DE60301810T2 - Durch Kabel betätigte Scheibenbremse - Google Patents

Durch Kabel betätigte Scheibenbremse Download PDF

Info

Publication number
DE60301810T2
DE60301810T2 DE60301810T DE60301810T DE60301810T2 DE 60301810 T2 DE60301810 T2 DE 60301810T2 DE 60301810 T DE60301810 T DE 60301810T DE 60301810 T DE60301810 T DE 60301810T DE 60301810 T2 DE60301810 T2 DE 60301810T2
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
diamond
pcd
layer
crystals
cutting
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
DE60301810T
Other languages
English (en)
Other versions
DE60301810D1 (de
Inventor
Osamu Sakai-shi Kariyama
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shimano Inc
Original Assignee
Shimano Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Shimano Inc filed Critical Shimano Inc
Publication of DE60301810D1 publication Critical patent/DE60301810D1/de
Application granted granted Critical
Publication of DE60301810T2 publication Critical patent/DE60301810T2/de
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F16ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
    • F16DCOUPLINGS FOR TRANSMITTING ROTATION; CLUTCHES; BRAKES
    • F16D65/00Parts or details
    • F16D65/14Actuating mechanisms for brakes; Means for initiating operation at a predetermined position
    • F16D65/16Actuating mechanisms for brakes; Means for initiating operation at a predetermined position arranged in or on the brake
    • F16D65/18Actuating mechanisms for brakes; Means for initiating operation at a predetermined position arranged in or on the brake adapted for drawing members together, e.g. for disc brakes
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B62LAND VEHICLES FOR TRAVELLING OTHERWISE THAN ON RAILS
    • B62LBRAKES SPECIALLY ADAPTED FOR CYCLES
    • B62L1/00Brakes; Arrangements thereof
    • B62L1/005Brakes; Arrangements thereof constructional features of brake elements, e.g. fastening of brake blocks in their holders
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F16ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
    • F16DCOUPLINGS FOR TRANSMITTING ROTATION; CLUTCHES; BRAKES
    • F16D65/00Parts or details
    • F16D65/38Slack adjusters
    • F16D65/40Slack adjusters mechanical
    • F16D65/42Slack adjusters mechanical non-automatic
    • F16D65/46Slack adjusters mechanical non-automatic with screw-thread and nut
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F16ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
    • F16DCOUPLINGS FOR TRANSMITTING ROTATION; CLUTCHES; BRAKES
    • F16D55/00Brakes with substantially-radial braking surfaces pressed together in axial direction, e.g. disc brakes
    • F16D2055/0004Parts or details of disc brakes
    • F16D2055/0062Partly lined, i.e. braking surface extending over only a part of the disc circumference
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F16ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
    • F16DCOUPLINGS FOR TRANSMITTING ROTATION; CLUTCHES; BRAKES
    • F16D2121/00Type of actuator operation force
    • F16D2121/14Mechanical
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F16ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
    • F16DCOUPLINGS FOR TRANSMITTING ROTATION; CLUTCHES; BRAKES
    • F16D2125/00Components of actuators
    • F16D2125/18Mechanical mechanisms
    • F16D2125/20Mechanical mechanisms converting rotation to linear movement or vice versa
    • F16D2125/34Mechanical mechanisms converting rotation to linear movement or vice versa acting in the direction of the axis of rotation
    • F16D2125/36Helical cams, Ball-rotating ramps
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F16ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
    • F16DCOUPLINGS FOR TRANSMITTING ROTATION; CLUTCHES; BRAKES
    • F16D2125/00Components of actuators
    • F16D2125/18Mechanical mechanisms
    • F16D2125/58Mechanical mechanisms transmitting linear movement
    • F16D2125/60Cables or chains, e.g. Bowden cables

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Braking Arrangements (AREA)
  • Cutting Tools, Boring Holders, And Turrets (AREA)

