DE60121910T2 - Drucksensor mit Halbleiter-Sensorchip - Google Patents

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c/oDenso Corporation Masahito Kariya-city Aichi-pref. Imai
c/oDenso Corporation Takeshi Kariya-city Aichi-pref. Shinoda
c/oDenso Corporation Hiroaki Kariya-city Aichi-pref. Tanaka
c/oDenso Corporation Yasutoshi Kariya-city Aichi-pref. Suzuki
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Description

  • HINTERGRUND DER ERFINDUNG
  • 1. Bereich der Erfindung
  • Die vorliegende Erfindung betrifft einen Drucksensor, der einen Halbleitersensorchip zum Umwandeln einer Dehnung einer Membran, die einen darauf ausgeübten Druck erfasst, in ein elektrisches Signal aufweist.
  • 2. Beschreibung des Standes der Technik
  • Ein bekanntes Beispiel für herkömmliche Drucksensoren dieser Art ist in 11 gezeigt. 11 zeigt eine Querschnittsansicht eines Drucksensors, der zum Erfassen eines hohen Kraftstoffdruckes in einem Kraftstoffeinspritzsystem (beispielsweise in einem Common-Rail-Einspritzsystem) eines Kraftfahrzeugs verwendet wird. Ein Metallstamm 10, der eine Membran 11 zum Erfassen eines darauf ausgeübten Drucks aufweist, ist in einem Gehäuse 30 enthalten. Der Metallstamm 10 ist an dem Gehäuse 30 mittels eines Anbringungsblocks 20 befestigt, und die Membran 11 wird durch einen Druck, der durch eine Druckeinleitungspassage 32 eingeleitet wird, verzerrt.
  • 12 zeigt schematisch die Umgebung der Membran 11 der 11 in vergrößerter Darstellung. Ein Halbleitersensorchip J40 ist an einer vorderen Fläche der Membran 11 über einen Isolierfilm 50 aus Glas, das einen niedrigen Schmelzpunkt aufweist, beispielsweise Siliziumoxid, angebracht. Ein Dehnungsmesser J41, der auf dem Sensorchip J40 ausgebildet ist, wandelt die Membranverzerrung, die von einem darauf ausgeübten Druck verursacht wird, in ein elektrisches Signal um. Der Dehnungsmesser J41 besteht aus einem Bereich vom P-Typ, der auf der vorderen Fläche eines Siliziumsubstrats vom N-Typ ausgebildet ist.
  • Wie es in 11 gezeigt ist, ist ein Schaltungssubstrat 60 um den Sensorchip J40 angeordnet, und der Sensorchip J40 ist mit dem Schaltungssubstrat 60 mittels Verbindungsdrähte 64 elektrisch verbunden. Das Schaltungssubstrat 60 ist durch einen Stift 66 mit Anschlüssen 72 elektrisch verbunden. In diesem Drucksensor wird die Membran 11 durch den Druck, der durch die Druckeinleitungspassage 32 eingeleitet wird, verzerrt. Die Membranverzerrung wird durch den Dehnungsmesser J41, der auf dem Sensorchip J40 ausgebildet ist, in ein elektrisches Signal umgewandelt. Das elektrische Signal wird einer äußeren Schaltung wie zum Beispiel einer elektronischen Steuereinheit eines Kraftfahrzeugs durch die Verbindungsdrähte 64, das Schaltungssubstrat 60, den Stift 66 und die Anschlüsse 72 zugeführt.
  • Da der Sensorchip J40 auf der vorderen Fläche der Membran 11 des Metallstammes 10 mittels des Isolierfilms 50 befestigt ist, wie es in 12 gezeigt ist, wird eine parasitäre Kapazität Cp zwischen dem Metallstamm 10 und dem Sensorchip J40 ausgebildet. In der parasitären Kapazität Cp dienen sowohl der Metallstamm 10 als auch der Sensorchip J40 als Elektroden, und der Isolierfilm 50 dient als eine dielektrische Schicht.
  • Die parasitäre Kapazität Cp verursacht das folgende Problem, wenn der Drucksensor in einer Atmosphäre mit hohem elektromagnetischen Rauschen verwendet wird. Derartiges elektromagnetisches Rauschen wird beispielsweise durch drahtlose Kommunikationsvorrichtungen erzeugt. Ein elektrischer Strom, der durch elektromagnetisches Rauschen (beispielsweise 1 MHz bis 1.000 MHz; mehrere Volt bis 200 Volt/m) verursacht wird, wird vom Gehäuse 30 zum Dehnungsmesser J41 durch den Metallstamm 10, die parasitäre Kapazität Cp und den Sensorchip J40 übertragen. Dieser Rauschstrom wird einem Ausgangssignal des Dehnungsmessers J41 hinzugefügt und durch eine Signalprozessorschaltung verstärkt, was das Signal/Rausch-Verhältnis (S/N-Verhältnis) in dem Sensorsignal verschlechtert oder eine Fehlfunktion in einem System, in dem der Drucksensor verwendet wird, verursacht.
  • Das Dokument JP 10078363 beschreibt einen Dünnfilmsensor als Drucksensor, wobei zwei Isolierschichten auf der Oberfläche einer Metallmembran ausgebildet sind, die einen Metalldehnungskörper darstellt, der einen Flüssigkeitsdruck aufnimmt, und wobei ein leitender Dünnfilm zwischen diesen eingeklemmt ist. Die Isolierschichten und der leitende Dünnfilm sind gemeinsam dicht angebracht. Eine der Isolierschichten ist nahe an der Oberfläche der Metallmembran angebracht, wenn die leitende Dünnschicht gegenüber der Metallmembran elektrisch isoliert ist. Die Masse einer Sensorschaltung ist mit dem leitenden Dünnfilm zwischen zwei Isolierschichten auf der Oberfläche der Metallmembran verbunden, um die Sensorschaltung gegenüber der Metallmembran 4 elektrostatisch abzuschirmen.
  • ZUSAMMENFASSUNG DER ERFINDUNG
  • Die vorliegende Erfindung entstand im Hinblick auf das oben genannte Problem, und es ist eine Aufgabe der vorliegenden Erfindung, einen verbesserten Drucksensor zu schaffen, bei dem der Einfluss von äußerem Rauschen auf das Sensorsignal eliminiert oder unterdrückt wird.
  • Ein Drucksensor zum Erfassen eines Druckes wie beispielsweise eines Kraftstoffdruckes in einem Kraftfahrzeugeinspritzsystem enthält einen Metallstamm, in den der zu erfassende Druck eingeleitet wird, einen Halbleitersensorchip, der ein elektrisches Signal ausgibt, das den erfassten Druck repräsentiert, und eine elektrische Schaltung zum Verarbeiten des Sensorsignals. Diese Komponenten des Drucksensors sind in einem Gehäuse hermetisch enthalten. Der Metallstamm weist eine dünne Membran auf, die sich entsprechend dem Druck, der auf ihrer hinteren Fläche ausgeübt wird, verzerrt. Der Sensorchip ist auf der vorderen Fläche der Membran durch eine Isolierschicht angebracht.
