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Die
vorliegende Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren zur Herstellung
eines optischen Elements, wie ein Trennelement für zirkular polarisiertes Licht
oder ein Farbfilter, und insbesondere auf ein Verfahren zur Herstellung
eines optischen Elements durch Bemustern von Flüssigkristallfilmen.
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Es
ist konventionell ein Verfahren zur Herstellung eines optischen
Elements, wie ein Trennelement für
zirkular polarisiertes Licht oder ein Farbfilter, durch die Verwendung
von Flüssigkristallfilmen
mit cholesterischer Regelmäßigkeit
(cholesterische Filme) bekannt gewesen. Bei solch einem Verfahren
zur Herstellung eines optischen Elements ist es notwendig, ein Muster
zu bilden, deren Umrißlinie
mit der äußeren Form
des optischen Elements übereinstimmt, oder
rot-, grün-
und blaugefärbte
Muster zu bilden. Es besteht daher ein Bedarf an einem Verfahren
zum Bemustern von cholesterischen Flüssigkristallfilmen mit hoher
Genauigkeit und Effizienz.
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EP-A-0
444 703 beschreibt ein Verfahren zur Herstellung eines Polarisators,
der mit einer Mehrzahl von Anteilen mit einer polarisierenden Fähigkeit oder
Polarisationsrichtung bemustert wurde.
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Konventionell
bekannte Verfahren zur Bildung von rot-, grün- und blaugefärbten Mustern
sind wie folgt: (1) ein Verfahren zur Nutzung von Temperaturveränderungen,
um die Farben der cholesterischen Flüssigkristallfilme zu kontrollieren,
bei dem, wenn ein cholesterischer Flüssigkristallfilm die gewünschte Farbe
wechselte, UV-Licht durch eine Maske auf einen Teil des cholesterischen
Flüssigkristallfilms
gestrahlt wurde, um ihn so in einem gewünschten Muster zu härten (siehe
japanische, offengelegte Patentveröffentlichungen Nr. 258623/2000,
Nr. 304613/1997 und Nr. 320480/1996); (2) ein Verfahren, bei dem
Flüssigkristalle
von rot, grün
und blau in Furchen eingebettet werden, die in einem vorbestimmten
Muster auf einem Substrat bereitgestellt worden sind (siehe japanische,
offengelegte Patentveröffentlichungen
Nr. 337716/1999 und Nr. 282324/1998); und (3) ein Verfahren, bei
dem cholesterische Flüssigkristallfilme
mit unterschiedlichen Farben, wie gewünscht bemustert, nacheinander
auf ein Substrat übertragen
werden (siehe japanische, offengelegte Patentveröffentlichungen Nr. 4824/2001 und
Nr. 4822/2001).
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Das
oben beschriebene Verfahren (1) nutzt Temperaturveränderungen,
um Farben zu kontrollieren, so daß dieses Verfahren derartige
Probleme aufweist, daß die
Bemusterungsgenauigkeit gering ist, und daß die bemusterten cholesterischen
Flüssigkristallfilme
mit unterschiedlichen Farben extrem schlechte optische Eigenschaften
an den Grenzen zwischen ihnen zeigen. Obwohl es außerdem durch dieses
Verfahren möglich
ist, rot-, grün-
und blaugefärbte
Muster auf einem cholesterischen Flüssigkristallfilm zu bilden,
ist es unmöglich,
das gefärbte
Muster durch Entfernen eines Teils eines cholesterischen Flüssigkristallfilms
zu bilden. Das Verfahren (1) ist daher dahingehend unvorteilhaft,
daß ein
cholesterischer Flüssigkristallfilm
nicht zu einer Form bemustert werden kann, dessen Umrißlinie mit
der äußeren Form
eines optischen Elements übereinstimmt.
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In
dem oben beschriebenen Verfahren (2) werden Flüssigkristalle in Furchen eingebettet,
die in einem vorbestimmten Muster auf einem Substrat bereitgestellt
worden sind. Probleme mit diesem Verfahren sind daher so, daß keine
gefärbten
Muster mit hoher Lagegenauigkeit und Dickengenauigkeit erhalten
werden, und daß viele
Stunden zur Herstellung benötigt
werden.
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Das
oben beschriebene Verfahren (3) erfordert komplizierte Herstellungsverfahren.
Außerdem sind
die durch dieses Verfahren erhaltenen bemusterten, cholesterischen
Flüssigkristallfilme
hinsichtlich der optischen Eigenschaften, Wärmebeständigkeit, chemische Beständigkeit
usw. schlecht.
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Zusätzlich zu
den zuvor genannten Verfahren (1), (2) und (3) ist ein Verfahren
vorgeschlagen worden, bei dem UV-Licht durch eine Maske auf cholesterischen
Flüssigkristallfilmen
von rot, grün
und blau gestrahlt wird, um rot-, grün- und blaugefärbte Muster
zu bilden (siehe japanische, offengelegte Patentveröffentlichung
Nr. 153789/1999). In diesem Verfahren ist es notwendig, den ungehärteten Bereich
der cholesterischen Flüssigkristallfilme
zu entfernen. Normalerweise wird für diesen Zweck eine Technik
der physikalischen Trennung des ungehärteten Bereiches von einem
cholesterischen Flüssigkristallfilm
verwendet. Ein Problem mit dieser Technik ist, daß keine
hohe Dickengenauigkeit an den Grenzen zwischen den Mustern von unterschiedlichen
Farben erreicht werden kann. Außerdem
wird die Oberfläche des
Substrats mit der Funktion der Ausrichtung von flüssigkristallinen
Molekülen
gewöhnlich
beeinträchtigt,
so daß,
wenn ein Flüssigkristall
erneut auf diese Oberfläche
aufgetragen wird, sich die flüssigkristallinen
Moleküle
in diesem Flüssigkristall
nicht so leicht ausrichten.
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Im
Zusammenhang mit diesem Verfahren ist ein Verfahren zur Entfernung
des ungehärteten
Bereiches des cholesterischen Flüssigkristallfilms
durch die Verwendung eines organischen Lösungsmittels bekannt (siehe
japanische, offengelegte Patentveröffentlichung Nr. 74924/1990).
