DE69121329T2

DE69121329T2 - Lichtempfindliche Flexodruckzusammensetzung

Info

Publication number: DE69121329T2
Application number: DE1991621329
Authority: DE
Inventors: Kazunori Kanda; Katusji Konishi; Koichi Ueda
Original assignee: Nippon Paint Co Ltd
Current assignee: Nippon Paint Co Ltd
Priority date: 1990-06-18
Filing date: 1991-06-12
Publication date: 1997-01-02
Anticipated expiration: 2011-06-13
Also published as: EP0465034B1; CA2044785A1; EP0465034A1; DE69121329D1

Description

Gebiet der Erfindung

Diese Erfindung betrifft eine Verbesserung einer lichtempfindlichen Harzzusammensetzung, die für den Flexodruck verwendet wird.

Hintergrund der Erfindung

Der Flexodruck ist ein Verfahren, das flexible Reliefs anwendet, die aus Gummi oder einem Laminat von Gummi und Kunststoff hergestellt sind, und das daher eine so gute Tintenübertragbarkeit aufweist, daß es möglich sein müßte, auf einer rauhen Oberfläche wie Wellpapen zu drucken. Da die Reliefs jedoch leicht durch die Druckkraft deformiert werden, kann das Verdicken von gedruckten Bildern, eine sogenannte Punktvermehrung auftreten, und somit ist es schwierig, scharfe und gutgedruckte Bilder zu erhalten. Demgemäß wird überlegt, daß der Flexodruck für den Buchdruck oder Offsetdruck schlechter ist.
Um die Punktvermehrung zu vermindern, schlagen die japanischen Kokai-Veröffentlichungen 6392/1980 und 47966/1968 Harzplatten für den Flexodruck vor, die Punkte ergeben, die durch die Druckkraft schwierig zu deformieren sind. Die japanische Kokai-Veröffentlichung 970/1990 schlägt ebenfalls eine lichtempfindliche Harzplatte für den Flexodruck vor, die ein kleineres Relief als ein Negativbild schafft, wodurch das Reliefbild kleiner gemacht wird als die Negativfilmbilder durch den Verlust, der beim Drucken auftritt. Die Harzplatten der zuerst genannten Patente haben eine Struktur, umfassend zwei Schichten, die sich bezüglich der Härte voneinander unterscheiden, von denen die obere Schicht, die mit dem Papier kontaktiert wird, eine höhere Härte aufweist als die der unteren Schicht, und bei der die untere Schicht weicher ist, zum Absorbieren der Druckkraft. Bei diesem Verfahren ist jedoch ein Platten-Herstellungsverfahren wegen des Zweischichtaufbaus der lichtempfindlichen Schicht kompliziert. In dem Verfahren des zuletzt genannten Patents ist eine Luftschicht zwischen dem Negativfilm und der Harzplatte vorgesehen, und eine Belichtung wird dann durchgeführt, wodurch der Sauerstoff in der Luftschicht die Polymerisationsreaktion in gewissem Ausmaß inhibiert, was dazu führt, daß ein kleineres Relief als das Negativbild erhalten wird. Das Verfahren hat jedoch Nachteile, weil es schwierig zu handhaben ist, da das lichtempfindliche Harz flüssig ist und die resultierenden Punkte brüchig sind.

Zusammenfassung der Erfindung

Diese Erfindung schafft eine lichtempfindliche Harzplatte, die die Punkterhöhung effektiv verhindert, indem die lichtempfindliche Harzschicht mit einer spezifischen matten Schicht bedeckt wird. Die lichtempfindliche Harzplatte dieser Erfindung umfaßt ein Substrat, eine lichtempfindliche Harzschicht, die auf dem Substrat gebildet ist, und eine matte Harzschicht, die auf der lichtempfindlichen Harzschicht gebildet ist, worin die matte Harzschicht ein Polymerisations-Inhibitionsmaterial enthält.