  • Der Sensorchip besteht aus einem Siliziumhalbleiterchip, der eine Leitungsschicht vom P-Typ und eine Leitungsschicht vom N-Typ, die auf der Leitungsschicht vom P-Typ geschichtet ist, aufweist. Der Sensorchip ist auf der vorderen Fläche der Membran derart angebracht, dass die Leitungsschicht vom P-Typ die Isolierschicht kontaktiert. Ein Leitungsbereich vom P-Typ ist in der Leitungsschicht vom N-Typ ausgebildet, so dass der Leitungsbereich vom P-Typ von der Leitungsschicht vom P-Typ elektrisch getrennt ist. Der Bereich vom P-Typ, der in der Schicht vom N-Typ ausgebildet ist, bildet einen Dehnungsmesser, dessen Widerstand sich entsprechend der Verzerrung der Membran ändert. Das elektrische Signal, das von dem Dehnungs messer ausgegeben wird, wird durch die elektrischen Schaltungen, die mit dem Dehnungsmesser verbunden sind, verarbeitet.
  • Die Leitungsschicht vom P-Typ des Sensorchips dient als eine Abschirmungsschicht zum Unterbinden bzw. Abschneiden von äußerem Rauschen gegenüber dem Dehnungsmesser. Vorzugsweise sind eine Anschlussfläche zum Erden der Abschirmungsschicht und eine andere Anschlussfläche zum Erden des Dehnungsmessers getrennt voneinander vorgesehen, und beide Anschlussflächen werden durch jeweilige Schaltungen geerdet, die getrennt voneinander ausgebildet sind. Durch getrenntes Erden der Abschirmungsschicht wird das äußere Rauschen effektiv unterbrochen, und die Sensorausgänge werden sogar dann frei von dem äußeren Rauschen gehalten, wenn das äußere Rauschen sich in einem Hochfrequenzbereich befindet.
  • Die Positionen der Leitungsschichten vom N-Typ und vom P-Typ in dem Sensorchip können umgekehrt sein, so dass die Schicht vom N-Typ eine Basisschicht wird und die Schicht vom P-Typ auf der Schicht vom N-Typ geschichtet ist. Der Dehnungsmesser kann aus vier Dehnungsmesselementen bestehen, die eine Brückenschaltung bilden.
  • Gemäß der vorliegenden Erfindung wird äußeres Rauschen effektiv durch die Isolierschicht, die zwischen dem Dehnungsmesser und dem Metallstamm, von dem das äußere Rauschen übertragen wird, angeordnet ist, von den Sensorausgängen getrennt.
  • Weitere Aufgaben und Merkmale der vorliegenden Erfindung werden leichter anhand der Beschreibung der bevorzugten Ausführungsform mit Bezug auf die zugehörigen Zeichnungen deutlich.
  • KURZE BESCHREIBUNG DER ZEICHNUNGEN
  • Es zeigen:
  • 1 einen Querschnitt, der eine Gesamtstruktur eines Drucksensors gemäß der vorliegenden Erfindung zeigt,
  • 2 eine perspektivische Ansicht, die einen Sensorchip und dessen Umgebung, die durch einen Kreis A in 1 eingekreist ist, zeigt,
  • 3 eine Draufsicht, die den Sensorchip in vergrößerter Darstellung von seiner vorderen Fläche aus gesehen zeigt,
  • 4 einen Querschnitt, der schematisch den Sensorchip zeigt,
  • 5 eine schematische Ansicht, die einen Effekt der Erdung einer parasitären Kapazität zeigt,
  • 6 eine schematische Ansicht, die elektrische Verbindungen in einem Sensorchip und einem Verstärker-IC-Chip zeigt, wobei eine Abschirmungsschicht und eine Brückenschaltung getrennt geerdet sind,
  • 7 eine schematische Ansicht, die elektrische Verbindungen in einem Sensorchip und einem Verstärkerchip zeigt, wobei eine Abschirmungsschicht und eine Brückenschaltung durch eine gemeinsame Anschlussfläche geerdet sind,
  • 8 einen Graphen, der Frequenzcharakteristika von ersten und zweiten Operationsverstärkern zeigt,
  • 9A einen Graphen, der die Abweichung eines Sensorausgangs auf Grund äußeren Rauschens zeigt,
  • 9B einen Graphen, der eine Abweichung eines Sensorausgangs auf Grund äußeren Rauschens zeigt, wobei eine Abschirmungsschicht und eine Brückenschaltung getrennt geerdet sind,
  • 10 einen Querschnitt, der eine modifizierte Form des Sensorchips zeigt,
  • 11 einen Querschnitt, der einen herkömmlichen Drucksensor zeigt, und
  • 12 eine schematische Ansicht, die einen Sensorchip zeigt, der in dem in 11 gezeigten herkömmlichen Drucksensor verwendet wird.
  • GENAUE BESCHREIBUNG DER BEVORZUGTEN AUSFÜHRUNGSFORM
  • Im Folgenden wird eine bevorzugte Ausführungsform der vorliegenden Erfindung mit Bezug auf die 1 bis 9B beschrieben. Zunächst wird mit Bezug auf die 1 und 2 eine Gesamtstruktur eines Drucksensors S1 beschrieben. Der Drucksensor S1 ist beispielsweise an einer Kraftstoffleitung in einem Kraftstoffeinspritzsystem wie zum Beispiel einem Common-Rail-System für ein Kraftfahrzeug angebracht und erfasst einen Druck eines flüssigen Kraftstoffs oder einer Mischung aus einem flüssigen und einem gasförmigen Kraftstoffe in der Kraftstoffleitung.
  • Ein zylindrischer hohler Metallstamm 10 ist an einem Gehäuse 30 mit einem Anbringungsblock 20 befestigt. Der Metallstamm 10 enthält eine dünne Membran 11, die an seinem oberen Ende ausgebildet ist, und eine Öffnung 12, die an seinem unteren Ende ausgebildet ist. Ein vergrößerter Abschnitt 13 ist an einer Position nahe bei der Bodenöffnung 12 ausgebildet. Ein Halbleitersensorchip 40 ist an der vorderen Fläche der Membran 11 durch eine Isolierschicht 50 angebracht, die aus Glas oder Ähnlichem mit niedrigem Schmelzpunkt besteht, wie es in 2 gezeigt ist. Der Sensorchip 40 erfasst eine Dehnung der Membranverzerrung, die von einem Druck verursacht wird, der in den Metallstamm 10 eingeleitet wird. Ein Dehnungsmesser 41 (siehe 3), der auf dem Halbleiterchip 40 ausgebildet ist, wandelt die Dehnung der Membran 11 in ein elektrisches Signal um.