Jedoch ist dieses Verfahren lediglich zur Bildung eines einzelnen
Flüssigkristallfilms
auf einem Substrat gedacht; und es wurde überhaupt nicht berücksichtigt,
wie sich das organische Lösungsmittel
auf die Ausrichtungsfunktion des Substrats oder des Flüssigkristallfilms
auswirkt.
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Die
vorliegende Erfindung wurde im Lichte der zuvor genannten Nachteile
des verwandten Standes der Technik erreicht. Ein Gegenstand der
vorliegenden Erfindung ist daher, ein Verfahren zur Herstellung
eines optischen Elements mit ausgezeichneten optischen Eigenschaften
durch Bemustern von Flüssigkristallfilmen
in denselben oder unterschiedlichen Mustern auf einem Substrat mit
hoher Genauigkeit und Effizienz bereitzustellen.
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Ein
erster Aspekt der vorliegenden Erfindung ist ein Verfahren zur Herstellung
eines optischen Elements durch Bemustern einer Vielzahl von Flüssigkristallfilmen,
umfassend:
einen ersten Schritt des Aufbringens eines ersten, durch
Strahlung härtenden
Flüssigkristalls
auf eine Oberfläche
eines Substrats mit einer Ausrichtungsfunktion, um auf dem Substrat
einen ersten Flüssigkristallfilm
in einem ungehärteten
Zustand zu bilden;
einen zweiten Schritt des selektiven Anwendens
von Strahlung auf einen vorbestimmten Bereich des ersten Flüssigkristallfilms,
um den ersten Flüssigkristallfilm
teilweise zu härten;
einen
dritten Schritt des Inkontaktbringens des teilweise gehärteten ersten
Flüssigkristallfilms
mit einem organischen Lösungsmittel,
um einen ungehärteten
Bereich des ersten Flüssigkristallfilms
zu entfernen, wodurch der erste Flüssigkristallfilm in einem vorbestimmten
Muster gebildet wird; und
einen vierten Schritt des Aufbringens
eines zweiten, durch Strahlung härtenden
Flüssigkristalls
auf eine Oberfläche
des ersten Flüssigkristallfilms,
der auf dem Substrat nach Entfernen des ungehärteten Bereichs des ersten
Flüssigkristallfilms
zurückbleibt, wodurch
ein zweiter Ffüssigkristallfilm
in einem vorbestimmten Muster gebildet wird;
wobei in dem zweiten
Schritt der Bereich des ersten Flüssigkristallfilms, auf den
Strahlung angewendet worden ist, zu einem derartigen Ausmaß gehärtet wird,
daß 90%
oder mehr des ersten, durch Strahlung härtenden Flüssigkristalls gehärtet werden,
um die Ausrichtungsfunktion der Oberfläche des ersten Flüssigkristallfilms
beizubehalten, auf die der zweite, durch Strahlung härtende Flüssigkristall
in dem vierten Schritt aufgebracht wird.
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In
dem oben beschriebenen ersten Aspekt der vorliegenden Erfindung
ist es bevorzugt, daß die ersten
und zweiten Flüssigkristallfilme
eine cholesterische Regelmäßigkeit
aufweisen.
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Es
ist ebenso bevorzugt, daß der
vierte Schritt die Schritte einschließt: Aufbringen eines zweiten,
durch Strahlung härtenden
Flüssigkristalls auf
die Oberfläche
des ersten Flüssigkristallfilms,
um auf dem ersten Flüssigkristallfilm
einen zweiten Flüssigkristallfilm
in einem ungehärteten
Zustand zu bilden; selektives Anwenden von Strahlung auf einen vorbestimmten
Bereich des zweiten Flüssigkristallfilms,
um den zweiten Flüssigkristallfilm
teilweise zu härten;
und Inkontaktbringen des teilweise gehärteten zweiten Flüssigkristallfilms
mit einem organischen Lösungsmittel,
um einen ungehärteten
Bereich des zweiten Flüssigkristallfilms
zu entfernen, wodurch der zweite Flüssigkristallfilm in einem vorbestimmten
Muster gebildet wird.
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Außerdem ist
es bevorzugt, daß die
ersten und zweiten Flüssigkristallfilme
eine cholesterische Regelmäßigkeit
aufweisen und Flüssigkristalle
mit unterschiedlichen selektiven Reflexionswellenlängen umfassen;
und die ersten und zweiten Flüssigkristallfilme
auf dem Substrat in derartigen Mustern gebildet werden, daß sie einander überlappen,
wodurch auf dem Substrat eine Reflexionsschicht gebildet wird, die
zum selektiven Reflektieren von Licht in einem weiten Bereich befähigt ist.
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Ein
zweiter Aspekt der vorliegenden Erfindung ist ein Verfahren zur
Herstellung eines optischen Elements durch Bemustern einer Vielzahl
von Flüssigkristallfilmen,
umfassend:
einen ersten Schritt des Aufbringens eines ersten, durch
Strahlung härtenden
Flüssigkristalls
auf eine Oberfläche
eines Substrats mit einer Ausrichtungsfunktion, um auf dem Substrat
einen ersten Flüssigkristallfilm
in einem ungehärteten
Zustand zu bilden;
einen zweiten Schritt des selektiven Anwendens
von Strahlung auf einen vorbestimmten Bereich des ersten Flüssigkristallfilms,
um den ersten Flüssigkristallfilm
teilweise zu härten;
einen
dritten Schritt des Inkontaktbringens des teilweise gehärteten ersten
Flüssigkristallfilms
mit einem organischen Lösungsmittel,
um einen ungehärteten
Bereich des ersten Flüssigkristallfilms
zu entfernen, wodurch der erste Flüssigkristallfilm in einem vorbestimmten
Muster gebildet wird; und
einen vierten Schritt des Aufbringens
eines zweiten, durch Strahlung härtenden
Flüssigkristalls
auf eine exponierte Oberfläche
des Substrats, die durch Entfernen des ungehärteten Bereiches des ersten
Flüssigkristallfilms
exponiert wird, wodurch ein zweiter Flüssigkristallfilm in einem vorbestimmten
Muster gebildet wird;
wobei das organische Lösungsmittel,
das in dem dritten Schritt verwendet wird, eines ist, das nicht
die Oberfläche
des Substrats löst,
um die Ausrichtungsfunktion der exponierten Oberfläche des
Substrats beizubehalten, auf die der zweite, durch Strahlung härtende Flüssigkristall
in dem vierten Schritt aufgebracht wird.
