DE60108874T2 - Resistzusammensetzung - Google Patents

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Description

  • Die vorliegende Erfindung bezieht sich auf eine neue Resistzusammensetzung, die ein Fluorpolymer enthält. Genauer gesagt, bezieht sie sich auf eine Resistzusammensetzung, die als eine Art Resist zur chemischen Verstärkung, verwendbar zur Feinbearbeitung unter Einsatz verschiedener Lichtstrahlen, wie ferne ultraviolette Strahlen wie KrF-Laser oder ArF-Laser, Vakuum-ultraviolette Strahlen wie F2-Laser oder Röntgenstrahlen, verwendbar ist.
  • In den vergangenen Jahren war im Zusammenhang mit dem Fortschritt bei feinen Schaltkreismustern im Verfahren zur Herstellung von integrierten Halbleiterschaltkreisen ein Photoresistmaterial mit hoher Auflösung und hoher Empfindlichkeit wünschenswert. Als die Schaltkreismuster fein wurden, wurde eine kurze Wellenlänge einer Lichtquelle für ein Bestrahlungsgerät wichtig. Bei einer Lithographieanwendung, die einen Excimerlaser von 250 nm oder kürzer einsetzt, sind zum Beispiel ein Polyvinylphenolharz, ein alicyclisches Acrylharz oder ein Polynorbornanharz vorgeschlagen worden, jedoch sind keine adäquate Auflösung und Empfindlichkeit erhalten worden.
  • Es ist ein Ziel der vorliegenden Erfindung eine Resistzusammensetzung, die insbesondere hinsichtlich der Durchlässigkeit von Lichtstrahlen und der Trockenätzeigenschaften hervorragend ist, als eine Art Resist zur chemischen Verstärkung bereitzustellen, und die ein Resistmuster mit hervorragender Empfindlichkeit, Auflösung, Ebenheit, Wärmebeständigkeit usw. ergibt.
  • Die vorliegende Erfindung ist die folgende Erfindung, die zur Lösung der oben beschriebenen Probleme gemacht worden ist.
  • Eine Resistzusammensetzung, welche ein Fluorpolymer (A), umfassend Monomereinheiten (a) eines Fluorvinylmonomers mit -CF2-OR (worin R ein C1-10-Alkylrest ist) und Monomereinheiten (b) eines alicyclischen ethylenischen Monomers, eine Säureerzeugende Verbindung (B), welche eine Säure nach Bestrahlung mit Licht erzeugt, und ein organisches Lösungsmittel (C) umfaßt, wobei das Molverhältnis der Monomereinheiten (a) zu den Monomereinheiten (b) in dem Fluorpolymer (A) so ist, daß die Monomereinheiten (a)/Monomereinheiten (b) = 30:70/70:30 beträgt.
  • Nunmehr wird die Zusammensetzung der vorliegenden Erfindung ausführlich beschrieben.
  • Das Fluorpolymer (A) umfaßt als wesentliche Komponenten Monomereinheiten (a) eines Fluorvinylmonomers mit -CF2-OR und Monomereinheiten (b) eines alicyclischen ethylenischen Monomers (nachstehend werden Monomere, die die jeweiligen Monomereinheiten bilden als (Fluor)monomer (a) bzw. Monomer (b) bezeichnet).
  • Das Fluormonomer (a) ist eine Verbindung mit einer additionspolymerisierbaren ethylenischen Doppelbindung und weist bevorzugt andere Fluoratome als die Fluoratome in -CF2-OR auf. -CF2-OR kann an ein Kohlenstoffatom der ethylenischen Doppelbindung gebunden sein, ist jedoch bevorzugt an ein anderes Kohlenstoffatom als das Kohlenstoffatom der ethylenischen Doppelbindung gebunden. Ferner ist die ethylenische Doppelbindung bevorzugt eine ethylenische Doppelbindung mit gebundenen Fluoratomen, wie durch CF2=C dargestellt.
  • Das Fluormonomer (a) ist bevorzugt eine Verbindung, die durch die folgende Formel (1) dargestellt werden kann: CF2=CF(O)n(CF2)mOR (1)(worin n 0 oder 1 ist, m eine ganze Zahl von 1 bis 5 ist und R ein C1-10-Alkylrest ist).