  • Es ist notwendig, dass der Metallstamm 10 eine hohe mechanische Festigkeit aufweist, da er einen sehr hohen Druck aufnimmt, und einen niedrigen thermischen Ausdehnungskoeffizienten aufweist, da der Sensorchip 40 aus Silizium mit dem Metallstamm 10 mit der Isolierschicht 50 aus Glas oder Ähnlichem verbunden ist. Daher wird als Material für den Metallstamm 10 beispielsweise ein Material ausgewählt, das aus Fe, Ni und Co, oder Fe und Ni als Hauptmaterial besteht, zu dem Ti, Nb und Al, oder Ti und Nb als Additive zum Stärken der Präzipitation hinzugefügt sind. Der Metallstamm 10 kann durch Pressen, maschinelles Bearbeiten oder Kaltschmieden ausgebildet werden.
  • Das Gehäuse 30, das ein Umfangsgewinde 31 aufweist, ist direkt an einer Kraftstoffleitung mittels Verschrauben befestigt. Eine Druckeinleitungspassage 32, die mit der Öffnung 12 des Metallstamms 10 kommuniziert, ist in der Mitte des Gehäuses 30 ausgebildet. Ein Druckmedium wie zum Beispiel Kraftstoff wird in den Metallstamm 10 durch die Druckeinleitungspassage 32 eingeleitet.
  • Der Anbringungsblock 20 ist zylinderförmig und außerhalb des Metallstamms 10 angeordnet. Ein männliches Gewinde 21 ist auf dem äußeren Umfang des Anbringungsblocks 20 ausgebildet, und ein weibliches Gewinde 33 ist auf der inneren Bohrung des Gehäuses 30 ausgebildet. Durch Schrauben des Anbringungsblocks 20 in das Gehäuse 30 wird ein Abwärtsdruck auf den Metallstamm 10 über einen kegelförmigen Abschnitt ausgeübt, der an dem vergrößerten Abschnitt 13 des Metallstamms 10 ausgebildet ist. Die Bodenfläche des Metallstamms 10 kontaktiert das Gehäuse 30 dicht und ist fest daran durch den Abwärtsdruck fixiert. Somit ist die Grenzfläche K zwischen der Bodenfläche des Metallstamms 10 und der oberen Fläche des Gehäuses 30 hermetisch abgedichtet. Die Druckeinleitungspassage 32 und die Öffnung 12 des Metallstamms 10 sind fest miteinander verbunden, so dass kein Lecken entlang der Grenzfläche K stattfindet.
  • Der Metallstamm 10 ist an dem Gehäuse 30 mittels Verschrauben des Anbringungsblocks 20 befestigt, und ein Verbindergehäuse 80 ist mit dem Gehäuse 30 mittels Verstemmen eines oberen Deckels des Gehäuses 30 verbunden, und außerdem ist das Gehäuse 30 selbst an der Kraftstoffleitung durch direktes Schrauben seines Gewindes 31 angebracht. Daher muss das Gehäuse 30 eine Antikorrosionsfestigkeit gegenüber einem Druckmedium wie zum Beispiel Kraftstoff und gegenüber Umgebungsbedingungen der tatsächlichen Verwendung eines Kraftfahrzeugs aufweisen. Außerdem muss das Gehäuse 30 eine ausreichende Gewindefestigkeit aufweisen, um eine axiale Kraft zum Sichern der festen Abdichtung der Grenzfläche K aufzuweisen. Um diesen Anforderungen zu genügen, besteht das Gehäuse 30 aus Kohlenstoffstahl (zum Beispiel S15C), das eine antikorrosive und mechanische Festigkeit aufweist, und eine Zn-Plattierung ist auf dem Gehäuse 30 vorgesehen, um die Antikorrosionseigenschaft weiter zu verbessern. Alternativ kann XM7, SUS430, SUS304, SUS630 oder Ähnliches, das eine Antikorrosionseigenschaft aufweist, als Material für das Gehäuse 30 verwendet werden.
  • Es ist ebenfalls notwendig, dass der Anbringungsblock 20 eine hohe mechanische Festigkeit aufweist, um den Metallstamm 10 an dem Gehäuse 30 mit einem hohen Abdichtdruck auf der Grenzfläche K zu fixieren. Die Antikorrosionseigenschaft ist für den Anbringungsblock 20 jedoch nicht notwendig, da dieser in einem Zwischenraum vorgesehen ist, der durch das Gehäuse 30 und das Verbindergehäuse 80 ausgebildet wird. Daher kann der Anbringungsblock 20 aus einem Kohlenstoffstahl bestehen.
  • Ein Keramiksubstrat 60, das einen IC-Chip 62 trägt, ist an der oberen Fläche des Anbringungsblocks 20 befestigt und um den Sensorchip 40 angeordnet. Der IC-Chip 62 ist auf das Keramiksubstrat 60 geklebt und mittels Verbindungsdrähten elektrisch damit verbunden. Der Sensorchip 40 ist mit dem Keramiksubstrat 60 durch Verbindungsdrähte 64, die aus Aluminium oder Ähnlichem bestehen, elektrisch verbunden. Die Verbindungsdrähte 64 werden durch ein Ultraschalldrahtverbindungsverfahren ausgebildet. Ein Stift 66 zum elektrischen Verbinden des Keramiksubstrats 60 mit einem Verbinderanschluss 70 ist an dem Keramiksubstrat 60 mittels einem Silberlötmittel befestigt.
  • Der Verbinderanschluss 70 ist durch Ausformen bzw. Gießen eines Harzmaterials mit darin eingeführten Anschlüssen 72 ausgebildet. Die Anschlüsse 72 sind mit dem Stift 66 durch ein Laser-Schweißverfahren elektrisch verbunden. Ausgänge von dem Sensorchip 40 werden zu den Anschlüssen 72 durch die Verbindungsdrähte 64 und den Stift 66 geleitet. Der Verbinderanschluss 70 ist an dem Verbindergehäuse 80 mittels eines Klebemittels 76 befestigt, und die Anschlüsse 72 sind mit einer äußeren Vorrichtung wie zum Beispiel einer Fahrzeug-ECU durch äußere Drähte verbindbar. Obwohl nur zwei Anschlüsse 72 in 1 gezeigt sind, sind mindestens drei Anschlüsse 72 notwendig: ein Eingangsanschluss zum Zuführen einer Spannung zum Sensorchip 40, ein Ausgangsanschluss zum Ausgeben von Ausgängen des Sensorchips 40 und ein Masseanschluss zum Erden des Sensorchips 40 und des IC-Chips 62.