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In
dem oben beschriebenen zweiten Aspekt der vorliegenden Erfindung
ist es bevorzugt, daß in dem
vierten Schritt der zweite, durch Strahlung härtende Flüssigkristall auf eine Oberfläche des
ersten Flüssigkristallfilms
aufgebracht wird, der auf dem Substrat nach Entfernen des ungehärteten Bereichs des
ersten Flüssigkristallfilms
genauso wie die exponierte Oberfläche des Substrats verbleibt;
und in dem zweiten Schritt der Bereich des ersten Flüssigkristallfilms,
auf den Strahlung angewendet worden ist, zu einem derartigen Ausmaß gehärtet wird,
daß 90% oder
mehr des ersten, durch Strahlung härtenden Flüssigkristalls gehärtet werden,
um die Ausrichtungsfunktion der Oberfläche des ersten Flüssigkristallfilms
beizubehalten, auf die der zweite, durch Strahlung härtende Flüssigkristall
in dem vierten Schritt aufgetragen wird.
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Es
ist ebenso bevorzugt, daß die
ersten und zweiten Flüssigkristallfilme
eine cholesterische Regelmäßigkeit
aufweisen.
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Außerdem ist
es bevorzugt, daß der
vierte Schritt die Schritte einschließt: Aufbringen eines zweiten,
durch Strahlung härtenden
Flüssigkristalls auf
die exponierte Oberfläche
des Substrats, um auf dem Substrat einen zweiten Flüssigkristallfilm
in einem ungehärteten
Zustand zu bilden; selektives Anwenden von Strahlung auf einen vorbestimmten
Bereich des zweiten Flüssigkristallfilms,
um den zweiten Flüssigkristallfilm
teilweise zu härten;
und Inkontaktbringen des teilweise gehärteten zweiten Flüssigkristallfilms
mit einem organischen Lösungsmittel,
um einen ungehärteten
Bereich des zweiten Flüssigkristallfilms
zu entfernen, wodurch der zweite Flüssigkristallfilm in einem vorbestimmten
Muster gebildet wird.
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Ein
dritter Aspekt der vorliegenden Erfindung ist ein Verfahren zur
Herstellung eines optischen Elements durch Bemustern einer Vielzahl
von Flüssigkristallfilmen,
umfassend:
den ersten Schritt des Aufbringens eines durch Strahlung
härtenden
Flüssigkristalls
mit einer cholesterischen Regelmäßigkeit
auf eine Oberfläche
eines Substrats mit einer Ausrichtungsfunktion, um auf dem Substrat
einen Flüssigkristallfilm
in einem ungehärteten
Zustand zu bilden;
den zweiten Schritt des selektiven Anwendens
von Strahlung auf einen vorbestimmten Bereich des ersten Flüssigkristallfilms,
um den ersten Flüssigkristallfilm
teilweise zu härten;
und
den dritten Schritt des Inkontaktbringens des teilweise
gehärteten
Flüssigkristallfilms
mit einem organischen Lösungsmittel,
um einen ungehärteten
Bereich des Flüssigkristallfilms
zu entfernen, wodurch der Flüssigkristallfilm
in einem vorbestimmten Muster gebildet wird;
wobei das organische
Lösungsmittel,
das in dem dritten Schritt verwendet wird, eines ist, das nicht
die Oberfläche
des Substrats löst,
um die Ausrichtungsfunktion der exponierten Oberfläche des
Substrats beizubehalten; und wobei der erste, zweite und dritte Schritt
nacheinander für
jeden von drei Flüssigkristallen
mit selektiven Reflexionswellenlängen
in rot, grün und
blau wiederholt werden, wodurch auf dem Substrat eine Vielzahl von
Flüssigkristallfilmen
in unterschiedlichen Mustern gebildet werden, um auf dem Substrat
rot-, grün-
und blaugefärbte
Schichten zu bilden.
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Die „Strahlung", wie hierin verwendet,
bezieht sich auf eine, die auf durch Strahlung härtende Flüssigkristalle, wie photopolymerisierbare
Flüssigkristalle,
einwirkt, um die Photopolymerisationsreaktion oder dergleichen herbeizuführen, und
normalerweise wird als die Strahlung UV-Licht oder ein Elektronenstrahl
verwendet.
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Gemäß der vorliegenden
Erfindung wird ein Flüssigkristallfilm
in dem gewünschten
Muster durch selektives Anwenden von Strahlung auf dem gewünschten
Bereich eines Flüssigkristallfilms,
der auf einem Substrat mit Ausrichtungsfunktion gebildet wird, um
den Flüssigkristallfilm
teilweise zu härten, und
dann Inkontaktbringen des teilweise gehärteten Flüssigkristallfilms mit einem
organischen Lösungsmittel,
um den ungehärteten
Bereich des Flüssigkristallfilms
zu entfernen, erhalten. Es ist daher möglich, den Flüssigkristallfilm,
wenn gewünscht,
mit hoher Genauigkeit und Effizienz, während die Filmdickengenauigkeit
hoch gehalten wird, zu bemustern.
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Insbesondere
kann gemäß der vorliegenden Erfindung
in dem zuvor genannten Schritt des selektiven Anwendens von Strahlung
auf den gewünschten
Bereich des Flüssigkristallfilms,
um ihn teilweise zu härten,
der Bereich des Flüssigkristallfilms,
auf den Strahlung angewendet worden ist, zu einem derartigen Ausmaß gehärtet werden,
daß 90%
oder mehr des ersten, durch Strahlung härtenden Flüssigkristalls gehärtet werden.