  • Das Fluormonomer (a), dargestellt durch die Formel (1), ist stärker bevorzugt eine Verbindung, in der n 0 oder 1 ist, m 1 bis 3 ist und R ein C1-3-Alkylrest ist. Als das Fluormonomer (a) kann zum Beispiel speziell ein Fluoralken wie CF2=CFCF2OCH3, CF2=CFCF2OC2H5, CF2=CFCF2OC3H7, CF2=CFCF2CF2OCH3, CF2=CFCF2CF2OC2H5 oder CF2=CFCF2CF2OC3H7, und ein Fluorvinylether wie CF2=CFOCF2CF2OCH3, CF2=CFOCF2CF2OC2H5 oder CF2=CFOCF2CF2OC3H7 genannt werden. Diese Monomere können allein oder in Kombination als ein Gemisch aus zwei oder mehr von diesen verwendet werden.
  • Ferner kann ein Monomer wie CF2=CFCF2OR durch eine Umsetzung eines Perfluorallylhalogenids mit einem Metallalkoxid synthetisiert werden (I. L. Knunyants et al., Chem. Abs., 52, 251(1958)).
  • Ferner kann ein Monomer wie CF2=CFO(CF2)mOR durch eine Umsetzung des entsprechenden Säurefluorids mit Hexafluorpropylenoxid, gefolgt von Pyrolyse, synthetisiert werden (U.S.P. 4,358,412).
  • Das alicyclische ethylenische Monomer (b) ist ein alicyclischer Kohlenwasserstoff mit einer additionspolymerisierbaren ethylenischen Doppelbindung. Einige der Kohlenstoffatome, die den Ring des alicyclischen Kohlenwasserstoffes konstituieren, können durch ein zweiwertiges Atom wie ein Sauerstoffatom oder eine zweiwertige Gruppe wie -NH- substituiert sein. Die ethylenische Doppelbindung kann in dem alicyclischen Ring vorliegen oder sie kann außerhalb des alicyclischen Ringes vorliegen oder solche Doppelbindungen können in dem Ring und außerhalb des Ringes vorliegen (für gewöhnlich wird irgendeine der ethylenischen Doppelbindungen in die Polymerisationsreaktion einbezogen sein). Ferner kann der alicyclische Ring ein Einzelring, ein kondensierter polycyclischer Ring oder irgendein anderer Ring sein. Ferner kann das Monomer (b) Fluoratome aufweisen oder kann Fluoratome, andere Heteroatome oder Substituenten aufweisen. Für den Fall, daß das Monomer (b) Fluoratome aufweist, ist das Monomer (b) eine Verbindung, die das oben beschriebene -CF2-OR nicht aufweist.
  • Eines der Monomere (b) ist ein Monomer mit einer ethylenischen Doppelbindung an zumindest einem Kohlenstoffatom, das den alicyclischen Ring konstituiert. Es ist nämlich ein Monomer mit einer ethylenischen Doppelbindung zwischen den benachbarten Kohlenstoffatomen von den Kohlenstoffatomen, die den alicyclischen Ring konstituieren (ein Monomer mit einer ethylenischen Doppelbindung in dem alicycli schen Ring) oder ein Monomer mit einer ethylenischen Doppelbindung zwischen einem Kohlenstoffatom, das den alicyclischen Ring konstituiert, und einem Kohlenstoffatom außerhalb des alicyclischen Ringes. In dem Monomer mit einer ethylenischen Doppelbindung in dem alicyclischen Ring kann es zwei oder mehr ethylenische Doppelbindungen in dem alicyclischen Ring haben. Das erstere Monomer kann zum Beispiel ein Cycloalken oder ein Bicycloalken sein, und das letztere Monomer kann zum Beispiel ein Monomer sein, das durch die nachstehend genannte Formel (3) dargestellt wird.
  • Ein anderes Monomer (b) ist ein Monomer mit einer ethylenischen Doppelbindung außerhalb des alicyclischen Ringes. Es kann zum Beispiel ein Cycloalkan, ein Bicycloalkan oder ein Tricycloalkan, an das ein Vinylrest, ein Vinyloxyrest, ein Allylrest oder dergleichen gebunden ist.
