DE69004908T2 - Vorrichtung zur Synthese von Diamanten. - Google Patents
Vorrichtung zur Synthese von Diamanten.Info
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- DE69004908T2 DE69004908T2 DE90117965T DE69004908T DE69004908T2 DE 69004908 T2 DE69004908 T2 DE 69004908T2 DE 90117965 T DE90117965 T DE 90117965T DE 69004908 T DE69004908 T DE 69004908T DE 69004908 T2 DE69004908 T2 DE 69004908T2
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- 239000010432 diamond Substances 0.000 title claims description 79
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 title claims description 40
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 title claims description 34
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims description 112
- 239000002994 raw material Substances 0.000 claims description 59
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 claims description 53
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 50
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 34
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 31
- 239000012808 vapor phase Substances 0.000 claims description 24
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 claims description 20
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 12
- 239000012159 carrier gas Substances 0.000 claims description 9
- 238000003860 storage Methods 0.000 claims description 9
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 claims description 4
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 claims description 4
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 claims description 4
- UGFAIRIUMAVXCW-UHFFFAOYSA-N Carbon monoxide Chemical compound [O+]#[C-] UGFAIRIUMAVXCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 claims description 3
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910002091 carbon monoxide Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 3
- 238000002156 mixing Methods 0.000 claims description 3
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 claims description 3
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 claims description 3
- 239000004020 conductor Substances 0.000 claims 3
- 239000012495 reaction gas Substances 0.000 claims 1
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 22
- 238000000034 method Methods 0.000 description 10
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 9
- 230000001276 controlling effect Effects 0.000 description 5
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 5
- 238000001237 Raman spectrum Methods 0.000 description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 description 4
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 4
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- -1 acetic acid Chemical class 0.000 description 3
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010439 graphite Substances 0.000 description 3
- 238000005268 plasma chemical vapour deposition Methods 0.000 description 3
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N Propane Chemical compound CCC ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910003481 amorphous carbon Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 2
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 2
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 2
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000008569 process Effects 0.000 description 2
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 2
- 238000001308 synthesis method Methods 0.000 description 2
- OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N Ethane Chemical compound CC OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M Propionate Chemical compound CCC([O-])=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N acetic acid trimethyl ester Natural products COC(C)=O KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N alpha-acetylene Natural products C#C HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 230000002542 deteriorative effect Effects 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- 125000002534 ethynyl group Chemical group [H]C#C* 0.000 description 1
- 239000002737 fuel gas Substances 0.000 description 1
- 238000000265 homogenisation Methods 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 238000011835 investigation Methods 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 238000003698 laser cutting Methods 0.000 description 1
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 1
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001294 propane Substances 0.000 description 1
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 1
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
- C23C16/50—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating using electric discharges
- C23C16/511—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating using electric discharges using microwave discharges
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/22—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the deposition of inorganic material, other than metallic material
- C23C16/26—Deposition of carbon only
- C23C16/27—Diamond only
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
Description
- Die Erfindung bezieht sich auf eine Vorrichtung zur Synthese von Diamanten und insbesondere auf eine Vorrichtung zur Synthese von Diamanten, die ein Verfahren zur Dampfphasensynthese von hochqualitativem Diamant in einem Mikrowellenplasma bei geringen Kosten liefert.
- Ein Verfahren zur Dampfphasensynthese von Diamant wurde 1956 von Derjaguin (USSR Inv. Certif. Nr. 339134, 1958) und 1958 von Eversole (USP Nr. 3030187 und 3030188) begonnen und wurde seit 1982 intensiv entwickelt, als Untersuchungen von Matsumoto et al. (Japanese Journal of Applied Physics, Vol. 21, 1982, L183 bis L185) durchgeführt wurden.
- Ein Mikrowellenplasma-CVD-Verfahren zur Synthese von Diamanten in einem durch Mikrowellen angeregten Plasma wurde von Kamo et al. 1983 erfunden (Journal of Crystal Growth, 62, 1983, p. 642 bis 644). Nach diesem Verfahren ist es möglich, einen Film ohne Verunreinigungen aufgrund elektrodenloser Entladung zu gewinnnen. So wurden die Kosten für einen derartigen Film durch Vergrößerung der Bildungsfläche und der Wachstumsgeschwindigkeit verringert.
- Ein derartiges herkömmliches Verfahren der Dampfphasensynthese von Diamant in einem Plasma wurde grundlegend mit einer Vorrichtung vom sogenannten offenen Typ durchgeführt, die geeignet ist, wie in Fig. 1 gezeigt, kein Materiegas umlaufen zu lassen. Mit Bezug auf Fig. 1 leitet ein Rohstoffgas-Einleitungssystem 1 ein Rohstoffgas, das durch Vermischen von ungefähr 1 bis 2% eines Gases aus einer Kohlenstoffquelle mit ungefähr 99% eines Trägergases hergestellt wird, in ein Reaktionsrohr 3 durch ein Rohstoffgas-Einleitungsventil 2 ein. Das Gas aus einer Kohlenstoffquelle wird aus einem Kohlenwasserstoff, wie etwa Methan, Ethan, Propan, Acetylen oder Benzol, einem Alkohol, wie etwa Methanol, Ethanol oder Propanol, einer organischen Säure, wie etwa Essigsäure, einem Keton, wie etwa Aceton, einem Ester, wie etwa Methylacetat, aus Kohlenmonoxid, Kohlendioxid oder dergleichen hergestellt. Das Trägergas wird aus Wasserstoff oder Sauerstoff hergestellt. Das Gas einer Kohlenstoffquelle und das Trägergas werden im Diamantsyntheseplasma umgesetzt, wobei praktisch nur 1 bis 2% des für eine derartige Reaktion verwendeten Gases einer Kohlenstoffquelle zu Diamant umgesetzt werden. Das Rohstoffgas, das unumgesetztes Gas der Kohlenstoffquelle enthält, wird, sobald es umgesetzt wird, mit einem Abzugssystem 5 durch ein Abzugsventil 4 vollständig abgeführt. Ferner wird der Druck in einem Vakuumgefäß durch Steuerung des Rohstoffgas-Einleitungssystems 1 und des Abzugssystems 5 reguliert. Die Vorrichtung zur Plasmaerzeugung 6 erzeugt das Plasma in dem Reaktionsrohr 3. Diese Vorrichtung zur Plasmaerzeugung 6 wird hauptsächlich durch einen Mikrowellenoszillator und einem Wellenleiter bzw. Hohlleiter 8 gebildet. Im allgemeinen oszilliert der Mikrowellenoszillator 7 Mikrowellen mit einer Frequenz von 2,45 GHz für die Synthese von Diamanten, wobei ein Abstimmgerät 10 und ein Kolben 11 den Wellenleiter 8 einstellt, der durch einen Leistungsmonitor 9 überwacht wird, so daß dieser mit der Mikrowellenfrequenz abgestimmt wird.
