DE602004012562T2 - Strahlaufbereitungssystem - Google Patents

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Description

  • VERWANDTE ANMELDUNG
  • Die vorliegende Anmeldung beansprucht den Vorzug der am 13. Juni 2003 eingereichten vorläufigen US-Anmeldung Nr. 60/478,460, deren ganzer Inhalt durch Bezugnahme hier aufgenommen ist.
  • ALLGEMEINER STAND DER TECHNIK
  • Die vorliegende Erfindung betrifft allgemein ein optisches Röntgenstrahlsystem zum Aufbereiten eines Röntgenstrahls. Die vorliegende Erfindung betrifft insbesondere ein optisches System zum Reflektieren eines Röntgenstrahls in zwei Richtungen.
  • Es gibt eine Reihe von Röntgenstrahlanwendungen, die die Verwendung eines zweidimensionalen aufbereiteten Röntgenstrahls erfordern. Beispielsweise verwenden Radiotherapiesysteme in der Medizin Röntgenstrahlen zum Zerstören von Krebsgewebe, Röntgenstrahldiffraktions- oder -mikrodiffraktionsanalysesysteme kanalisieren Röntgenstrahlung auf einen Probekristall, der ein Beugungsgitter erzeugt, das eine Gitterstruktur anzeigt, und Röntgenstrahlfluoreszenz- und -spektroskopiesysteme verwenden gerichtete und aufbereitete Röntgenstrahlen.
  • Eine optische Kirkpatrick-Baez-Konfiguration wurde vorgeschlagen, um einen Röntgenstrahl unabhängig in zwei Richtungen zu reflektieren. Bei der Kirkpatrick-Baez-Konfiguration sind mindestens zwei optische Elemente sequentiell so orientiert, daß ihre Meridianachsen senkrecht stehen. Unter Einsatz von zwei parabolförmigen optischen Elementen kann ein Kirkpatrick-Baez-System Strahlung von einer punktförmigen Quelle einfangen und sie zu einem parallelen Strahl kollimieren. Mit einer ellipsenförmigen Optik ausgestattet, reflektiert ein Kirkpatrick-Baez-System ein perfektes punktförmiges Bild mit einer punktförmigen Quelle in ihrem Brennpunkt.
  • Jüngere Entwicklungen bei der Herstellung von reflektierenden Mehrschichtoptiken haben zu weiteren Entwicklungen bei optischen Systemen vom Kirkpatrick-Baez-Typ geführt (siehe zum Beispiel US-Patent Nr. 5,799,056 oder Ziegler et al., Nuclear Instruments and Methods in Physics Research A 467–468 (2001), Seiten 954–957). Beispielsweise wurde ein modifiziertes Kirkpatrick-Baez-System, das die Verwendung von sequentiell geordneten Mehrschichtoptiken beinhaltet, für eine Trägheitseinschlußfusion vorgeschlagen.
  • Wenngleich die Verwendung von Mehrschichtspiegeln in einer Kirkpatrick-Baez-Konfiguration zu erhöhter Effizienz führt, ist diese Art von System nicht optimal, weil in unterschiedlichen Entfernungen von der Quelle positionierte Spiegel unterschiedliche Einfangwinkel aufweisen (d. h., ein weiter von der Quelle positionierter Spiegel besitzt eine geringere Effizienz) und außerdem die Strahlkonvergenz und Bildgröße in zwei Ebenen unterschiedlich sind, was zu einem als Anamorphotismus bekannten Phänomen führt.
  • Zur Verbesserung der Effizienz und zum Bekämpfen des Anamorphotismus verwendet ein vorgeschlagenes konfokales optisches System ein Paar Mehrschichtspiegel, die in einer Seite-an-Seite-Konfiguration montiert sind. Die Seite an Seite angeordnete Kirkpatrick-Baez-Mehrschichtoptik ist für Anwendungen optimal, die einen Strahl mit geringer Konvergenz verlangen. Es gibt jedoch andere Anwendungen, die eine höhere Strahlkonvergenz tolerieren oder bei denen eine Konvergenz überhaupt nicht beschränkt ist. Zu Beispielen für solche Anwendungen zählen Mikroröntgenfluoreszenzanalyse (MXRF – Micro X-Ray Fluorescence Analysis) und Radiotherapiesysteme in der Medizin, die zum Zerstören von Krebsgewebe einen konvergenten Röntgenstrahl verwenden. Diese Anwendungen erfordern einen hohen Fluß, doch weist eine Mehrschichtoptik wegen ihres relativ großen d-Spacing beschränkte Fähigkeiten zum Bereitstellen eines hohen Einfangwinkels auf.