Detaillierte Beschreibung der Erfindung

Die matte Harzschicht wird üblicherweise vorgesehen, um zu verhindern, daß ein Negativfilm auf der Harzplatte kleben kann, und ist hauptsächlich aus verschiedenen Arten von Harzen hergestellt, wie Cellulose, Polyvinylalkohol, Polyamid und Polyacrylamid. Zusätzlich zu dem Hauptharz enthält die matte Schicht im allgemeinen Farbstoffe (z.B. Eosin, Methylenblau, Bengalrosa und Erythrosin), anorganische Teilchen (z.B. Silica), organische Mikroteilchen (z.B. Mikrogele, erhalten durch internes Vernetzen von Styrol oder Acryl-Monomeren), Tenside und destilliertes Wasser.
Die matte Schicht hat im allgemeinen eine Dicke von 0,5 bis 100 µm, bevorzugt 1,0 bis 10 µm. Wenn die Dicke weniger als 0,5 µm ist, ist die Wirkung der matten Schicht gering, was zu einer Verminderung der Wirkungen, das Ankleben an dem Negativfilm zu verhindern, und zur Verminderung der Photopolymerisaions-Inhibitionswirkungen führt. Wenn die Dicke mehr als 100 µm ist, ist die Verarbeitbarkeit des Plattenherstellungsverfahrens gering, und die Qualität des gedruckten Bildes ist ebenfalls schlecht.
Gemäß dieser Erfindung enthält die matte Harzschicht weiterin ein Polymerisations-Inhibitionsmaterial (z.B. Polymerisations-Inhibitoren, Polymerisations-Stopper, Kettenübertragungsmittel, Polymerisations-Regulatoren, Antioxidantien und Ultraviolettabsorber). Das Polymerisations-Inhibitionsmaterial kann mit der matten Harzzusammensetzung kompatibel oder inkompatibel sein, aber bevorzugt ist ein Material, das damit kompatibel ist. Das Material kann ebenfalls mit der lichtempfindlichen Harzschicht kompatibel, teilweise kompatibel oder inkompatibel sein, und bevorzugt ist ein Material, das teilweise damit kompatibel ist. Mit anderen Worten ist es erwünscht, daß die meisten Polymerisations- Inhibitionsmaterialien in etwa an der Grenzfläche zwischen der lichtempfindlichen Harzschicht und der matten Schicht vorhanden sind. Mit dem Ausdruck "kompatibel" ist hierin gemeint, daß das Polymerisations-Inhibitionsmaterial im wesentlichen vollständig in den Grundharzen aufgelöst ist, und mit dem Ausdruck "inkompatibel" ist hierin gemeint, daß das Photopolymerisations-Inhibitionsmaterial im wesentlichen in den Grundharzen unlöslich ist. Der Ausdruck "teilweise kompatibel" bedeutet in dem Zusammenhang entweder, daß das Polymerisations-Inhibitionsmaterial in der lichtempfindliche Harzschicht in einer geringen Konzentration an der Grenzfläche zwischen der lichtempfindlichen Harzschicht und der matten Schicht imprägniert ist oder daß das Polymerisations-Inhibitionsmaterial darin in dem Zustand der Domänenstrukturen oder Strukturen mit getrennter Schicht nicht aufgelöst, sondern dispergiert ist. Es ist bevorzugt, daß das Polymerisations-Inhibitionsmaterial