DE69113231T2

DE69113231T2 - Plasma-Reaktionskammer.

Info

Publication number: DE69113231T2
Application number: DE69113231T
Authority: DE
Inventors: Stephen L Kaplan; Peter W Rose
Original assignee: BOC Group Inc
Current assignee: Messer LLC
Priority date: 1990-12-24
Filing date: 1991-12-20
Publication date: 1996-02-22
Anticipated expiration: 2011-12-21
Also published as: EP0492511A3; ATE128269T1; EP0492511A2; DE69113231D1; JPH05179453A; US5190703A; EP0492511B1

Description

HINTERGRUND DER ERFINDUNG

Gebiet der Erfindung

Die gegenwärtige Erfindung bezieht sich allgemein auf Plasmareaktorkammern, insbesondere auf eine Plasmareaktorkammer, die eine Behandlungsflächenöffnung in einer Wand der Kammer aufweist, mit einer Vakuumdichtung, die auf der Reaktorwand vorgesehen ist und die Öffnung umgibt.

Kurze Beschreibung des Standes der Technik

Den Anmeldern ist grundsätzlich kein Stand der Technik bekannt, bei dem die Reaktorkammerwände nicht vollständig abgeschlossen sind, um eine Niederdruckumgebung sicherzustellen. Somit erscheint die Verwendung einer Reaktorkammer mit einer Behandlungsöffnung in der Kammerwand neu, bei der die zu behandelnde Fläche die Öffnung in der Wand der Kammer abdeckt, und bei der eine Niederdruckdichtung die Kante der Öffnung in der Kammerwand umgibt, um die Erzeugung einer Niederdruckumgebung zu erlauben.
Zu dem bekannten Stand der Technik gehört das US-Patent Nr. 4,767,641, Plasmabehandlungsvorrichtung, das am 30. August 1988 an Keiser et al. erteilt wurde. Dieses Patent beschreibt eine offenseitige Anode, die innerhalb einer Vakuumkammer angeordnet ist. An der Anode wird eine bewegliche Behandlungsfläche zur Plasmabehandlung vorbeigeführt. Die Form der Reaktorkammer, die die Anode in der Niederdruckumgebung einschließt, ist unbestimmt. Weiterer Stand der Technik gemäß dem US-Patent 3,414,702, das am 3. Dezember 1968 an L.H. Stauffer erteilt wurde, gemäß dem US-Patent 3,518, 484, das am 30. Juni 1970 an C.W.A. Maskell erteilt wurde, und gemäß dem US-Patent 4,713,585, das am 15. Dezember 1987 an Ohno et al. erteilt wurde, lehrt besondere Arten von Niederdruckkammern für Elektronenstrahl- und Ionenstrahleinrichtungen. Jedoch offenbaren diese Einrichtungen keine offenseitige Reaktorkammer, in der die zu behandelnde Fläche eine Wand des Reaktors bildet.
Das US-Patent 4,940,521, das am 10. Juli 1990 an Dinter et al. erteilt wurde, offenbart eine Einrichtung zur Behandlung eines endlosen Streifens, der auf einer sich drehenden Trommel vorgesehen ist. Dinters Vorrichtung erreicht einen Entladungsprozeß bei atmosphärischem Druck, der eine Metallabdeckung verwendet, um Hochspannungselektroden von dem Arbeitsplatz abzuschirmen und um ein flüssiges Aerosol in dein Glühbereich einzuschließen.
Es sei ferner erwähnt, daß es grundsätzlich bekannt ist, eine Elektrodenstrahlschweißvorrichtung der Art, bei der ein Teil eines großen durch Schweißen zu verbindenden Werkstückes und seine Umgebung allein in einem evakuierten Raum plaziert werden, mit einer Vakuumabschirmeinrichtung ohne Verwendung einer Vakuumkammer von großer Baugröße zu verwenden (vergleiche zum Beispiel US-A-4,342,900).

