegenüber der Hauptebene 3a des unteren optischen Wellenleitersubstrats 3 angeordnet, und die andere Hauptebene 13b des Dummysubstrats 13 ist gegenüber der Hauptebene 3b des oberen optischen Wellenleitersubstrats 3 angeordnet.
  • Daher ist eine zweite Kristallebene 30A (-Z-Ebene) des Dummysubstrats 13 auf den gleichen Seiten der ersten Kristallebenen 20B (+Z-Ebene) jeweiliger optischer Wellenleitersubstrate 3 angeordnet. Außerdem ist eine zweite nicht dargestellte Kristallebene 30B (+Z-Ebene) des Dummysubstrats 13 auf der gleichen Seite der ersten Kristallebenen 20A (-Z-Ebene) jeweiliger Wellenleitersubstrate 3 angeordnet. Wie aus Fig. 4 ersichtlich, sind die ersten leitenden Schichten 4B jeweils auf den ersten Kristallebenen 20B ausgebildet, und die zweite leitende Schicht 14A ist auf der zweiten Kristallebene 30A ausgebildet. Außerdem sind jeweilige leitende Schichten 4B und die leitende Schicht 14A über die Leitungselemente 8 elektrisch verbunden. Wie nicht in Fig. 4 gezeigt, sind die ersten leitenden Schichten 4A auf jeweiligen ersten Kristallebenen 20A ausgebildet, und die erste leitende Schicht 14B ist auf der zweiten Kristallebene 3% ausgebildet. Die ersten leitenden Schichten 4A und die zweite leitende Schicht 14B sind über Leitungselemente 8 miteinander elektrisch verbunden.
  • Fig. 5a ist eine Seitenansicht einer weiteren Ausführungsform der optischen Wellenleitervorrichtung der Erfindung, und Fig. 5b ist eine Querschnittsansicht entlang der Linie Vb-Vb in Fig. 5a. In dieser Ausführungsform ist das Dummysubstrat 13 unter der Hauptebene 3b der optischen Wellenleitersubstrats 3 angeordnet. Die Hauptebene 13b des Dummysubstrats 13 liegt gegenüber der Hauptebene 3b des optischen Wellenleitersubstrats 3. Daher ist - wie aus Fig. 5a ersichtlich - die zweite Kristallebene 30A (-Z-Ebene) des Dummysubstrats 13 auf der gleichen Seite der ersten Kristallebene 20B (-Z-Ebene) angeordnet. Außerdem ist die zweite Kristallebene 30B (+Z-Ebene) des Dummysubstrats 13 auf der gleichen Seite der ersten Kristallebene 20A (-Z-Ebene) angeordnet.
  • In dieser Ausführungsform sind das optische Wellenleitersubstrat 3 und das Dummysubstrat 13 über eine Kleberschicht 12 verbunden. Die erste Kristallebene 20B und die zweite Kristallebene 30A sind auf der gleichen Seite angeordnet, und eine leitende Schicht 11 B ist auf der ersten Kristallebene 208 und der zweiten Kristallebene 30A kontinuierlich ausgebildet. Die erste Kristallebene 20A und die zweite Kristallebene 30B sind auf der gleichen Seite angeordnet, und eine leitende Schicht 11A ist kontinuierlich auf der ersten Kristallebene 20A und der zweiten Kristallebene 30B ausgebildet.
  • Fig. 6a ist eine Seitenansicht einer weiteren Ausführungsform der optischen Wellenleitervorrichtung der Erfindung, und Fig. 6b ist eine Querschnittsansicht entlang der Linie VIb-VIb in Fig. 6a. In dieser Ausführungsform ist das Dummysubstrat 13 zwischen zwei optischen Wellenleitersubstraten 3 über die Kleberschichten 12A und 12B angeordnet. Die zweite Kristallebene 30A (-Z-Ebene) des Dummysubstrats 13 ist auf der gleichen Seite der jeweiligen ersten Kristallebenen 20B (+Z-Ebene) jeweiliger optischer Wellenleitersubstrate 3 angeordnet. Außerdem ist die zweite Kristallebene 30B (+Z-Ebene) des Dummysubstrats 13 auf der gleichen Seite der ersten Kristallebenen 20A (-Z-Ebene) angeordnet.