  • Die folgenden Verbindungen können zum Beispiel als spezielle alicyclische ethylenische Monomere (b) genannt werden. Vinylcyclohexan, Vinyladamantan, Vinylnorbornane, Vinylbicyclooctan, Cyclohexylvinylether, Adamantylvinylether, Norbornylvinylether, Bicyclooctylvinylether, Norbornene, Norbornadiene, eine Verbindung, dargestellt durch die folgende Formel (2), und eine Verbindung, dargestellt durch die folgende Formel (3).
  • Figure 00040001
  • -CF2-OR in dem Fluorpolymer (A) wird unter sauren Bedingungen abgespalten und wird zu dem entsprechenden Esterrest oder einem Säurefluoridrest umgewandelt. Der Esterrest oder der Säurefluoridrest werden mit einer alkalischen wässerigen Lösung (einem Entwickler) umgesetzt und werden zu einem Alkalisalz einer Carbonsäure umgewandelt, wodurch das Polymer wasserlöslich wird. Das Fluorpolymer (A) zeigt nämlich Entwicklungsfähigkeit, wenn es mit der Säure-erzeugenden Verbindung (B) coexistent ist.
  • Das Molverhältnis der Monomereinheiten (a) zu den Monomereinheiten (b) in dem Fluorpolymer (A) ist so, daß die Monomereinheiten (a)/Monomereinheiten (b) = 30:70/70:30 betragen. Wenn der Teil der Monomereinheiten (a) kleiner ist, werden die Lichtdurchlässigkeit und die Entwicklungsfähigkeit für gewöhnlich gering sein und wenn der Teil der Monomereinheiten (b) kleiner ist, werden die Wärmebeständigkeit und die Ätzhaltbarkeit für gewöhnlich gering sein.
  • Das Fluorpolymer (A) kann Monomereinheiten aus einem copolymerisierbaren Monomer, bevorzugt einem radikalisch polymerisierbaren Monomer, die sich von den den Monomereinheiten (a) und den Monomereinheiten (b) unterscheiden, in einem Bereich, der seine Eigenschaften nicht beeinträchtigt, enthalten. Der Anteil solcher anderer Monomereinheiten beträgt bevorzugt höchstens 15 mol-%, basierend auf den gesamten Monomereinheiten.
  • Das Molekulargewicht des Fluorpolymers (A) ist nicht besonders eingeschränkt, so lange es in dem nachstehend genannten organischen Lösungsmittel gleichmäßig gelöst werden kann und einheitlich auf ein Substrat beschichtet werden kann. Sein zahlenmittleres Molekulargewicht, wie als Polystyrol berechnet, beträgt jedoch für gewöhnlich 1.000 bis 100.000, bevorzugt 2.000 bis 20.000. Ist das zahlenmittlere Molekulargewicht kleiner als 1.000, werden wahrscheinlich Probleme dahingehend auftreten, daß die resultierenden Resistmuster für gewöhnlich schadhaft sein werden, die Filmrestrate nach der Entwicklung für gewöhnlich gering sein wird oder die Formstabilität während der Wärmebehandlung der Muster für gewöhnlich gering sein wird. Übersteigt das zahlenmittlere Molekulargewicht andererseits 100.000, wird die Beschichtungseigenschaft der Zusammensetzung wahrscheinlich schlecht sein, oder die Entwickelbarkeit wird wahrscheinlich gering sein.
  • Das Fluorpolymer (A) kann durch die Copolymerisation der vorgeschriebenen Anteile der oben genannten Monomere in Gegenwart einer die Polymerisation initiierenden Quelle erhalten werden. Eine solche die Polymerisation initiierende Quelle ist nicht besonders eingeschränkt, so lange die Polymerisationsreaktion radikalisch von statten gehen kann. Sie kann zum Beispiel ein Radikal-erzeugendes Mittel, Licht- oder Ionenstrahlung sein. Besonders bevorzugt ist ein Radikal-erzeugendes Mittel wie ein Peroxid, eine Azoverbindung oder ein Persulfat.