eines ist, das nicht in die lichtempfindliche Harzschicht im Verlaufe der Zeit transferiert und an der Grenzfläche akkumuliert, so daß von den Verbindungen die ausgewählt werden, die teilweise kompatibel sind. Die Kompatibilität variiert nicht nur in Abhängigkeit von dem molekularen Aufbau, Molekulargewicht, funktionellen Gruppen an den Molekülen und Löslichkeitsparametern, sondern ebenfalls in Abhängigkeit von der Temperatur, Schichtdicke und Mischungsverhältnis, falls gemischt. Typische Beispiele der radikalischen Polymerisations-Inhibitoren sind Hydrochinon, Alkyl- oder Aryl-substituierte Hydrochinone, 2,6-Di-t-butyl-4- methylphenol, p-Methoxyphenol, p-Butylpyrocatechol, Pyrogallol, β-Naphthol, 2,6-Di-t-butyl-p-cresol, Phenothiazin, Pyridin, Nitrobenzol, Dinitrobenzol, Nitrosonaphthol und Cupferron. Typische Beispiele der Polymerisationsregulatoren und Polymerisationsstopper sind Dimethylxanthiogendisulfid, Natriumdimethylthiocarbamat, Natriumdiethyldithiocarbamat und Natriumdibutyldithiocarbamat. Typische Beispiele der Kettenübertragungsmittel sind Thiol-Verbindungen (z.B. Laurylmercaptan, Dodecylmercaptan). Typische Beispiele der Antioxidantien sind Phenol-Antioxidantien (z.B. Phenol, Cresol, β-Naphthol, t-Butylphenol); Phosphat-Antioxidantien (z . B. Triphenylphosphin, Triphenylphosphit, Trilauryltrithiophosphit, Hexamethylphosphorylamid, Diphenyldecylphosphit, Dicresylphosphit); Schwefel- Antioxidantien (z.B. 2-Mercaptobenzimidazol, Dilaurylthiodipropionat, Tetramethylthiurammonosulfid, Zinkdibutyldithiocarbamat); Amin-Antioxidantien (z .B. Aldol- α-naphthylamin, N,N'-Diphenyl-p-phenylendiamin, 1-(2- Hydroxyethyl)-2,2,4-trimethyldecahydrochinon, Bis(2,2,6,6- tetramethyl-4-pyperidinyl)sebacat); die anderen Antioxidantien (z.B. [2,2'-Thiobis(4-t-octylphenolat)]-n- butylaminnickel, Cobaltdicyclohexyldithiophosphinat). Typische Beispiele der Ultraviolett-Absorber sind Benzophenone (z.B. 2-Hydroxy-4-methoxybenzophenon, 2,4- Dihydroxybenzophenon, 2,2'-Hydroxy-4,4'-dimethoxybenzophenon, 2,4-Dibenzoylresorcin); Benzotriazole (z.B. 2-(2'-Hydroxy-5'- methylphenyl)benzotriazol, 2-(2'-Hydroxy-3'-t-butyl-5'- methylphenyl)benzotriazol); Phenylbenzoate (z.B. Resorcinmonobenzoat); Phenylsalicylate (z.B. Phenylsalicylat, 4-t-Butylphenylsalicylat); die anderen niedermolekularen UV- Absorber (z.B. [2,2'-Thiobis(4-t-octylphenolat)]-n- butylaminnickel (II), 2-Ethylhexyldiphenylmethylencyanacetat); polymere UV-Absorber (z.B. 2-Hydroxy-4-(3-methacryloxy-2- hydroxypropoxy)benzophenon, 2,2'-Dihydroxy-4- (3- methacryloxypropoxy)benzophenon, 2,6-Di-t-butyl-4- vinylphenol, 2-Hydroxy-4-(vinylbenzyloxy)benzophenon, Verbindungen, die in dem UK-Patent 898 065, den US-Patenten 3 159 646, 3 141 903, 3 186 968, 2 883 361, 3 162 676, 3 173 893, 3 049 503, 3 107 199, 3 072 585 und der japanischen Kokai-Veröffentlichung 56-125414 beschrieben sind).