- Es wurde bestätigt, daß man einen hochqualitativen filmartigen Diamanten oder Diamanten von der Art einer dünnen Platte gewinnen kann, dessen Leistungsfähigkeit der von natürlichem Diamant oder Diamant aus Massenproduktion entspricht, der mit einem Syntheseverfahren bei extrem hohem Druck nach der Diamant-Dampfphasensynthese, insbesondere dem Mikrowellenplasma- CVD-Verfahren durch Einschränkung der Synthesebedingungen synthetisiert wird. Genauer gesagt wurde die Gewinnung von Diamant mit einer Vickers-Härte von 10.000 möglich, die der eines Diamant-Einkristalles entspricht. Ferner war es auch möglich eine thermische Leitfähigkeit von 16 W/cm K zu erreichen, die dem Wert von 22 W/cm K eines Diamant-Einkristalles vom Typ IIa und dem Wert von 11 W/cm K eines Diamants vom Typ Ia keinesfalls unterlegen ist. Ferner wird ein Kühlblech oder ein rückwärtiges Teil in Form eines blattartigen Filmes oder eines auf einem Grundmaterial auf gebrachten Filmes verwendet. So ermöglicht das Dampfphasensyntheseverfahren, mit dem bei der Filmbildung bereits ein Film oder ein Blatt bzw. ein Streifen mit einer Dicke von einigen Millimetern bis zu einigen hundert Millimetern definiert wird, beträchtlich an Arbeitszeit einzusparen. Andererseits ist ein Schritt zum Schneiden eines Diamantes in Form eines Blattes durch Laserschneiden oder dergleichen erforderlich, wenn ein Einkristall-Diamant verwendet wird. Zur Zeit können jedoch keine zufriedenstellenden Ergebnisse hinsichtlich eines dampfphasensynthetisierten Diamants aufgrund der Kostenprobleme gewonnen werden. Bisher wurden Kostenabsenkungen in jeder Hinsicht bezüglich der Vergrößerung der Bildungsfläche und der Wachstumsgeschwindigkeit untersucht. Zur Vergrößerung der Bildungsfläche beim Mikrowellenplasma-CVD-Verfahren wurde das Verfahren zur Erzeugung des Plasmas verschiedenartig untersucht.
- Im allgemeinen wird die Bildungsfläche durch folgende zwei Vorrichtungen vergrößert: Die erste Vorrichtung verwendet ein Gerät mit Verwendung eines Plasmaverfahrens mit großem Mikrowellendurchmesser, wie in Fig. 2 gezeigt. Nach dieser Vorrichtung werden zugeführte Mikrowellen durch einen konischen Wellenleiter bzw. Hohlleiter 21 vergrößert, so daß das Plasma 23 in einem glockenförmigen Gefäß bzw. einer Tauchglocke 22 oder dergleichen durch die vergrößerten Mikrowellen erzeugt wird, wodurch die Dampfphasensynthese eines Diamantfilmes auf einer Platte 26 (Wafer) durchgeführt wird, die auf einem Halter 25 vorgesehen ist, der durch einen Rotationsmechanismus 24 gedreht wird. Mit dieser Vorrichtung wird die Platte 26 aus einem Siliziumsubstrat mit 4 Inch (10,16 cm) hergestellt, und die Wachstumsgeschwindigkeit ist ungefähr 0,2 um/h.
- Die zweite Vorrichtung verwendet ein Gerät mit Verwendung eines ECR-Plasmaverfahrens, wie in Fig. 3 gezeigt. Nach dieser Vorrichtung legen elektromagnetische Wicklungen 33 ein magnetisches Feld an die Mikrowellen an, die durch einen Wellenleiter 31 mit kleiner Querschnittsfläche, der einen rechtwinkeligen Teil zu einem trapezoidalen zylindrischen Wellenleiter besitzt, vergrößert werden. So wird das ECR-Plasma 36 in der Nähe der Oberfläche eines Substrates 35 erzeugt, das durch ein Heizgerät 34 erhitzt wird, wodurch die Dampfphasensynthese eines Diamantfilmes auf der Oberfläche des Substrates 35 durchgeführt wird. Bei Verwendung dieser Vorrichtung wird das Substrat 35 aus einem Siliziumsubstrat mit einem Durchmesser von 2 Inch (5,08 cm) und einer Wachstumsgeschwindigkeit des Diamantfilms von ungefähr 0,1 um/h hergestellt.