  • Auch Kristalle sind in der Lage, Röntgenstrahlen zu reflektieren. Ihre natürliche periodische Struktur sowie die von Mehrschichtstrukturen beugen Röntgenstrahlen gemäß der Braggschen Gleichung nλ = 2dsinθ (1)wobei n die ganze Zahl ist, die die Reflexionsordnung beschreibt, λ die Wellenlänge der Röntgenstrahlung ist und d die räumliche Periodizität der Gitterstruktur des diffraktiven Elements ist. Ein sogenannter Johansson-Kristall liefert präzise Fokussierung in der Beugungsebene ähnlich zu einer elliptisch abgestuften d-Spacing-Mehrfachschicht.
  • Es ist wert anzumerken, daß Kristalle ein viel kleineres d-Spacing als Mehrfachschichten aufweisen. Dies gestattet eine Designfreiheit bei ihren grundlegenden optischen Röntgenstrahlenelementen mit einem hohen Einfangwinkel. Beispielsweise kann ein Johansson-Kristall einen theoretischen Einfangwinkel bis zu 40 aufweisen.
  • Kristalle besitzen jedoch mehrere Nachteile, die ihre Anwendung in bestimmten röntgenbezogenen Feldern eingeschränkt haben. Die schmale Rocking-Kurve (das heißt, der Winkelbereich, über den hinweg ein Element einen parallelen Strahl reflektieren kann) eines perfekten Kristalls begrenzt den Fluß, den der Kristall von einem Brennfleck endlicher Größe nutzen kann. Mosaikkristalle besitzen einen bescheidenen Reflexions grad und eine große Eindringtiefe, was bei Anwendungen, die eine scharfe Fokussierung erfordern, ungünstig ist.
  • Beide Arten von Kristallen besitzen eine begrenzte Akzeptanz in der axialen Ebene (Ebene senkrecht zur Beugungsebene), und diese Akzeptanz fällt signifikant ab, wenn ein Röntgenstrahl nicht parallel zur Beugungsebene verläuft. Dieses letzte Merkmal macht optische Systeme mit zwei diffraktiven Elementen mit kleinem d-Spacing und schmaler Rocking-Kurve ineffektiv. Diese begrenzenden Faktoren haben bisher eine Optik mit Kristallkombinationen in bestimmten Röntgenstrahlenanwendungen ineffektiv gemacht.
  • Aus dem Obengesagten ist ersichtlich, daß eine Notwendigkeit für ein verbessertes optisches Röntgenstrahlsystem zum Aufbereiten eines Röntgenstrahls unter Verwendung von Kristallen besteht.
  • KURZE DARSTELLUNG DER ERFINDUNG
  • Die vorliegende Erfindung stellt ein Röntgenstrahlaufbereitungssystem mit einer diffraktiven Kirkpatrick-Baez-Optik (d. h. konfokalen) einschließlich zwei optischen Elementen bereit, wobei mindestens eines der optischen Elemente ein Kristall ist. Die Elemente sind in einer Seite-an-Seite-Konfiguration angeordnet. Der Kristall kann ein perfekter Kristall sein. Ein oder beide diffraktiven Elemente können Mosaikkristalle sein. Ein Element kann eine Mehrschichtoptik sein. Beispielsweise kann die Mehrschichtoptik ein elliptischer Spiegel oder ein Parabolspiegel mit abgestuftem d-Spacing sein. Das abgestufte d-Spacing kann entweder eine seitliche Abstufung oder eine Tiefenabstufung oder beides sein.
  • Unter anderen Vorteilen können bestimmte Implementierungen des optischen Röntgenstrahlsystems eine Mehrschichtröntgenstrahloptik mit einem Kristall in einer für Operationen mit hohem Fluß optimierten orthogonalen konfokalen Anordnung kombinieren.
  • Weitere Merkmale und Vorteile ergeben sich aus der folgenden Beschreibung und den Ansprüchen.