Erfindungsgemäß sind die Wirkungen für die Inhibition von Polymerisationsreaktionen bevorzugt durch zwei Parameter definiert, d.h. den Intrinsik-Inhibitionsindex und den zeitabhängigen Inhibitionsindex. Der Inhibitionsindex wird aus der folgenden Gleichung errechnet:
Inhibitionsindex = (A-B)/A × 100
[worin A = ein Punkt-Durchmesser (Mikrometer), wenn die matte Schicht das Polymerisations-Inhibitionsmaterial nicht enthält, B = ein Punkt-Durchmesser (Mikrometer), wenn die matte Schicht das Polymerisations-Inhibitionsmaterial enthält].
Die Probenplatten wurden durch Bedecken einer Harzplatte, die sich aus einem Substrat und einer darauf angeordneten lichtempfindlichen Harzschicht zusammensetzt, mit einer matten Schicht und Lassen dieser für einen bestimmten Tag bei 20ºC, mit anschließender Belichtung durch einen Negativfilm mit 65 lpi (line per inch) Halbton und 10 % kreisförmigen Punkten und anschließendes Entwickeln hergestellt. A wird bestimmt, wenn die matte Schicht das Polymerisations- Inhibitionsmaterial nicht enthält, und B wird bestimmt, wenn die matte Schicht dieses enthält, wobei ein Mikroskop vom Reflektionstyp verwendet wird. Erfindungsgemäß wird der Intrinsik-Inhibitionsindex definiert als eine Bestimmung, nachdem sie einen Tag gelassen wird, und der zeitabhängige Inhibitionsindex wird definiert als Bestimmung, wenn sie sieben Tage lang gelassen wird. Entsprechend der Erfindung ist es bevorzugt, daß der Intrisik-Inhibitionsindex nicht weniger als 3, mehr bevorzugt nicht weniger als 5, am meisten bevorzugt nicht weniger als 8 ist. Der zeitabhängige Inhibitionsindex ist vorzugsweise nicht weniger als 3, mehr bevorzugt nicht weniger als 5, am meisten bevorzugt nicht weniger als 8. Obwohl die Polymerisations-Inhibition von anderen Bedingungen abhängt, wie Zusammensetzungen und Eigenschaften der lichtempfindlichen Harzschicht oder matten Harzschicht, ist es im Hinblick auf den Inhibitionsindex mehr bevorzugt, daß die Polymerisations-Inhibitionsmaterialien Natriumdialkyldithiocarbamat, insbesondere Natriumdiethyldithiocarbamat, Natriumdipropyldithiocarbamat und Natriumdibutyldithiocarbamat als Polymerisations- Inhibitoren; Cupferron als Polymerisations-Stopper, β- Naphthol, t-Butylphenol, Pentaerythrityltetrakis[3-(3,5-di-t- butyl-4-hydroxyphenyl)propionat], 2,2-Thiodiethylenbis-[3- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl)propionat] als Antioxidantien sind.