  • Das Verbindergehäuse 80, das den oberen Abschnitt des Gehäuses 30 bedeckt, ist hermetisch mit dem Gehäuse 30 mittels eines O-Rings 90 mittels Verstemmen des oberen Deckels des Gehäuses 30 verbunden. Der Sensorchip 40, der IC-Chip 62 und weitere elektrische Verbindungen sind in einer Packung enthalten, die aus dem Gehäuse 30 und dem Verbindergehäuse 80 besteht, und sind gegenüber äußeren mechanischen Kräften und Feuchtigkeit geschützt. Das Verbindergehäuse 80 besteht aus einem Material wie zum Beispiel PPS (Polyphenylensulfid), das eine hohe Hydrolysefestigkeit aufweist.
  • Mit Bezug auf die 3 und 4 wird im Folgenden die Struktur des Sensorchips 40 genauer beschrieben. 3 zeigt schematisch eine Draufsicht auf den Sensorchip 40 von einer vorderen Fläche aus gesehen (eine Oberfläche gegenüber der Rückfläche, die die Isolierschicht 50 kontaktiert). 4 zeigt schematisch einen Querschnitt des Sensorchips 40. Eine schräge Strichelung in 3 wird verwendet, um einen Bereich vom einem Leitungstyp von einem anderen Bereich von einem anderen Leitungstyp zu unterscheiden, und nicht, um Querschnitte zu zeigen. Die schräg gestrichelten Bereiche bezeichnen Bereiche vom P-Typ und Bereiche, die keine schräge Strichelung aufweisen, bezeichnen Bereiche vom N-Typ.
  • Wie es in 3 gezeigt ist, besteht der Dehnungsmesser 41 aus vier Dehnungsmesselementen, die miteinander verbunden sind, um eine Wheatstone-Brückenschaltung 48 auszubilden. Die Brückenschaltung 48 wandelt Widerstandsänderungen der Dehnungsmesselemente, die durch eine Verzerrung der Membran 11 verursacht werden, in elektrische Signale um. Die vier Dehnungsmesselemente 41 sind an vier Punkten a, b, c und d miteinander verbunden, wie es in 3 gezeigt ist (siehe auch 6).
  • Wie es in 4 gezeigt ist, besteht der Sensorchip 40 aus einem Siliziumhalbleiterchip, der aus einer Schicht vom P-Typ 40a (eine Schicht eines ersten Leitungstyps) und einer Schicht vom N-Typ 40b (eine Schicht eines zweiten Leitungstyps) besteht, wobei beide Schichten in dieser Reihenfolge geschichtet sind.
  • Eine andere Schicht vom P-Typ 40c, die eine andere Verunreinigungsdichte als die Schicht vom P-Typ 40a aufweist, ist in der Schicht vom N-Typ 40b getrennt von der Schicht vom P-Typ 40a ausgebildet. Die Schicht vom P-Typ 40c bildet den Dehnungsmesser 41. Die Schicht vom P-Typ 40a unterhalb der Schicht vom N-Typ 40b dient als eine Abschirmungsschicht 44. Die Abschirmungsschicht 44, die zwischen dem Dehnungsmesser 41 und der Isolierschicht 50 positioniert ist, trennt den Dehnungsmesser 41 elektrisch von dem Metallstamm 10. Eine oxidierte Isolierschicht 45 ist auf der vorderen Fläche des Sensorchips 40 ausgebildet. Anschlussflächen 42 für die Brückenschaltung 48 und Drähte 43 sind auf der oxidierten Isolierschicht 45 mittels Dampfabscheidung von Aluminium oder Ähnlichem ausgebildet. Der Dehnungsmesser 41 ist mit den Drähten 43 durch Öffnungen elektrisch verbunden, die auf der oxidierten Isolierschicht 45 ausgebildet sind.
  • Vier Dehnungsmesselemente 41 sind derart geschaltet, dass sie eine Brückenschaltung 48 mittels der Drähte 43 auszubilden, wie es in 3 gezeigt ist. Die Anschlussflächen 42 für die Brückenschaltung 48 sind jeweils durch die Drähte 43 mit den Punkten a–d der Brückenschaltung 48 verbunden. Da eine Drahtverbindungsbelastung auf die Anschlussflächen 42 einwirkt, neigt die oxidierte Isolierschicht 45 unterhalb der Anschlussflächen 42 dazu, beschädigt zu werden, und eine elektrische Isolierung der Anschlussflächen kann brechen. Um den Durchbruch der Isolierung zu vermeiden, werden Bereiche vom P-Typ 40d an Positionen direkt unterhalb der Anschlussflächen 42 ausgebildet, wie es in 4 gezeigt ist. Eine Anschlussfläche 46 zum Erden der Abschirmungsschicht 44 ist auf einem der Bereiche vom P-Typ 40d ausgebildet. Die Anschlussfläche 46 ist mit der Abschirmungsschicht 44 durch eine Öffnung elektrisch verbunden, die auf der oxidierten Isolierschicht 45 und dem Bereich vom P-Typ 40d ausgebildet ist.
  • Die Anschlussflächen 42 und 46 sind mit dem Keramiksubstrat 60 durch die Verbindungsdrähte 64 und außerdem mit den jeweiligen Anschlüssen 72 verbunden. Die Anschlussfläche 42, die oben links in 3 positioniert ist, dient als eine Eingangsanschlussfläche zum Zuführen einer Spannung zur Brückenschaltung 48, während die Anschlussfläche 42, die unten rechts in 3 positioniert ist, als eine Anschlussfläche zum Erden der Brückenschaltung 48 dient. Zwei Anschlussflächen 42, die oben rechts und unten links in 3 positioniert sind, dienen als Ausgangsanschlussflächen zum Ausgeben der Sensorsignale. Die Anschlussfläche 46 zum Erden der Abschirmungsschicht 44 ist mit dem Masseanschluss 72 durch einen Draht ver bunden, der von dem Draht getrennt ist, der die Anschlussfläche 42 zum Erden der Brückenschaltung 48 mit dem Masseanschluss 72 verbindet.