  • KURZE BESCHREIBUNG DER ZEICHNUNGEN
  • 1 ist eine schematische Ansicht der Reflexion von einem fokussierenden diffraktiven Element; und
  • 2 ist eine schematische Ansicht einer Reflexion von zwei fokussierenden diffraktiven Elementen in einer Kirkpatrick-Baez-Seite-an-Seite-Anordnung gemäß der Erfindung.
  • AUSFÜHRLICHE BESCHREIBUNG
  • Eine Analyse der Effizienz verschiedener diffraktiver optischer Röntgenstrahlelemente liefert eine Basis für das Verständnis der vorliegenden Erfindung. Der Einfachheit halber sei ein einzelnes diffraktives Element mit zylindrischer reflektierender Oberfläche und mit einer Fähigkeit zum Fokussieren von Röntgenstrahlen von einer punktförmigen Quelle zu dem punktförmigen Bild in der Beugungsebene betrachtet. Beispiele für solche diffraktiven Elemente sind Johansson-Kristalle und elliptische Mehrfachschichten mit einer entsprechenden Abstufung des d-Spacing. Die Fähigkeit dieser optischen Elemente zum Akzeptieren und Umlenken von Röntgenstrahlen von einer monochromatischen Röntgenstrahlquelle kann beschrieben werden als: ε = ⨍·α·β·R, (2)wobei f ein Faktor ist, der beschreibt, von welchem Abschnitt der Quellengröße ein diffraktives Element Strahlung verwenden kann, α und β die Akzeptanzwinkel in der Beugungs- bzw. axialen Ebene sind und R das Reflexionsvermögen des Elements ist.
  • Die Effizienz des Quellen-Brennfleck-Einsatzes ⨍ kann als eine Faltung einer räumlichen Intensitätsverteilung der Quelle und einer Winkelakzeptanz des diffraktiven Elements berechnet werden. In zwei Extremfällen kann jedoch ⨍ als einfache analytische Ausdrücke dargestellt werden. Wenn die Winkelgröße der Quelle γ bei Betrachtung von dem diffraktiven Element aus viel größer ist als eine Winkelakzeptanz δθ, dann kann ⨍ berechnet werden als: f = δθγ (3)
  • Wenn jedoch die Winkelakzeptanz δθ des diffraktiven Elements viel größer ist als eine Winkelgröße der Quelle γ, dann ist f gleich 1. Eine Winkelakzeptanz eines diffraktiven Elements ist identisch zu ihrer Rocking-Kurve. Die Winkelgröße der Quelle lautet: γ = FL , (4)wobei F die effektive Breite der Quelle in der Beugungsebene und L die Entfernung von der Quelle zu einem diffraktiven Element ist.
  • Die Winkelakzeptanz in der Beugungsebene α wird durch die Länge l des diffraktiven Elements und dem Bragg-Winkel θ definiert, nämlich:
    Figure 00060001
  • Gleichung (5) ist ein geeigneter Ausdruck sowohl für Johansson-Kristalle als auch elliptische Mehrfachschichten. Jedes diffraktive Element besitzt eine begrenzte Akzeptanz auch in der axialen Ebene, die durch die Änderung des Einfallswinkels verursacht wird, wenn sich ein Strahl aus der Beugungsebene heraus ausbreitet.
  • Ein in 1 gezeigtes einelementiges optisches System 10 enthält eine Quelle 12, die Röntgenstrahlen 13 zu einem optischen Element 16 wie etwa beispielsweise einem Johansson-Kristall, einem Johann-Kristall oder einem logarithmischen Spiralkristall aussendet. Das optische Element 16 beugt die Röntgenstrahlen 13 zu einem Brennpunkt 14. Die Quelle 12 und der Brennpunkt 14 liegen auf einem Brennkreis 20.
  • Ein Streifen 18 auf dem optischen Element 16 definiert einen Bereich, innerhalb dessen sich der Einfallswinkel weniger als die Hälfte der Rocking-Kurve des optischen Elements ändert. Die Bereiche unter und über diesem Streifen 18 reflektieren den Strahl nicht effektiv, weil eine Änderung des Einfallswinkels im Vergleich zur Rocking-Kurve zu groß ist. Diese Winkelakzeptanz eines diffraktiven Elements in der axialen Ebene β kann beschrieben werden als
    Figure 00070001
  • Einige andere Bedingungen, als Beispiel, eine Apertur oder eine Winkelquellenverteilung können den Strahlungseinsatz in der axialen Ebene begrenzen. In solchen Fällen ist β die kleinste der Beschränkungen.