Das Polymerisations-Inhibitionsmaterial kann in der matten Schicht in einer Menge von 0,1 bis 70 Gew.-%, bevorzugt 0,3 bis 55 Gew.-% vorhanden sein, bezogen auf die Gesamtmenge der matten Schicht. Mengen von weniger als 0,1 Gew.-% haben geringe Polymerisations-Inhibitionswirkungen und erhöhen die Punktvermehrung. Mengen von mehr als 70 Gew.-% führen zu einem geringen Relief wegen der geringen Eigenschaften, erhabene Punkte zu erhalten, und vermindern die physikalischen Eigenschaften der Punkte.
Die erfindungsgemäße lichtempfindliche Harzschicht kann irgendeine im Stand der Technik bekannte sein, und kann durch Wasser oder organische Lösungsmittel entwickelbar sein. Typische Beispiele der durch Wasser entwickelbaren lichtempfindlichen Harzzusammensetzungen sind in EP-A-164 270 und den US-Patenten 4 952 481 und 4 957 850 beschrieben. Typische Beispiele der in organischen Lösungsmitteln entwickelbaren Zusammensetzungen sind in den US-Patenten 4 323 637, 4 234 676 und 4 264 705 und der japanischen Kokai- Veröffentlichung 52-64301 beschrieben. Eine Dicke der lichtempfindlichen Harzschicht liegt im allgemeinen innerhalb des Bereiches von 0,2 bis 10,0 mm. Es ist für den Flexodruck bevorzugt, daß die lichtempfindliche Harzschicht, wenn sie gehärtet ist, eine Shore A Härte von 30 bis 80º und eine Stoßelastizität von 20 % oder mehr hat.
Das Substrat für die Harzplatte kann irgendein im Stand der Technik bekanntes sein, z.B. Metallplatten, wie Eisen, eine rostfreie, Kupfer, Zink und Aluminium; Gummiblätter wie natürlicher Gummi oder synthetischer Gummi, Kunststoffblätter oder Filme wie Celluloid, Celluloseacetat, Polyethylen, Polypropylen, Polyvinylchlorid, Polymethylmethacrylat, Polystyrol, Polycarbonat, Polyethylenterephthalat und Polyamid. Das Substrat hat im allgemeinen eine Dicke von 0,025 bis 0,5 mm, bevorzugt 0,05 bis 0,4 und wird ebenfalls mit einer Lichthofschutzschicht und einer Adhäsivschicht bedeckt.
Die lichtempfindliche Harzplatte dieser Erfindung kann durch bekannte Verfahren hergestellt werden, z.B. durch Bilden der lichtempfindlichen Harzschicht auf dem Substrat und anschließendes Bilden einer matten Harzschicht darauf. Die Platte wird dann aktiven Lichtstrahlen durch einen Negativfilm belichtet und dann zur Bildung eines Reliefs entwickelt. Typische Beispiele der aktiven Lichtstrahlquellen sind Niederdruckquecksilberlampen, Hochdruckquecksilberlampen, Ultrahochdruckquecksilberlampen, Ultraviolettfluoreszenzlampen, Kohlenbogenlampen, Xenonlampen und das Sonnenlicht. Der Entwickler kann irgendein im Stand der Technik bekannter sein, einschließlich organische Lösungsmittel wie Alkohole, Aceton, Benzol, Toluol, Chlorethan und Chlorethylen; Wasser oder alkalische wäßrige Lösungsmittel umfassend z.B. Natriumhydroxid, Natriumcarbonat, Natriumphosphat, Natriumtripolyphosphat, Natriumborat und Natriumsilicat.
Die lichtempfindliche Harzplatte dieser Erfindung ist für den Flexodruck sehr nützlich und vermindert signifikant die Punkt zunahme.