In diesem Fall werden, selbst wenn ein Flüssigkristall erneut auf die
Oberfläche
des Flüssigkristallfilms
aufgebracht wird, flüssigkristallinen
Moleküle
in diesem Flüssigkristall
richtig ausgerichtet. Es ist daher möglich, auf einem Substrat eine
Vielzahl an Flüssigkristallfilmen
in derartigen Mustern, daß sie
einander überlappen,
mit hoher Genauigkeit und Effizienz zu bilden.
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Ebenso
kann gemäß der vorliegenden
Erfindung in dem zuvor genannten Schritt des Inkontaktbringens des
teilweise gehärteten
Flüssigkristallfilms mit
einem organischen Lösungsmittel,
um den ungehärteten
Bereich davon zu entfernen, als das organische Lösungsmittel ein organisches
Lösungsmittel, das
die Oberfläche
eines Substrats mit Ausrichtungsfunktion nicht löst, verwendet werden. In diesem
Fall werden, selbst wenn ein Flüssigkristall
erneut auf die Oberfläche
des Substrats aufgebracht wird, flüssigkristalline Moleküle in diesem
Flüssigkristall
richtig ausgerichtet. Es ist daher möglich, auf einem Substrat eine
Vielzahl an Flüssigkristallfilmen
in unterschiedlichen Mustern mit hoher Genauigkeit und Effizienz
zu bilden.
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In
den Zeichnungen
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ist 1 eine
Ansicht zur Darstellung eines Verfahrens zum Bemustern von Flüssigkristallfilmen, das
in der vorliegenden Erfindung verwendet wird;
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ist 2 eine
Ansicht zur Darstellung eines Verfahrens gemäß einer Ausführungsform
der vorliegenden Erfindung, in dem ein optisches Element durch Bemustern
von Flüssigkristallfilmen
hergestellt wird; und
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ist 3 eine
Ansicht zur Darstellung eines Verfahrens gemäß einer weiteren Ausführungsform der
vorliegenden Erfindung, in dem ein optisches Element durch Bemustern
von Flüssigkristallfilmen
hergestellt wird.
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In
bezug auf die beiliegenden Zeichnungen werden die Ausführungsformen
der vorliegenden Erfindung hierin nachstehend beschrieben.
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Ein
Verfahren zum Bemustern von Flüssigkristallfilmen,
das in der vorliegenden Erfindung verwendet wird, wird zunächst durch
den Bezug auf 1 beschrieben.
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Ein
Glassubstrat 11, auf das eine Ausrichtungsschicht 12 aus
einem Polyimidfilm oder dergleichen geklebt wird, wird als das Substrat
mit der Funktion der Ausrichtung von flüssigkristallinen Molekülen (Ausrichtungsfunktion)
hergestellt. Auf die Oberfläche
dieser Ausrichtungsschicht 12 wird ein durch Strahlung
härtender
Flüssigkristall,
wie ein photopolymerisierbarer Flüssigkristall, mit cholesterischer Regelmäßigkeit
aufgetragen, um einen ersten cholesterischen Flüssigkristallfilm 13 in
dem ungehärteten
Zustand zu bilden (1(a)). Flüssigkristalline Moleküle in dem
ersten cholesterischen Flüssigkristallfilm 13 werden
durch die Ausrichtungs-Regulierungs-Wirkung der Oberfläche der
Ausrichtungsschicht 12 ausgerichtet. Neben dem Glassubstrat 11, das
mit der Ausrichtungsschicht 12 ausgestattet ist, kann ein
orientierter PET-(Polyethylenterephthalat-)-Film oder dergleichen
als das Substrat mit der Funktion der Ausrichtung von flüssigkristallinen
Molekülen
verwendet werden. Irgendeines von polymerisierbaren Monomeren, polymerisierbaren
Oligomeren, flüssigkristallinen
Polymeren und dergleichen kann als das flüssigkristalline Material (durch
Strahlung härtender
Flüssigkristall)
verwendet werden, um den ersten cholesterischen Flüssigkristallfilm 13 zu bilden.
In dem Fall, wo UV-Licht verwendet wird, um den ersten cholesterischen
Flüssigkristallfilm 13 zu härten, wird
vorher ein Photopolymerisationsinitiator zu dem flüssigkristallinen
Material zugegeben. Im allgemeinen kann ein solcher Photopolymerisationsinitiator,
wie „Irg
369", „Irg 907" oder „Irg 184", erhältlich von
Ciba Specialty Chemicals K. K., Japan, verwendet werden. In dem
Fall, wo ein Elektronenstrahl verwendet wird, um den ersten cholesterischen
Flüssigkristallfilm 13 zu
härten,
ist es nicht notwendig, einen solchen Photopolymerisationsinitiator
zu dem flüssigkristallinen
Material zuzugeben. Das flüssigkristalline Material,
das verwendet wird, um den ersten cholesterischen Flüssigkristallfilm 13 zu
bilden, kann zu einer Beschichtungsflüssigkeit durch deren Lösen in einem
Lösungsmittel
gemacht werden. In diesem Fall ist es notwendig, vor dem nächsten Schritt
(1(b)) den Trocknungsschritt zum Verdampfen
des Lösungsmittels
hinzuzufügen.
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Als
nächstes
wird die Strahlung 20 durch eine Photomaske 14 auf
die gewünschten
Bereiche des ersten cholesterischen Flüssigkristallfilms 13 selektiv
angewendet, um den ersten cholesterischen Flüssigkristallfilm 13 teilweise
zu härten
(1(b)). Dadurch werden die Bereiche
des ersten cholesterischen Flüssigkristallfilms 13,
die den Öffnungen 14a der
Photomaske 14 entsprechen, gehärtet (gehärtete Bereiche 13a),
und die anderen Bereiche des ersten cholesterischen Flüssigkristallfilms 13 bleiben
ungehärtet
(ungehärtete
Bereiche 13b). In diesem Schritt ist es bevorzugt, die
Bereiche des ersten cholesterischen Flüssigkristallfilms 13 (gehärteten Bereiche 13a),
auf die Strahlung angewendet worden ist, zu einem derartigen Ausmaß zu härten, daß 90% oder mehr
des durch Strahlung härtenden
Flüssigkristalls gehärtet werden.