- Bei Verwendung der vorstehend erwähnten Dampfphasensynthesevorrichtung vom offenen Typ wird jedoch die Filmqualität in der in Fig. 2 und 3 gezeigten Vorrichtung zur Vergrößerung der Filmbildungsfläche extrem verschlechtert. Obwohl Versuche unternommen wurden, den Druck, die Konzentration des Brennstoffgases und dergleichen zur Vergrößerung der Wachstumsgeschwindigkeit zu erhöhen, wurde insbesondere aufgrund der Plasmainstabilität und der Abscheidung einer nicht diamanthaltigen Komponente wie Graphit kein Erfolg erzielt. Obwohl ebenso ein Versuch unternommen wurde, das Substrat zur Plasmahomogenisierung zu drehen, liegen Stellen mit relativ guter Qualität neben fehlerhaften Stellen, so daß die Filmqualität insgesamt verringert wird. Ferner wird die Qualität des Filmes eher verringert, wenn dieser vom Zentralteil des Plasmas getrennt wird. Diese Verfahren sind derzeit noch im Entwicklungsstadium. Mit diesen Vorrichtungen ist die Wachstumsgeschwindigkeit im allgemeinen auf ungefähr 1 um/h bei einem Druck von 40 Torr beschränkt. Der Flächenzuwachs und die Hochgeschwindigkeitsfilmbildung sind unbeschränkt, und als bevorzugt werden Werte von mindestens 4 Inch (10,16 cm) Durchmesser und ungefähr 10 um/h angesehen. Das herkömmliche Gerät vom offenen Typ kann derartige Werte möglicherweise nicht erreichen.
- Andere Probleme des herkömmlichen Dampfphasensynthesegerätes vom offenen Typ zur Dampfphasensynthese von Diamant sind wie folgt:
- Nur wenige Prozent des eingeleiteten Gases einer Kohlenstoffquelle reagieren und dessen verbleibender Teil wird aus dem System unumgesetzt abgezogen. Ferner wird schließlich das Trägergas, das ungefähr 99% des gesamten Rohstoffgases ausmachen muß, unumgesetzt und unverändert abgezogen. Mit anderen Worten erfordert dieses Gerät eine fünftausendfache Menge des Rohstoffgases einer Kohlenstoffguelle, das praktisch zu Diamant umgesetzt wird. So nehmen die Materialausgaben den größten Teil der Kosten für Diamant ein, der bei relativen geringen Anlagekosten dampfphasensynthetisiert wird. So ist es nämlich nötig, das Rohstoffgas effektiv zu verwenden, um die Materialausgaben zu verringern.
- Andererseits wurde bestätigt, daß Schwankungen des Drucks und der Rohstoffzusammensetzung die Synthese eines hochqualitativen Filmes beeinträchtigen, wobei die Ventile des Einleitungs- und Abzugssystems zur Regulierung des Druckes und der Rohstoffzusammensetzung mit komplizierter Arbeitsweise betrieben werden müssen, und es ist schwierig, Bedingungen für Langzeitbetrieb zu stabilisieren. So müssen die Ventile durch einen Arbeiter genau gesteuert werden, was zu hohen Kosten führt. Wenn eine derartige Drucksteuerung automatisiert wird, erhöhen sich die Ausrüstungskosten extrem, wodurch die Gesamtkosten ansteigen. Daher ist es auch nötig, den Ventilbetrieb und die Drucksteuerung zu vereinfachen, um automatisierte oder unbeaufsichtigte Arbeitsweise durchzuführen.
- Zur Lösung dieser Probleme kann ein chemischer Reaktor versiegelt werden, um ein Rohstoffgas und ein einzuleitendes Gas einer Kohlenstoffquelle nur in einer für die Synthese von Diamanten verbrauchten Menge umlaufen zu lassen, wodurch der Rohstoff effektiv verwendet wird. Ferner ist es denkbar, daß keine Drucksteuerung in einem derartigen versiegelten System nötig ist, da der Reaktionsraum versiegelt ist und der Ventilbetrieb daher vereinfacht werden kann. Bei einer derartigen Reaktion, bei der ein Gas einer Kohlenstoffquelle im Plasma zur Erzeugung von Diamant zersetzt wird, läuft jedoch folgende Reaktion (1) im allgemeinen ab, wenn das Gas einer Kohlenstoffquelle aus einem Kohlenwasserstoff hergestellt wird, beispielsweise:
- CxHy -> xC + y/2H&sub2; (1)
- Aufgrund einer derartigen Reaktion erhöht sich der Druck in dem versiegelten Reaktionsgefäß durch erzeugtes Wasserstoffgas, so daß der Plasmazustand beeinflußt und die Filmqualität verschlechtert wird, außer für den Fall, daß y=2. Ferner häuft sich das Gas einer Kohlenstoffquelle selber an, wie in der folgenden Formel (2) ausgedrückt wird, was ähnliche Probleme verursacht:
- nCxHy -> CnxHny-α + α/2H&sub2; (2)
- So ist es schwierig, die Konzentration des Rohstoffgases stabil zu steuern oder Druckanstieg lediglich durch Versiegelung des Reaktionsrohres 3 des herkömmlichen Gerätes zur Dampfphasensynthese vom offenen Typ zu unterdrücken.
- Es ist Aufgabe der Erfindung, eine Vorrichtung zur Synthese von Diamanten bereitzustellen, daß die Dampfphasensynthese von Diamant bei geringem Verbrauch eines Rohstoffgases und geringen Kosten durch stabile Steuerung des Drucks des Rohstoffgases und des Plasmazustandes in einem versiegelten Umlaufsystem durchführen kann.
- Die erfindungsgemäße Vorrichtung zur Synthese von Diamanten umfaßt ein Reaktionsrohr für interne Umsetzung zur Dampfphasensynthese von Diamant und eine Vorrichtung zur Plasmaerzeugung zur Erzeugung eines vorgeschriebenen Mikrowellenplasmas in dem Reaktionsrohr. Das Reaktionsrohr ist mit einem Gasspeicher gekoppelt, der ein Umlauf system mit dem Reaktionsrohr darstellt. Dieses Umlauf system umf aßt eine Vorrichtung zur Evakuierung seines Inneren. Das Umlauf system umfaßt ferner eine Vorrichtung für den Umlauf eines Rohstoffgases in versiegeltem Zustand, das eine Verbindung ist, die Kohlenstoff enthält, und eine Vorrichtung zur Einleitung eines Rohstoffgases zur absatzweisen oder kontinuierlichen Einleitung des Rohstoffgases in das Umlauf system.