Beispiele

Die Erfindung wird durch die folgenden Beispiele erläutert, die nicht so verstanden werden sollen, daß diese Erfindung auf deren Details beschränkt wird.

Beispiel 1

Eine matte Harzzusammensetzung wurde durch Mischen von 15 Gew.-Teilen Hydroxymethylcellulose und 95 Gew.-Teilen destilliertes Wasser und durch anschließendes Auflösen von 4 Gew.-Teilen Silica mit einer durchschnittlichen Teilchengröße von 15 µm darin hergestellt, mit anschließender Zugabe von Cupferron (ein Polymerisations-Inhibitor erhältlich von Wako Pure Chemical Industries, Ltd.).
Getrennt davon wurde eine lichtempfindliche Harzzusammensetzung, die nach dem Härten eine Shore A-Härte von 70º und eine Stoßelastizität von 32 % hatte, durch Mischen von 66,5 Gew.-Teilen eines Copolymers (das sich aus 80 Mol.-% Butadien, 6,5 Mol.-% Methacrylsäure, 1 Mol.-% Divinylbenzol und 12,5 Mol.-% Methylmethacrylat zusammensetzte), 8 Gew.-Teilen N,N- Dimethylaminopropylmethacrylat, 6 Gew.-Teilen Phenoxyethoxyethanol, 12 Gew.-Teilen Laurylmethacrylat, 5 Gew.-Teilen Trimethylolpropantriacrylat, 2 Gew.-Teilen 2,2- Dimethoxy-2-phenylacetophenon und 0,5 Gew.-Teilen 2,6-Di-t- butyl-p-cresol unter Verwendung einer Doppelwalze bei 60ºC, mit anschließendem weiterem Mischen durch einen unter Druck gesetzten Doppelschraubenkneter hergestellt. Die Zusammensetzung wurde durch einen Doppelschraubenextruder auf eine Eisenplatte zur Bildung einer lichtempfindlichen Harzschicht mit einer Dicke von etwa 0,4 mm und einer spiegelglatten Oberfläche extrudiert.
Auf die lichtempfindliche Harzzusammensetzung wurde die zuvor erhaltene matte Harzzusammensetzung in einer Dicke von 3 µm nach dem Trocknen geschichtet und bei 70ºC für 2 min getrocknet, unter Erhalt einer lichtempfindlichen Harzzusammensetzung.
Nachdem die resultierende Harzplatte bei 20ºC für einen Tag gelassen wurde, wurde ein Negativfilm dicht darauf im Vakuum angeordnet und dann mit einer 3 KW Ultrahochdruckquecksilberlampe für 40 min belichetet. Sie wurde dann mit Wasser bei 40ºC für 2 min unter Verwendung einer Bürste entwickelt und bei 110ºC für 2 min in einer Trockenkammer, die mit einer 2 KW Hochdruckquecksilberlampe ausgerüstet war, getrocknet. Sie hatte einen Intrinsik- Inhibitionsindex von 10.
Die Punktdurchmesser, die tatsächlich verwendet wurden, sind in Tabelle 1 gezeigt. Tabelle 1
Alle Zahlen sind in Mikrometer angegeben.
Wenn der Negativpunktdurchmesser weniger als 50 % ist, zeigen die Zahlen Punktdurchmesser in dem gehärteten Bereich, und wenn er mehr als 50 % ist, zeigen die Zahlen den Punktdurchmesser in dem nichtgehärteten Bereich.
Nachdem die Harzplatte 7 Tage lang bei 20ºC gelassen war, wurde der Inhibitionsindex ebenfalls mit 7 bestimmt.

Beispiel 2

Der Vorgang von Beispiel 1 wurde wiederholt, mit der Ausnahme, daß die matte Harzzusammensetzung durch Dispergieren von 4 Gew.-Teilen Silica mit einer durchschnittlichen Teilchengröße von 15 µm in einer Lösung aus 15 Gew.-Teilen Hydroxycellulose und 95 Gew.-Teilen destilliertem Wasser und durch anschließende Zugabe von 19 Gew.-Teilen Natriumdibutyldithiocarbamat (ein Polymerisationsstopper) hergestellt wurde.
Die resultierende Harzplatte hatte einen Intrinsik- Inhibitionsindex von 16 und einen zeitabhängigen Inhibitionsindex von 12.
Die resultierende Druckplatte wurde unter Verwendung einer Flexodruckmaschine auf Kraft-Papier bei 200 m/s gedruckt. Keine Anderungen der Reliefoberfläche wurden nach 4 h beobachtet, und die gedruckten Papierblätter hatten gute und genaue Bilder. Die Ergebnisse des Druckens sind in Tabelle 2 gezeigt.

Vergleichsbeispiel 1

Der Vorgang von Beispiel 2 wurde wiederholt, mit der Ausnahme, daß Natriumdibutyldithiocarbamat nicht verwendet wurde, und die Druckergebnisse sind in Tabelle 2 gezeigt.