  • Zwei erste Kristallebenen 20B und die zweite Kristallebene 30A sind auf der gleichen Seite angeordnet und eine leitende Schicht 15B kontinuierlich auf den zwei ersten Kristallebenen 20B und der zweiten Kristallebene 30A angeordnet. Außerdem sind zwei erste Kristallebenen 20A und die zweite Kristallebene 30B auf der gleichen Seite angeordnet und eine leitende Schicht 15A kontinuierlich auf den ersten zwei Kristallebenen 20A und der zweiten Kristallebene 30B angeordnet.
  • Die Fig. 7a und 7b sind Seitenansichten mit einer jeweils anderen Ausführungsform der optischen Wellenleitervorrichtung der Erfindung. In den Fig. 7a und 7b sind ähnliche Abschnitte wie in Fig. 1 mit den gleichen Bezugszeichen versehen und werden deshalb nicht erklärt. In dieser Ausführungsform wird kein Dummysubstrat verwendet. Wie aus den Fig. 7a und 7b ersichtlich, sind das eine optische Wellenleitersubstrat 3A und das andere optische Wellenleitersubstrat 3B aufeinander geschichtet. Die Hauptebene 3b des optischen Wellenleitersubstrats 3A liegt gegenüber der Hauptebene 3b des optischen Wellenleitersubstrats 38. Daher sind - wie aus Fig. 7a ersichtlich - die erste Kris tallebene 20B (+Z-Ebene) des optischen Wellenleitersubstrats 3A und die zweite Kristallebene 30A (-Z-Ebene) des optischen Wellenleitersubstrats 3B auf der gleichen Seite angeordnet. Auf der in Fig. 7a nicht dargestellten Rückseite sind die erste Kristallebene 20a (-Z-Ebene) des optischen Wellenleitersubstrats 3A und die zweite Kristallebene 30B (+Z-Ebene) des optischen Wellenleitersubstrats 3B auf der gleichen Seite angeordnet.
  • Wie aus Fig. 7a ersichtlich, ist die erste leitende Schicht 4B auf der ersten Kristallebene 20B ausgebildet und die zweite leitende Schicht 14A auf der zweiten Kristallebene 30A ausgebildet. Die erste leitende Schicht 4B und die zweite leitende Schicht 14A sind über die Leitungselemente 8 miteinander elektrisch verbunden. Wie aus Fig. 7b ersichtlich, ist die erste leitende Schicht 4A auf der ersten Kristallebene 20A ausgebildet und die zweite leitende Schicht 14B auf der zweiten Kristallebene 30B ausgebildet. Die erste leitende Schicht 4A und die zweite leitende Schicht 14B sind über die Leitungselemente 8 miteinander elektrisch verbunden.
  • Fig. 8a ist eine Seitenansicht einer weiteren Ausführungsform der optischen Wellenleitervorrichtung der Erfindung, und Fig. 8b ist eine Querschnittsansicht entlang der Linie VIIIb-VIIIb in Fig. 7a. In Fig. 8a sind das eine optische Wellenleitersubstrat 3A und das andere optische Wellenleitersubstrat oben und unten angeordnet. Die Hauptebene 3b des optischen Wellenleitersubstrats 3A liegt gegenüber der Hauptebene 3b des optischen Wellenleitersubstrats 3B. Daher sind die erste Kristallebene 208 (+Z-Ebene) des optischen Wellenleitersubstrats 3A und die zweite Kristallebene 30A (-Z-Ebene) auf der gleichen Seite angeordnet. Auf der in Fig. 8a nicht dargestellten Rückseite sind die erste Kristallebene 20A (-Z-Ebene) des optischen Wellenleitersubstrats 3A und die zweite Kristallebene 30B (+Z-Ebene) des optischen Wellenleitersubstrats 3B auf der gleichen Seite angeordnet.
  • Zwei optische Wellenleitersubstrate 3A und 3B sind über die Kleberschicht 12 so verbunden, dass die optischen Wellenleitersubstrate 3A und 3B einstückig miteinander verbunden sind. Die erste Kristallebene 20B und die zweite Kristallebene 30A sind auf der gleichen Seite ausgerichtet und die leitende Schicht 11B kontinuierlich auf der ersten Kristallebene 20B und der zweiten Kristallebene 30A ausgebildet. Außerdem sind die erste Kristallebene 20A und die zweite Kristallebene 30B auf der gleichen Seite ausgerichtet und die leitende Schicht 11A kontinuierlich auf der ersten Kristallebene 20A und der zweiten Kristallebene 30B ausgebildet.