  • Die berechneten Effizienzen von verschiedenen optischen Konfigurationen und optischen Elementen sowohl für einen großen als auch kleinen Brennfleck der Quellen (siehe zum Beispiel Ausdrücke 3 und 4) sind unten in Tabelle 1 gezeigt. Die Konfigurationen enthalten ein einzelnes optisches Element, ein Paar ähnliche optische Elemente in einer Seite an Seite angeordneten konfokalen Konfiguration (das heißt einer Kirkpatrick-Baez-Konfiguration) und ein Hybridpaar von optischen Elementen einschließlich einer Mehrfachschicht und einem Kristallelement in einer Seite an Seite angeordneten konfokalen Konfiguration.
  • Die repräsentativen optischen Elemente sind ein Germanium-Gelll-Kristall, eine Mehrfachschicht mit einem d-Spacing in der Mitte von 10 Angstrom, ein Lithiumfluorid-LiF200-Kristall und ein pyrolitischer Graphit-C0002-Kristall als ein einzelnes diffraktives Element. Wie angegeben liefert pyrolytischer Graphit eine hervorragende Effizienz sowohl für große als auch kleine Quellen, und die Mehrschichteffizienz übersteigt die Effizienz der Ge- und LiF-Kristalle, wenn die Quelle groß ist. TABELLE 1: EFFIZIENZ VON OPTISCHEN KONFIGURATIONEN
    Optische Germanium Mehrfach Lithium Pyroly
    Konfiguration schicht fluorid tisches
    Graphit
    Große
    Quelle
    Einzelnes 1,3E-05 1,2E-04 3,5E-05 6,2E-03
    Element
    Konfokale 1,8E-13 8,1E-09 5,4E-12 2,9E-05
    Standardoptik
    Konfokale 2,0E-08 1,1E-07 6,8E-06
    Hybridoptik Kleine
    Quelle
    Einzelnes 4,8E-03 4,2E-03 3,6E-03 2,1E-02
    Element
    Konfokale 1,4E-06 5,3E-04 3,2E-06 1,9E-02
    Standardoptik
    Konfokale 6,9E-04 1,1E-03 2,2E-03
    Hybridoptik
  • Zum Berechnen der Effizienz der konfokalen optischen Konfiguration wird ein Einfangwinkel in der Beugungsebene für ein Element als der Winkel der axialen Akzeptanz für das zweite Element betrachtet. Die Gleichung (6) für den Winkel der axialen Akzeptanz ist jedoch für die konfokale Anordnung nicht korrekt, da sie annimmt, daß Abweichungen nicht in der Beugungsebene symmetrisch in beiden Richtungen auftreten, was bei der konfokalen Anordnung nicht der Fall ist.
  • 2 ist eine schematische Ansicht einer konfokalen (oder Kirkpatrick-Baez) optischen Konfiguration 40 mit einem ersten optischen Element 42 und einem zweiten optischen Element 44, die Seite an Seite auf orthogonale Weise ausgerichtet sind. Das erste optische Element 42 definiert einen Brennkreis 46, und das zweite optische Element 44 definiert eine Brennellipse 48. Das erste und zweite optische Element 42, 44 sind derart ausgerichtet, daß der Brennkreis 46 die Brennpunkte der Brennellipse 48 zweimal schneidet, einmal bei der Quelle 50 und einmal bei der Bildposition 52.
  • Bei einer Ausführungsform ist das erste optische Element 42 ein Kristall und das zweite optische Element 44 eine Mehrschichtoptik. Wieder unter Bezugnahme auf 2 ist die Kristallarbeitsoberfläche 54 vertikal und die Mehrschichtarbeitsoberfläche 56 horizontal und unter dem Brennkreis 46 positioniert. Wie gezeigt definiert der Bragg-Winkel θc des Kristalls die axiale Komponente des Einfallswinkels eines Röntgenstrahls von dem Brennpunkt zu der Spiegeloberfläche und umgekehrt. Die zylindrischen Arbeitsoberflächen von zwei optischen Elementen kreuzen sich, wodurch die Arbeitsecke der Optik konstruiert wird, das heißt die auf der Kristallarbeitsoberfläche 54 beziehungsweise der Mehrschichtarbeitsoberfläche 56 gezeigten zwei Streifen 58 und 60.