Dadurch, selbst wenn der erste cholesterische Flüssigkristallfilm 13 mit
einem Lösungsmittel 22 in
dem nächsten
Schritt (1(c)) in Kontakt gebracht
wird, unterliegen die gehärteten Bereiche 13a des
ersten cholesterischen Flüssigkristallfilms 13 nicht
der Verschlechterung der optischen Eigenschaften und Quellung. Es
ist ebenso möglich, zu
verhindern, daß sich
die Oberfläche
der gehärteten
Bereiche 13a des ersten cholesterischen Flüssigkristallfilms 13 durch
das organische Lösungsmittel 22 auflöst und sich
die Ausrichtungsfunktion verschlechtert.
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Danach
wird das Glassubstrat 11, das mit der Ausrichtungsschicht 12 ausgestattet
ist, auf der der erste cholesterische Flüssigkristallfilm 13 gebildet
worden ist, in ein organisches Lösungsmittel 22, das
in ein Faß 21 eingebracht
ist, eingetaucht, wodurch der teilweise gehärtete, erste cholesterische Flüssigkristallfilm 13 mit
dem organischen Lösungsmittel 22 in
Kontakt gebracht wird. Durch Schaukeln des Fasses 21 mit
dem Glassubstrat 11, das in dem Faß 21 befestigt ist,
werden die ungehärteten
Bereiche 13b des ersten cholesterischen Flüssigkristallfilms 13 entfernt
(1(c)). Um die ungehärteten Bereiche
mit dem organischen Lösungsmittel 22 zu
entfernen, kann ein Schleuderreinigungsverfahren anstelle des oben
beschriebenen Schaukelreinigungsverfahrens übernommen werden. Außerdem ist
das organische Lösungsmittel 22 vorzugsweise
eines, das den cholesterischen Flüssigkristallfilm in dem ungehärteten Zustand
lösen kann,
und das die Oberfläche
des Substrats mit der Ausrichtungsfunktion nicht löst (ein
Glassubstrat, ausgestattet mit einer Ausrichtungsschicht, oder ein
orientierter PET-Film). So lange ein solches organisches Lösungsmittel
verwendet wird, wird die Ausrichtungs-Regulierungs-Wirkung der Ober fläche des
Substrats nicht beeinträchtigt, und
selbst wenn der durch Strahlung härtende Flüssigkristall erneut auf die
Oberfläche
des Substrats aufgetragen wird, werden die flüssigkristallinen Moleküle in diesem
Flüssigkristall
richtig ausgerichtet. Speziell können
beispielsweise Aceton, 3-Methoxybutylacetat, Diethylenglykoldimethylether,
Cyclohexanon, THF (Tetrahydrofuran), Toluol, Methylenchlorid oder
MEK (Methylethylketon) als das organische Lösungsmittel verwendet werden,
das die Oberfläche einer
Ausrichtungsschicht (Polyimidfilm) oder eines orientierten PET-Films nicht löst. Andererseits
sind γ-Butyrolakton,
NMP (N-Methyl-2-pyrrolidon), 1,3-Dioxolan usw. organische Lösungsmittel,
die die Oberfläche
einer Ausrichtungsschicht (Polyimidfilm) oder eines orientierten
PET-Films lösen.
Die letzteren organischen Lösungsmittel
sind nicht geeignet, in der vorliegenden Erfindung verwendet zu
werden, so lange die organischen Lösungsmittel in den üblichen Weisen
verwendet werden. Jedoch können
diese organischen Lösungsmittel
vorzugsweise in dem Fall verwendet werden, wo sie mit dem organischen
Lösungsmittel,
das die Oberfläche
einer Ausrichtungsschicht (Polyimidfilm) oder eines orientierten PET-Films
nicht löst,
gemischt werden, oder in dem Fall, wo ihre Konzentrationen sehr
dünn sind.
Beispielsweise können
diese organischen Lösungsmittel vorzugsweise
zur Einstellung der Entwicklungsgeschwindigkeit verwendet werden
(Entfernung der Flüssigkristallfilme).
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Daher
wird ein optisches Element 10 mit dem ersten cholesterischen
Flüssigkristallfilm 13,
wie gewünscht
bemustert (gehärtete
Bereiche 13a), der auf dem Glassubstrat 11, das
mit der Ausrichtungsschicht 12 ausgestattet ist, gebildet
wird, erhalten (1(d)).
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Nach
diesem Bemustern des ersten cholesterischen Flüssigkristallfilms 13 wird
ein zusätzlicher oder
zweiter cholesterischer Flüssigkristallfilm
in derselben Weise, wie bezüglich 1 beschrieben,
gebildet und bemustert.
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Speziell
wird, wie in 2 gezeigt, nach der Bildung
eines ersten cholesterischen Flüssigkristallfilms 13 in
dem gewünschten
Muster (2(a), (b), (c) und (d))
ein durch Strahlung härtender
Flüssigkristall
auf die Oberfläche
der gehärteten
Bereiche 13a (Flüssigkristallfilm 13),
die auf dem Substrat nach Entfernen der ungehärte ten Bereiche 13b verbleiben,
oder auf die Oberfläche
der Ausrichtungsschicht 12, die durch die Entfernung der
ungehärteten
Bereich 13b exponiert wird, aufgetragen, wodurch ein zweiter
Flüssigkristallfilm 13' in dem ungehärteten Zustand
gebildet wird (2(e)).
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Als
nächstes
wird die Strahlung 20 durch eine Photomaske 14 auf
die gewünschten
Bereiche des zweiten cholesterischen Flüssigkristallfilms 13' selektiv angewendet,
um den zweiten cholesterischen Flüssigkristallfilm 13' teilweise zu
härten (2(f)). Dadurch werden diese Bereiche des
zweiten cholesterischen Flüssigkristallfilms 13', die den Öffnungen 14a der
Photomaske 14 entsprechen, gehärtet (gehärtete Bereiche 13a'), und die anderen Bereiche
des zweiten cholesterischen Flüssigkristallfilms 13' bleiben ungehärtet (ungehärtete Bereiche 13b').