  • Die Fig. 9, 10 und 11 sind jeweils Draufsichten von Formen optischer Wellenleitervorrichtungen, auf welche die Erfindung angewendet werden kann. In den Fig. 9 und 10 wird ein Richtungskoppler in einem Lichtverzweigungsabschnitt des optischen Wellenleiters verwendet.
  • In der in Fig. 9 zu sehenden Ausführungsform ist ein Paar optischer Wellenleiter 17A und 17B in einer Hauptebene des optischen Wellenleitersubstrats ausgebildet. Die optischen Wellenleiter 17A und 17B sind in einem Bereich eines Kopplungsabschnitts 10 nahe beieinander angeordnet, und das durch einen der optischen Wellenleiter geleitete Licht wird im Kopplungsabschnitt 10 geteilt. Durch Variieren der Länge des Kopplungsabschnitts 10 ist es möglich, das Lichtteilungsverhältnis in einem Bereich von 0 : 100 - 50 : 50 zu variieren. In dieser Ausführungsform können durch die jeweiligen optischen Wellenleiter übertragene Lichtanteile durch die Elektroden 6A, 6B und 6C moduliert werden. Außerdem ist es möglich, die leitenden Schichten auf den Seitenebenen des optischen Wellenleiters 3 auszubilden, wie aus den Fig. 2 bis 8 ersichtlich.
  • In der in Fig. 10 gezeigten Ausführungsform ist ein Richtungskoppler mit drei parallelen Wellenleitern im optischen Wellenleitersubstrat 3 ausgebildet. Ein optischer Wellenleiter 27A auf der Lichteingangsseite ist in der Nähe der optischen Wellenleiter 27B und 27C auf der Lichtausgangsseite in einem Bereich des Kopplungsabschnitts 10 angeordnet, und das durch den optischen Wellenleiter 27A geleitete Licht wird im Kopplungsabschnitt 10 geteilt. Wenn in den in den Fig. 9 und 10 gezeigten Ausführungsformen eine Spannung an den Kopplungsabschnitt 10 angelegt wird, kann das Lichtteilungsverhältnis als Reaktion auf das zu teilende geleitete Licht variiert werden. Außerdem ist es möglich, die leitenden Schichten auf den Seitenebenen des optischen Wellenleitersubstrats 3 auszubilden, wie aus den Fig. 2 bis 8 ersichtlich.
  • In der in Fig. 11 gezeigten Ausführungsform betrifft die Erfindung den oben erwähnten Sternkoppler. In einem optischen Wellenleiter 37 wird ein linearer Abschnitt 37a auf der Lichteingangsseite im Y-Verzweigungsabschnitt 37b in lineare Abschnitte 37c geteilt. Außerdem werden lineare Abschnitte 37a im Y-Verzweigungsabschnitt 37d jeweils in lineare Abschnitte 37e geteilt. Die linearen Abschnitte 37e sind jeweils an optische Fasern 1 B gekoppelt. Wenn in dieser Ausführungsform Spannung an die linearen Abschnitte 37e angelegt wird, ist es möglich, eine Mehrfachmodulation durchzuführen. Außerdem ist es möglich, die leitende Schicht auf den Seitenebenen des optischen Wellenleitersubstrats auszubilden, wie aus den Fig. 2 bis 8 ersichtlich.
  • Versuche wurden unter Verwendung der Messvorrichtung aus Fig. 12 durchgeführt. Zunächst wurden die optischen Wellenleitervorrichtungen aus Fig. 1 und ein weiteres Vergleichsexemplar in einer Temperatureinstellvorrichtung untergebracht. Es wurden Eigenschaften des Phasenmodulators zur Verwendung im Faseroptik-Gyroskop gemessen.
  • Die optischen Wellenleitervorrichtungen wurden folgendermaßen gefertigt. Zunächst wurde ein scheibenförmiger Wafer aus LiNbO&sub3; mit einer x-geschnittenen Ebene hergestellt. Der Wafer besaß einen Durchmesser von 3 Zoll und eine Dicke von 1 mm. Eine dünne Titanschicht mit einer Breite von 3 um und einer Dicke von 500 Å wurde auf dem Wafer mittels Photolitographie ausgebildet und eine Titankomponente in das LiNbO&sub3; diffundiert, indem eine Wärmebehandlung, z. B. 1000ºC für 6 Stunden, durchgeführt wurde, um den titandiffundierten optischen Wellenleiter 7 zu ergeben.