  • Man beachte, daß die axialen Komponenten für beide optischen Elemente bezüglich ihrer jeweiligen Beugungsebenen nicht symmetrisch sind. Um die axiale Akzeptanz eines diffraktiven Elements unter diesen Bedingungen zu finden, wird der Ausdruck (6) umgeschrieben zu:
    Figure 00100001
    oder zu:
    Figure 00100002
  • In den Gleichungen (7) und (8) ist β ein Winkel zwischen der Strahl- und Beugungsebene eines Elements und Δθ die entsprechende Abweichung des Einfallswinkels von dem Braggschen Winkel. Zum Bestimmen der Stärke der Einfallswinkeländerung d(Δθ), die durch eine kleine Variation des axialen Winkels dβ hervorgerufen wird, wird Gleichung (8) differenziert, was folgendes ergibt: d(Δθ) = β·tanθ·dβ (9)
  • Wenn d(Δθ) = δθ eine Elementwinkelakzeptanz in seiner Beugungsebene ist, dann ist seine axiale Akzeptanz bei einem mittleren axialen Winkel β:
    Figure 00100003
  • Bei einer konfokalen optischen Anordnung wird der axiale Winkel β des Kristalls durch den Braggschen Winkel θm des Spiegels definiert als: βc = arctan(tanθm·cosθc) (11)und βm = arctan(tanθc·cosθm) (12) wobei θm und θc Bragg-Winkel des Spiegels beziehungsweise Kristalls sind. Da der Akzeptanzwinkel der konfokalen Optik in einer vertikalen Ebene durch den Spiegeleinfangwinkel und den axialen Akzeptanzwinkel des Kristalls definiert ist, wird der kleinere dieser beiden Winkel für die Effizienzberechnungen verwendet. Die Effizienz einer konfokalen Optik auf der Basis von ähnlichen oder verschiedenen Elementen in zwei senkrechten Beugungsebenen kann auf der Basis der obigen Gleichungen berechnet werden.
  • Auch die Ergebnisse solcher Berechnungen sind in Tabelle 1 vorgestellt. Wiederum ist zu sehen, daß Graphit die höchste Effizienz liefert. Ein nichttriviales Ergebnis dieser Berechnungen lautet jedoch, daß die Hybridoptik, die eine Mehrfachschicht und entweder einen perfekten Kristall (Ge) oder einen Mosaikkristall (LiF) enthält, eine höhere Effizienz liefert als eine reine konfokale Optik mit zwei ähnlichen Komponenten in zwei Ebenen.
  • Beispielsweise hat mit einer großen Quelle eine konfokale Ge-Optik eine Effizienz von 1,8E-13, im Verglich von einer Effizienz von 8,1E-9 für eine Mehrschichtoptik. Eine Hybridoptik mit einer Mehrfachschicht in einer Ebene und Ge in einer anderen Ebene liefert jedoch eine Effizienz von 2,0E-8. Diese letztere Konfiguration ist von speziellem Interesse, weil eine Optik auf der Basis einer Mehrfachschicht und eines Ge-Kristalls eine präzise Fokussierung und eine hohe Effizienz liefern kann.
  • Die folgenden sind unter anderem Beispiele für Kombinationen von diffraktiven Elementen, die eine hohe Effizienz in der konfokalen Anordnung liefern: zwei Mosaikkristalle mit einem niedrigen d-Spacing und hoher Mosaizität; einen Mehrschichtspiegel und einen Mosaik- oder einen perfekten Kristall mit einem niedrigen d- Spacing und einen Mosaikkristall mit einem hohen d-Spacing mit einem Mosaik- oder einem perfekten Kristall mit niedrigem d-Spacing.
  • Die Definition für niedriges/hohes d-Spacing und niedrige/hohe Mosaizität hängen von den jeweiligen Anforderungen des kollimierten Strahls ab. Beispielsweise kann ein d-Spacing über etwa 10 Angstrom und eine Mosaizität von über etwa 5 bis 10 Bogenminuten als hohes d-Spacing beziehungsweise hohe Mosaizität angesehen werden.