- Mit dieser Vorrichtung zur Synthese von Diamanten wird das Rohstoffgas in dem Umlauf system in versiegeltem Zustand zirkuliert, so daß nur benötigtes Rohstoffgas absatzweise oder kontinuierlich eingeleitet wird, wodurch die Rohstoffmenge zur Dampfphasensynthese von Diamant im Reaktionsrohr verringert wird, und es dadurch möglich wird, Druckschwankungen und Schwankungen in der Zusammensetzung nach Reaktion und Gaszugabe auf ein Minimum zu begrenzen und die Dampfphasensynthese von Diamant mit äußerst begrenztem Bereich der Gas zusammensetzung und des Druckes durchzuführen. Ferner wird der Verbrauch des Rohstoffgases extrem verringert, so daß die Menge des Rohstoffgases auf nicht mehr als 2% verglichen mit dem herkömmlichen Gerät vom offenen Typ verringert werden kann. Zusätzlich besitzt das Umlauf System den Gasspeicher, und daher wird die Gaskonzentration bei der Gas einleitung im Reaktionsrohr extrem langsam und sanft geändert. So wird selbst bei absatzweiser Gaseinleitung mit einem einfachen Einleitungssystem für ein Gas einer Kohlenstoffquelle, das durch Kombinieren beispielsweise eines elektromagnetischen Ventils und eines Zeitschalters hergestellt wird, die Filmqualität nicht beeinflußt.
- Nach einem weiteren Gesichtspunkt der Erfindung umfaßt die Vorrichtung zur Synthese von Diamanten eine Vielzahl von Reaktionsrohren, die in einem Umlauf system, das ein einzelnes versiegeltes System darstellt, parallel angeordnet sind, und wobei jedes der Reaktionsrohre mit unabhängigen Vorrichtungen zur Plasmaerzeugung für die Erzeugung eines vorgeschriebenen Mikrowellenplasmas ausgestattet sind.
- Aufgrund eines derartigen Aufbaus ist es möglich, die Leistungsfähigkeit einer Dampfphasenreaktion zu vergrößern, ohne die Anlagenkosten beträchtlich zu erhöhen, indem man nur die Zahl der Reaktionsrohre und der Vorrichtungen zur Plasmaerzeugung erhöht, während man das Einleitungssystem für ein Rohstoffgas, das Abzugssystem und das Umlaufsystem in einfacher Ausführung beibehält.
- Diese und andere Ziele, Merkmale, Gesichtspunkte und Vorteile der Erfindung werden durch die folgende genaue Beschreibung der Erfindung zusammen mit den begleitenden Zeichnungen offensichtlicher.
- Fig. 1 erläutert typischerweise den Aufbau einer herkömmlichen Vorrichtung zur Synthese von Diamanten vom offenen Typ;
- Fig. 2 ist eine Schnittansicht, die eine herkömmliche Vorrichtung zur Synthese von Diamanten mit Verwendung eines Plasmaverfahrens mit großem Mikrowellendurchmesser zeigt;
- Fig. 3 ist eine Schnittansicht, die eine herkömmliche Vorrichtung zur Synthese von Diamanten mit Verwendung eines ECR-Plasmaverfahrens zeigt;
- Fig. 4 erläutert typischerweise den Aufbau einer Vorrichtung zur Synthese von Diamanten nach einer ersten Ausführungsform der Erfindung;
- Fig. 5 erläutert typischerweiser den Aufbau einer Vorrichtung zur Synthese von Diamanten nach einer zweiten Ausführungsform der Erfindung.
- Es wird nun eine erste Ausführungsform der Erfindung mit Bezug auf Fig. 4 beschrieben. Bezüglich Fig. 4 wird ein Einleitungsventil 2 für ein Rohstoffgas eines Einleitungssystems für ein Rohstoffgas geschlossen und ein Abzugsventil 4 eines Abzugssystems 5 wird zuerst geöffnet, um ein Reaktionsrohr 3 und einen Gasspeicher 13 zu evakuieren, die ein Umlauf system 1 darstellen. Dann wird das Abzugsventil 4 geschlossen und das Einleitungsventil 2 für ein Rohstoffgas wird zur Einleitung eines Rohstoffgases bis zum Erreichen eines vorgeschriebenen Druckes geöffnet. Das Gas einer Kohlenstoffquelle und das Trägergas werden in einem vorgeschriebenen Verhältnis zur Herstellung des Rohstoffgases eingeleitet. Der Druck in dem Umlaufsystem 12 wird durch Steuerung des Einleitungssystems 1 für ein Rohstoffgas und des Abzugssystems 5 reguliert. Der Gasspeicher 13 wird mit einem Einleitungssystem 14 für ein Gas einer Kohlenstoffquelle gekoppelt, und diesem wird jederzeit kontinuierlich das Gas einer Kohlenstoffquelle durch ein Einleitungsventil 15 für ein Gas einer Kohlenstoffquelle zugeführt. Wenn alle Einleitungsventile 2 für ein Rohstoffgas, das Abzugsventil 4 und das Einleitungsventil 15 für ein Gas einer Kohlenstoffquelle geschlossen sind, wird das Umlauf system 12 vom Außenbereich abgeschnitten, so daß es ein versiegeltes System darstellt, während das im Umlaufsystem 12 versiegelte Rohstoffgas darin durch eine Umwälzpumpe 16 zirkuliert wird.
- Die Vorrichtung zur Plasmaerzeugung 6 erzeugt ein Plasma in dem Reaktionsrohr 3. Die Vorrichtung zur Plasmaerzeugung 6 wird hauptsächlich durch einen Mikrowellenoszillator 7 und einen Wellenleiter bzw. Hohlleiter 8 gebildet, und der Mikrowellenoszillator 7 erzeugt Mikrowellen im allgemeinen mit 2,45 GHz. Der Wellenleiter 8 wird durch ein Abstimmgerät 10 und einem Kolben 11 eingestellt, was mit einem Leistungsmonitor 9 überwacht wird, so daß er mit der Mikrowellenfrequenz abgestimmt wird.