  • Das Verfahren zur Polymerisation ist ebenso nicht besonders eingeschränkt und kann zum Beispiel die so genannte Massepolymerisation, worin die Monomere so wie sie sind der Polymerisation unterzogen werden können, Lösungspolymerisation, die in einem Fluorkohlenwasserstoff, einem Chlorkohlenwasserstoff, einem fluorierten Chlorkohlenwasserstoff, einem Alkohol, einem Kohlenwasserstoff oder irgendeinem anderen organischen Lösungsmittel, das die Monomere auflösen kann, durchgeführt wird, Suspensionspolymerisation, die in einem wäßrigen Medium in Abwesenheit oder Gegenwart eines geeigneten organischen Lösungsmittels durchgeführt wird, oder Emulsionspolymerisation, die durch die Zugabe eines Emulgators zu einem wäßrigen Medium durchgeführt wird, sein. Die Temperatur oder der Druck der Polymerisation sind nicht besonders eingeschränkt. Die Temperatur wird bevorzugt in einem Bereich von 0 bis 200°C, bevorzugt von Raumtemperatur bis 100°C eingestellt. Der Druck liegt bevorzugt im Bereich von höchstens 10 MPa, besonders bevorzugt im Bereich von höchstens 3 MPa.
  • Als die Säure-erzeugende Verbindung (B), die bei Bestrahlung mit Licht eine Säure erzeugt, kann eine Säure-erzeugende Verbindung eingesetzt werden, die herkömmlicherweise als eine Art Resistmaterial zur chemischen Verstärkung verwendet wird. Beispielsweise kann ein Oniumsalz wie ein Diaryliodoniumsalz, ein Triarylsulfoniumsalz, ein Arylphenyldiazoniumsalz oder ein Trialkylsulfoniumsalz, oder ein Trichlormethyl-s-triazin genannt werden.
  • Das organische Lösungsmittel (C) ist nicht besonders eingeschränkt, so lange es sowohl das Fluorpolymer (A) als auch die Säure-erzeugende Verbindung (B) lösen kann. Zum Beispiel kann ein Alkohol wie Methylalkohol oder Ethylalkohol, ein Keton wie Aceton, Methylisobutylketon oder Cyclohexanon, ein Acetat wie Ethylacetat oder Butylacetat, ein aromatischer Kohlenwasserstoff wie Toluol oder Xylol, ein Glykolmonoalkylether wie Propylenglykolmonomethylether oder Propylenglykolmono ethylether, oder ein Glykolmonoalkyletherester wie Propylenglykolmonomethyletheracetat oder Carbitolacetat genannt werden.
  • Die Anteile der jeweiligen Komponenten in der Resistzusammensetzung der vorliegenden Erfindung sind für gewöhnlich so, daß pro 100 Massenteile des Fluorpolymers (A), die Säure-erzeugende Verbindung (B) 0,1 bis 20 Massenteile beträgt, und das organische Lösungsmittel (C) 50 bis 2.000 Massenteile beträgt. Bevorzugt beträgt die Säure-erzeugende Verbindung (B) pro 100 Massenteile des Fluorpolymers (A) 0,1 bis 10 Massenteile, und das organische Lösungsmittel (C) 100 bis 1.000 Massenteile.
  • In die Resistzusammensetzung der vorliegenden Erfindung kann beispielsweise gegebenenfalls ein oberflächenaktives Mittel zur Verbesserung der Beschichtungseigenschaft, eine Stickstoff-enthaltende basische Verbindung zur Einstellung des Säure-erzeugenden Musters und ein haftunterstützendes Mittel zur Verbesserung der Haftung mit dem Substrat oder ein Lagerungsstabilisator zur Steigerung der Lagerstabilität der Zusammensetzung eingeführt werden. Ferner wird die Resistzusammensetzung der vorliegenden Erfindung bevorzugt so eingesetzt, daß die jeweiligen Komponenten gleichmäßig gemischt werden, gefolgt von der Filtration mittels eines Filters von 0,2 bis 2 μm.