Description

  • STAND DER TECHNIK
  • Diese Erfindung betrifft einen polykristallinen Diamanten und insbesondere einen halbleitenden polykristallinen Diamanten, der eine verbesserte Schneidbarkeit, insbesondere eine Schneidbarkeit für eine elektroerosive Bearbeitung oder ein elektroerosives Schleifen, aufweist.
  • In der Technik bekannte polykristalline Diamantmaterialien (PKD-Materialien) sind typischerweise aus Diamantkörnern oder -kristallen und einem formbaren Metallkatalysator/-bindemittel gebildet und werden durch Hochtemperatur-Hochdruckverfahren ("HTHD"-Verfahren) synthetisiert. Derartige PKD-Materialien sind ultraharte Materialien, die für ihre mechanische Eigenschaft einer hohen Verschleißfestigkeit bekannt sind, weshalb sie eine populäre Materialwahl zur Verwendung in industriellen Anwendungen, wie beispielsweise Schneidwerkzeuge zur Bearbeitung, Unterseeabbau und Unterseebohrungen darstellen, wo die mechanische Eigenschaft von hoher Verschleißfestigkeit höchst erwünscht ist. Bei derartigen Anwendungen können herkömmliche PKD-Materialien in Form einer Oberflächenbeschichtung bereitgestellt werden, zum Beispiel an Einsätzen, die für Schneid- und Bohrwerkzeuge verwendet werden, um die Verschleißfestigkeit des Einsatzes zu verbessern. Traditionell werden PKD-Einsätze, die bei solchen Anwendungen verwendet werden, durch Bilden einer oder mehrerer Schichten aus PKD-basiertem Material auf einem geeigneten Substratmaterial hergestellt. Derartige Einsätze, die auch als Schneidelemente bezeichnet werden, umfassen ein Substrat, eine PKD-Oberflächenschicht und optional eine oder mehrere Übergangsschichten, um die Bindung zwischen der ausgesetzten PKD-Oberflächenschicht und der darunter liegenden Substratstützschicht zu verbessern. Substrate, die bei solchen Einsatzanwendungen verwendet werden, werden herkömmlicherweise aus einem Karbidmaterial, wie beispielsweise Wolframkarbid, WC, das mit Kobalt, Co, zementiert ist, gebildet, und herkömmlicherweise als zementiertes Wolframkarbid, WC/Co-System bezeichnet.
  • Die Schicht oder die Schichten aus PKD können herkömmlicherweise ein Metallbindemittel umfassen. Das Metallbindemittel wird dazu verwendet, die interkristalline Bindung zwischen den Diamantkörnern zu ermöglichen und bindet die Schichten aneinander und an das darunter liegende Substrat. Das Metallbindematerial ist im allgemeinen mit einem Gewichtsprozentanteil von etwa 10% enthalten. Metalle, die herkömmlicherweise als Bindemittel verwendet werden, werden oftmals aus der Gruppe ausgewählt, die aus Folgendem besteht: Kobalt, Eisen oder Nickel und/oder Mischungen oder Legierungen davon.
  • Das Bindematerial kann ebenfalls Metalle, wie beispielsweise Mangan, Tantal, Chrom und/oder Mischungen oder Legierungen davon umfassen. Das Metallbindemittel kann in Pulverform als Inhaltsstoff zur Bildung des PKD-Materials bereitgestellt sein oder es kann während der HTHD-Verarbeitung, die ebenfalls als Sinterprozess bezeichnet wird, von dem Substratmaterial in das PKD-Material gezogen werden.
  • Die Menge an Bindematerial, die zur Bildung von PKD-Materialien verwendet wird, stellt einen Kompromiss zwischen den gewünschten Materialeigenschaften von Zähigkeit und Härte bzw. Verschleißfestigkeit dar. Während ein höherer Metallbindemittelgehalt die Zähigkeit des resultierenden PKD-Materials typischerweise erhöht, verringert ein höherer Metallgehalt ebenfalls die Härte, die Verschleißfestigkeit und die thermische Stabilität des PKD-Materials. Somit begrenzen diese umgekehrt beeinflussten gewünschten Eigenschaften letztlich die Flexibilität, PKD-Beschichtungen bereitstellen zu können, die gewünschte Niveaus sowohl von Verschleißfestigkeit als auch Zähigkeit aufweisen, um die Dienstanforderungen von bestimmten Anwendungen zu erfüllen. Wenn die PKD-Zusammensetzung so gewählt wird, dass die Verschleißfestigkeit des PKD-Materials erhöht wird, wird zusätzlich typischerweise ebenfalls die Brüchigkeit erhöht, wodurch die Zähigkeit des PKD-Materials verringert wird.
  • In vielen Fällen muss der PKD, nachdem er geformt ist, zur Verwendung in einem Schneidwerkzeug in gewünschte Formen geschnitten werden. Das Schneiden wird typischerweise unter Verwendung von elektroerosiven Bearbeitungsverfahren (EEB-Verfahren) oder elektroerosiven Schleifverfahren (EES-Verfahren) erreicht, die in der Technik bekannt sind. Jedoch ist es aufgrund der isolierenden Beschaffenheit des Diamantskeletts in herkömmlichem PKD von wesentlicher Bedeutung, über ein metallisches Matrixmaterial zu verfügen, das bei dem Schneidvorgang zur Verfügung steht, um eine gewisse Leitfähsgkeit des PKD sicherzustellen, die für die zuvor erwähnten Schneidvorgänge von wesentlicher Bedeutung ist. Das Metallbindemittel in dem PKD bildet eine metallische Matrix und stellt eine Leitfähigkeit bereit, die EEB-Schneidverfahren oder EES-Schneidverfahren unterstützt. Jedoch kann das Kühlfluid oder dielektrische Fluid, das während des EEB-Schneidverfahrens oder EES-Schneidverfahrens zum Kühlen verwendet wird, die Metallmatrix aus dem PKD auswaschen und den Widerstand der PKD-Schicht bedeutend erhöhen. Verschiedene Kühllösungen bzw. dielektrische Lösungen, wie beispielsweise Adcool® und andere korrosionshemmende Lösungen und/oder deionisiertes Wasser können während des EEB-Verfahrens oder EES-Verfahrens verwendet werden. Der elektrische Lichtbogen, der bei EEB-Verfahren zwischen der Schneidfläche und dem Draht und bei EES-Verfahren dem Schleifrad erzeugt wird, erzeugt ebenfalls ein Auswaschen.
  • Wenn der Widerstand des PKD aufgrund des Auswaschens der Metallmatrix in dem PKD erheblich erhöht wird oder wenn Bereiche mit relativ geringem Metallmatrixanteil angetroffen werden, können sehr niedrige Schneidgeschwindigkeiten oder Schneidgeschwindigkeiten von null die Folge sein und der Schneiddraht, der in dem EEB-Verfahren integriert ist, kann brechen. In einigen Fällen wird zusätzliches Metall in dem PKD-Material bereitgestellt, um dieses Problem zu überwinden. Das Hinzufügen von zusätzlichem Material hat eine geringere thermische Stabilität des PKD sowie eine verringerte Materialhärte und eine entsprechend verringerte Verschleißfestigkeit zur Folge.
  • Ein Artikel in „Manufacturing Engineering 104(2), 91(1990) mit dem Titel „Advancing the Art of PCD Tool Grinding" beschreibt ein dreistufiges Verfahren zur Herstellung von PKD-Werkzeugen und einer Maschine, das elektroerosive Bearbeitung und elektroerosives Schleifen kombiniert.
  • Somit wird ein PKD-Material gewünscht, das eine verbesserte Schneidfähigkeit für EEB-Verfahren und EES-Verfahren ohne Verringerung der Materialhärte, der Verschleißfestigkeit und der thermischen Stabilität aufweist.
  • ZUSAMMENFASSUNG DER ERFINDUNG
  • Die vorliegende Erfindung betrifft ein ultrahartes Material aus polykristallinem Diamant (PKD) und ein Verfahren zur Bildung desselben. Bei einer Ausführungsform umfasst das ultraharte Material aus polykristallinem Diamant Halbleiterdiamantkristalle. Die Halbleiterdiamantkristalle können Diamantkristalle sein, die mit Lithium, Beryllium oder Aluminium dotiert sind. Bei einer anderen beispielhaften Ausführungsform wird das ultraharte Material aus polykristallinem Diamant aus herkömmlichen Diamantkristallen gebildet, von denen mindestens einige halbleitende äußere Oberflächeschichten umfassen. Gemäß beider vorgenannten beispielhaften Ausführungsformen ist das ultraharte Material aus polykristallinem Diamant ein Halbleitermaterial.