ZUSAMMENFASSUNG DER ERFINDUNG

Es ist eine Aufgabe der gegenwärtigen Erfindung, das Erfordernis für große, teure Behandlungskammern zu vermeiden, wenn die zu behandelnde Fläche klein ist.
Es ist eine weitere Aufgabe der gegenwärtigen Erfindung, eine Plasmabehandlungskammer mit einer kleinen, effizienten Stromversorgung und Vakuumpumpe anzugeben.
Es ist eine weitere Aufgabe der gegenwärtigen Erfindung, eine Behandlungskammer mit einer kurzen Durchsatzzeit anzugeben.
Eine noch andere Aufgabe der gegenwärtigen Erfindung besteht darin, eine Plasmareaktorkammer anzugeben, die zur Behandlung von kleinen Bereichen einer großen Fläche geeignet ist.
Schließlich besteht eine weitere Aufgabe der gegenwärtigen Erfindung darin, eine Plasmareaktorkammer anzugeben, die zur Abstimmung mit ausgewählten Bereichen von irregulär geformten Flächen geeignet ist, um eine Plasmabehandlung für kleine Bereiche der Flächen zu ermöglichen.
Diese Aufgabe wird durch einen Plasmareaktor gemäß Anspruch 1 gelöst, des weiteren ist ein Verfahren zur Verwendung eines solchen Plasmareaktors in Anspruch 13 beansprucht.
Die gegenwärtige Erfindung umfaßt eine Plasmareaktorkammer, die einen offenen Wandbereich aufweist, wie etwa eine allgemein halbkugelförmige Form, derart, daß eine große Öffnung in einer Wand der Kammer vorhanden ist. Die Reaktorkammer kann entfernt mittels einer Steuerkonsole plaziert werden, wie sie etwa an einem Roboterarm vorhanden ist. Eine Einrichtung zur Erzeugung von Plasma, wie etwa HF-Elektroden, ist innerhalb der Kammer angeordnet, und an der Außenkante der Kammerwand liegt eine Vakuumdichtung an, die die Öffnung umgibt. Arbeitskomponenten, wie etwa eine Vakuumpumpe, eine Plasmagasversorgung und ein HF-Generator, sind innerhalb der Steuerkonsole vorgesehen, und zahlreiche Versorgungsleitungen verbinden die Arbeitskomponenten mit der Reaktorkammer. Beim Betrieb wird die Reaktorkammer an einen Teil einer zu behandelnden Fläche angelegt, und innerhalb der Kammer wird ein Niederdruckplasma erzeugt, um den Bereich der innerhalb der Dichtung der Kammer eingeschlossenen Fläche zu behandeln. Innerhalb des Rahmens der Erfindung liegen besonders geformte Dichtungen für irregulär geformte Flächen, sowie eine Rolldichtung zur Bewegung der Reaktorkammer in bezug auf eine Fläche.
Es ist ein Vorteil der gegenwärtigen Erfindung, daß sie die Notwendigkeit für große, teure Reaktorkammern vermeidet, wenn die zu behandelnde Fläche klein ist.
Ein weiterer Vorteil der gegenwärtigen Erfindung besteht darin, daß sie eine Plasmabehandlungskammer mit einer kleinen, effizienten Stromversorgung und Vakuumpumpe zur Verfügung stellt.
Ein weiterer Vorteil der gegenwärtigen Erfindung besteht darin, daß sie eine Reaktorkammer mit einer kurzen Durchsatzzeit angibt.
Ein noch weiterer Vorteil der gegenwärtigen Erfindung besteht darin, daß sie eine Plasmareaktorkammer angibt, die zur Behandlung von kleinen Flächen einer großen Oberfläche geeignet ist.
Ein noch weiterer Vorteil der gegenwärtigen Erfindung besteht darin, daß sie eine Plasmareaktorkammer angibt, die zur Abstimmung mit ausgewählten Teilen von irregulär geformten Flächen geeignet ist, um eine Plasmabehandlung an kleinen Teilen der Flächen zu erlauben.
Diese und andere Ziele, Merkmale und Vorteile der gegenwärtigen Erfindung werden zweifelsfrei den Fachleuten beim Lesen der nachfolgenden detaillierten Beschreibung der bevorzugten Ausführungsbeispiele, die in den verschiedenen Figuren der Zeichnung dargestellt sind, offenbar.