  • Der oben beschriebene Sensorchip 40 wird durch bekannte Prozesse hergestellt, die eine Ionenimplantation, eine thermische Dispersion, eine Dampfabscheidung usw. beinhalten. Der Sensorchip 40 wird mit dem Drucksensor S1 auf die folgende Weise zusammengebaut. Der Sensorchip 40 wird mit dem Metallstamm 10 mittels der Isolierschicht 50 verbunden. Der Metallstamm 10, der den Sensorchip 40 trägt, wird in die innere Bohrung des Anbringungsblocks 20 eingeführt, und der Anbringungsblock 20 wird in das Gehäuse 30 eingeschraubt, wodurch der Metallstamm 10 am Gehäuse 30 befestigt wird. Danach wird das Keramiksubstrat 60 an den Anbringungsblock 20 geklebt und mit dem Sensorchip 40 mittels Drahtverbindung elektrisch verbunden. Danach wird der Verbinderanschluss 70 mit dem Stift 66 durch ein Laser-schweißverfahren wie zum Beispiel YAG-Laserschweißen verbunden. Das Verbindergehäuse 80 wird an dem Gehäuse 30 mittels des O-Rings 90 durch Verstemmen des oberen Deckels des Gehäuses 30 befestigt. Somit ist der Drucksensor S1, der in 1 gezeigt ist, vollendet. Der Drucksensor S1 wird mit der Kraftstoffleitung (nicht gezeigt) durch direktes Schrauben des Gewindes 31, das auf dem Gehäuse 30 ausgebildet ist, verbunden. Der Druck in der Kraftstoffleitung wird in den Metallstamm 10 durch die Druckeinleitungspassage 32 und die Öffnung 12 des Metallstamms 10 eingeleitet. Die Membran 11 wird durch den eingeleiteten Druck verzerrt, und die Membranverzerrung wird in elektrische Signale durch den Sensorchip 40 umgewandelt. Die Ausgänge des Sensorchips 40 werden den Schaltungen auf dem Keramiksubstrat 60 zugeführt und darin verarbeitet. Die verarbeiteten Ausgänge werden von dem Drucksensor S1 durch den Ausgangsanschluss 72 ausgegeben und danach der ECU zugeführt, die ein bordseitiges Kraftstoffeinspritzsystem steuert.
  • In dem in 3 gezeigten Sensorchip 40 wird eine Eingangsspannung für die Brückenschaltung 48 zwischen den Punkten "a" und "b" der Brückenschaltung 48 angelegt. Der Punkt "b" wird über den Masseanschluss 42 geerdet. Die Abschirmungsschicht 44 wird über die Anschlussfläche 46 geerdet. Wenn sich die Membran 11 auf den darauf ausgeübten Druck hin verzerrt, ändert sich der Widerstand des Dehnungsmessers 41 entsprechend der Verzerrung der Membran 11. Der Ausgang, der die Änderungen des Widerstandes des Dehnungsmessers 41 repräsentiert, erscheint zwischen den Punkten "c" und "d" der Brückenschaltung 48 als die Sensorausgangsspannung. Die Sensorausgangsspannung wird dem IC-Chip 62 auf dem Keramiksubstrat 60 zugeführt, der die Sensorausgangsspannung verarbeitet. Der verarbeitete Sensorausgang wird von dem Drucksensor S1 durch den Ausgangsanschluss 72 ausgegeben. Die elektrischen Verbindungen zwischen dem Sensorchip 40 und dem IC-Chip 62 und die Ausgangsverarbeitung in dem IC-Chip 62 werden später genauer erläutert.
  • Im Folgenden werden die in der vorherigen Ausführungsform erzielten Vorteile erläutert. Da die Abschirmungsschicht 44 zwischen dem Dehnungsmesser 41 auf dem Sensorchip 40 und der Isolierschicht 50 angeordnet ist, die den Dehnungsmesser 41 von dem Metallstamm 10 trennt, wird äußeres Rauschen, das ansonsten von dem Gehäuse 30 zum Dehnungsmesser 41 durch den Metallstamm 10 übertragen werden würde, abgeschnitten, wodurch der Einfluss des äußeren Rauschens auf die Sensorausgänge unterdrückt wird. Mit anderen Worten wird die parasitäre Kapazität Cp, die zwischen dem Metallstamm 10 und der Abschirmungsschicht 44 des Sensorchips 40 ausgebildet wird, durch die Abschirmungsschicht 44 geerdet, wie es in 5 gezeigt ist. Ein Strom iN auf Grund des äußeren Rauschens wird durch die Abschirmungsschicht 44 zur Masse geleitet, und dadurch wird der Dehnungsmesser 41 gegenüber äußerem Rauschen geschützt.
  • Wenn keine Abschirmungsschicht 44 wie bei herkömmlichen Drucksensoren vorgesehen ist, wird eine Rauschstrompassage durch das Gehäuse 30, den Metallstamm 10, die parasitäre Kapazität Cp, den Sensorchip J40 und den Dehnungsmesser J41 ausgebildet. Da die Abschirmungsschicht 44 gemäß der vorliegenden Erfindung vorgesehen ist, wird der Strom iN des äußeren Rauschens durch die folgende Passage zu Masse geleitet: das Gehäuse 30, den Metallstamm 10, die parasitäre Kapazität Cp, die Abschirmungsschicht 44, den Bereich vom P-Typ 40d und die Anschlussfläche 46. Auf diese Weise wird verhindert, dass der Rauschstrom iN in den Dehnungsmesser 41 eintritt.
  • Außerdem ist in der Ausführungsform gemäß der vorliegenden Erfindung die Anschlussfläche 46 zum Erden der Abschirmungsschicht 44 getrennt von der Anschlussfläche 42 zum Erden der Brückenschaltung 48 vorgesehen, und beide An schlussflächen 46, 42 sind jeweils mit dem Masseanschluss 72 durch getrennte Drähte verbunden. Es ist möglich, eine gemeinsame Anschlussfläche und einen gemeinsamen Draht zum Erden sowohl der Abschirmungsschicht 44 als auch der Brückenschaltung 48 zu verwenden. Wenn jedoch jeweils getrennte Anschlussflächen und Drähte zum Erden der Abschirmungsschicht 44 und der Brückenschaltung 48 wie in der zuvor beschriebenen Ausführungsform verwendet werden, wird der Einfluss des äußeren Rauschens auf die Sensorausgänge sicher unterdrückt. Die Vorteile des getrennten Erdens im Vergleich zum gemeinsamen Erden sind unten genauer mit Bezug auf die 6 und 7 beschrieben. 6 zeigt elektrische Verbindungen in dem Fall, in dem getrennte Masseanschlussflächen vorgesehen sind, und 7 zeigt diejenigen in dem Fall, in dem eine gemeinsame Masseanschlussfläche vorgesehen ist.
  • Zunächst wird mit Bezug auf 6 das getrennte Erden erläutert. Eine Anschlussfläche 42b, die dicht bei der Anschlussfläche 46 zum Erden der Abschirmungsschicht 44 positioniert ist, wird als die Anschlussfläche zum Erden der Brückenschaltung 48 verwendet. Dicke durchgezogene Linien in 6 zeigen Verbindungsdrähte, die jeweilige Anschlussflächen verbinden: das heißt, die Anschlussflächen 42a-42d und 46 auf dem Sensorchip 40; die Anschlussflächen 62a-62d auf dem Verstärker-IC-Chip 62; und die Anschlussflächen 60a-60d, 60g und 61a-61d auf dem Keramiksubstrat 60.