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Danach
wird das Glassubstrat 11, das mit der Ausrichtungsschicht 12 ausgestattet
ist, auf der die cholesterischen Flüssigkristallfilme 13 und 13' gebildet worden
sind, in ein organisches Lösungsmittel 22,
das in ein Faß 21 eingebracht
ist, eingetaucht, wodurch der teilweise gehärtete, zweite cholesterische
Flüssigkristallfilm 13' mit dem organischen
Lösungsmittel 22 in
Kontakt gebracht wird. Durch Schaukeln des Fasses 21 mit
dem Glassubstrat 11, das in dem Faß 21 befestigt ist,
werden die ungehärteten
Bereiche 13b' des
zweiten cholesterischen Flüssigkristallfilms 13' entfernt (2(g)).
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Daher
wird ein optisches Element 10 mit den cholesterischen Flüssigkristallfilmen 13 und 13', wie gewünscht bemustert
(gehärtete
Bereiche 13a und 13a'), die auf dem Glassubstrat 11,
das mit der Ausrichtungsschicht 12 ausgestattet ist, gebildet
werden, erhalten (2(h)).
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Wenn
bei dem in 2 gezeigten Verfahren Flüssigkristalle
mit unterschiedlichen selektiven Reflexionswellenlängen verwendet
werden, um die selektiven Reflexionswellenlängenbereiche der cholesterischen
Flüssigkristallfilme 13 und 13' unterschiedlich
zu machen, kann ein zirkular polarisierendes Element mit einem weiten
selektiven Reflexionswellenlängenbereich
als das optische Element 10 erhalten werden.
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Außerdem werden
bei dem in 2 gezeigten Verfahren die zwei
cholesterischen Flüssigkristallfilme 13 und 13', die in demselben
Muster sind, auf das Glassubstrat 11, das mit der Ausrichtungsschicht 12 ausgestattet
ist, laminiert. Jedoch kann der zweite cholesterische Flüssigkristallfilm 13' ebenso in einem Muster,
das sich von dem des ersten cholesterischen Flüssigkristallfilms 13 unterscheidet,
gebildet werden.
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Speziell
wird, wie in 3 gezeigt, nach der Bildung
eines ersten cholesterischen Flüssigkristallfilms 13 in
dem gewünschten
Muster in derselben Weise, wie der bezüglich 1 beschrieben, (3(a), (b), (c) und (d))
ein durch Strahlung härtender
Flüssigkristall
auf die Oberfläche
der Ausrichtungsschicht 12, die durch die Entfernung der
ungehärteten
Bereiche 13b des ersten cholesterischen Flüssigkristallfilms 13 exponiert
wird, aufgetragen, wodurch ein zweiter Flüssigkristallfilm 13' in dem ungehärteten Zustand
gebildet wird (3(e)).
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Dann
wird die Strahlung 20 auf die gewünschten Bereiche des zweiten
cholesterischen Flüssigkristallfilms 13' durch eine
Photomaske 14', deren Öffnungen
in einem unterschiedlichen Muster zu dem der Öffnungen der Photomaske 14 sind,
selektiv angewendet, wodurch der zweite cholesterische Flüssigkristallfilm 13' teilweise gehärtet wird (3(f)). Dadurch werden diese Bereiche des
zweiten cholesterischen Flüssigkristallfilms 13', die den Öffnungen 14a' der Photomaske 14' entsprechen, gehärtet (gehärtete Bereiche 13a'), und die anderen Bereiche
des zweiten cholesterischen Flüssigkristallfilms 13' bleiben ungehärtet (ungehärtete Bereiche 13b').
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Danach
wird das Glassubstrat 11, das mit der Ausrichtungsschicht 12 ausgestattet
ist, auf der die cholesterischen Flüssigkristallfilme 13 und 13' gebildet worden
sind, in ein organisches Lösungsmittel 22,
das in ein Faß 21 eingebracht
ist, eingetaucht, um den teilweise gehärteten, zweiten cholesterischen Flüssigkristallfilm 13' mit dem organischen
Lösungsmittel 22 in
Kontakt zu bringen. Durch Schaukeln des Fasses 21 mit dem
Glassubstrat 11, das in dem Faß 21 befestigt ist,
werden die ungehärteten
Bereiche 13b' des
zweiten cholesterischen Flüssigkristallfilms 13' entfernt (3(g)).
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Der,
wie gewünscht
bemusterte, zweite cholesterische Flüssigkristallfilm 13', der nicht
auf dem ersten cholesterischen Flüssigkristallfilm 13 angeordnet
ist, wird daher auf dem Glassubstrat 11, das mit einer
Ausrichtungsschicht 12 ausgestattet ist, gebildet.
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Ein
zusätzlicher
oder dritter cholesterischer Flüssigkristallfilm 13'' wird dann in derselben Weise, wie
der oben beschriebene, gebildet und bemustert. Dadurch wird der,
wie gewünscht
bemusterte, dritte cholesterische Flüssigkristallfilm 13'', der weder auf dem ersten cholesterischen
Flüssigkristallfilm 13 noch
dem zweiten cholesterischen Flüssigkristallfilm 13' angeordnet
ist, auf dem Glassubstrat 11, das mit der Ausrichtungsschicht 12 ausgestattet
ist, gebildet.
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Daher
wird ein optisches Element 10 mit den, wie gewünscht bemusterten,
cholesterischen Flüssigkristallfilmen 13, 13' und 13'', die auf dem Glassubstrat 11,
das mit der Ausrichtungsschicht 12 ausgestattet ist, gebildet
werden, schließlich
erhalten (3(i)).