IN DER ZEICHNUNG

stellt Fig. 1 das Plasmareaktorsystem gemäß der gegenwärtigen Erfindung mit einer rechteckförmigen Kammer und einem freigeschnittenen Bereich dar;
stellt Fig. 2 eine alternative Ausführung der Reaktorkammer mit mehreren Niederdruckzonen dar;
stellt Fig. 3 eine alternative Ausführung der Reaktorkammer mit einer alternativen HF-Elektrodenkonfiguration dar;
stellt Fig. 4 eine alternative Ausführung der Reaktorkammer der gegenwärtigen Erfindung dar, in der eine Abschirmung vorgesehen ist;
stellt Fig. 5 eine alternative Ausführung der Reaktorkammer dar, bei der zwei Vakuumkammern vorgesehen sind, um die Spannung auf der Oberfläche auszugleichen;
ist Fig. 6 eine weitere alternative Ausführung der Plasmareaktorkammer der gegenwärtigen Erfindung mit darin angeordneten Stützsäulen, um die Spannung auf der Behandlungsfläche abzubauen;
stellt Fig. 7 eine weitere alternative Ausführung der Plasmareaktorkammer der gegenwärtigen Erfindung dar, die eine geformte Dichtung zur angepaßten Abstimmung auf eine irregulär geformte Oberfläche aufweist und
stellt Fig. 8 eine weitere alternative Ausführung der Plasmareaktorkammer gemäß der gegenwärtigen Erfindung dar, die eine Rolldichtung zur Bewegung der Reaktorkammer in bezug auf eine Fläche während der Behandlung aufweist.