  • Gemäß einem Gesichtspunkt der vorliegenden Erfindung wird ein Verfahren zur Bildung eines Schneidelements geschaffen, wobei das Verfahren Folgendes umfasst:
    Bereitstellen einer Schicht von Diamantpulver, das nicht leitende Diamantkristalle und ein Additiv umfasst; und
    Sintern der Schicht, um die nichtleitenden Diamantkristalle und das Additiv in eine polykristalline Diamantschicht umzuwandeln, wobei die polykristalline Diamantschicht ein festes Halbleitermaterial ist.
  • Gemäß einem anderen Gesichtspunkt der vorliegenden Erfindung wird ein halbleitendes polykristallines Diamantmaterial geschaffen, das durch Sintern gebildet wird und Diamantkristalle umfasst, die mit einem Material dotiert sind, das aus der Gruppe ausgewählt wird, die aus Be, Li und Al besteht.
  • Gemäß einem beispielhaften Verfahren der vorliegenden Erfindung wird ein Schneidelement gebildet, indem ein Substrat bereitgestellt wird und eine polykristalline Diamantschicht auf dem Substrat gebildet wird. Die polykristalline Diamantschicht wird auf dem Substrat gebildet, indem eine Schicht aus Diamantpulver, die nicht leitfähiges Diamantsandausgangsmaterial und ein Additiv umfasst, bereitgestellt wird und die Schicht aus Diamantpulver in einen polykristallinen Diamanten umgewandelt wird, der ein festes Halbleitermaterial ist. Das Additiv kann aus der Gruppe ausgewählt werden, die aus Folgendem besteht: Lithium, Beryllium, Bor und Aluminium. Diamantsandausgangsmaterial, das aus herkömmlichen isolierenden Diamantkristallen besteht, wie beispielsweise Diamantkristalle des Typs I, kann verwendet werden.
  • Gemäß einem anderen beispielhaften Verfahren der vorliegenden Erfindung wird ein Schneidelement gebildet, indem eine Schicht aus Diamantsandausgangsmaterial bereitgestellt wird, das Diamantkristalle umfasst, die mit mindestens Beryllium, Lithium oder Aluminium dotiert sind, und das Diamantsandausgangsmaterial daraufhin gesintert wird, um die Schicht aus Diamantsandausgangsmaterial in eine halbleitende feste polykristalline Diamantschicht umzuwandeln.
  • Gemäß beiden beispielhaften Bildungsverfahren wird die ultraharte PKD-Schicht als Halbleitermaterial gebildet, das eine erhöhte Leitfähigkeit verglichen mit PKD-Schichten, die aus herkömmlichen isolierenden Diamantkristallen gebildet werden, wie beispielsweise Diamantkristalle des Typs I, aufweist. Selbst wenn alle Metallbindematerialien, die der PKD-Schicht enthalten sein können, durch auswaschen entfernt werden, wird die Schneidfähigkeit, insbesondere die Schneidfähigkeit für EEB-Verfahren und EES-Verfahren, des halbleitenden PKD-Materials der vorliegenden Erfindung verbessert.
  • KURZE BESCHREIBUNG DER ZEICHNUNGEN
  • Die Erfindung ist aus der folgenden ausführlichen Beschreibung im Zusammenhang mit den beigefügten Zeichnungen am besten verständlich. Es wird betont, dass die verschiedenen Merkmale der Zeichnungen gemäß der herkömmlichen Praxis nicht maßstabgerecht sind. Im Gegenteil können die Abmessungen der verschiedenen Merkmale der Klarheit halber willkürlich vergrößert oder verkleinert sein. Gleiche Nummern bezeichnen in der gesamten Beschreibung und den Zeichnungen gleiche Merkmale. Folgende Figuren sind enthalten:
  • 1 ist eine perspektivische Ansicht eines Schneidelements gemäß einer beispielhaften Ausführungsform der vorliegenden Erfindung;
  • 2 ist eine perspektivische Ansicht eines Einsatzkörpers, der mit den Schneidelementen einer beispielhaften Ausführungsform der vorliegenden Erfindung, die in 1 gezeigt ist, ausgerüstet ist;
  • 3 ist eine grafische Darstellung, die die Wirkungen von Diamantkristallen mit halbleitenden Oberflächenschichten in PKD-Material gemäß einer beispielhaften Ausführungsform der Erfindung zeigt;
  • 4 ist eine weitere grafische Darstellung, die die Wirkungen von Diamantkristallen mit halbleitenden Oberflächenschichten in PKD-Material gemäß einer beispielhaften Ausführungsform der Erfindung zeigt;
  • 5 ist eine grafische Darstellung, die einen Vergleich zwischen herkömmlichem PKD-Material und den beispielhaften halbleitenden PKD-Materialien zeigt, die gemäß einer beispielhaften Ausführungsform der vorliegenden Erfindung gebildet sind.
  • AUSFÜHRLICHE BESCHREIBUNG DER ERFINDUNG
  • Es wird Folgendes bereitgestellt: ein PKD-Material mit einer verbesserten Schneidfähigkeit, insbesondere mit einer verbesserten Schneidfähigkeit für EEB-Verfahren und EES-Verfahren, ohne dessen Härte, Verschleißfestigkeit oder thermische Stabilität zu umfassen, Schneidwerkzeuge und andere Werkzeuge, die ein derartiges Material umfassen, sowie ein Verfahren zur Herstellung derartiger Materialien und Werkzeuge. Ein PKD-Material einer beispielhaften Ausführungsform der vorliegenden Erfindung weist einen wesentlichen Prozentanteil an Diamantkristallen auf, die halbleitend beschaffen sind oder die halbleitende äußere Oberflächenschichten umfassen. Diese Diamantkristalle enthalten geringe Mengen an Verunreinigungen in Zwischenräumen, wie beispielsweise Lithium (Li), Beryllium (Be), Bor (B) und Aluminium (Al), die ausreichen, um sie zu Halbleitern zu machen.
  • Halbleitende Diamanten werden in Wentorf, R. H. und Bovenkirk, H. P., "Preparation of Semiconducting Diamonds", J. Chem. Phys. 36, S. 1987 (1962); Field, J. E., "The Properties of Diamond", Academic Press, 1979; und Wentorf, R. H., "The formation of Diamond at High Pressure", in Advances in High Pressure Research, Academic Press, S. 249–281 (1974) erörtert. Andererseits weist PKD, der mit herkömmlichen Diamantkristallen gebildet ist, die elektrische Isolatoren sind, einen wesentlich höheren Widerstand auf als der PKD der vorliegenden Erfindung. Dies gilt sowohl für PKD-Materialien, die Metallbindematerialien umfassen, als auch für PKD-Materialien die solche Metallbindematerialien nicht umfassen.
  • Ein PKD einer beispielhaften Ausführungsform der vorliegenden Erfindung wird gebildet, indem halbleidendes Diamantsandausgangsmaterial verwendet wird, das aus halbleitenden Diamantkristallen gebildet ist, die mit Li, Be oder Al oder Kombinationen davon dotiert sind. Bei einer anderen beispielhaften Ausführungsform der vorliegenden Erfindung kann PKD gebildet werden, indem eine Kombination aus halbleitendem und herkömmlichem nicht halbleitendem Diamantsandausgangsmaterial, wie beispielsweise Diamantsandausgangsmaterial des Typs I, verwendet wird. Bei noch einer weiteren beispielhaften Ausführungsform der vorliegenden Erfindung wird der PKD gebildet, indem herkömmliches undotiertes Diamantsandausgangsmaterial (wie beispielsweise Diamantsandausgangsmaterial des Typs I) zusammen mit einer geeigneten Menge von Additiven, wie beispielsweise B, Li, Be und Al verwendet wird. Die Additive werden in dem Diamantgitter diffundiert, um die Diamantkristalle zu veranlassen, sich in Diamantkristalle zu verwandeln, die halbleitende Oberflächenschichten umfassen. Dieses Diffusionsphänomen findet während des HTHD-Sinterverfahrens statt, das zur Verfestigung des PKD-Materials verwendet wird. Das PKD-Material, das gemäß jedem der vorgenannten Verfahren gebildet wird, ist halbleitend beschaffen. Im Folgenden werden sowohl das PKD-Material, das unter Verwendung des halbleitenden Diamantsandausgangsmaterials gebildet wird, als auch das PKD-Material, das unter Verwendung von herkömmlichem Diamantsandausgangsmaterial und einem Additiv gebildet wird, um die Diamantkristalle so umzuwandeln, dass sie halbleitende Oberflächenschichten aufweisen, kollektiv als halbleitender PKD bezeichnet.