Vergleichsbeispiel 2

Der Vorgang von Beispiel 2 wurde wiederholt, mit der Ausnahme, daß 2 Gew.-Teile Natriumdibutyldithiocarbamat anstelle von 19 Gew.-Teilen davon verwendet wurden, und die Druckergebnisse sind in Tabelle 2 gezeigt.
Die Harzplatte hatte einen Intrinsik-Inhibitionsindex von 2.
Wie aus Vergleichsbeispiel 2 ersichtlich ist, war der Punktdurchmesser der Druckplatte größer und die gedruckten Bilder hatten unterschiedliche Punktzunahmen, wenn der Intrinsik-Inhibitions index gering ist.

Beispiel 3

Der Vorgang von Beispiel 1 wurde wiederholt, mit der Ausnahme, daß die matte Harzzusarnmensetzung durch Dispergieren von 4 Gew.-Teilen Silica mit einer durchschnittlichen Teilchengröße von 15 µm in eine Lösung aus 15 Gew.-Teilen Hydroxycellulose und 95 Gew.-Teilen destilliertes Wasser und durch anschließende Zugabe von 3 Gew.-Teilen eines Antioxidans, erhältlich von Ciba Geigy AG als IRGANOX 1010, dazu hergestellt war.
Die resultierende Harzplatte hatte einen Intrinsik- Inhibitionsindex von 6 und einen zeitabhängigen Inhibitionsindex von 6.

Beispiel 4

Der Vorgang von Beispiel 1 wurde wiederholt, mit der Ausnahme, daß die matte Harzzusammensetzung durch Dispergieren von 4 Gew.-Teilen Silica mit einer durchschnittlichen Teilchengröße von 15 µm in eine Lösung aus 15 Gew.-Teilen Hydroxycellulose und 95 Gew.-Teilen destilliertes Wasser und durch anschließende Zugabe von 2 Gew.-Teilen eines UV-Absorbers, erhältlich von Ciba Geigy AG als IRGANOX 1130, dazu hergestellt worden war.
Die resultierende Harzplatte hatte einen Intrinsik- Inhibitionsindex von 3 und einen zeitabhängigen Inhibitionsindex von 2.

Beispiel 5

Ein lichtempfindliches Harzblatt, das eine Shore A-Härte von 55º und einen Stoßelastizität von 62 % hatte, wenn es gehärtet war, wurde aus kristallinem 1,2-Polybutadien, Dioctyltetrahydrophthalat, Neopentylglykoldimethacrylat und einem Polymerisations-Initiator hergestellt, und daraus wurde ein 5 mm dickes lichtempfindliches Harzblatt gebildet. Ein Polyesterblatt wurde auf das lichtempfindliche Harzblatt als Rückschicht befestigt.
Getrennt davon wurde ein Polyesterschutzblatt mit einer Oberflächenrauhigkeit von 3,0 µm und einer Dicke von 100 µm mit einem Silan-Kupplungsmittel vom Lösungsmitteltyp (erhältlich von Toray Silicone Co., Ltd. als Toray Silicone SRX-244, einschließlich einem Katalysator SRX-242 AC) unter Verwendung eines Streichmessers in einer Dicke von 0,5 µm geschichtet und konnte für einen Tag bei Raumtemperatur stehen. Auf das Silicon wurde eine 5 Gew.-%ige Isopropylalkohol/Toluol-Lösung von 100 Gew.-Teilen Ethylcellulose mittleren Typs, umfassend ein Ethoxy von 45 % (erhältlich von Dow Company), und 16 Gew.-Teilen Natriumdibutyldidthiocarbamat in einer Dicke von 1,5 µm geschichtet und getrocknet.
Als nächstes wurde das lichtempfindliche Harzblatt mit einer Rückschicht bei 80ºC für 2 min in einem Heißlufttrockner erwärmt. Nach Herausnanme aus dem Trockner wurde der Polyester-Schutzfilm mit der lichtempfindlichen Schicht in der Schmelze verbunden, wobei die Silicon-Oberfläche der lichtempfindliche Schicht gegenüberlag, und dann auf eine kalte Oberfläche für 10 min angeordnet, unter Erhalt einer lichtempfindlichen Harzplatte.
Nachdem die resultierende Harzplatte bei 20ºC für einen Tag gelassen wurde, wurde ein Negativfilm darauf im Vakuum dicht angeordnet und dann mit einer chemischen Lampe für 10 min belichtet. Sie wurde dann mit einer Mischung aus 25 Gew.-% Isopropylalkohol und 75 Gew.-% 1,1,1-Trichlorethan für eine Minute unter Verwendung einer Bürste entwickelt und bei 50ºC für 20 min in einer Trockenkammer getrocknet, die mit einer 2 KW Hochdruckguecksilberlampe ausgerüstet war. Sie hatte einen Intrinsik-Inhibitionsindex von 10 und einen zeitabhängigen Inhibitionsindex von 8. Tabelle 2