BESCHREIBUNG DER BEVORZUGTEN AUSFÜHRUNG

Kurz gesagt wird gemäß der gegenwärtigen Erfindung eine offenseitige Kammer auf eine Oberfläche aufgesetzt. Die Oberfläche wird zu einer Wand einer geschlossenen Behandlungskammer, und eine Vakuumdichtung wird über der Kante der Kammerwandöffnung vorgesehen, um die Ausbildung und die Erhaltung eines Vakuums innerhalb der Kammer zu erlauben. Die zu behandelnde Oberfläche kann die innerhalb der Kammer eingeschlossene Fläche sein oder irgendein Teil der eingeschlossenen Fläche oder ein auf die eingeschlossene Fläche aufgesetztes Objekt sein. Innerhalb der Kammer wird dann ein Plasma erzeugt, und die Behandlung der Fläche oder des Teils wird durchgeführt. Die Kammer weist vorzugsweise eine rechteckförmige oder zylindrische Form auf, obwohl eine halbkugelförmig geformte Kammer innerhalb des Rahmens der Erfindung liegt. In der bevorzugten Ausführung ist die Kammer an einem Roboterarm befestigt, jedoch wird es in Betracht gezogen, daß die Kammer fest sein könnte und daß die zu behandelnde Oberfläche beweglich sein könnte.
Wie im Detail in Fig. 1 dargestellt, umfaßt die gegenwärtige Erfindung 10 allgemein eine rechteckförmig geformte Reaktorkammer 12, die an einer Steuerkonsole 14 mittels eines manövrierfähigen Armes 16 befestigt ist. Der Arm 16 kann manuell bewegt werden oder robotisch gesteuert werden. Bei der Benutzung wird die Reaktorkammer 12 auf eine Behandlungsfläche 18 aufgesetzt und ein Plasma innerhalb der Kammer 12 erzeugt, um den Teil der Oberfläche 18 innerhalb der Kammer 12 zu behandeln. Die Kammer 12 ist mit einem freigeschnittenen Bereich dargestellt, um eine Betrachtung des Inneren zu erlauben.
Um ein Plasma innerhalb der Kammer 12 zu erzeugen, verwendet die bevorzugte Ausführung HF-Elektroden 20, die an der Innenfläche der Wand 21 vorgesehen sind, die die Reaktorkammer 12 formt. Das Plasma wird dann innerhalb der Kammer mit einem niedrigen Druck unter Verwendung einer geeigneten Gasatmosphäre erzeugt. Um die Manövrierfähigkeit der Reaktorkammer 12 zu erleichtern, sind eine Vakuumpumpe 24, ein HF-Generator 26 und eine Plasmagasguelle 28 innerhalb der Steuerkonsole 14 angeordnet. Entlang des Arms 16 sind Versorgungsleitungen 30 von geeigneten Verbindern 32, die an der Kammerwand 21 vorgesehen sind, zu den Quellen 24, 26 und 28 innerhalb der Steuerkonsole 14 geführt. Um die Aufrechterhaltung einer Niederdruckumgebung innerhalb der Reaktorkammer 12 zu erleichtern, ist eine Vakuumdichtung 22 an der Kante 34 der Kammerwandöffnung vorgesehen. Es versteht sich somit, daß die Reaktorkammer 12 manuell oder robotisch an verschiedenen Stellen auf die Oberfläche 18 aufgesetzt werden kann, woraufhin ein Plasma erzeugt werden kann, um lokale Bereiche der Oberfläche 18 zu behandeln. Des weiteren können kleine Teile auf die Oberfläche 18 innerhalb der Kammer 12 zur Behandlung aufgesetzt werden. Somit können kleine Teile schnell und kostengünstig innerhalb des durch die Reaktorkammer 12 lokal eingeschlossenen Volumens behandelt werden.
Es liegt im Rahmen der Erfindung, daß ein Plasma innerhalb der Niederdruckumgebung der Kammer auf andere Weise als mit HF-Spannung erzeugt werden kann. Somit wird die Verwendung von elektromagnetischer Strahlung innerhalb anderer Frequenzbereiche in Betracht gezogen, die bekannterweise zur Erzeugung eines Plasmas geeignet ist.
Eine alternative Ausführung der Reaktorkammer 40 ist in Fig. 2 dargestellt. Die Reaktorkammer 40 weist zwei innere, koaxial ausgerichtete, zylindrische Wandelemente 42 und 44 auf. Jede zylindrische Wand 42 und 44 greift dichtend an der Innenwand der Kammer 40 an und bildet konzentrische Volumina innerhalb der Kammer 40. An den äußeren Kanten der Wände 42 bzw. 44 sind Dichtungen 46 und 48 derart vorgesehen, daß drei separate Druckzonen erzeugt werden, wenn die Kammer 40 auf eine Oberfläche 18 aufgesetzt wird. Eine äußere Zone 49, die zwischen der Wand 42 und der Kammerwand 40 gebildet ist, ist mit einem ersten Vakuumauslaß 50 verbunden, um eine erste Niederdruckzone zu bilden. Eine zweite Niederdruckzone 51 ist zwischen den Wänden 42 und 44 gebildet, und ein zweiter Vakuumauslaß 52 erzeugt darin eine Niederdruckzone. Eine dritte Niederdruckzone 54, die die Plasmabehandlungszone darstellt, ist von der Wand 44 und der Kammerwand 40 eingeschlossen, und ein dritter Vakuumauslaß 56 ist vorgesehen, um die dritte Zone 54 auf den geeigneten Pegel zu evakuieren. Ein beispielhaftes Paar von HF- Elektroden 60, die allgemein als eine Platteneleketrode 62 und eine perforierte Elektrode 64 dargestellt sind, ist innerhalb der Zone 54 vorgesehen, und ein Prozeßgaseinlaß 58 ist in der Zone 54 vorgesehen, um die Erzeugung eines geeigneten Plasmas zu erlauben. Es versteht sich, daß der Zweck der Mehrfachwände 42 und 44 darin besteht, die Erzeugung und die Einhaltung einer geeigneten Niederdruckumgebung für die Plasmabehandlung innerhalb der Zone 54 zu erleichtern. Um die Erzeugung und Einhaltung eines stabilen Plasmas innerhalb der Zone 54 zu unterstützen, wird der Druck in der zweiten Niederdruckzone 51 unterhalb desjenigen der Zone 54 abgesenkt. Dadurch wird ein Druckgradient zwischen den Zonen 54 und 51 erzeugt, der das Eindringen von Fremdgas von der Zone 51 in die Zone 54 verhindert und dadurch die Stabilität des Plasmas innerhalb der Zone 54 unterstützt. Der Luftdruck innerhalb der Zone 49 ist vorzugsweise niedriger als der atmosphärische Druck und größer als der Druck in der Zone 51, wodurch die Einhaltung des niedrigsten Druckes innerhalb der Zone 51 erleichtert wird.