  • Die Eingangsanschlussfläche 42a des Sensorchips 40 ist mit der Eingangsanschlussfläche 62a des Verstärker-IC-Chips 62 durch den Verbindungsdraht 64, die Anschlussfläche 60a auf dem Keramiksubstrat 60, einem Draht La, die Anschlussfläche 61a und einen Verbindungsdraht 64 verbunden. Die Eingangsanschlussfläche 62a des Verstärker-IC-Chips 62 ist elektrisch mit einer Verbindungsstelle T3 des Eingangsanschlusses 72 durch einen Draht (nicht gezeigt), der auf dem Keramiksubstrat 60 ausgebildet ist, verbunden. Die Anschlussfläche 42b zum Erden der Brückenschaltung 48 ist elektrisch mit einer Verbindungsstelle T1 des Masseanschlusses 72 durch den Verbindungsdraht 64, die Anschlussfläche 60b auf dem Keramiksubstrat 60, einen Draht Lb1 und einen Draht LG1 verbunden.
  • Eine Ausgangsanschlussfläche 42c des Sensorchips 40 ist elektrisch mit einer Ausgangsanschlussfläche 62c des Verstärker-IC-Chips 62 durch den Verbindungsdraht 64, die Anschlussfläche 60c auf dem Keramiksubstrat 60, einen Draht Lc, die Anschlussfläche 61c und den Verbindungsdraht verbunden. Eine andere Ausgangsanschlussfläche 42d des Sensorchips 40 ist elektrisch mit einer anderen Ausgangsanschlussfläche 62d des Verstärker-IC-Chips 62 durch den Verbindungsdraht 64, die Anschlussfläche 60d auf dem Keramiksubstrat 60, einen Draht Ld, die Anschlussfläche 61d, einen Verbindungsdraht verbunden.
  • Auf dem Verstärker-IC-Chip 62 sind ein erster Operationsverstärker 63c, der mit der Ausgangsanschlussfläche 62c verbunden ist, ein zweiter Operationsverstärker 63d, der mit der Ausgangsanschlussfläche 62d verbunden ist, und ein Differenzverstärker 63, der sowohl mit dem ersten als auch mit dem zweiten Operationsverstärker 63c, 63d verbunden ist, vorgesehen. Ein Ausgang des Differenzverstärkers 63 wird zu einer Verbindungsstelle T2 des Ausgangsanschlusses 72 durch Drähte (nicht gezeigt), die auf dem Keramiksubstrat 60 ausgebildet sind, gesendet. Die Anschlussfläche 62b zum Erden des Verstärker-IC-Chips 62 ist elektrisch mit einer Verbindungsstelle T1 des Masseanschlusses 72 durch einen Verbindungsdraht, die Anschlussfläche 61b auf dem Keramiksubstrat 60, einen Draht Lb2 und den Draht LG1 verbunden.
  • Die Anschlussfläche 46 zum Erden der Abschirmungsschicht 44 ist elektrisch mit der Verbindungsstelle T1 des Masseanschlusses 72 durch den Verbindungsdraht 64, die Anschlussfläche 60g auf dem Keramiksubstrat und einen Draht LG2 verbunden. Die Anschlussfläche 46 ist, wie oben beschrieben, mit der Masseverbindungsstelle T1 durch den Draht Ld2, der von den Drähten Lb1 und LG1 getrennt ist, die die Masseanschlussfläche 42b der Brückenschaltung 48 mit der Masseverbindungsstelle T1 verbinden, verbunden. Der Draht LG2 ist dicker als die anderen Drähte.
  • Der Betrieb des Drucksensors wird im Folgenden mit Bezug auf 6 beschrieben. Das Grundpotential zum Betreiben einer Brückenschaltung 48 und des Verstärker-IC-Chips 62 ist Vh, das ein Potential an einer gemeinsamen Verbindungsstelle Lb3 von drei Drähten LG1, Lb1 und Lb2 ist. Dieses kommt daher, dass der Masseanschluss 72 stabil geerdet ist, und ein Potential Vg an der Verbindungsstelle T1 ist im Wesentlichen gleich dem Potential Vh an der gemeinsamen Verbindungsstelle Lb3.
  • Wenn der Drucksensor in einer Umgebung verwendet wird, bei der kein äußeres Rauschen vorhanden ist, wird die Druckerfassungsschaltung der 6 wie folgt betrieben. Wenn eine Eingangsspannung Vcc zwischen den Punkten "a" und "b" der Brückenschaltung 48 durch den Verstärker-IC 62 angelegt wird, ist ein Potential an der Anschlussfläche 60a des Keramiksubstrats 60 gleich Vcc, und ein Potential an der Anschlussfläche 60b wird zu (Vh + ZS·iS), wobei eine Impedanz des Drahts Lb1 gleich ZS ist und ein Strom, der durch den Draht Lb1 fließt, gleich iS ist. Ein Potential an der Anschlussfläche 61b des Keramiksubstrats 60 wird zu (Vh + ZB·iB), wobei eine Impedanz des Drahts Lb2 gleich ZB ist und ein Strom, der durch den Draht Lb2 fließt, gleich iB ist. Die Potentiale Vg, Vh und die Impedanzen ZS, ZB sind in 6 in Klammern hinter den entsprechenden Bezugszeichen gezeigt.
  • Beim Zuführen der Eingangsspannung Vcc erscheint die Widerstandsänderung in dem Dehnungsmesser 41, die der Verzerrung der Membran 11 entspricht, als eine Ausgangsspannung zwischen den Punkten "c" und "d" der Brückenschaltung 48. Die Ausgangsspannung (VS1 + Vh), die der Anschlussfläche 62c des Verstärker-IC-Chips 62 zugeführt wird, wird durch den ersten Operationsverstärker 63c verstärkt, und die Ausgangsspannung (VS2 + Vh), die der Anschlussfläche 62d des Verstärker-IC-Chips 62 zugeführt wird, wird durch den zweiten Operationsverstärker 63d verstärkt. Eine Differenz zwischen beiden verstärkten Spannungen wird durch den Differenzverstärker 63 verstärkt. Der Ausgang des Differenzverstärkers 63 wird dem Ausgangsanschluss 72 als Sensorausgang zugeführt.
  • Wenn andererseits der Drucksensor in einer Umgebung verwendet wird, in der äußeres Rauschen vorhanden ist, wird die Druckerfassungsschaltung der 6 auf die folgende Weise betrieben. Ein Rauschstrom, der von dem Gehäuse 30 zum Sensorchip 40 durch den Metallstamm 10 und die parasitäre Kapazität Cp übertragen wird, wird zum Masseanschluss 72 durch die Abschirmungsschicht 44 des Sensorchips 40, den Bereich vom P-Typ 40d, die Anschlussfläche 46 zum Erden der Abschirmungsschicht, die Anschlussfläche 60g auf dem Keramiksubstrat 60 und den Draht LG2 geführt. Mit anderen Worten wird die Rauschstrompassage von der Erfassungsschaltung getrennt.