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Wenn
bei dem in 3 gezeigten Verfahren der Schritt
des Bildens der cholesterischen Flüssigkristallfilme 13, 13' und 13'' auf dem Glassubstrat 11, das
mit der Ausrichtungsschicht 12 ausgestattet ist, und der
Schritt des Bemusterns dieser Filme nacheinander für jeden
von drei durch Strahlung härtenden Flüssigkristalle
mit unterschiedlichen selektiven Reflexionswellenlängen von
rot, grün
und blau wiederholt werden, kann ein Farbfilter mit rot-, grün- und blaugefärbten Mustern
als das optische Element 10 erfolgreich erhalten werden.
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Gemäß der zuvor
genannten Ausführungsformen
wird der erste cholesterische Flüssigkristallfilm 13 in
dem gewünschten
Muster durch selektives Anwenden von Strahlung 20 auf die
gewünschten Bereiche
des ersten cholesterischen Flüssigkristallfilms 13,
der auf dem Glassubstrat 11, das mit der Ausrichtungsschicht 12 ausgestattet
ist, gebildet wird, um den ersten cholesterischen Flüssigkristallfilm 13 teilweise
zu härten,
und dann Inkontaktbringen des teilweise gehärteten, ersten cholesterischen Flüssigkristallfilms 13 mit
dem organischen Lösungsmittel 22,
um die ungehärteten Bereiche 13b des
ersten cholesterischen Flüssigkristallfilms 13 zu
entfernen, erhalten. Es ist daher möglich, den ersten cholesterischen
Flüssigkristallfilm 13,
wie gewünscht,
mit hoher Genauigkeit und Effizienz, während die Filmdickengenauigkeit
hoch gehalten wird, zu bemustern.
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Insbesondere
werden gemäß der zuvor
genannten Ausführungsformen
in dem zuvor genannten Schritt der selektiven Anwendung von Strahlung 20 auf
die gewünschten
Bereiche der cholesterischen Flüssigkristallfilme 13 und 13', um sie teilweise zu
härten,
die Bereiche der cholesterischen Flüssigkristallfilme 13 und 13', auf die Strahlung
angewendet worden ist, zu einem derartigen Ausmaß gehärtet, daß 90% oder mehr des durch Strahlung
härtenden
Flüssigkristalls
gehärtet
werden. Ebenso wird in dem zuvor genannten Schritt des Inkontaktbringens der
teilweise gehärteten
cholesterischen Flüssigkristallfilme 13 und 13' mit dem organischen
Lösungsmittel 22,
um deren ungehärteten
Bereiche zu entfernen, als das organische Lösungsmittel 22 ein
organisches Lösungsmittel,
das die Oberfläche
des Glassubstrats 11, das mit der Ausrichtungsschicht 12 ausgestattet ist,
nicht löst,
verwendet. Deshalb werden, selbst wenn ein durch Strahlung härtender
Flüssigkristall erneut
auf die Oberfläche
der cholesterischen Flüssigkristallfilme 13 und 13' oder auf die
Oberfläche
des Glassubstrats 11, das mit der Ausrichtungsschicht 12 ausgestattet
ist, aufgetragen wird, die flüssigkristallinen
Moleküle
in diesem Flüssigkristall
richtig ausgerichtet. Es ist daher möglich, auf einem Glassubstrat 11 eine
Vielzahl an cholesterischen Flüssigkristallfilmen 13, 13' und 13'' in demselben Muster oder in unterschiedlichen
Mustern mit hoher Genauigkeit und Effizienz zu bilden.
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BEISPIELE
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Die
zuvor genannten Ausführungsformen der
vorliegenden Erfindung werden nun in bezug auf die folgenden Beispiele
ausführlicher
erläutert.
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Beispiel 1
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In
Toluol wurden gelöst:
89 Teile eines Monomers, das in seinen Molekülen polymerisierbare Acrylate
an beiden Enden und Spacer zwischen Mesogen, das in der Mitte existiert,
enthält,
wobei die Acrylate eine flüssigkristalline
Phasenübergangstemperatur
von 100°C
aufweisen; und 11 Teile eines chiralen Mittels, das in seinem Molekül polymerisierbare Acrylate
an beiden Enden aufweist. Zu dieser Toluollösung wurde ein Photopolymerisationsinitiator
(„Irg 184", erhältlich von
Ciba Specialty Chemicals K. K., Japan) in einer Menge von 5 Gew.-%
des oben beschriebenen Monomers zugegeben.
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Separat
wurde Polyimid auf ein Glassubstrat aufgetragen, und der gebildete
Polyimidfilm wurde in einer definierten Richtung gerieben, um ihn
zu einer Ausrichtungsschicht zu machen.
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Das
Glassubstrat, das mit dieser Ausrichtungsschicht ausgestattet war,
wurde in einen Schleuderbeschichter gegeben, und die Ausrichtungsschicht
wurde mit der oben hergestellten Toluollösung schleuderbeschichtet,
so daß die
Dicke der aufgetragenen Toluollösung
ungefähr
10 μm betragen
würde.
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Das
mit der Toluollösung
beschichtete Glassubstrat wurde bei 80°C 1 Minute erwärmt, um
das Toluol, das in der Toluollösung
enthalten ist, zu verdampfen. Es wurde durch selektive Reflexion
von Licht optisch bestätigt,
daß der
im ungehärteten
Zustand so auf der Ausrichtungsschicht gebildete Flüssigkristallfilm
cholesterisch war.
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Zu
diesem cholesterischen Flüssigkristallfilm in
dem ungehärteten
Zustand wurden 100 mJ/cm2 UV-Licht unter
Verwendung eines UV-Licht-Strahlers durch eine Photomaske mit Öffnungen
in einem speziellen Muster angewendet. Die obige Strahlungsdosis
von UV-Licht wurde so eingestellt, daß die Bereiche des cholesterischen
Flüssigkristallfilms,
auf die UV-Licht gestrahlt worden ist, einen Polymerisationsgrad
(Härtung)
von 90% oder mehr aufweisen würden.
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Danach
wurde das Glassubstrat, das mit der Ausrichtungsschicht ausgestattet
war, auf der der cholesterische Flüssigkristallfilm gebildet worden
ist, in Aceton, das in ein Faß eingebracht
wurde, eingetaucht; und das Faß wurde
1 Minute geschaukelt, um die ungehärteten Bereiche des cholesterischen
Flüssigkristallfilms
zu entfernen.