Fig. 3 zeigt eine alternative HF-Elektrodenkonfiguration 80, die zusammen mit der erfindungsgemäßen Reaktorkammer verwendet werden kann. Innerhalb der Reaktorkammer 12 ist eine Leistungselektrode 82 vorgesehen. Auf der gegenüberliegenden Seite der Behandlungsfläche 18 des Reaktors 12 ist eine Massenelektrode 84 vorgesehen. Wenn das Plasma innerhalb der Reaktorkammer 12 erzeugt wird, wird es sich innerhalb der Kammer 12 zwischen den Elektroden 82 und 84 einstellen, was zu einem gleichförmigeren Plasma in der Nähe der zu behandelnden Oberfläche 18 führt. Diese Anordnung ist besonders geeignet, wenn die Oberfläche 18 elektrisch nicht leitend ist.
Fig. 4 stellt eine Vergrößerung der Elektrodenkonfiguration gemäß Fig. 1 dar, bei der ein perforierter, elektrisch leitfähiger Schirm 90 an den Wänden der Kammer 12 befestigt ist, um eine Abschirmung zu bewirken. Das Plasma wird zwischen den beiden Elektroden 20 erzeugt, und der Schirm 90 bewirkt eine Abschirmung gegenüber der Umgebung. Es sei darauf hingewiesen, daß die geerdete Grundplatte 84 der in Fig. 3 dargestellten Ausführung gleichfalls eine Abschirmung gegen die äußere Umgebung darstellt.
Fig. 5 zeigt eine alternative Ausführung 100 der gegenwärtigen Erfindung, die zur Verwendung geeignet ist, wenn die Behandlungsfläche 18 strukturell nicht geeignet ist, um das Vakuum innerhalb der Kammer 12' zu halten. Wie in Fig. 5 dargestellt ist, werden ähnliche Behandlungskammern 12' und 112, die halbkugelförmig dargestellt sind, auf gegenüberliegenden Seiten der Fläche 18 angeordnet. Jede Kammer 12' und 112 wird mit der Vakuumpumpe (nicht dargestellt) über Ventile 32 derart verbunden, daß die Belastungsspannung durch das Vakuum auf die Fläche 18 ausgeglichen wird, wodurch die Fläche 18 nicht durch das Kammervakuum verspannt wird, was bei anderen hier offenbarten Ausführungen der Fall sein könnte. Natürlich können entweder die Kammer 12', die Kammer 112 oder beide Kammern 12' und 112 mit Elektroden und mit einem Prozeßgaseinlaß ausgestattet sein, um ein Plasma darin zu erzeugen, derart, daß die Behandlung der innerhalb der Kammer eingeschlossenen Fläche durchgeführt werden kann.
Fig. 6 zeigt eine weitere alternative Kammerausführung 110 für die Behandlung einer Oberfläche 18, die Vakuumkräften der Kammer 12' nicht gewachsen ist. Um ein Kollabieren der Fläche 18 nach innen als Folge der Erzeugung eines Niederdruckes innerhalb der Kammer 12' zu vermeiden, sind Stützsäulen 114 an einem Ende der inneren Kammerwand vorgesehen. Die Stützsäulen 114 greifen an einem Ende an der inneren Kammerwand an und erstrecken sich zur Fläche 18 hin, um der Druckbelastung durch die Bewegung der Fläche 18 nach innen zu widerstehen.
Fig. 7 zeigt eine weitere alternative bevorzugte Ausführung 120, die zur Verwendung bei einer unebenen Behandlungsfläche geeignet ist. Wie dort dargestellt, ist ein geformtes Dichtungselement 122 besonders geformt, um einem Hohlraum 124 in der Behandlungsfläche 18' zu folgen. Um die Dichtung 122 mit der Öffnung der Reaktorkammer 12' zu verbinden, kann ein Befestigungsflansch 126 verwendet werden. Die Verwendung des Befestigungsflansches 126 erlaubt es, die Kammer 120 bei flachen Behandlungsflächen in der oben beschriebenen Weise zu verwenden, während die Anbringung von besonders geformten Dichtungen (wie etwa die Dichtung 122) ermöglicht wird, wenn die Kammer bei irregulär geformten Flächen, wie etwa der Fläche 124, verwendet wird.
Fig. 8 stellt eine weitere alternative Ausführung 130 der gegenwärtigen Erfindung dar, die zur horizontalen Bewegung in bezug auf eine flache Behandlungsfläche 18 geeignet ist. Wie dort dargestellt, weist die Behandlungskammer 130 im wesentlichen eine rechteckförmige Form auf, mit geraden Seitenwänden 132 und 134, die senkrecht zur Bewegungsrichtung 136 der Kammer 130 entlang der Behandlungsfläche 18 vorgesehen sind. Um eine Querbewegung 136 zu erlauben, dabei jedoch ein Niederdruckplasma innerhalb der Kammer 130 einzuhalten, sind bewegliche Vakuumdichtungen auf dem Rand jeder Seitenwand 132 und 134 vorgesehen.
Bei der bevorzugten Ausführung sind die Dichtungen, die entlang der Kanten der Wände 132 und 134 senkrecht zur Richtung der Relativbewegung 136 vorgesehen sind, Rolldichtungen 140. Solche Dichtungen weisen Rollen 142 mit einer Schaumgummidichtung 144 auf, um eine Niederdruckatmosphäre darin einzuhalten, wobei eine Bewegung möglich ist. Die Dichtungen in den Kammerwänden, die parallel zur Bewegungsrichtung sind, schließen ein Schaumgummi ein, das seinen Reibkontakt mit der Fläche behält, um die Niederdruckumgebung zu erhalten, während eine Querbewegung der Kammer möglich ist. Um die Einhaltung einer Niederdruck- Behandlungszone zu unterstützen und um gleichzeitig eine gleitende Relativbewegung der Behandlungsfläche zu erlauben, kann eine Mehrzahl von Innenwänden innerhalb der Kammer 130 gebildet sein, um mehrere Niederdruckzonen zu bilden, ähnlich den in Fig. 2 dargestellten und oben beschriebenen. Da die Reaktorkammer 130 gemäß Fig. 8 parallele Wände 132 und 134 umf aßt, wären natürlich die Innenwände (vergleichbar zu den Wänden 42 und 44 gemäß Fig. 2) parallel zu den Wänden 132 und 134 angeordnet. Solche Innenwände sind gestrichelt in Fig. 8 als Wände 150 und 152 dargestellt, die Niederdruckzonen 149 und 151 bilden. Das Behandlungsplasma würde dann in der inneren Druckzone 154 erzeugt.
Obwohl die Erfindung unter Bezugnahme auf bestimmte bevorzugte Ausführungsbeispiele besonders dargestellt und beschrieben wurde, versteht es sich für die Fachleute, daß zahlreiche Abwandlungen und Modifikationen in der Form und in den Einzelheiten möglich sind. Demnach ist es beabsichtigt, daß die nachfolgenden Ansprüche sämtliche solche Abwandlungen und Modifikationen umfassen, soweit sie in den Schutzbereich der Ansprüche fallen.