  • Der halbleitende PKD der vorliegenden Erfindung ist ein fester struktureller Körper, der herkömmlicherweise als ultrahartes Material oder ultraharte Schicht bezeichnet wird und kann als Schneidschicht an Schneidwerkzeugen und Schneidelementen oder als verschleißbeständige Schicht für andere Anwendungen verwendet werden. Der Einfachheit halber werden Schneidelemente und Schneidwerkzeuge im Folgenden als "Schneidelemente" bezeichnet. Der halbleitende PKD kann eine Schicht sein, die auf einem Substrat gebildet ist, um ein Schneidelement zu erzeugen. Bei einer beispielhaften Ausführungsform kann das Schneidelement in einen Bohreinsatz eingesetzt und für Erdbohrungen verwendet werden. Der halbleitende PKD der vorliegenden Erfindung kann in anderen beispielhaften Ausführungsformen für verschiedene andere Anwendungen und Industrien verwendet werden.
  • Ein beispielhaftes Schneidelement ist in 1 gezeigt. 1 zeigt das Schneidelement 10, das aus einem Substrat 12 und einer ultraharten Schicht 16 gebildet ist, die ebenfalls als Schneidtafel bezeichnet wird und eine obere Fläche 18 umfasst. Die ultraharte Schicht 16 ist bei der vorliegenden Erfindung aus dem halbleitenden PKD gebildet. Eine Grenzfläche 14 ist zwischen dem Substrat 12 und der ultraharten Schicht 16 gebildet. Gemäß einer anderen beispielhaften Ausführungsform können eine oder mehrere Übergangsschichten (nicht gezeigt) zwischen der ultraharten Schicht 16 und dem Substrat 12 gebildet sein. Das im allgemeinen zylinderförmige Schneidelement, das in 1 veranschaulicht ist, dient lediglich als Beispiel und gemäß verschiedener anderer beispielhafter Ausführungsform können die Schneidelemente und die ultraharten Schichten verschiedene andere Formen annehmen.
  • Bei einer beispielhaften Ausführungsform ist das Schneidelement an einem Bohreinsatz angebracht, wie beispielsweise dem Schleifbohreinsatz, der in 2 gezeigt ist, und berührt die Erdstruktur entlang der Kante 28 während des Bohrens. Bei der beispielhaften Ausführungsform, die in 2 gezeigt ist, sind die Schneidelemente 10 durch Hartlöten oder andere in der Technik bekannte Mittel an Taschen oder anderen aufnehmenden Formen befestigt, die sich in den Schleifbohreinsatzkörper 24 erstrecken. Die veranschaulichte Anordnung dient lediglich als Beispiel und die Schneidelemente 10 können in verschiedenen anderen Anordnungen in anderen beispielhaften Ausführungsformen verwendet werden.
  • Das Verfahren zur Bildung des halbleitenden PKD-Materials umfasst Folgendes: die Bereitstellung eines Substrats und die Bereitstellung einer Schicht aus Diamantpulver auf dem Substrat, die Verwendung von HTHD-Verarbeitung zum Sintern, wodurch die Schicht aus Diamantpulver verfestigt wird und dieselbe in eine ultraharte Schicht aus PKD umgewandelt wird, sowie das Verbinden der PKD-Schicht mit dem Substrat, um ein Schneidelement zu bilden. Das Substrat kann ein vorgeformtes festes Substrat sein oder es kann in Pulverform bereitgestellt werden und ebenfalls während des Sintervorgangs verfestigt werden. Das Substrat kann aus verschiedenen Matrixmaterialien gebildet sein. Bei einer beispielhaften Ausführungsform kann das Substrat aus zementiertem Wolframkarbid gebildet sein. Zementiertes Wolframkarbid bezeichnet im allgemeinen Wolframkarbidpartikel, die in einer Substratbindemetallmatrix, wie beispielsweise Eisen, Nickel oder Kobalt verteilt sind. Andere Substratmaterialien können in anderen beispielhaften Ausführungsformen verwendet werden. Verschleißbeständige Materialien, die zur Verwendung als Substrat geeignet sind, können aus Verbindungen von Karbid und Metallen ausgewählt werden, die aus den Gruppen IVB, VB, VIB und VIIB des Periodensystems ausgewählt werden. Beispiele für andere derartige Karbide umfassen Tantalkarbid und Titankarbid. Substratbindematrixmaterialien, die zur Verwendung in Ausführungsformen der Erfindung geeignet sind, umfassen die Übergangsmetalle der Gruppen VI, VII und VII des Periodensystems. Beispielsweise sind Eisen und Nickel gute Substratbindematrixmaterialien.
  • Die Schicht aus Diamantpulver, die in einer beispielhaften Ausführungsform der vorliegenden Erfindung zur Bildung eines halbleitenden PKD-Materials verwendet wird, umfasst eine Vielzahl feiner Diamantkristalle. Die Schicht aus Diamantpulver kann direkt auf dem Substrat vorgesehen sein oder es können eine oder mehrere optionale Übergangsschichten zwischen der Schicht aus Diamantpulver und dem Substrat vorgesehen sein.
  • Gemäß einer beispielhaften Ausführungsform umfasst die Schicht aus Diamantpulver mindestens einen gewissen Anteil an halbleitendem Diamantsandausgangsmaterial, das aus Diamantkristallen besteht, die mit Li, Be oder Al dotiert sind. Das halbleitende Diamantausgangsmaterial kann mit herkömmlichem undotiertem Diamantausgangsmaterial gemischt sein, um die Schicht aus Diamantpulver zu bilden. Bei einer anderen beispielhaften Ausführungsform können die Diamantkristalle der Schicht aus Diamantpulver im Wesentlichen nur aus halbleitendem Diamantsandausgangsmaterial bestehen.
  • Gemäß einer anderen beispielhaften Ausführungsform kann die Schicht aus Diamantpulver aus herkömmlichen Diamantkristallen bestehen, die Isolatoren sind, wie beispielsweise Diamantkristalle des Typs I. Gemäß dieser beispielhaften Ausführungsform wird ein Additiv, wie beispielsweise Li, Be, B oder Al zu der Schicht aus Diamantpulver hinzugegeben. Die Additive können in Pulverform oder in Granulatform vorliegen und werden in der Schicht aus Diamantpulver vermischt. Bei einer beispielhaften Ausführungsform können die Additive gleichförmig in der Diamantpulverschicht vermischt werden. Die Additive werden so gewählt, dass sie klein genug sind, in das Diamantgitter zu diffundieren, das gibildet wird, wenn sich die Schicht aus Diamantpulver verfestigt, um die PKD-Schicht zu bilden. Aufgrund der kleinen Größe des Diamantgitters im PKD kann das Gitter nur eine beschränkte Anzahl von Fremdatomsorten (das heißt Additiven) aufnehmen, um die herkömmlichen isolierenden Diamantkristalle in halbleitende Diamantkristalle umzuwandeln. Li, Be, B und Al sind Elemente, von denen bekannt ist, dass sie klein genug sind, in das Diamantgitter zu diffundieren. Diese sollen lediglich als Beispiel dienen und es können andere Fremdatome oder Verbindungen bei anderen beispielhaften Ausführungsformen verwendet werden. Li, Be, B und Al machen aus dem PKD einen Halbleiter vom Typ P.