  • Die Resistzusammensetzung der vorliegenden Erfindung wird auf ein Substrat wie einen Silikonwafer beschichtet, gefolgt vom Trocknen, um einen Resistfilm zu bilden. Als das Beschichtungsverfahren kann zum Beispiel Aufschleudern, Streichgießbeschichtung oder Walzenbeschichtung eingesetzt werden. Der gebildete Resistfilm wird mittels einer Maske mit einem Muster darauf mit Licht bestrahlt, gefolgt von der Entwicklungsbehandlung, um ein Muster zu bilden.
  • Die Lichtstrahlen zur Bestrahlung können zum Beispiel ultraviolette Strahlen wie g-Line mit einer Wellenlänge von 436 nm oder i-Line mit einer Wellenlänge von 365 nm, ferner ultraviolette Strahlen oder Vakuum-ultraviolette Strahlen wie KrF-Laser mit einer Wellenlänge von 248 nm oder F2-Laser mit einer Wellenlänge von 157 nm, oder Röntgenstrahlen sein. Die Resistzusammensetzung der vorliegenden Erfindung ist eine Resistzusammensetzung, die insbesondere für eine Anwendung verwendbar ist, wo ultraviolette Strahlen mit einer Wellenlänge von 200 nm (nachstehend als ultraviolette Stahlen mit kurzer Wellenlänge bezeichnet) als die Lichtquelle verwendet werden.
  • Als die Entwicklungsbehandlungslösung werden verschiedene alkalische wäßrige Lösungen eingesetzt. Zum Beispiel können insbesondere Natriumhydroxid, Kaliumhydroxid, Ammoniumhydroxid, Tetramethylammoniumhydroxid und Triethylamin genannt werden.
  • Beispiele
  • Nunmehr wird die vorliegende Erfindung anhand der Beispiele ausführlich beschrieben, jedoch wird die vorliegende Erfindung keineswegs durch diese Beispiele eingeschränkt. Zuerst, vor den Beispielen, werden Herstellungsbeispiele der Polymere, die in der vorliegenden Erfindung verwendet werden, gezeigt. Hierbei stellt R113 Trichlortrifluorethan (organisches Lösungsmittel) dar, und TFE stellt Polytetrafluorethylen dar.
  • Herstellungsbeispiel 1
  • In einen entlüfteten Edelstahlautoklaven mit einem Fassungsvermögen von 0,2 l, ausgestattet mit einem Rührer, wurden 150 g R113 geladen und 23,6 g CF2=CFCF2OC2H5 (nachstehend einfach mit EFP bezeichnet), 12,6 g Norbornen und 10 ml einer Lösung, die 10 Masse-% Diisopropylperoxydicarbonat in R113 enthielt, wurden zugegeben, woraufhin die Temperatur auf 40°C erhöht wurde, um die Polymerisation zu initiieren. Nach einer 5stündigen Reaktion wurde der Autoklav auf Raumtemperatur abgekühlt, und dann wurde die Polymerlösung herausgenommen. Die erhaltene Polymerlösung wurde in Methanol gegeben, um das Polymer auszufällen, das gewaschen und dann bei 50°C vakuumgetrocknet wurde, wodurch 7,5 g eines Fluorpolymers erhalten wurden.
  • Die Zusammensetzung des erhaltenen Polymers sah so aus, daß EFP-Einheiten/Norborneneinheiten = 45/55 (mol-%) betrugen. Das Molekulargewicht des erhaltenen Polymers wurde durch GPC gemessen, wobei das zahlenmittlere Molekulargewicht, wie als Polystyrol berechnet, 5.200 betrug.
  • Herstellungsbeispiel 2
  • In einen entlüfteten Edelstahlautoklaven mit einem Fassungsvermögen von 0,2 l, ausgestattet mit einem Rührer, wurden 150 g R113 geladen und 41,0 g CF2=CFCF2OC3H7 (nachstehend einfach mit PPBVE bezeichnet), 12,6 g Norbornen und 10 ml einer Lösung, die 10 Masse-% Diisopropylperoxydicarbonat in R113 enthielt, wurden zugegeben, woraufhin die Temperatur auf 40°C erhöht wurde, um die Polymerisation zu initiieren. Nach einer 5stündigen Reaktion wurde der Autoklav auf Raumtemperatur abgekühlt, und dann wurde die Polymerlösung herausgenommen. Die erhaltene Polymerlösung wurde in Methanol gegeben, um das Polymer auszufällen, das gewaschen und dann bei 50°C vakuumgetrocknet wurde, wodurch 9,8 g eines Fluorpolymers erhalten wurden.