  • Eine konfokale Optik, die einen Johansson-Kristall und einen elliptischen Mehrschichtspiegel mit seitlich abgestuftem d-Spacing und Tiefenabstufung enthält, ist eine bevorzugte Konfiguration. Diese Art von Optik ist eine effektive diffraktive Komponente zum Bilden eines konvergierenden fokussierenden Strahls. Eine besonders effektive Implementierung einer konfokalen Hybrid-Mehrfachschicht-/Kristalloptik ist, wenn ein hochkonvergenter Strahl in einer Ebene beispielsweise für Reflektometrie mit hochkonvergentem Strahl gewünscht wird.
  • Ein Mehrschichtparabolspiegel mit seitlich abgestuftem d-Spacing und Tiefenabstufung ist ein optimales diffraktives Element zum Bilden eines parallelen Strahls. Ein hochasymmetrischer Johansson-Kristall kann verwendet werden, um einen quasi-parallelen Strahl zu bilden, wenn die Anforderungen der Strahldivergenz in einer Ebene strenger sind als in der anderen Ebene. Wiederum können verschiedene Ausführungsform der vorliegenden Erfindung viele andere diffraktive optische Komponenten nutzen, um einen quasi-parallelen Strahl zu bilden.
  • Die Längen- und Mittenpositionen von zwei diffraktiven Elementen können übereinstimmen, oder sie können verschieden sein. Somit sind einige Bereiche von zwei diffraktiven Elementen überlappt, wodurch eine konfokale Seite-an-Seite-Optik gemäß einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung erzeugt wird.
  • Die konfokale Hybridoptik der vorliegenden Erfindung kann zwei, vier oder mehrere Arbeitsecken enthalten, wie in dem US-Patent Nr. 6,014,423 beschrieben.
  • Schließlich können gewisse Implementierungen des optischen Röntgenstrahlsystems der vorliegenden Erfindung Eintritts- und Austrittsaperturen enthalten, um den Röntgenstrahl zu reinigen und die Röntgenstrahlabschirmung zu vereinfachen.
  • Für den Fachmann sollte offensichtlich sein, daß die oben beschriebene Ausführungsform nur einige wenige der vielen möglichen spezifischen Ausführungsformen der vorliegenden Erfindung veranschaulicht. Der Fachmann kann sich zahlreiche und verschiedene andere Anordnungen ohne weiteres ausdenken, ohne von der Erfindung, wie in den folgenden Ansprüchen definiert, abzuweichen.

Claims (15)

  1. Röntgenstrahlaufbereitungssystem, umfassend: eine Kirkpatrick-Baez-Seite-an-Seite-Optik (40), die folgendes enthält: ein erstes diffraktives Element (42) und ein zweites diffraktives Element (44), wobei ein diffraktives Element ein Kristall ist.
  2. Röntgenstrahlaufbereitungssystem nach Anspruch 1, wobei beide diffraktiven Elemente (42, 44) Mosaikkristalle mit hoher Mosaizität und niedrigem d-Spacing sind.
  3. Röntgenstrahlaufbereitungssystem nach Anspruch 1, wobei der Kristall (42) ausgewählt ist aus der Gruppe bestehend aus einem perfekten Kristall und einem Mosaikkristall und ein niedriges d-Spacing aufweist.
  4. Röntgenstrahlaufbereitungssystem nach Anspruch 3, wobei das andere diffraktive Element (44) eine Mehrschichtenoptik ist.
  5. Röntgenstrahlaufbereitungssystem nach Anspruch 3, wobei das andere diffraktive Element (44) ein Mosaikkristall mit großem d-Spacing ist.
  6. Röntgenstrahlaufbereitungssystem nach Anspruch 1, wobei das diffraktive Element (44) eine mehrschichtige Optik ist ausgewählt aus der Gruppe bestehend aus einem elliptischen Spiegel und einem Parabolspiegel und ein abgestuftes d-Spacing aufweist.