  • Die Menge an Additiv, die in der Schicht aus Diamantpulver enthalten ist, liegt bei einer beispielhaften Ausführungsform im Bereich von 0,1 Gewichtsprozent bis 10,0 Gewichtsprozent, es können in anderen beispielhaften Ausführungsformen jedoch andere Gewichtsprozentanteile verwendet werden. Die Obergrenze des Gewichtsprozentanteils von Additiv wird die durch die Menge bestimmt, oberhalb derer das Sinterverfahren nachteilig beeinflusst wird. Eine geeignete Menge an angemessen kleinen Elementen oder Verbindungen von Additiven wird so ausgewählt, dass die Additive in dem Diamantgitter diffundieren und die isolierenden Diamantkristalle dazu veranlassen, sich in halbleitende Diamantkristalle umzuwandeln. Es hat sich herausgestellt, dass eine sehr kleine Menge der Additive die Diamantkristalle umwandeln und eine Verbesserung bezüglich erhöhter Leitfähigkeit erreichen kann. Während der Umwandlung des isolierenden Diamantmaterials in ein halbleitendes Material werden einige oder alle Diamantkristalle in Diamantkristalle umgewandelt, die aufgrund der Diffusion des Additivs eine halbleitende Oberfläche aufweisen. Dieses Diffusionsphänomen findet während des HTHD-Sinterverfahrens statt, das zur Verfestigung des PKD verwendet wird und während dessen die Additivfremdatomsorten frei sind, in dem PKD zu diffundieren. Es ist nicht notwendig, eine vollständige Umwandlung des gesamten Diamantkristalls in einen halbleitenden Diamantkristall zu erreichen, um eine bedeutende Verbesserung der Leitfähigkeit zu erzielen. Stattdessen verbessert die Umwandlung der Oberflächenschicht der Diamantkristalle in halbleitende Oberflächenschichten die Leitfähigkeit und somit die Schneidfähigkeit des gebildeten PKD. Gemäß dieser Ausführungsform werden undotierte Diamantkristalle, wie beispielsweise Diamantkristalle des Typs I, in Diamantkristalle umgewandelt, die halbleitende Oberflächenschichten umfassen.
  • Gemäß beiden vorgenannten beispielhaften Bildungsverfahren wird ein ultrahartes Material aus halbleitendem PKD erzeugt. Gemäß beiden beispielhaften Ausführungsformen kann eine ausreichende Menge an Metallbindematerial in der Schicht aus Diamantpulver enthalten sein, um ein Metallbindematerial in dem PKD-Material mit einem Volumenprozentanteil von bis zu etwa 30% zu erzeugen, jedoch können in anderen beispielhaften Ausführungsformen andere Volumenprozentanteile von Bindematerial verwendet werden. Gemäß einer anderen beispielhaften Ausführungsformen kann das Metallbindematerial während des HTHD- Sintervorgangs von dem Substrat in die PKD-Schicht diffundieren. Bei einer beispielhaften Ausführungsform kann der Gewichtsprozentanteil für Metallbindemittel von 8–12 Gewichtsprozent reichen und es ist üblich, dass ein Gewichtsprozentanteil von nicht mehr als 15% verwendet wird. Metalle, wie beispielsweise Kobalt, Eisen, Nickel, Mangan, Tantal, Chrom und/oder Mischungen oder Legierungen davon können als Metallbindematerial verwendet werden. Das Metallbindematerial ermöglicht die interkristalline Bindung zwischen den Diamantkörnern der PKD-Schicht, verbindet die PKD-Schicht mit anderen Schichten oder mit dem Substrat und erhöht die Leitfähigkeit der PKD-Schicht. Ein Gesichtspunkt der vorliegenden Erfindung ist jedoch, dass es aufgrund der leitfähigen Beschaffenheit des Diamantskeletts in dem halbleitenden PKD, das mit halbleitenden Diamantkristallen oder mit Diamantkristallen, die eine halbleitende Oberflächenschicht aufweisen, gebildet ist, nicht notwendig ist, dass eine Metallmatrix vorhanden ist, um Schneidfähigkeit sicherzustellen.
  • Gemäß den verschiedenen Ausführungsformen der vorliegenden Erfindung weist das PKD-Material eine Leitfähigkeit auf, die ausreichend hoch ist, um ein Schneiden unter Verwendung von EEB-Verfahren und EES-Verfahren zu ermöglichen, sogar dann, wenn der PKD ohne Metallbindemittel oder nachdem das Metallmatrixmaterial im Wesentlichen vollständig durch Auswaschen entfernt wurde, gebildet wurde. Bei einer beispielhaften Ausführungsform wurde der PKD der vorliegenden Erfindung, der im Wesentlichen frei von Metallbindemitteln ist, so gebildet, dass er einen Widerstand von weniger als 1000 Ohm aufwies. Bei einer anderen Ausführungsform wies die PKD-Schicht, die mit einem Metallbindemittel mit einem Gewichtsprozentanteil von nicht mehr als 10% gebildet wurde, einen Widerstand von weniger als 50 Ohm auf.
  • Die Widerstandswerte, die hier angegeben sind, sind herkömmliche Widerstandsmessungen, die unter Verwendung von Sonden genommen wurden, die auf der Oberfläche der Probe etwa einen Zentimeter voneinander beabstandet waren.
  • Nachdem der feste halbleitende PKD gebildet ist, kann ein Schneidvorgang unter Verwendung von elektroerosiver Bearbeitung oder elektroerosivem Schleifen erforderlich sein, um den PKD in eine gewünschte Form zu schneiden. Aufgrund der Halbleitereigenschaft des PKD können bei diesen halbleitenden PKD-Materialien unter Verwendung von EEB-Verfahren und EES-Verfahren verbesserte Schneidgeschwindigkeiten erzielt werden. Dies gilt sogar dann, obwohl die Kühlfluide und die dielektrischen Fluide, die während des EEB-Verfahrens und EES-Verfahrens verwendet werden, sowie die elektrischen Lichtbögen, die durch die EEB-Verfahren und EES-Verfahren selbst erzeugt werden, während des Schneidvorgangs jedwedes Metallbindematerial aus dem halbleitenden PKD auswaschen. Sogar wenn das Metallbindemittel aufgrund von Auswaschen verloren geht oder wenn überhaupt keine Metallbindematerialien enthalten sind, hat der Anmelder entdeckt, dass der PKD der vorliegenden Erfindung ausreichend leitfähig ist, um eine Schneidfähigkeit bei Schneidvorgängen mit elektroerosiver Bearbeitung und elektroerosivem Schleifen sicherzustellen. Der halbleitende PKD umfasst des Weiteren einen sehr hohen Abriebswiderstand, während er seine Schneidfähigkeit nach wie vor aufrechterhält. Da die Hinzugabe von Metallbindematerial verringert oder sogar eliminiert werden kann, werden die Härte, die Verschleißfestigkeit und die thermische Stabilität der gebildeten PKD-Schicht nicht beeinträchtigt und können verbessert werden.
  • Nachdem der feste halbleitende PKD geschnitten worden ist, um ein Schneidelement zu bilden, kann das Schneidelement durch Hartlöten oder ein anderes in der Technik bekanntes Mittel mit einem Bohreinsatzkörper verbunden werden.
  • 3 bis 5 sind grafische Darstellungen, die die Vorteile des beispielhaften halbleitenden PKD zeigen, der gemäß Ausführungsformen der vorliegenden Erfindung gebildet wurde. 3 bis 5 zeigen kollektiv, dass der halbleitende PKD, der gemäß der vorliegenden Erfindung gebildet wurde, einen wesentlich niedrigeren Widerstand, das heißt, eine wesentlich höhere Leitfähigkeit, aufweist als standardmäßiges PKD-Material. Die Figuren zeigen ebenfalls, dass der halbleitende PKD der vorliegenden Erfindung nach einer Säureauswaschung des Metallmatrixmaterials während des Schneidvorgangs in Bezug auf Standard-PKD, der aus herkömmlichen isolierenden Diamanten gebildet ist, ebenfalls einen bedeutend verringerten Widerstand (das heißt eine erhöhte Leitfähigkeit) zeigt. 3 bis 5 zeigen ebenfalls, dass die Wirkung der Säureauswaschung während des Schneidvorgangs bei halbleitendem PKD, der gemäß der vorliegenden Erfindung gebildet ist, im Vergleich zu standardmäßigem PKD unterdrückt ist. "Standard-PKD" besteht aus herkömmlichen isolierenden Diamanten, wie beispielsweise Diamanten des Typs I.