  • Danach wurden die Elektroden 6A, 6B und 6C aus Metallschichten gebildet. Die Elektroden wiesen eine Länge von 15 mm und eine Dicke von 2500 Å auf, und der Abstand zwischen benachbarten Elektroden betrug 10 um. Aus diesem Wafer wurden die optischen Wellenleitersubstrate 3 für einen Chip ausgeschnitten.
  • Dann wurden die leitenden Schichten 4 und 14 ausgebildet. Als Material der jeweiligen leitenden Schichten wurde eine leitende Paste (Silberpaste) verwendet, wobei die leitende Pastenschicht durch ein Spritzverfahren gebildet wurde. Die Widerstände der jeweiligen leitenden Schichten betrugen höchstens 10 &Omega;/cm2. Als Material der leitenden Schicht 5 wurde eine leitende Paste (Silberpaste) verwendet, wobei die leitende Pastenschicht durch das Spritzverfahren ausgebildet wurde. Der Widerstand der leitenden Schicht betrug höchstens 1 &Omega; An beiden Enden des optischen Wellenleitersubstrats 3 wurden die optischen Fasern 1A und 1B angeschlossen (siehe Fig. 1). Gleichzeitig wurden die optischen Wellenleitervorrichtungen gemäß einem weiteren Vergleichsbeispiel in gleicher Weise wie oben gefertigt. Die Prüfkörper dieses anderen Vergleichsbeispiels besaßen jedoch keine leitenden Schichten 4, 14 und keine leitende Schicht 5.
  • Dann wurde Licht mit einer Wellenlänge von 0,85 um aus einer Lichtquelle 41 eingestrahlt und Ausgangslicht, das über ein Paar optischer Fasern 1 B übertragen wurde, mit den Lichtmengen-Messvorrichtungen 22, 23 gemessen. Danach wurden der Lichteinstrahlungsverlust und das Lichtteilungsverhältnis anhand der jeweiligen gemessenen Werte der jeweiligen Lichtmengen-Messvorrichtungen berechnet.
  • Während dieses Messvorgangs (siehe die Fig. 13 und 14) wurde die Umgebungstemperatur der optischen Wellenleitervorrichtungen variiert. Die Umgebungstemperatur wurde schrittweise von 20ºC auf -40ºC abgesenkt. Die Haltezeit bei den jeweiligen Temperaturen betrug etwa 45 Minuten, und die Temperaturanstiegsrate und die Temperatursenkungsrate betrugen 80ºC/h.
  • Fig. 13 zeigt die Ergebnisse des Vergleichsbeispiels, Fig. 14 die Ergebnisse des Beispiels gemäß Fig. 1. Wie aus Fig. 13, dem Vergleichsbeispiel, ersichtlich, variierten sowohl der Lichteinstrahlungsverlust als auch das Lichtteilungsverhältnis stark, als die Umgebungstemperatur stieg oder sank. Man beachte, dass in Fig. 13 der Bereich des Lichteinstrahlungsverlusts von mehr als 4 dB und der Bereich des Lichtteilungsverhältnisses von mehr als 30 : 70 herausgenommen wurden. Im Beispiel gemäß Fig. 1 hingegen schwankten sowohl der Lichteinstrahlungsverlust als auch das Lichtteilungsverhältnis nicht (siehe Fig. 14). In diesem Fall betrug die Variation des Lichteinstrahlungsverlusts weniger als 0,4 dB, und die Variation des Lichtteilungsverhältnisses lag im Bereich von 50 : 50 - 52 : 48.
  • Die optischen Wellenleitervorrichtungen gemäß Fig. 1 und gemäß dem Vergleichsbeispiel wurden in den Faseroptik-Gyroskopen als Modulatoren eingebaut. Dann wurde - wie aus den Fig. 13 und 14 ersichtlich - die Umgebungstemperatur variiert. Im Vergleichsbeispiel schwankte die errechnete Drehwinkelrate um mehr als 20%, wobei es manchmal nicht möglich war, die Drehwinkel rate zu messen. Im Beispiel gemäß dem ersten Aspekt der Erfindung schwankte die errechnete Drehwinkelrate um 4%.