Claims

1. Plasmareaktor gekennzeichnet durch:

- eine Reaktorkammer (12, 12', 40, 112, 130), die durch wenigstens eine Kammerwand gebildet ist, wobei die Kammerwand eine darin gebildete Öffnung aufweist, die durch Kanten (34) der Kammerwand definiert ist;

- eine Dichtung (22, 46, 48, 122, 140), die auf den Kanten (34) der Kammerwand angeordnet ist, um die Öffnung zu umgeben;

- eine Plasmaerzeugungseinrichtung, die erste Teile aufweist, die innerhalb der Kammer angeordnet sind und zur Erzeugung eines Plasmas innerhalb der Kammer (12, 12', 40, 112, 130) dienen;

- wodurch die Kammerwand mit der darauf angeordneten Dichtung (22, 46, 48, 122, 140) auf eine Behandlungsfläche (18, 18') gesetzt werden kann, um einen abgeschlossenen Plasmareaktorbehälter zu bilden, in dem ein Plasma erzeugt werden kann, um die Behandlungsfläche (18, 18') zu behandeln.

2. Plasmareaktor nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Reaktorkammer (12) an einen beweglichen Arm (16) gekoppelt ist.

3. Plasmareaktor nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß die ersten Teile der Plasmaerzeugungseinrichtung wenigstens eine HF-Elektrode (20, 60, 80) umfassen, die innerhalb der Kammer (12, 12', 40, 112, 130) vorgesehen ist.

4. Plasmareaktor nach irgendeinem der Ansprüche 1 bis 3, bei dem die Kammer (12, 130) eine im wesentlichen rechteckige Form aufweist.

5. Plasmareaktor nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß die Behandlungsöffnung durch die Entfernung einer Wand der rechteckigen Kammer (12, 130) gebildet ist.

6. Plasmareaktor nach irgendeinem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß die Kammer (40) eine im wesentlichen zylindrische Form aufweist.

7. Plasmareaktor nach irgendeinem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß die Kammer (12', 112) eine im wesentlichen halbkugelförmige Form aufweist.