  • Außerdem ist das Erden durch den Masseanschluss 72 stabil, und das Potential Vh an der Verbindungsstelle Lb3, das das Grundpotential in dem Erfassungsbetrieb ist, ist ebenfalls stabil. Daher werden sämtliche folgenden Potentiale durch den Rauschstrom nicht beeinflusst, wenn äußeres Rauschen in den Drucksensor eintritt: das Potential Vcc an der Anschlussfläche 60a des Keramiksubstrats 60, das Potential (Vh + ZS·iS) an der Anschlussfläche 60b, das Potential (Vh + ZB·iB) an der Anschlussfläche 61b, das Potential (VS1 + Vh) an der Anschlussfläche 62c des Verstärker-IC-Chips 62 und das Potential (VS2 + Vh) an der Anschlussfläche 62d des Verstärker-IC-Chips 62. Dementsprechend wird der Einfluss des äußeren Rauschens auf den Sensorausgang durch Trennen der Anschlussfläche 46 zum Erden der Abschirmungsschicht 44 von der Anschlussfläche 42b zum Erden der Brückenschaltung 48 und durch Trennen beider Erdungsschaltungen eliminiert.
  • Zum Vergleich des oben beschriebenen getrennten Erdungssystems mit dem gemeinsamen Erdungssystem wird der Betrieb des gemeinsamen Erdungssystems mit Bezug auf 7 beschrieben. In 7 sind die Anschlussflächen 46 zum Erden der Abschirmungsschicht 44 und der Massedraht LG2 weggelassen, und eine Anschlussfläche 47 wird als eine gemeinsame Anschlussfläche zum Erden der Abschirmungsschicht 44 und der Brückenschaltung 48 verwendet. Die gemeinsame Erdungsanschlussfläche 47 ist mit der Abschirmungsschicht 44 durch den Bereich vom P-Typ 40d elektrisch verbunden. Außerdem ist die gemeinsame Erdungsanschlussfläche 47 mit der Verbindungsstelle T1 des Masseanschlusses 72 durch den Verbindungsdraht 64, die Anschlussfläche 60b auf dem Keramiksubstrat 60 und die Drähte Lb1, LG1 elektrisch verbunden. Andere Strukturen der Schaltung, die in 7 gezeigt ist, sind mit denjenigen, die in 6 gezeigt sind, identisch.
  • In einer Umgebung, bei der kein Rauschen vorhanden ist, wird die Schaltung, die in 7 gezeigt ist, auf dieselbe Weise wie die in 6 gezeigte Schaltung betrieben. Das heißt, die folgenden Potentiale in der in 7 gezeigten Schaltung sind dieselben wie diejenigen der in 6 gezeigten Schaltung: das Potential Vcc an der Anschlussfläche 60a des Keramiksubstrats 60, das Potential (Vh + ZS·iS) an der Anschlussfläche 60b, das Potential (Vh + ZB·iB) an der Anschlussfläche 61b, das Potential (VS1 + Vh) an der Ausgangsanschlussfläche 62c des Verstärker-IC-Chips 62 und das Potential (VS2 + Vh) an der Ausgangsanschlussfläche 62d des Verstärker-IC-Chips 62.
  • In einer Umgebung, in der äußeres Rauschen vorhanden ist, wird der Rauschstrom, der zum Sensorchip 40 übertragen wird, durch die Abschirmungsschicht 44 des Sensorchips 40, den Bereich vom P-Typ 40b, die gemeinsame Erdungsanschlussfläche 47, die Anschlussfläche 60b des Keramiksubstrats, die Drähte Lb1, LG1 und den Masseanschluss 72 zur Masse geleitet. Es scheint, dass der Rauschstrom auf diese Weise daran gehindert wird, in die Brückenschaltung 48 einzutreten. Der Sensorausgang wird jedoch tatsächlich durch das äußere Rauschen aus dem im Folgenden beschriebenen Grund beeinträchtigt.
  • Es wird angenommen, dass ein Betrag des Rauschstromes, der durch die gemeinsame Erdungsanschlussfläche 47 zur Masse geleitet wird, gleich iN ist, ein Potential an der Anschlussfläche 60b, das das Massepotential der Brückenschaltung 48 ist, gleich (Vh + ZS·iS + ZS·iN) wird, obwohl das Potential Vcc an der Anschlussfläche 60a des Keramiksubstrats 60 und das Potential (Vh + ZB·iB) an der Anschlussfläche 61b unverändert bleiben. Das heißt, eine Potentialänderung (ZS·iN) auf Grund des Rauschstromes iN wird dem Massepotential der Brückenschaltung 48 hinzugefügt. Daher werden die Potentiale an den Anschlussflächen 62c und 62d des Verstärker-IC-Chips 62 jeweils gleich (VS1 + Vh + ZS·iN) und (VS2 + Vh + ZS·iN).
  • Der erste und der zweite Operationsverstärker 63c und 63d weisen die in 8 gezeigten Frequenzcharakteristika auf. Gewöhnlicher Weise sind beide Frequenzcharakteristika in einem hohen Frequenzbereich nicht gleich, obwohl sie in einem niedrigen Frequenzbereich gleich sind. Daher wird in einem niedrigen Frequenzbereich (zum Beispiel in einem Bereich von mehreren KHz) die Rauschspannung (ZS·iN) durch Bilden einer Differenz zwischen den Ausgängen des ersten und dem zweiten Operationsverstärkers 63c, 63d ausgelöscht. In einem hohen Frequenzbereich (beispielsweise in einem MHz-Bereich) wird die Rauschspannung jedoch nicht ausgelöscht. Demzufolge wird den Sensorausgängen Rauschen einer hohen Frequenz überlagert.
  • Um das Rauschen der hohen Frequenz zu eliminieren ist es wirksam, das System mit getrennter Erdung wie in der oben beschriebenen Ausführungsform zu verwenden (das heißt, das System, bei dem die Anschlussfläche 46 zum Erden der Abschirmungsschicht 44 und die Anschlussfläche 42b zum Erden der Brückenschaltung 48 getrennt vorgesehen sind, und wobei beide Anschlussflächen mit dem Masseanschluss 72 durch getrennte Schaltungen verbunden sind).
  • Es wurden Tests zum Vergleichen des Systems mit getrennter Erdung mit dem System der gemeinsamen Erdung durchgeführt, und die Testergebnisse sind in den 9A und 9B dargestellt. Die Tests wurden in einer Umgebung durchgeführt, in der elektromagnetisches Rauschen von 200 V/m vorhanden war, und die Abweichungen des Sensorausgangs aufgrund des Rauschens wurden aufgezeichnet, während die Rauschfrequenz geändert wurde. Die Abweichung des Sensorausgangs meint eine Sensorausgangsdifferenz zwischen dem Sensorausgang in einer Umgebung, in der kein Rauschen vorhanden ist, und dem Sensorausgang in einer Umgebung, in der das Rauschen vorhanden ist.