  • Die in den Fig. 2, 3 und 7 gezeigten optischen Wellenleitervorrichtungen wurden in gleicher Weise wie oben gefertigt. Anschließend wurde der gleiche Versuch mit den jeweiligen optischen Wellenleitervorrichtungen durchgeführt. Es wurden die gleichen Ergebnisse erzielt wie in Fig. 14 gezeigt.
  • Wie bereits erwähnt, ist es gemäß der Erfindung möglich, eine optische Wellenleitervorrichtung ohne Variation des Lichtteilungsverhältnisses und Lichteinstrahlungsverlusts herzustellen, selbst wenn die Umgebungstemperatur schwankt.

Claims (5)

1. Optische Wellenleitervorrichtung, umfassend zumindest ein erstes optisches Wellenleitersubstrat (3) aus ferroelektrischen Kristallen, eine erste und eine zweite gegenüberliegende Kristallebene (20A, 20B) im optischen Wellenleitersubstrat (3), worin Ladungen jeweils positiver und negativer Polarität aufgrund des pyroelektrischen Effekts erzeugt werden, einen optischen Wellenleiter (7), der im Wellenleitersubstrat (3) in einer seiner Kristallebenen senkrecht zur ersten und zweiten Kristallebene ausgebildet ist, und eine erste und eine zweite leitende Schicht (4A, 4B, 11A, 11B, 15A, 15B), die auf der ersten bzw. zweiten Kristallebene (20A, 20B) ausgebildet sind,
dadurch gekennzeichnet, dass die optische Wellenleitervorrichtung ferner zumindest ein weiteres Substrat aus ferroelektrischen Kristallen, wobei das Substrat ein Dummysubstrat (13) oder ein weiteres Substrat (3B) mit optischem Wellenleiter ist; wobei das weitere Substrat eine dritte und eine vierte Kristallebene (30A) aufweist; worin Ladungen jeweils positiver und negativer Polarität aufgrund des pyroelektrischen Effekts erzeugt werden, und eine dritte und eine vierte leitende Schicht (4A, 4B, 11A, 11B, 14A, 14B, 15A, 15B) umfasst, die auf der dritten bzw. vierten Kristallebene ausgebildet sind, wobei die dritte und vierte Schicht mit der zweiten bzw. ersten leitenden Schicht elektrisch verbunden ist, wodurch in jedem Fall eine Aufhebung der durch den pyroelektrischen Effekt erzeugten Ladungen erfolgt.
2. Optische Wellenleitervorrichtung nach Anspruch 1, worin das zumindest eine erste optische Wellenleitersubstrat (3) und das zumindest eine weitere Substrat (3, 13) solcherart geschichtet sind, dass die erste und die vierte Kristallebene auf der gleichen Seite der Substrate ausgerichtet sind und die zweite und die dritte Kristallebene auf der gegenüberliegenen Seite der Substrate ausgerichtet sind, wobei die erste und die vierte leitende Schicht und die zweite und die dritte leitende Schicht in jedem Fall ein kontinuierliches Element darstellen.
3. Optische Wellenleitervorrichtung nach Anspruch 2, worin eine Kleberschicht (12) zwischen dem optischen Wellenleitersubstrat (3) und dem weiteren Substrat angeordnet ist.
4. Optische Wellenleitervorrichtung nach einem der Ansprüche 1, 2 oder 3 mit einer Vielzahl der ersten optischen Wellenleitersubstrate (3), worin zumindest ein weiteres Substrat ein Dummysubstrat (13) ist.
5. Optische Wellenleitervorrichtung nach Anspruch 4, worin das Dummysubstrat (13) so zwischen den ersten optischen Wellenleitersubstraten angeordnet ist, dass die ersten Kristallebenen (20B) der ersten optischen Wellenleitersubstrate und die vierte Kristallebene des Dummysubstrats auf der gleichen Seite der Substrate ausgerichtet sind und die zweiten Kristallebenen der ersten optischen Wellenleitersubstrate und die dritte Kristallebene des Dummysubstrats auf der gegenüberliegenden Seite des Substrats ausgerichtet sind, wobei die erste und die vierte leitende Schicht und die zweite und dritte leitende Schicht in jedem Fall ein kontinuierliches Element darstellen.
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