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Das
Glassubstrat wurde dann aus dem Aceton genommen und getrocknet.
Es wurde daher schließlich
ein optisches Element mit dem, wie gewünscht bemusterten, cholesterischen
Flüssigkristallfilm
erhalten, wo nur die Bereiche des cholesterischen Flüssigkristallfilms,
auf die UV-Licht gestrahlt worden ist, auf dem Substrat in dem gewünschten Muster
gelassen wurden, und die anderen Bereiche des cholesterischen Flüssigkristallfilms
wurden entfernt, um die Ausrichtungsschicht zu exponieren.
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Es
wurde bestätigt,
daß der
cholesterische Flüssigkristallfilm,
der in diesem Beispiel gebildet wurde, hinsichtlich der Dicke (3 μm) nahezu
einheitlich war, und daß das
gebildete Muster sehr genau war.
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Beispiel 2
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Auf
dem Glassubstrat, das mit der Ausrichtungsschicht ausgestattet ist,
mit dem darauf in Beispiel 1 hergestellten, wie gewünscht bemusterten, cholesterischen
Flüssigkeitsfilm
wurde ein zusätzlicher
cholesterischer Flüssigkristallfilm
in derselben Weise wie in Beispiel 1 gebildet und bemustert.
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Das
Muster dieses neu gebildeten, zusätzlichen cholesterischen Flüssigkristallfilms
war unterschiedlich zu dem des in Beispiel 1 gebildeten cholesterischen
Flüssigkristallfilms.
Ein Teil des bemusterten, zusätzlichen
cholesterischen Flüssigkristallfilms
war auf der Oberfläche
des in Beispiel 1 gebildeten, bemusterten cholesterischen Flüssigkristallfilms
vorhanden, und der Rest des bemusterten, zusätzlichen cholesterischen Flüssigkristallfilms
war auf der exponierten Oberfläche
der Ausrichtungsschicht vorhanden.
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Es
wurde bestätigt,
daß der
zusätzliche
cholesterische Flüssigkristallfilm,
der in diesem Beispiel gebildet wurde, hinsichtlich der Dicke (3 μm) nahezu einheitlich
war, und daß das
gebildete Muster sehr genau war. Außerdem wurde festgestellt,
daß, obwohl
der bemusterte, zusätzliche
cholesterische Flüssigkristallfilm,
der in diesem Beispiel gebildet wurde, sich sowohl auf dem in Beispiel
1 gebildeten, bemusterten, cholesterischen Flüssigkristallfilm als auch auf
dem Glassubstrat befand, der gesamte zusätzliche cholesterische Flüssigkristallfilm
hinsichtlich des Zustandes der Ausrichtung der flüssigkristallinen
Moleküle
ausgezeichnet war.
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Beispiel 3
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In
der Zusammensetzung der Toluollösung, die
in Beispiel 1 verwendet wurde, wurde die Menge des chiralen Mittels
verändert,
um drei Flüssigkristalle
mit selektiven Reflexionswellenlängen
von rot, grün
und blau herzustellen.
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Dieselben
Schritte zum Bilden und Bemustern eines cholesterischen Flüssigkristallfilms
wie die in Beispiel 2 wurden für
jeden von diesen drei cholesterischen Flüssigkristallen wiederholt,
vorausgesetzt, daß das
Bemustern so durchgeführt
wurde, daß die resultierenden
drei cholesterischen Flüssigkristallfilme
nicht übereinander
gelagert werden. Daher wurde ein Farbfilter mit rot-, grün- und blaugefärbten Mustern
erhalten.
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Es
wurde bestätigt,
daß die
in diesem Beispiel gebildeten bemusterten cholesterischen Flüssigkristallfilme
von rot, grün
und blau, die den Farbfilter bilden, hinsichtlich der Dicke (3 μm) nahezu
einheitlich waren, und daß die
gebildeten Muster sehr genau waren. Außerdem wurde festgestellt,
daß alle diese
zusätzlichen
cholesterischen Flüssigkristallfilme
von rot, grün
und blau in dem Zustand der Ausrichtung von flüssigkristallinen Molekülen ausgezeichnet
waren.
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Beispiel 4
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In
der Zusammensetzung der Toluollösung, die
in dem Beispiel 1 verwendet wird, wurde die Menge des chiralen Mittels
verändert,
um sieben Flüssigkristalle
mit unterschiedlichen selektiven Reflexionswellenlängen herzustellen.
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Dieselben
Schritte zum Bilden und Bemustern eines cholesterischen Flüssigkristallfilms
wie die in Beispiel 2 wurden für
jeden von diesen sieben cholesterischen Flüssigkristallen wiederholt,
vorausgesetzt, daß das
Bemustern so durchgeführt
wurde, daß die
resultierenden sieben cholesterischen Flüssigkristallfilme übereinander
lagern werden, wodurch ein Laminat der sieben bemusterten cholesterischen Flüssigkristallfilme
mit unterschiedlichen selektiven Reflexionswellenlängen erhalten
wurde. Es wurde daher ein zirkular polarisierendes Element, das
das Laminat der cholesterischen Flüssigkristallfilme enthält, als
eine Reflexionsschicht (Silber in der Farbe), die zum selektiven
Reflektieren von Licht in dem gesamten sichtbaren Bereich (400 bis
750 nm) fähig
ist, erhalten.
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Es
wurde bestätigt,
daß das
Laminat der in diesem Beispiel gebildeten cholesterischen Flüssigkristallfilme,
die das zirkular polarisierende Element bilden, hinsichtlich der
Dicke (20 μm)
nahezu einheitlich war, und daß das
gebildete Muster sehr genau war. Außerdem wurde festgestellt,
daß alle
bemusterten, zusätzlichen,
cholesterischen Flüssigkristallfilme,
die in diesem Beispiel gebildet wurden, in dem Zustand der Ausrichtung
von flüssigkristallinen
Molekülen
ausgezeichnet waren.