Claims

1. Lichtempfindliche Harzplatte für den Flexodruck, umfassend ein Substrat, eine lichtempfindliche Harzschicht, gebildet auf dem Substrat, und eine matte Harzschicht, gebildet auf der lichtempfindlichen Harz schicht, dadurch gekennzeichnet, daß die matte Harzschicht ein Polymerisationsinhibitionsmaterial enthält.

2. Lichtempfindliche Harzplatte nach Anspruch 1, worin die matte Harzschicht aus einer matten Harzzusammensetzung hergestellt ist, umfassend

(a) ein Bindemittelharz und

(b) ein Polymerisationsinhibitionsmaterial.

3. Lichtempfindliche Harzplatte nach Anspruch 2, worin das Polymerisationsinhibitionsmaterial in der matten Harzzusammensetzung in einer Menge von 0,1 bis 50 Gew.-% vorhanden ist, bezogen auf das Gesamtgewicht der Zusammensetzung.

4. Lichtempfindliche Harzplatte nach Anspruch 2, worin das Bindemittelharz (a) ausgewählt ist aus der Gruppe, bestehend aus Cellulose, Polyvinylalkohol, Polyamid und Polyacrylamid

5. Lichtempfindliche Harzplatte nach Anspruch 1, worin das Polymerisationsinhibitionsmaterial Polymerisationsinhibitoren, Polymerisationsstopper, Kettenübertragungsmittel, Polymerisationsregulatoren, Antioxidantien oder Ultraviolettabsorber enthält.

6. Lichtempfindliche Harzplatte nach Anspruch 5, worin die Polymerisationsinhibitionsmaterialien ausgewählt sind aus der Gruppe, bestehend aus Natriumdialkyldidthiocarbamat, β-Naphthol, Kupferron, t- Butylphenol, Pentaerythrityl-tetrakis[3-(3,5-di-t-butyl- 4-hydroxyphenyl)propionat] und 2,2-Thiodiethylenbis-[3- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl)propionat].

7. Lichtempfindliche Harzplatte nach Anspruch 1, worin die matte Harzschicht einen Intrisik-Inhibitionsindex von 3 oder mehr und einen zeitabhängigen Inhibitionsindex von 3 oder mehr hat, berechnet aus der folgenden Gleichung:

Inhibitionsindex = (A-B)/A × 100

[worin A ein Punktdurchmesser (µm) , wenn die matte Schicht das

Polymerisationsinhibitionsmaterial nicht enthält, B = ein Punktdurchmesser (µm), wenn die matte Schicht das Polymerisationsinhibitionsmaterial enthält],

wenn der Intrinsik-Inhibitionsindex definiert wird als Bestimmung, nachdem eine lichtempfindliche Harzplatte einen Tag stehengelassen wird, und der zeitabhängige Inhibiotionsindex definiert wird als Bestimmung, wenn eine lichtempfindliche Harzplatte 7 Tage lang stehen gelassen wird.

8. Lichtempfindliche Harzplatte nach Anspruch 1, worin die lichtempfindliche Harzschicht nach dem Härten eine Shore A-Härte von 30 bis 80º und eine Schlagzähigkeit von 20 % oder mehr hat.