- Die Vorrichtung nach dieser Ausführungsform wurde für die Dampfphasensynthese von Diamant bei den folgenden konkreten Bedingungen verwendet: Zuerst wurde die Vorrichtung evakuiert und dann wurde das Rohmaterialeinleitungsventil 2 zum Einleiten von Methangas mit 10 ml/min und Wasserstoffgas mit 1000 ml/min in das Reaktionsrohr 3 geöffnet, bis der Druck in dem Umlauf system 12 40 Torr (5,3 kPa) erreichte, und danach wurde das Rohmaterialeinleitungsventil 4 geschlossen, um das Umlauf system 12 zu versiegeln. Das Reaktionsrohr 3 wurde aus einem zylindrischen SiO&sub2;-Rohr mit 40 mm Innendurchmesser hergestellt. Die Mikrowellenleistung war ungefähr 400 W. Es wird bemerkt, daß die Mikrowellenleistung nicht auf den allgemeinen Bereich von 300 bis 500 W beschränkt ist. Optimale Filmbildungsbedingungen, die begreiflicherweise durch die relative Position zwischen Substrat und Plasma und dergleichen beeinflußt werden, wurden nicht unwidersprüchlich bestimmt. Hinsichtlich der Beziehung zwischen der Anordnung des Reaktionsrohres und der Mikrowellenleistung ist höhere Leistung bei Vergrößerung der Dicke des Reaktionsrohres erforderlich, während es vorstellbar ist, daß der Durchmesser des Reaktionsrohres auf 40 bis 60 mm im Gerät dieser Ausführungsform begrenzt wird, wenn man berücksichtigt, daß Mikrowellen austreten können und dergleichen.
- Dann wurde die Vorrichtung zur Plasmaerzeugung 6 betrieben, so daß ein Plasma in dem Reaktionsrohr 3 erzeugt wurde, wodurch die Synthese von Diamanten begann. Danach wurde das Einleitungsventil 15 für ein Gas einer Kohlenstoffquelle stündlich geöffnet, um Methangas absatzweise einzuleiten. Die Menge des absatzweise eingeleiteten Methangases wurde auf der Grundlage eines experimentell gewonnenen Wertes der Änderung der Methangaskonzentration in dem Umlauf system 12 bestimmt.
- Als Ergebnis einer derartigen Synthese von Diamanten wurde der Druck in dem System 50 Stunden nach Beginn der Dampfphasensynthese auf 41,5 Torr (5,3 kPa) erhöht. Der Druck in dem Umlauf system 12 wurde so von 40 auf 41,5 Torr (von 5,3 auf 5,5 kPa) geändert, da das als Rohstoff dienende Methangas zersetzt und zur Erzeugung des Diamantfilmes wie vorstehend beschrieben angehäuft wurde, wodurch der Druck durch Wasserstofferzeugung erhöht wurde.
- Darauf wurde das Plasma abgestellt, und die Probe wurde nach Evakuierung herausgenommen, mit SEM überwacht und das Raman- Spektrum wurde gemessen. Als Ergebnis wurde festgestellt, daß Diamant synthetisiert wurde, dessen Vergleich mit dem in einem herkömmlichen Dampfphasensynthesegerät vom offenen Typ mit einer durch einen Arbeiter durchgeführten Ventileinstellung synthetisierten Diamant vorteilhaft ausfiel.
- Die Verschlechterung der Fllmqualität kann durch einen Bruch in der Kristallkonfiguration des Diamants bei der SEM-Überwachung deutlich beobachtet werden. Im allgemeinen liegt Diamant in der Form eines Hexaeders oder eines Hexa-Oktaeders vor, während hochqualitativer Diamant ebene Flächen ebenso wie lineare und deutliche Konturen besitzt. Wenn die Filmqualität verschlechtert wird, werden die Flächen und Konturen jedoch abgerundet und sind unscharf. Die Menge an verwendeten Rohstoffgas wurde versuchsweise berechnet, und es wurde gefunden, daß Diamant mit ungefähr 10 mm Flächenlänge und 50 um Dicke mit 1,4% der Rohstoffgasmenge gegenüber der des Gerätes vom offenen Typ synthetisiert wurde.
- Das Problem der Druckschwankung in dieser Ausführungsform wird wie folgt betrachtet: Mit einem herkömmlichen Verfahren wird der Druck durch Steuerung der Einleitungsmenge des Rohstoffgases und des Wasserstoffgases mit einem Massenflußsteuerungsgerät und durch Steuerung des Gasabzugs durch Betrieb des Ventils auf einer Seite der Vakuumpumpe reguliert. So kann gesagt werden, daß Schwankungen in der Zusammensetzung kaum verursacht werden. Andererseits beträgt die Druckschwankung im allgemeinen ungefähr ± 2,5%, abhängig von der Leistungsfähigkeit des Ventils und der Vakuumpumpe. Mit dem Verfahren dieser Ausführungsform werden Druckschwankungen und Schwankungen in der Zusammensetzung andererseits durch Erzeugung von Wasserstoffgas verursacht, das durch Zersetzung des Rohstoffgases wie vorstehend beschrieben auftritt. Der Bereich einer derartigen Schwankung wird durch die Menge an erzeugtem Diamant und der Aufnahmefähigkeit eines Speichertanks bestimmt. Wenn Diamant mit ungefähr 10 mm Flächenlänge und einer Dicke von 50 um wie vorstehend beschrieben erzeugt wird und ungefähr die gleiche Menge an Kohlenstoff zersetzt und auf dem Substrat-Unterlagematerial oder auf einer inneren Wand eines Reaktionsrohrs abgeschieden wird, erhöht sich der Druck von 40 Torr auf 41,8 Torr (von 5,3 auf 5,57 kPa), wenn die Aufnahmefähigkeit des Speichertanks 100 Liter ist. Hinsichtlich der Schwankung der Zusammensetzung ändert sich die Konzentration des Methangases von 1% auf 0,96%, wenn nur die Menge an verbrauchtem Methangas zugegeben wird. So wird nämlich der Schwankungsbereich auf 4,5% beschränkt. Die Druckschwankung muß auf einen Bereich von ± 5% beschränkt werden. Wenn die Schwankung außerhalb dieses Bereiches liegt, werden die optimalen Bedingungen des Plasmazustandes und der Substrattemperatur abgeändert, wodurch die Filmqualität verschlechtert wird. Die Schwankung der Zusammensetzung führt zu keiner Verschlechterung der Filmqualität, aber verursacht eine Verringerung der Filmbildungsgeschwindigkeit, wenn die Konzentration des Rohstoffgases, wie etwa Methangas, verringert wird. Wenn die Konzentration des Rohstoffgases erhöht wird, wird andererseits die Filmqualität verschlechtert, selbst wenn die Erhöhung gering ist. Erfahrungsgemäß muß die Druckschwankung auf einen Bereich von -10 bis 0% beschränkt werden.