  • Die Zusammensetzung des erhaltenen Polymers sah so aus, daß PPBVE-Einheiten/Norborneneinheiten = 40/60 (mol-%) betrugen. Das Molekulargewicht des erhaltenen Polymers wurde durch GPC gemessen, wobei das zahlenmittlere Molekulargewicht, wie als Polystyrol berechnet, 7.500 betrug.
  • Herstellungsbeispiel 3
  • In einen entlüfteten Edelstahlautoklaven mit einem Fassungsvermögen von 0,2 l, ausgestattet mit einem Rührer, wurden 150 g R113 geladen und 23,6 g EFP, 16,9 g Cyclohexylvinylether und 10 ml einer Lösung, die 10 Masse-% Diisopropylperoxydicarbonat in R113 enthielt, wurden zugegeben, woraufhin die Temperatur auf 40°C erhöht wurde, um die Polymerisation zu initiieren. Nach einer 5stündigen Reaktion wurde der Autoklav auf Raumtemperatur abgekühlt, und dann wurde die Polymerlösung herausgenommen. Die erhaltene Polymerlösung wurde in Methanol gegeben, um das Polymer auszufällen, das gewaschen und dann bei 50°C vakuumgetrocknet wurde, wodurch 5,5 g eines Fluorpolymers erhalten wurden.
  • Die Zusammensetzung des erhaltenen Polymers sah so aus, daß EFP-Einheiten/Cyclohexylvinylehtereinheiten = 48/52 (mol-%) betrugen. Das Molekulargewicht des erhaltenen Polymers wurde durch GPC gemessen, wobei das zahlenmittlere Molekulargewicht, wie als Polystyrol berechnet, 9.200 betrug.
  • Herstellungsbeispiele 4 und 5
  • Es wurde dieselbe Behandlung wie in Herstellungsbeispiel 1 durchgeführt, außer daß das Beschickungsverhältnis der Monomere wie nachstehend gezeigt verändert wurde. Die Ergebnisse werden in Tabelle 1 gezeigt.
  • Tabelle 1
    Figure 00100001
  • Beispiel 1
  • 100 Massenteile des Fluorpolymers, das in Herstellungsbeispiel 1 hergestellt wurde, und 5 Massenteile Trimethylsulfoniumtriflat wurden in 700 Massenteilen Propylenglykolmonomethyletheracetat gelöst, gefolgt von der Filtration durch einen PTFE-Filter mit einem Porendurchmesser von 0,1 μm, um eine Resistzusammensetzung zu erhalten. Die obige Resistzusammensetzung wurde auf ein Siliciumsubstrat, das mit Hexamethyldisilazan behandelt wurde, aufgeschleudert, gefolgt von der Wärmebehandlung bei 80°C für 2 Minuten, um einen Resistfilm mit einer Dicke von 0,3 μm zu bilden. Das Absorptionsspektrum dieses Films wurde durch ein Photometer für ultraviolettes sichtbares Licht gemessen, wobei die Durchlässigkeit bei 193 nm 82% betrug. Das Substrat mit dem obigen Resistfilm wurde in ein Bestrahlungstestgerät, daß mit Stickstoff gespült wurde, eingebracht und eine Maske mit einem Muster aus Chrom auf einer Quarzplatte wurde darauf in engem Kontakt aufgebracht. ArF-Excimerlaserstrahlen wurden durch die Maske gestrahlt, woraufhin nach der Bestrahlung bei 100°C für zwei Minuten wärmebehandelt wurde. Die Entwicklung wurde bei 23°C für 3 Minuten mit einer wäßrigen Tetramethylammoniumhydroxid-Lösung (0,15 Masse-%) durchgeführt, und dann wurde die Wäsche für eine Minute mit reinem Wasser durchgeführt. Im Ergebnis wurde bei einer Bestrahlung von 20 mJ/cm2 nur der bestrahlte Teil des Resistfilms gelöst und durch den Entwickler entfernt, wobei eine positive 0,25 μm-Linie und Raummuster erhalten wurden.