  7. Röntgenstrahlaufbereitungssystem nach Anspruch 6, wobei das abgestufte d-Spacing eine seitliche Abstufung ist.
  8. Röntgenstrahlaufbereitungssystem nach Anspruch 6, wobei das abgestufte d-Spacing eine Tiefenabstufung ist.
  9. Röntgenstrahlaufbereitungssystem nach Anspruch 6, wobei abgestufte d-Spacing eine seitliche Abstufung und eine Tiefenabstufung ist.
  10. Röntgenstrahlaufbereitungssystem nach Anspruch 1, wobei mindestens ein diffraktives Element ein asymmetrischer Johansson-Kristall ist.
  11. Röntgenstrahlaufbereitungssystem nach Anspruch 1, wobei mindestens ein diffraktives Element ein Johansson-Kristall, ein Johann-Kristall oder ein logarithmischer Kristall ist.
  12. Röntgenstrahlaufbereitungssystem nach Anspruch 1, wobei beide diffraktiven Elemente (42, 44) von dem Ursprung, wo der Röntgenstrahl emittiert wird, äquidistant sind.
  13. Röntgenstrahlaufbereitungssystem nach Anspruch 1, wobei mindestens ein diffraktives Element ein Kristall mit einem niedrigen d-Spacing zur Verwendung in einer Ebene ist, wo eine hohe Konvergenz bereitgestellt ist.
  14. Röntgenstrahlaufbereitungssystem nach Anspruch 1, weiterhin umfassend mindestens zwei Arbeitsecken.
  15. Röntgenstrahlaufbereitungssystem nach Anspruch 1, weiterhin umfassend eine Eintrittsapertur und eine Austrittsapertur.
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US (1) US7076026B2 (de)
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JP (2) JP5392982B2 (de)
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WO (1) WO2004114325A2 (de)

Families Citing this family (23)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7280634B2 (en) * 2003-06-13 2007-10-09 Osmic, Inc. Beam conditioning system with sequential optic
DE102005057700A1 (de) 2005-11-25 2007-06-06 Axo Dresden Gmbh Röntgen-Optisches-Element
US7519153B1 (en) * 2006-03-24 2009-04-14 Kla-Tencor Technologies Corporation X-ray metrology with diffractors
US7634052B2 (en) * 2006-10-24 2009-12-15 Thermo Niton Analyzers Llc Two-stage x-ray concentrator
JP4521573B2 (ja) * 2007-01-10 2010-08-11 大学共同利用機関法人 高エネルギー加速器研究機構 中性子線の反射率曲線測定方法及び測定装置
US7848483B2 (en) * 2008-03-07 2010-12-07 Rigaku Innovative Technologies Magnesium silicide-based multilayer x-ray fluorescence analyzers
CN102460135A (zh) * 2009-06-03 2012-05-16 特莫尼托恩分析仪器股份有限公司 检测器位于聚焦元件内部的x射线系统和方法
KR101332502B1 (ko) * 2011-06-14 2013-11-26 전남대학교산학협력단 국부적 방사선 치료용 x―선 바늘 모듈
US20150117599A1 (en) * 2013-10-31 2015-04-30 Sigray, Inc. X-ray interferometric imaging system
JP6322628B2 (ja) * 2012-06-08 2018-05-09 リガク イノベイティブ テクノロジーズ インコーポレイテッド 1d及び2dビームを提供するx線ビームシステム
US10295485B2 (en) 2013-12-05 2019-05-21 Sigray, Inc. X-ray transmission spectrometer system
USRE48612E1 (en) 2013-10-31 2021-06-29 Sigray, Inc. X-ray interferometric imaging system
WO2015140796A1 (en) * 2014-03-17 2015-09-24 Convergent R.N.R Ltd Using focused converging x-rays for imaging
WO2016108235A1 (en) * 2014-12-30 2016-07-07 Convergent R.N.R Ltd New constructions of x-ray lenses for converging x-rays
US11250968B2 (en) 2014-12-30 2022-02-15 Convergent R.N.R. Ltd. Constructions of x-ray lenses for converging x-rays
JP6864888B2 (ja) 2016-07-15 2021-04-28 株式会社リガク X線検査装置、x線薄膜検査方法およびロッキングカーブ測定方法
CN111527400A (zh) 2017-12-28 2020-08-11 株式会社理学 X射线检查装置
CN112424591B (zh) * 2018-06-04 2024-05-24 斯格瑞公司 波长色散x射线光谱仪