- Nach dieser vorstehend beschriebenen Ausführungsform wird das Umlaufsystem 12, das durch das Reaktionsrohr 3 und den Gasspeicher 13 definiert wird, versiegelt, und das Rohstoffgas wird zur Dampfphasensynthese von Diamant im Plasma zirkuliert, wodurch der Verbrauch des Rohstoffgases in großem Ausmaß verringert werden kann, wodurch die Kosten reduziert werden.
- Da das Rohstoffgas in dem versiegelten System zirkuliert, in dem konstanter Druck leicht beibehalten werden kann und eine geringe Menge Methangas absatzweise eingeleitet wird, kann ferner die Druckschwankung und die Schwankung in der Zusammensetzung nach erfolgter Reaktion und Gaszugabe auf ein Minimum begrenzt werden, und es ist möglich, hochqualitativen Diamant, der in extrem begrenzten Bereichen von Gaszusammensetzung und Druck synthetisiert werden kann, automatisch und stabil zu synthetisieren, ohne daß manueller Betrieb erforderlich ist.
- Es wird nun eine zweite Ausführungsform der Erfindung mit Bezug auf Fig. 5 beschrieben.
- Die Vorrichtung dieser Ausführungsform umfaßt ein Einleitungssystem 1 für ein Rohstoffgas, ein Abzugssystem 5, ein Umlauf system 12 und ein Einleitungssystem 14 für ein Gas einer Kohlenstoffquelle, das dieses mit der vorstehend erwähnten ersten Ausführungsform gemeinsam hat. Diese Ausführungsform unterscheidet sich von der ersten Ausführungsform darin, daß eine Vielzahl von Reaktionsrohren 3 und eine Vielzahl von Vorrichtungen zur Plasmaerzeugung 6 in dem Umlauf system 12 parallel angeordnet sind. Jede Vorrichtung zur Plasmaerzeugung 6 wird im 1:1-Verhältnis mit einem Reaktionsrohr 3 ausgestattet, ähnlich wie in dem in Fig. 4 gezeigten Gerät. Mit Bezug auf Fig. 5 wird jede Vorrichtung zur Plasmaerzeugung 6 in der Weise dargestellt, wie sie von der rechten Seite der in Fig. 4 gezeigten Vorrichtung zur Plasmaerzeugung 6 gesehen wird.
- Die Vorrichtung dieser Ausführungsform wurde zur Synthese von Diamanten bei konkreten Bedingungen, die denen der vorstehend erwähnten Ausführungsform ähnlich waren, verwendet. Die Menge des absatzweise eingeleiteten Methangases dieser Ausführungsform wurde gesteuert/eingestellt durch ein Massenflußsteuerungsgerät zur Gaseinleitung. Als Ergebnis einer derartigen Synthese von Diamanten erreichte der Druck in dem Umlauf system 12 50 Stunden nach Beginn der Synthese 41,7 Torr (5,55 kPa). Danach wurde das Plasma abgestellt, und die Probe wurde nach Evakuierung herausgenommen, mit SEM überwacht und das Raman-Spektrum wurde gemessen, wodurch festgestellt wurde, daß Diamant synthetisiert wurde, der im Vergleich mit dem in einem herkömmlichen Gerät vom offenen Typ mit von einem Arbeiter gesteuerten Ventilen synthetisierten Diamant vorteilhaft abschnitt. Die Menge an verwendetem Rohstoff wurde versuchsweise berechnet, wodurch gefunden wurde, daß Diamant mit 1,78% der in dem Gerät des offenen Typs verwendeten Rohstoffgasmenge synthetisiert wurde.
- Durch Analyse des Raman-Spektrums wurden ein scharfes Maximum des Diamants bei 1333 cm&supmin;¹, ein bei 1500 bis 1700 cm&supmin;¹ einheitlich auftretendes Signal von amorphen Kohlenstoff und relative breite Maxima von Graphit, die bei 1360 cm und 1600 cm&supmin;¹ auftraten, beobachtet. Es kann gesagt werden, daß nur ein Diamantmaximum bei der Messung des Raman-Spektrums eines hochqualitativen Films auftritt. Das Auftreten eines signals von amorphem Kohlenstoff oder Graphit bedeutet, daß sich die Filmqualität verschlechtert hat.
- Nach dieser Ausführungsform ist es wie vorstehend beschrieben möglich, lediglich die Anzahl der Reaktionsrohre 3 und der Vorrichtungen zur Plasmaerzeugung 6 zu erhöhen, während man das Einleitungssystem 1 für ein Rohstoffgas, das Abzugssystem 5 und das Umlauf system 12 in einfacher Ausführung beibehält, wodurch die Anlagenkosten in großem Ausmaß verringert werden.