  • 3 ist eine Weibull-Aufzeichnung, die üblicherweise zur Veranschaulichung einer außergewöhnlichen Verteilung von Datenproben verwendet wird, und zeigt die gemessenen Widerstandswerte nach der HTHD-Verarbeitung einer halbleitenden PKD-Schicht verglichen mit standardmäßigem PKD, wie oben. Unter Verwendung von Sonden, die auf der Probenoberfläche etwa einen Zentimeter voneinander beabstandet waren, wurden in allen Fällen herkömmliche Widerstandsmessungen durchgeführt. In 3 ist die Probe 1 ein PKD, der durch Hinzugabe von 2,0 Gewichtsprozent Bor zu einer Schicht aus Diamantpulver, die (isolierendes) Diamantsandausgangsmaterial des herkömmlichen Typs I umfasst, gebildet wurde und daraufhin gesintert wurde, um mindestens einige der isolierenden Diamantkristalle so umzuwandeln, dass sie eine halbleitende Oberflächenschicht umfassen. 3 zeigt ebenfalls Probe 2, die ein PKD ist, der durch Hinzugabe von 0,5 Gewichtsprozent Bor zu einer Schicht aus herkömmlichem Diamantpulver, das Diamantsandausgangsmaterial des herkömmlichen Typs I umfasst, gebildet wurde und daraufhin gesintert wurde, um mindestens einige der isolierenden Diamantkristalle so umzuwandeln, dass sie eine halbleitende Oberflächenschicht umfassen. Sowohl Probe 1 als auch Probe 2 sind PKD-Materialien, die ein Kobaltmatrixmaterial mit einem Anteil von etwa 10 Gewichtsprozent umfassen. Die standardmäßige PKD-Probe ist ein herkömmliches PKD-Material, das Probe 1 und 2 im Wesentlichen entspricht, außer dass das standardmäßige PKD-Material lediglich mit herkömmlichen isolierenden Diamanten gebildet ist. Wie in 3 veranschaulicht, zeigen die beiden PKD-Proben der vorliegenden Erfindung einen verringerten Widerstand.
  • 4 ist eine weitere Weibull-Aufzeichnung von gemessenem elektrischem Widerstand der PKD-Materialproben, die in 1 verwendet werden, und zwar nach der Entfernung im Wesentlichen der gesamten Kobaltmatrixphase dieser Proben durch Säureauswaschung. In den Beispielen, die zur Bereitstellung der Daten verwendet werden, die in 4 gezeigt sind, wurde die Säureauswaschung für Datensammlungszwecke durch Kochen in Fluorwasserstoffsäure und Salpetersäure absichtlich verursacht, jedoch können alternativ andere beispielhafte Verfahren verwendet werden. Eine ähnliche Säureauswaschung der Kobaltmatrixphase aus dem PKD tritt ebenfalls als Folge der Kühlfluide und dielektrischen Fluide auf, die bei herkömmlichen Schneidvorgängen unter Verwendung von elektroerosiver Bearbeitung und elektroerosivem Schleifen verwendet werden und jedwedes Metallbindematerial, das in dem PKD-Material vorhanden ist, auswaschen können. Als solches stellt 4 PKD-Material während EEB- und EES-Schneidvorgängen dar. 4 zeigt eine Widerstandsdifferenz von mehreren Größenordnungen zwischen Probe 1 und Probe 2 der vorliegenden Erfindung und dem standardmäßigen PKD. Der standardmäßige PKD sowie die Proben 1 und 2 waren im Wesentlichen frei von Metallbindematerialien, als die Messungen, die in 4 aufgezeichnet sind, vorgenommen wurden.
  • 5 ist ein Balkendiagramm, das die elektrischen Widerstandsmessungen zusammenfasst, die in 3 und 4 gezeigt sind. 5 zeigt, dass beide PKD-Proben 1 und 2 nach dem Sintern und vor dem Auswaschen einen gemessenen Widerstand von etwa 10 Ohm aufweisen, während die standardmäßige PKD-Probe einen gemessenen Widerstand von etwa 400 bis 500 Ohm aufweist. Insbesondere wies Probe 1 nach der HTHD-Verarbeitung einen gemessenen Widerstand von etwa 8 Ohm auf und Probe 2 wies einen gemessenen Widerstand von etwa 20 Ohm auf, d.h. beide Proben wiesen einen Widerstand von weniger als 50 Ohm auf. Nach der Bildung ist daraufhin ersichtlich, dass beide halbleitenden PKD-Proben einen Widerstand von weniger als 10% und insbesondere von weniger als etwa 5% des entsprechenden Widerstands einer im Wesentlichen gleichen PKD-Schicht, die nur aus Diamanten des Typs I oder aus anderen herkömmlichen isolierenden Diamanten gebildet ist, zeigen. Nach dem Auswaschen im Wesentlichen des gesamten Metallbindematerials aus den Proben 1 und 2 der vorliegenden Erfindung zeigen beide Proben 1 und 2 einen gemessenen Widerstand von etwa 1000 Ohm, während der Standard-PKD einen Widerstand von etwa 2–3 × 108 Ohm aufweist. Die Widerstandszunahme aufgrund von Säureauswaschung ist verglichen mit Probe 1 und 2 bei dem Standard-PKD wesentlich bedeutender.
  • Es wird angenommen, dass das halbleitende PKD-Material der vorliegenden Erfindung, das unter Verwendung von Diamantsandausgangsmaterial, das aus Li-, Be- oder Al-dotierten Diamantkristallen besteht, und ohne Hinzugabe von Metallbindematerialien gebildet ist, eine noch größere Verbesserung der Widerstands- bzw. Leitfähigkeitseigenschaften zeigt, als die PKD-Schichten, die so gebildet sind, dass sie anfänglich Metallbindematerialien enthalten und aus denen die Metallbindematerialien nachfolgend durch Auswaschen entfernt wurden (wie in 4 und 5 veranschaulicht), verglichen mit PKD-Material, das nur aus herkömmlichen Diamanten besteht. Der Anmelder geht davon aus, dass die Abwesenheit von Additivfremdatomsorten, die zur Umwandlung des herkömmlichen PKD in einen Halbleiter-PKD verwendet wurden, eine hervorragende Diamantkristall-Diamantkristall-Bindung bereitstellt.
  • 3 bis 5 und Probe 1 und 2 dienen der Veranschaulichung der Vorteile der vorliegenden Erfindung. Probe 1 und 2 dienen lediglich als Beispiel und der verringerte Widerstandsvorteil der halbleitenden PKD-Materialien der vorliegenden Erfindung ist entsprechend mit Proben, die unterschiedliche Metallbindematerialien aufweisen, und Proben, die Bindematerialien in unterschiedlichen Prozentanteilen aufweisen, erreichbar.
  • Das halbleitende PKD-Material der vorliegenden Erfindung (das heißt eine PKD-Schicht mit mindestens einigen Al-dotierten, Be-dotierten oder Li-dotierten Diamantkristallen oder mit mindestens einigen Diamantkristallen, die halbleitende Oberflächen aufweisen) weist ebenfalls eine wesentlich größere thermische Leitfähigkeit als herkömmlicher PKD auf. Die Anmelder gehen davon aus, dass die thermische Leitfähigkeit des halbleitenden PKD-Materials der vorliegenden Erfindung 15 mal größer sein kann, als die Leitfähigkeit von herkömmlichem PKD-Material bei 80° Kelvin und vier bis fünfmnal größer als die Leitfähigkeit von herkömmlichen PKD-Material bei Zimmertemperatur. Wenn halbleitendes PKD-Material als Schneidschicht in einem Schneidwerkzeug verwendet wird, kann dies die Wärme, die durch den Abrieb der PKD-Schneidschicht an dem Objekt, das geschnitten wird, erzeugt wird, besser leiten und somit eine niedrigere Temperatur an der Schneidschicht aufrechterhalten. Es ist bekannt, dass erhöhte Temperaturen an der Schneidschicht und dem Werkzeug die Lebensdauer des Schneidwerkzeugs verringern. Folglich wird die Verwendung des halbleitenden PKD der vorliegenden Erfindung als eine Schneidschicht eine verlängerte Betriebsdauer des Schneidelements bereitstellen. Der Bereich der vorliegenden Erfindung soll nicht auf die beispielhaften Ausführungsformen beschränkt sein, die hierin gezeigt und beschrieben sind. Stattdessen wird der Bereich der vorliegenden Erfindung durch die angehängten Ansprüche abgegrenzt.