8. Plasmareaktor nach irgendeinem der Ansprüche 2 bis 7, dadurch gekennzeichnet, daß ein zweiter Teil der Plasmaerzeugungseinrichtung von der Reaktorkammer (12) entfernt angeordnet ist, und daß Versorgungsleitungen (30) entlang des Arms (16) von dem zweiten Teil der Plasmaerzeugungseinrichtung zu dem ersten Teil der Plasmaerzeugungseinrichtung führen.

9. Plasmareaktor nach irgendeinem der Ansprüche 1 bis 8, dadurch gekennzeichnet, daß die Kammer (40, 130) wenigstens eine Innenwand (42, 44; 150, 152) umfaßt, wobei die Innenwand (42, 44; 150, 152) an der Kammerwand angreift und zur Erzeugung einer Mehrzahl von separaten Niederdruckzonen (49, 51, 54; 149, 151, 154) innerhalb der Kammer (40, 130) vorgesehen ist.

10. Plasmareaktor nach irgendeinem der Ansprüche 1 bis 9, dadurch gekennzeichnet, daß die zu behandelnde Fläche (18') eine ungleichmäßige Form aufweist und daß die Dichtung (122) in einer Form ausgebildet ist, die der Form der Fläche (18') entspricht.

11. Plasmareaktor nach irgendeinem der Ansprüche 1 bis 10, dadurch gekennzeichnet, daß die Dichtung (140) ein bewegliches Oberflächenangriffsmittel (142) umfaßt, das zur Einhaltung eines dichtenden Anschlusses an der Fläche (18) dient, während die Reaktorkammer (130) und die Fläche (18) in bezug auf einander verschoben werden.

12. Plasmareaktor nach irgendeinem der Ansprüche 1 bis 11, dadurch gekennzeichnet, daß die ersten Teile der Einrichtung zur Erzeugung von Plasma wenigstens eine Elektrode (20, 60, 80) umfassen, die innerhalb der Kammer (12, 12', 40, 112, 130) an der Kammerwand befestigt ist, eine Vakuumeinrichtung (24), die an der Kammerwand befestigt ist und zur Erzeugung einer Niederdruckumgebung innerhalb der Kammer (12, 12', 40, 112, 130) dient, und eine Einrichtung (28) zur Zuführung von Prozeßgas, die an der Kammerwand vorgesehen ist und zur Zuführung eines Prozeßgases in die Kammer (12, 12', 40, 112, 130) dient.

13. Verfahren zur Behandlung eines Teils einer Fläche (18, 18') mit einem Plasma, gekennzeichnet durch:

- Plazieren eines Teils einer zu behandelnden Fläche (18, 18') in der Nähe einer Öffnung in einer Wand einer Plasmareaktorkammer (12, 12', 40, 112, 130), wobei die Kammer (12, 12', 40, 112, 130) eine Dichtung (22, 46, 48, 122, 140) aufweist, die an der Wand angreift und die Öffnung umgibt, wobei die Dichtung (22, 46, 48, 122, 140) dazu geeignet ist, den Teil der Fläche (18, 18') zu umgeben und abzudichten;

- Erzeugen eines Plasmas innerhalb der Reaktorkammer (12, 12', 40, 112, 130), wodurch der Teil der Fläche (18, 18') dem Plasma zur Behandlung ausgesetzt wird.

14. Verfahren nach Anspruch 13, dadurch gekennzeichnet, daß der Schritt des Erzeugens eines Plasmas innerhalb der Kammer (12, 12', 40, 112, 130) die Schritte des Einführens eines Prozeßgases in die Kammer (12, 12', 40, 112, 130) umfaßt, des Erzeugens einer Niederdruckumgebung innerhalb der Kammer (12, 12', 40, 112, 130), und des Zuführens von elektromagnetischer Energie innerhalb der Kammer (12, 12', 40, 112, 130), um darin ein Plasma zu erzeugen.

15. Verfahren nach Anspruch 13 oder 14, dadurch gekennzeichnet, daß der Schritt des Plazierens des Teils der Fläche (18, 18') in der Nähe der Öffnung die Schritte des Anordnens der Kammer (12) an einem beweglichen Arm (16) umfaßt, und des Festlegens von Teilen einer Einrichtung, die notwendig ist, um das Plasma an einem von der Kammer (12) entfernten Ort zu erzeugen, und des Zuführens eines Prozeßgases, elektromagnetischer Energie und eines Vakuumauslasses an der Kammer (12), unter Verwendung von Versorgungsleitungen (30), die zwischen der Kammer (12) und der Ausrüstung vorgesehen sind.