Claims (12)
1. Vorrichtung zur Synthese von Diamanten, umfassend:
ein Reaktionsrohr (3) für interne Reaktion zur
Dampfphasensynthese von Diamant;
eine Vorrichtung zur Plasmaerzeugung (6) zur Erzeugung
eines vorgeschriebenen Mikrowellenplasmas in dem
Reaktionsrohr (3);
einen Gasspeicher (13), der mit dem Reaktionsrohr (3)
verbunden ist, wodurch ein Umlauf system (12) mit dem
Reaktionsrohr (3) definiert wird;
eine Vorrichtung (5) zur Evakuierung des Umlauf systems
(12);
eine Vorrichtung (16) zur Zirkulation von Rohstoffgas,
das eine Verbindung ist, die Kohlenstoff enthält, in
einem Zirkulationssystem (12), das vom Außenbereich
abgetrennt wird, wodurch ein versiegeltes System
definiert wird; und
eine Einleitungsvorrichtung (1) für ein Rohstoffgas zur
absatzweisen oder kontinuierlichen Einleitung des
Reaktionsgases in das Umlauf system (12).
2. Vorrichtung zur Synthese von Diamanten nach Anspruch 1,
bei der die Einleitungsvorrichtung (1) für ein
Rohstoffgas durch ein Einleitungssystem für ein
Rohstoffgas zum Vermischen eines Gases einer
Kohlenstoffquelle und eines Trägergases und zur Einleitung der
Mischung in das Umlauf system (12) und durch ein
Einleitungssystem (14) für ein Gas einer Kohlenstoffquelle
zum Einleiten des Gases einer Kohlenstoffquelle in den
Gasspeicher (13) gebildet wird.
3. Vorrichtung zur Synthese von Diamanten nach Anspruch 1,
bei der die Vorrichtung zur Plasmaerzeugung (6) durch
einen Wellenleiter bzw. Hohlleiter (8) zur Erzeugung
des Mikrowellenplasmas, der gegenüberliegende Stellen
des Reaktionsrohres (3) einnimmt, und einen
Mikrowellenoszillator (7), der mit einem Ende des
Hohlleiters (8) verbunden ist, gebildet wird.
4. Vorrichtung zur Synthese von Diamanten nach Anspruch 3,
bei der die Vorrichtung zur Plasmaerzeugung (6) ferner
durch einen Leistungsmonitor (9) zur Überwachung des
Leistungswertes der Mikrowellen, ein Abstimmgerät zur
Einstellung der Frequenz der Mikrowellen und einen
Abstimmkolben (11) zur Einstellung der Linienlänge des
Hohlleiters (8), der an einem Endteil des Hohlleiters
(8) vorgesehen ist, das dem mit dem
Mikrowellenoszillator (7) verbundenen Ende gegenüberliegt, gebildet wird.
5. Vorrichtung zur Synthese von Diamanten nach Anspruch 1,
bei der die Vorrichtung (16) zur Zirkulation des
Rohstoffgases in versiegeltem Zustand durch eine
Umlaufpumpe (16) gebildet wird, die in einer Rohrleitung
angebracht ist, die das Reaktionsrohr (3) mit dem
Gasspeicher (13) verbindet.
6. Vorrichtung zur Synthese von Diamanten nach Anspruch 1,
bei der das in dem Rohstoffgas enthaltene Gas einer
Kohlenstoffquelle hergestellt wird aus einem Gas,
ausgewählt aus Kohlenwasserstoff, Alkohol, organischer
Säure, Kohlenmonoxid und Kohlendioxid, und daß das
Trägergas hergestellt wird aus Wasserstoffgas.
7. Vorrichtung zur Synthese von Diamanten, umfassend:
eine Vielzahl von parallel angeordneten Reaktionsrohren
(3) zur internen Reaktion zur Dampfphasensynthese von
Diamant;
eine Vielzahl von Vorrichtungen zur Plasmaerzeugung
(6), die in 1:1-Verhältnis zu der Vielzahl von
Reaktionsrohren (3) vorgesehen sind zur Erzeugung des
vorgeschriebenen
Mikrowellenplasmas in den Reaktionsrohren
(3);
einen Gasspeicher (13), der mit den Reaktionsrohren (3)
verbunden ist, wodurch ein Umlauf system (12) mit den
Reaktionsrohren (3) definiert wird;
eine Vorrichtung (5) zur Evakuierung des Umlauf systems
(12);
eine Vorrichtung (16) zur Zirkulation des
Rohstoffgases, das eine Verbindung ist, die Kohlenstoff
enthält, in einem Umlaufsystem (12), das von dem
Außenbereich abgeschnitten ist, wodurch ein versiegeltes
System definiert wird; und
eine Einleitungsvorrichtung (1) für ein Rohstoffgas zur
absatzweisen oder kontinuierlichen Einleitung des
Rohstoffgases in das Umlauf system (12).
8. Vorrichtung zur Synthese von Diamanten nach Anspruch 7,
bei der die Einleitungsvorrichtung (1) für ein
Rohstoffgas gebildet wird durch ein Einleitungssystem (1)
für ein Rohstoffgas zur Vermischung eines Gases einer
Kohlenstoffquelle mit einem Trägergas und zur
Einleitung der Mischung in das Umlauf system (12) und durch
ein Einleitungssystem (14) für ein Gas einer
Kohlenstoffquelle zum Einleiten des Gases einer
Kohlenstoffquelle in den Gasspeicher (13).
9. Vorrichtung zur Synthese von Diamanten nach Anspruch 7,
bei der die Vorrichtungen zur Plasmaerzeugung (6)
gebildet werden durch Wellen- bzw. Hohlleiter (8) zur
Erzeugung des Mikrowellenplasmas, die gegenüberliegende
Stellen der Reaktionsrohre (3) einnehmen, und durch
Mikrowellenoszillatoren (7), die mit dem ersten Ende
der Hohlleiter (8) verbunden sind.
10. Vorrichtung zur Synthese von Diamanten nach Anspruch 9,
bei der die Vorrichtungen zur Plasmaerzeugung (6)
ferner gebildet werden durch Leistungsmonitore (9) zur
Überwachung des Ausgabewertes der Mikrowellen,
Abstimmgeräte (10) zur Einstellung der Frequenz der
Mikrowellen und Abstimmkolben (11) zur Einstellung der
Linienlänge der Wellenleiter (8), die an Endteilen der
Wellenleiter (8) gegenüber den mit den
Mikrowellenoszillatoren (7) verbundenen ersten Enden vorgesehen
sind.