Claims (13)

  1. Verfahren zum Bilden eines Schneidelements, das Folgendes umfasst: Bereitstellen einer Schicht von Diamantpulver, das nicht leitende Diamantkristalle und ein Additiv umfasst; und Sintern der Schicht, um die nicht leitenden Diamantkristalle und das Additiv in eine polykristalline Diamantschicht umzuwandeln, wobei die polykristalline Diamantschicht ein festes Halbleitermaterial ist.
  2. Verfahren nach Anspruch 1, wobei das Sintern das Bilden von halbleitenden Oberflächenschichten auf einer Vielzahl der nicht leitenden Diamantkristalle umfasst.
  3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, wobei das Additiv Bor umfasst.
  4. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, wobei das Additiv mindestens entweder Li oder Be oder Al umfasst.
  5. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei die nicht leitenden Diamantkristalle im Wesentlichen Diamantausgangsmaterial mit einer Körnung vom Typ I umfassen.
  6. Verfahren nach Anspruch 1, wobei die Additive aus der Gruppe von Additiven ausgewählt werden, die aus Be, Li und Al besteht.
  7. Verfahren nach Anspruch 6, wobei das Bereitstellen einer Schicht von Diamantpulver das Bereitstellen einer Schicht von Diamantkörnungsausgangsmaterial umfasst, das im Wesentlichen nur aus den Diamantkristallen besteht, die mit mindestens entweder Be oder Li oder Al dotiert sind.
  8. Halbleitendes polykristallines Diamantmaterial, das durch Sintern gebildet ist und Diamantkristalle umfasst, die mit einem Material dotiert sind, das aus der Gruppe ausgewählt wird, die aus Be, Li und Al besteht.
  9. Halbleitendes polykristallines Diamantmaterial nach Anspruch 8, wobei das polykristalline Diamantmaterial dadurch gekennzeichnet ist, dass es ein Halbleitermaterial des P-Typs ist.
  10. Halbleitendes polykristallines Diamantmaterial nach Anspruch 8, wobei die Diamantkristalle Typ I Diamantkristalle sind und eine Vielzahl der Typ I Diamantkristalle eine halbleitende Oberflächenschicht aufweist.
  11. Polykristallines Diamantmaterial nach Anspruch 10, wobei das polykristalline Diamantmaterial des Weiteren Fremdatomsorten umfasst, wobei die Fremdatomsorten aus der Gruppe ausgewählt werden, die aus Li, Be, B und Al besteht.
  12. Polykristallines Diamantmaterial nach Anspruch 10 oder 11, wobei die halbleitenden Oberflächenschichten Fremdatomsorten umfassen und die Fremdatomsorten aus der Gruppe ausgewählt werden, die aus Li, Be, B und Al besteht.
  13. Polykristallines Diamantmaterial nach einem der Ansprüche 10 bis 12, wobei das polykristalline Diamantmaterial ein halbleitendes Material des P-Typs ist.
DE60301810T 2002-03-08 2003-03-07 Durch Kabel betätigte Scheibenbremse Expired - Lifetime DE60301810T2 (de)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US92935 2002-03-08
US10/092,935 US6684982B2 (en) 2002-03-08 2002-03-08 Cable disc brake with manual wear adjustment mechanism