  • Beispiele 2 bis 5
  • Diese Beispiele wurden auf dieselbe Weise wie in Beispiel 1 unter Verwendung der in den Herstellungsbeispielen 2 bis 5 hergestellten Fluorpolymere durchgeführt. Die Ergebnisse werden in Tabelle 2 gezeigt.
  • Tabelle 2
    Figure 00110001
  • Beispiel 6
  • Die Ätzbeständigkeit der Resistfilme der Beispiele 1 bis 5 wurde gemessen. Die Ergebnisse werden in Tabelle 3 gezeigt.
  • Tabelle 3
    Figure 00120001
  • Ätzbeständigkeit: Die Ätzrate wurde durch Argon/Octafluorcyclobutan/Sauerstoff-Mischgasplasma gemessen, wobei, wenn ein Novolakharz mit 1 eingeschätzt wurde, einer mit einer Bewertung von 1,0 oder weniger durch ⊙ dargestellt wird, einer mit einer Bewertung von mehr als 1 und weniger als 1,2 durch O dargestellt wird und einer mit einer Bewertung von mehr als 1,2 durch X dargestellt wird.
  • Die Resistzusammensetzung der vorliegenden Erfindung zeigt hervorragende Ätzeigenschaften und Transparenz insbesondere gegenüber ultravioletten Strahlen im kurzen Wellenlängenbereich, als eine Art Resist zur chemischen Verstärkung und kann ohne weiteres ein Resistmuster mit hervorragender Empfindlichkeit, Auflösung, Ebenheit, Wärmebeständigkeit usw. bilden.

Claims (7)

  1. Resistzusammensetzung, welche ein Fluorpolymer (A), umfassend Monomereinheiten (a) eines Fluorvinylmonomers mit -CF2-OR (worin R ein C1-10-Alkylrest ist) und Monomereinheiten (b) eines alicyclischen ethylenischen Monomers, eine Säure-erzeugende Verbindung (B), welche eine Säure nach Bestrahlung mit Licht erzeugt, und ein organisches Lösungsmittel (C) umfaßt, wobei das Molverhältnis der Monomereinheiten (a) zu den Monomereinheiten (b) in dem Fluorpolymer (A) (a)/(b) = 30:70/70:30 beträgt.
  2. Resistzusammensetzung nach Anspruch 1, wobei das Fluorvinylmonomer mit -CF2-OR eine Verbindung, dargestellt durch die folgende Formel (1) ist: CF2=CF(O)n(CF2)mOR (1)(worin n 0 oder 1 ist, m eine ganze Zahl von 1 bis 5 ist und R ein C1-10-Alkylrest ist).
  3. Resistzusammensetzung nach Anspruch 2, wobei in der Formel (1) n 0 oder 1 ist, m eine ganze Zahl von 1 bis 3 ist, und R ein C1-3-Alkylrest ist.
  4. Resistzusammensetzung nach Anspruch 1, 2 oder 3, wobei das alicyclische ethylenische Monomer ein alicyclisches ethylenisches Monomer ist, das eine ethylenische Doppelbindung an mindestens einem Kohlenstoffatom, welches den alicyclischen Ring konstituiert, aufweist.
  5. Resistzusammensetzung nach Anspruch 1, 2 oder 3, wobei das alicyclische ethylenische Monomer ein alicyclisches ethylenisches Monomer ist, das eine ethylenische Doppelbindung außerhalb des alicyclischen Ringes aufweist.
  6. Resistzusammensetzung nach einem der Ansprüche 1 bis 5, wobei die Säureerzeugende Verbindung (B) ein Oniumsalz ist.
  7. Resistzusammensetzung nach einem der Ansprüche 1 bis 6, welche 100 Massenteile des Fluorpolymers (A), von 0,1 bis 20 Massenteile der Säureerzeugenden Verbindung (B) und von 100 bis 1.000 Massenteile des organischen Lösungsmittels (C) umfaßt.
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