11. Vorrichtung zur Synthese von Diamanten nach Anspruch 7,
bei der die Vorrichtung (16) zur Zirkulation des
Rohstoffgases in versiegeltem Zustand gebildet wird durch
eine Umlaufpumpe (16), die in einer Rohrleitung
angebracht ist, die die Reaktionsrohre (3) mit dem
Gasspeicher (13) verbindet.
12. Vorrichtung zur Synthese von Diamanten nach Anspruch 7,
bei der das in dem Rohstoffgas enthaltene Gas einer
Kohlenstoffquelle hergestellt wird aus einem Gas,
ausgewählt aus Kohlenwasserstoff, Alkohol, organischer
Säure, Kohlenmonoxid und Kohlendioxid, und daß das
Trägergas hergestellt wird aus Wasserstoffgas.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP24574889 | 1989-09-20 | ||
JP23165090A JPH03174398A (ja) | 1989-09-20 | 1990-08-31 | ダイヤモンド合成装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE69004908D1 DE69004908D1 (de) | 1994-01-13 |
DE69004908T2 true DE69004908T2 (de) | 1994-03-24 |
Family
ID=26530002
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE90117965T Expired - Fee Related DE69004908T2 (de) | 1989-09-20 | 1990-09-18 | Vorrichtung zur Synthese von Diamanten. |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5074245A (de) |
EP (1) | EP0418837B1 (de) |
DE (1) | DE69004908T2 (de) |
Families Citing this family (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5381755A (en) * | 1991-08-20 | 1995-01-17 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Navy | Method of synthesizing high quality, doped diamond and diamonds and devices obtained therefrom |
FR2691035B1 (fr) * | 1992-05-07 | 1994-06-17 | France Telecom | Dispositif et machine a plasma de traitement chimique et procede utilisant ce dispositif. |
DE4217328C1 (en) * | 1992-05-26 | 1993-09-02 | Fraunhofer-Gesellschaft Zur Foerderung Der Angewandten Forschung Ev, 80636 Muenchen, De | Diamond layer CVD appts. - has closed gas circuit contg. carbon reactor for process gas regeneration |
US5437243A (en) * | 1992-07-01 | 1995-08-01 | Pike-Biegunski; Maciej J. | Process for fabricating diamond by supercritical electrical current |
US6117401A (en) * | 1998-08-04 | 2000-09-12 | Juvan; Christian | Physico-chemical conversion reactor system with a fluid-flow-field constrictor |
FR2792854B1 (fr) * | 1999-04-29 | 2001-08-03 | Sidel Sa | Dispositif pour le depot par plasma micro-ondes d'un revetement sur un recipient en materiau thermoplastique |
US8968473B2 (en) * | 2009-09-21 | 2015-03-03 | Silevo, Inc. | Stackable multi-port gas nozzles |
US9240513B2 (en) | 2010-05-14 | 2016-01-19 | Solarcity Corporation | Dynamic support system for quartz process chamber |
US9441295B2 (en) | 2010-05-14 | 2016-09-13 | Solarcity Corporation | Multi-channel gas-delivery system |
US9763287B2 (en) * | 2011-11-30 | 2017-09-12 | Michael R. Knox | Single mode microwave device for producing exfoliated graphite |
WO2016131190A1 (en) | 2015-02-17 | 2016-08-25 | Solarcity Corporation | Method and system for improving solar cell manufacturing yield |
US9972740B2 (en) | 2015-06-07 | 2018-05-15 | Tesla, Inc. | Chemical vapor deposition tool and process for fabrication of photovoltaic structures |
US9748434B1 (en) | 2016-05-24 | 2017-08-29 | Tesla, Inc. | Systems, method and apparatus for curing conductive paste |
US9954136B2 (en) | 2016-08-03 | 2018-04-24 | Tesla, Inc. | Cassette optimized for an inline annealing system |
US10115856B2 (en) | 2016-10-31 | 2018-10-30 | Tesla, Inc. | System and method for curing conductive paste using induction heating |
CN108914088B (zh) * | 2018-09-29 | 2023-07-28 | 北京科技大学 | 一种制备高质量金刚石的气体循环系统及其使用方法 |
GB201912659D0 (en) | 2019-09-03 | 2019-10-16 | Univ Bristol | Chemical vapor deposition process for producing diamond |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3030187A (en) * | 1958-07-23 | 1962-04-17 | Union Carbide Corp | Synthesis of diamond |
US3030188A (en) * | 1958-07-23 | 1962-04-17 | Union Carbide Corp | Synthesis of diamond |
US4468283A (en) * | 1982-12-17 | 1984-08-28 | Irfan Ahmed | Method for etching and controlled chemical vapor deposition |
JPS6461396A (en) * | 1987-09-01 | 1989-03-08 | Idemitsu Petrochemical Co | Synthesis of diamond and installation therefor |
JPH02141494A (ja) * | 1988-07-30 | 1990-05-30 | Kobe Steel Ltd | ダイヤモンド気相合成装置 |
-
1990
- 1990-09-18 EP EP90117965A patent/EP0418837B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1990-09-18 US US07/584,911 patent/US5074245A/en not_active Expired - Lifetime
- 1990-09-18 DE DE90117965T patent/DE69004908T2/de not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP0418837A1 (de) | 1991-03-27 |
EP0418837B1 (de) | 1993-12-01 |
US5074245A (en) | 1991-12-24 |
DE69004908D1 (de) | 1994-01-13 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
8364 | No opposition during term of opposition | ||
8320 | Willingness to grant licences declared (paragraph 23) | ||
8328 | Change in the person/name/address of the agent |
Representative=s name: GROSSE, BOCKHORNI, SCHUMACHER, 81476 MUENCHEN |
|
8339 | Ceased/non-payment of the annual fee |