Publications (2)

Publication Number Publication Date
DE60301810D1 DE60301810D1 (de) 2005-11-17
DE60301810T2 true DE60301810T2 (de) 2006-06-29

Family

ID=27754037

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE60301810T Expired - Lifetime DE60301810T2 (de) 2002-03-08 2003-03-07 Durch Kabel betätigte Scheibenbremse

Country Status (7)

Country Link
US (1) US6684982B2 (de)
EP (1) EP1342931B1 (de)
JP (1) JP2003262241A (de)
CN (1) CN1293324C (de)
AT (1) ATE306626T1 (de)
DE (1) DE60301810T2 (de)
TW (1) TWI250952B (de)

Families Citing this family (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE10328244A1 (de) * 2003-06-24 2005-01-13 Robert Bosch Gmbh Scheibenbremse mit Selbstverstärkung
US7267205B2 (en) * 2005-08-31 2007-09-11 Shimano, Inc. Apparatus for actuating a bicycle hub brake
US8162354B2 (en) 2008-07-25 2012-04-24 Shimano Inc. Twistable hydraulic brake hose unit
EP2444309B1 (de) * 2010-10-20 2013-03-06 Tektro Technology Corporation Fahrradscheibenbremse
EP3037334B1 (de) * 2011-03-04 2018-06-06 Shimano Inc. Fahrradbremsanordnung
US9751586B2 (en) 2011-04-18 2017-09-05 Shimano, Inc. Cable disk brake with brake pad clearance adjustment mechanism
US9651138B2 (en) 2011-09-30 2017-05-16 Mtd Products Inc. Speed control assembly for a self-propelled walk-behind lawn mower
US9533733B2 (en) * 2013-06-28 2017-01-03 Shimano Inc. Disc brake caliper and disc brake caliper assembly
US9227691B2 (en) * 2013-06-28 2016-01-05 Shimano Inc. Bicycle brake caliper assembly
CN104443214A (zh) * 2014-11-20 2015-03-25 无锡市百顺机械厂 自行车及其制动器
TWM525318U (zh) * 2015-07-24 2016-07-11 Hsin-Fa Wang 碟式煞車
US9771125B1 (en) * 2016-07-04 2017-09-26 Jui-Pin Chin Dual actuated mechanical disk brake device
US10427750B2 (en) * 2017-04-10 2019-10-01 Shimano Inc. Bicycle disc brake caliper assembly
WO2021035519A1 (zh) * 2019-08-27 2021-03-04 伡安达新科技开发股份有限公司 双剎车线双驱动机械碟剎

Family Cites Families (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CH510266A (de) 1969-12-04 1971-07-15 Bbc Brown Boveri & Cie Sonde zur Messung magnetischer Felder
US3878921A (en) * 1974-02-07 1975-04-22 Lambert & Brake Corp Bicycle brake
US3997033A (en) * 1975-01-02 1976-12-14 Airheart Products, Inc. Cam operated disc brake
DE2522622A1 (de) * 1975-05-22 1976-12-09 Fichtel & Sachs Ag Scheibenbremse
JPS5828452B2 (ja) * 1975-12-12 1983-06-16 アケボノブレ−キコウギヨウ カブシキガイシヤ ロ−タ− ノ テイシジヨウタイホジヨウ ノ スプリングデイスクブレ−キ
CA1091599A (en) * 1976-09-02 1980-12-16 Donald D. Johannesen Disc brake and mounting therefor
US4102440A (en) * 1977-04-11 1978-07-25 Airheart Products, Inc. Cam operated disc brake
US4319669A (en) * 1979-05-18 1982-03-16 Watanabe Engineering Kabushiki Kaisha Disc brake device
JPS56116932A (en) * 1980-02-18 1981-09-14 Tokico Ltd Mechanical disc brake
US5000294A (en) * 1985-04-08 1991-03-19 Hayes Industrial Brake, Inc. Self-adjusting caliper
US4633978A (en) * 1985-07-22 1987-01-06 Hoffco, Inc. Brake caliper includes mechanical actuator with camming device and manual wear compensator
US6019199A (en) * 1997-05-19 2000-02-01 Power Transmission Technology, Inc. Hydraulic caliper disk brake for steel mill cranes
DE19861380A1 (de) 1998-03-13 2006-08-31 Gustav Magenwirth Gmbh & Co. Kg Scheibenbremse
US5979609A (en) * 1998-09-29 1999-11-09 Tsai; Ming-Ta Disk brake device for use with a bicycle
US6334513B1 (en) * 2000-01-27 2002-01-01 Yih Cherng Co., Ltd. Disc brake assembly for a bicycle
US6340074B1 (en) * 2000-04-06 2002-01-22 Avid Llc Pad wear compensator for a disc brake caliper
US20010030088A1 (en) 2000-04-06 2001-10-18 Lumpkin Wayne R. Reinforced bicycle brake caliper housing

Also Published As

Publication number Publication date
CN1293324C (zh) 2007-01-03
ATE306626T1 (de) 2005-10-15
EP1342931A3 (de) 2004-11-10
TWI250952B (en) 2006-03-11
TW200305524A (en) 2003-11-01
DE60301810D1 (de) 2005-11-17
EP1342931A2 (de) 2003-09-10
CN1443678A (zh) 2003-09-24
JP2003262241A (ja) 2003-09-19
EP1342931B1 (de) 2005-10-12
US20030168293A1 (en) 2003-09-11
US6684982B2 (en) 2004-02-03

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE60301810T2 (de) Durch Kabel betätigte Scheibenbremse
EP1340737B1 (de) Halbleitender polykristalliner Diamant
DE2621472C2 (de) Verwendung einer Hartlegierung für Schneid-,Scher-oder Verformungswerkzeuge
DE3784662T2 (de) Werkzeugeinsatz.
DE112010002588B4 (de) Erosionsbeständige unterirdische Bohrmeißel mit infiltrierten Metallmatrixkörpern
DE60110237T2 (de) Verfahren zur herstellung eines diamanthaltigen abrasiven produkts
DE60119558T2 (de) Verfahren zur herstellung eines abrasiven verbundkörpers
DE3232869C2 (de)
DE3688999T2 (de) Sinterhartmetallkörper für Werkzeuge.
DE69400418T2 (de) Verfahren zur Herstellung eines Schleifkörpers
DE3631119C2 (de)
DE69115766T2 (de) Werkzeuge zum Schneidbohren von Gestein
EP1751320B1 (de) Verschleissteil aus einem diamanthaltigen verbundwerkstoff
DE112011102668T5 (de) Hartmetall-Zusammensetzungen mit einem Kobalt-Silizium-Legierungs-Bindemittel
DE112008000901T5 (de) Konturiertes PKD und PKB für Spiralbohrerspitzen und Fräsen und Verfahren zu deren Formgebung
DE2808497A1 (de) Werkstueck mit grosser haerte
DE2623990A1 (de) Karbid-hartmetalle mit hexagonalem molybdaenkarbid
DE3012199A1 (de) Gesintertes presstueck
DE112017001964T5 (de) Polykristallines kubisches Bornitrid und Verfahren für dessen Herstellung
DE202015009584U1 (de) Polykristalliner Diamantkörper, Schneidwerkzeug, verschleißfestes Werkzeug und Schleifwerkzeug
DE3607037A1 (de) Sinterkoerper hoher haerte und verfahren zu seiner herstellung
DE69205075T2 (de) Hartgesinterter Presskörper für Werkzeuge.
DE2556102A1 (de) Verfahren zum erzeugen von sinterlegierungen auf titannitridbasis
DE60009364T2 (de) Sinterkarbid mit aushartbarer Binderphase
DE3854388T2 (de) Beschichtete polykristalline diamantkörper, produkte und ihre herstellung.

Legal Events

Date Code Title Description
8364 No opposition during term of opposition
8328 Change in the person/name/address of the agent

Representative=s name: GROSSE, SCHUMACHER, KNAUER, VON HIRSCHHAUSEN, 8033