CN112470245A (zh) 2018-07-26 2021-03-09 斯格瑞公司 高亮度x射线反射源
US10656105B2 (en) 2018-08-06 2020-05-19 Sigray, Inc. Talbot-lau x-ray source and interferometric system
CN112638261A (zh) 2018-09-04 2021-04-09 斯格瑞公司 利用滤波的x射线荧光的系统和方法
US11056308B2 (en) 2018-09-07 2021-07-06 Sigray, Inc. System and method for depth-selectable x-ray analysis
US11217357B2 (en) 2020-02-10 2022-01-04 Sigray, Inc. X-ray mirror optics with multiple hyperboloidal/hyperbolic surface profiles

Family Cites Families (25)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2941078A (en) 1954-02-16 1960-06-14 Centre Nat Rech Scient Anastigmatic catoptric device
US4174478A (en) 1977-06-24 1979-11-13 National Research Development Corporation X-ray interferometers
US4242588A (en) 1979-08-13 1980-12-30 American Science And Engineering, Inc. X-ray lithography system having collimating optics
US4525853A (en) 1983-10-17 1985-06-25 Energy Conversion Devices, Inc. Point source X-ray focusing device
US4958363A (en) 1986-08-15 1990-09-18 Nelson Robert S Apparatus for narrow bandwidth and multiple energy x-ray imaging
US5027377A (en) 1990-01-09 1991-06-25 The United States Of America As Represented By The United States Department Of Energy Chromatic X-ray magnifying method and apparatus by Bragg reflective planes on the surface of Abbe sphere
JPH049000U (de) * 1990-05-11 1992-01-27
JP2921038B2 (ja) 1990-06-01 1999-07-19 キヤノン株式会社 X線を用いた観察装置
JPH0560898A (ja) * 1991-09-04 1993-03-12 Hitachi Ltd X線光学系
US5259013A (en) 1991-12-17 1993-11-02 The United States Of America As Represented By The Secretary Of Commerce Hard x-ray magnification apparatus and method with submicrometer spatial resolution of images in more than one dimension
WO1995031815A1 (en) 1994-05-11 1995-11-23 The Regents Of The University Of Colorado Spherical mirror grazing incidence x-ray optics
US5646976A (en) * 1994-08-01 1997-07-08 Osmic, Inc. Optical element of multilayered thin film for X-rays and neutrons
JPH09222401A (ja) * 1996-02-16 1997-08-26 Rigaku Corp 微小領域x線回折装置
JP3923151B2 (ja) * 1997-10-24 2007-05-30 株式会社リガク X線集光装置
DE29924579U1 (de) 1998-02-19 2004-02-12 Osmic, Inc., Auburn Hills Röntgenstrahl-Ausrichtungssystem
US6041099A (en) 1998-02-19 2000-03-21 Osmic, Inc. Single corner kirkpatrick-baez beam conditioning optic assembly
US6014423A (en) 1998-02-19 2000-01-11 Osmic, Inc. Multiple corner Kirkpatrick-Baez beam conditioning optic assembly
JPH11295499A (ja) * 1998-04-07 1999-10-29 Jeol Ltd ヨハンソン型分光結晶
US6389100B1 (en) 1999-04-09 2002-05-14 Osmic, Inc. X-ray lens system
JP3373803B2 (ja) * 1999-05-28 2003-02-04 科学技術振興事業団 コンビナトリアルx線回折装置
US6421417B1 (en) 1999-08-02 2002-07-16 Osmic, Inc. Multilayer optics with adjustable working wavelength
US6330301B1 (en) 1999-12-17 2001-12-11 Osmic, Inc. Optical scheme for high flux low-background two-dimensional small angle x-ray scattering
JP2001289998A (ja) * 2000-04-04 2001-10-19 Nippon Steel Corp X線光学素子の作成方法及びx線光学素子
US6493421B2 (en) 2000-10-16 2002-12-10 Advanced X-Ray Technology, Inc. Apparatus and method for generating a high intensity X-ray beam with a selectable shape and wavelength
WO2004079754A1 (en) * 2003-02-28 2004-09-16 Osmic, Inc. X-ray optical system with adjustable convergence

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