  • In 9A ist die Abweichung des Sensorausgangs für einen herkömmlichen Drucksensor, der keine Abschirmungsschicht aufweist, mittels einer gestrichelten Linie aufgezeichnet, während die Abweichung des Sensorausgangs für einen Drucksensor, der eine Abschirmungsschicht 44 aufweist und das System mit gemeinsamer Erdung verwendet, mit einer durchgezogenen Linie aufgezeichnet ist. Wie es in dem Graphen der 9A zu sehen ist, wird der Einfluss des Rauschens in einem niedrigen Frequenzbereich (einige Zehn MHz) durch Bereitstellen der Abschirmungsschicht 44, die gemeinsam mit der Brückenschaltung 48 geerdet ist, unterdrückt. Der Rauscheinfluss wird jedoch in einem hohen Frequenzbereich (mehrere Hundert MHz) nicht unterdrückt.
  • In 9B ist die Abweichung des Sensorausgangs in dem Drucksensor, bei dem die Abschirmungsschicht 44 vorgesehen ist und das System mit getrennter Erdung wie in der oben beschriebenen Ausführungsform verwendet wird, gezeigt. Wie es in dem Graphen der 9B zu sehen ist, wird der Einfluss des Rauschens auf dem Sensorausgang über sämtliche Frequenzbereiche unterdrückt.
  • Der oben beschriebene Sensorchip 40 kann zu einem Sensorchip 40' modifiziert werden, der in 10 gezeigt ist. In diesem Sensorchip 40' sind Halbleiterelemente zum Verarbeiten von Sensorsignalen in einem Chip zusammen mit den Sensorelementen integriert. Die Signalprozessorelemente sind in einem Prozessorbereich 40e ausgebildet, der durch den Bereich vom P-Typ 40d (ein Isolierbereich vom P-Typ) von dem Bereich 40c getrennt ist, der den Dehnungsmesser 41 aufweist. In diesem integrierten Chip ist ein Epitaxie-Bereich vom N-Typ 40f als ein Bereich ausgebildet, der eine niedrigere Verunreinigungsdichte zum Ausbilden von Prozessorelementen darin aufweist. Ein eingebetteter N+-Bereich 40g ist als ein Bereich ausgebildet, der eine hohe Verunreinigungsdichte (1 × 1018/cm-3) aufweist, um zu verhindern, dass eine Verarmungsschicht in dem Epitaxie-Bereich von N-Typ 40f die Schicht vom P-Typ 40a erreicht.
  • Obwohl der Sensorchip 40 auf dem Halbleitersubstrat ausgebildet ist, das eine Schicht vom P-Typ als eine Basisschicht (eine erste Schicht) und eine Schicht vom N-Typ (eine zweite Schicht), die auf der Basisschicht ausgebildet ist, aufweist, können die Positionen der Schichten vom P-Typ und N-Typ umgekehrt sein. Das heißt, es kann eine Schicht vom N-Typ die erste Schicht sein, und eine Schicht vom P-Typ kann die zweite Schicht sein. Obwohl das Halbleitersubstrat verwendet wird, um die Sensorelemente in der vorherigen Ausführungsform auszubilden, können die Sensorelemente auf einer Siliziumschicht ausgebildet werden, die durch Dampfabscheidung auf der Membran 11 des Metallstamms 10 ausgebildet wird. In diesem Fall wird ein oxidierter Film, der zwischen der Siliziumschicht und der Membran angeordnet ist, als eine Isolierschicht verwendet.
  • Während die vorliegende Erfindung mit Bezug auf die vorherige bevorzugte Ausführungsform gezeigt und beschrieben wurde, ist es für den Fachmann selbstverständlich, dass Änderungen hinsichtlich der Form und der Details denkbar sind, ohne von dem Bereich der Erfindung, der in den zugehörigen Ansprüchen definiert ist, abzuweichen.

Claims (6)

  1. Drucksensor, der aufweist: einen Metallstamm (10) mit einer Membran (11) zum Erfassen eines darauf einwirkenden Druckes, wobei der Metallstamm in einem Gehäuse (30) enthalten ist, einen Halbleitersensorchip (40), der auf einer Vorderfläche der Membran über einer Isolierschicht (50) angebracht ist, und einen Dehnungsmesser (41) zum Umwandeln der Verzerrung der Membran, die von dem darauf einwirkenden Druck verursacht wird, in ein elektrisches Signal, wobei der Dehnungsmesser auf dem Halbleitersensorchip (40) ausgebildet ist, wobei: eine Abschirmungsschicht (44) zum elektrischen Trennen des Dehnungsmessers (41) von dem Metallstamm (10) in dem Halbleitersensorchip (40) ausgebildet ist und zwischen dem Dehnungsmesser (41) und der Isolierschicht (50) angeordnet ist.
  2. Drucksensor nach Anspruch 1, wobei: der Halbleitersensorchip (40) aus einem Siliziumhalbleiterchip besteht, der eine Leitungsschicht (40a) eines ersten Typs, die die Isolierschicht (50) kontaktiert, und eine Leitungsschicht (40b) eines zweiten Typs, die auf der Leitungsschicht eines ersten Typs geschichtet ist, aufweist, die Leitungsschicht (40a) eines ersten Typs als die Abschirmungsschicht (44) dient, und der Dehnungsmesser (41) durch einen Leitungsbereich (40c) eines ersten Typs ausgebildet ist, der in der Leitungsschicht (40b) eines zweiten Typs ausgebildet ist und von der Leitungsschicht (40a) eines ersten Typs getrennt ist.
  3. Drucksensor nach Anspruch 1 oder 2, wobei die Abschirmungsschicht (44) geerdet ist.
  4. Drucksensor nach Anspruch 1 oder 2, wobei die Abschirmungsschicht (44) mit einem Masseanschluss (GRD) des Halbleitersensorchips (40) elektrisch verbunden ist.
  5. Drucksensor nach Anspruch 2, wobei: der Dehnungsmesser (41) aus mehreren Dehnungsmesselementen besteht, die eine Brückenschaltung (48) bilden, die Widerstandsänderungen der Dehnungsmesselemente, die von der Verzerrung der Membran (11) verursacht werden, in ein elektrisches Signal umwandelt, der Sensorchip (40) eine Anschlussfläche (46) zum Erden der Abschirmungsschicht (44) und eine andere Anschlussfläche (42b) zum Erden der Brückenschaltung (48) enthält, wobei beide Anschlussflächen getrennt voneinander ausgebildet sind, und beide Anschlussflächen durch jeweilige Schaltungen, die getrennt voneinander ausgebildet sind, geerdet werden.
  6. Drucksensor nach Anspruch 2, wobei die Leitungsschicht (40a) eines ersten Typs eine Leitungsschicht vom P-Typ ist und die Leitungsschicht (40b) eines zweiten Typs eine Leitungsschicht vom N-Typ ist.
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