DE60000018T2 - Elektrochemischer Prozess zur Herstellung eines Körpers mit dreidimensionaler periodischer Sruktur - Google Patents
Elektrochemischer Prozess zur Herstellung eines Körpers mit dreidimensionaler periodischer SrukturInfo
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Description
- Die Erfindung betrifft Strukturen, die eine dreidimensionale Periodizität aufweisen, beispielsweise Strukturen, die für photonische Anwendungen nützlich sind.
- Seit kurzem gibt es ein zunehmendes Interesse an periodischen, dielektrischen Strukturen, auch als photonische Kristalle bezeichnet (PK), insbesondere zeigen photonische Kristalle Lücken in photonischen Bandstrukturen (die auch als photonische Bandlücken (PBG) -Materialien) für zahlreiche photonische Anwendungen bekannt sind. Siehe, z. B. P. S. J. Russell, "Photonische Bandlücken" Physics World, 37, August 1992; I. Amato, "Konstruieren von Kristallen, die Nein zu Photonen sagen," Science, Bd. 255, 1512 (1993); und US- Patente Nr. 5 600 483 und 5 172 267. PBG-Materialien zeigen eine photonische Bandlücke, analog einer elektronischen Halbleiter-Bandlücke, die eine Fortpflanzung bestimmter Lichtfrequenzen unterdrückt und dabei, zum Beispiel, Photonlokalisation oder Inhibition spontaner Emissionen anbietet. Ein photonischer Kristall wird im allgemeinen durch Bereitstellen eines dielektrischen Materials mit einem hohen Brechungsindex gebildet, welches ein dreidimensionales Gitter von Hohlräumen oder Fehlstellen aufweist, die einen niedrigen Brechungsindex haben. Photonen gelangen in das Materialkonzentrat entweder bei hohen Indexregionen oder niedrigen Indexregionen, was von der besonderen Energie des Photons abhängt, und die photonische Bandlücke besteht für Photonen einer speziellen Energie zwischen den beiden Regionen. Photonen, deren Energie innerhalb der photonischen Bandlücken liegt, können sich nicht durch das Material fortpflanzen, wobei ihre Wellenfunktion bei Eintreten in das Material zerfällt. Die photonische Bandstruktur hängt daher von der Genauigkeit der physikalischen Struktur und von deren Brechungsindex ab, und einige Schwierigkeiten sind bei der Herstellung solcher Materialien entstanden. Insbesondere ist es schwierig gewesen, ein dreidimensionales Gitter im Mikronmaßstab zu organisieren, insbesondere für Materialien mit hohem Brechungsindex.
- In einem Lösungsweg, reflektiert in den zuvor zitierten US-Patenten, sind feste Materialien mit zahlreichen Löchern mit Hilfe mechanischer Verfahren vorgesehen, z. B. durch Bohren oder durch lithografische Verfahren, z. B. Ätzen. Dieser Lösungsweg hat nützliche Ergebnisse erbracht, ist aber durch das Leistungsvermögen der heutigen Verfahrenstechnologie begrenzt, um die erforderliche Struktur zu liefern.
- In einem weiteren Lösungsweg wurden geordnete kolloidale Suspensionen oder Sedimentteilchen mit relativ niedrigem Brechungsindex, wie z. B. Polystyrol, auch als kolloidale Kristalle genannt, als Schablonen für Infiltration oder Niederschlag von Materialien mit hohem Brechungsindex in einer gewünschten Struktur benutzt, und die Teilchen wurden dann weggeätzt oder ausgebrannt, um die Fehlstellen zu bilden. Siehe z. B. B. T. Holland et al., "Synthese von Makroporen-Mineralien mit hochgeordneten, dreidimensionalen Anordnungen von sphäroidischen Fehlstellen", Science, Bd. 281, 538 (Juli 1998); E. G. Judith et al., "Präparation von photonischen Kristallen, hergestellt aus Luftkugeln in Titan", Science, Bd. 281, 802 (Juli 1998) und A. A. Zakhidov et al., "Kohlenstoffstrukturen mit dreidimensionaler Periodizität bei optischen Wellenlängen", Science, Bd. 282, 897 (Oktober 1998). Die Infiltration/der Niederschlag wurde beispielsweise durch ein Sol-Gel-Verfahren mit Alkalioxid und durch chemischen Dampfniederschlag durchgeführt. Die bis jetzt erhaltenen Ergebnisse haben sich als interessant erwiesen, sind aber noch weit davon entfernt, ein kommerziell verwertbares Produkt zu liefern. Insbesondere scheint die Infiltration/der Niederschlag des Materials mit hohem Brechungsindex ungenügend zu sein (z. B. führt niedrige Dichte zu niedrigem Brechungsindex) und zu Ungleichmäßigkeit zu führen. Beispielsweise wurden während des Sol-Gel- Niederschlags bei Alkalioxid und der chemische Dampfniederschlag (CVD) einige Fehlstellen nahe dem Äußeren des Kristalls verstopft, so dass die Gelbildung bzw. der Niederschlag an inneren Fehlstellen unterdrückt wurde. Überdies schafft ungenügende und unangemessene Infiltration Fehlstellen innerhalb des Hochindexmaterials und verursacht wesentliche Schrumpfung und führt daher zu Rissbildung während des Entfernens des Schablonenmaterials.
- Daher sind verbesserte Verfahren zur Herstellung von Materialien mit hoher Dichte und mit im wesentlichen gleichmäßiger photonischer Bandlücke wünschenswert.
- Der Leser wird auf die US-A-9 947 252 verwiesen. Sie beschreibt die Bildung eines kolloidalen Kristalls, hergestellt aus Silica oder PMMA-Kugeln. Polymerisches Material wird in die Zwischenräume zwischen den Kugeln eingeführt, die den kolloidalen Kristall bilden, und die Polymerisation wird elektrochemisch eingeleitet. Das polymere Material dient zum Befestigen der Position der Kugeln.
- Ein Verfahren in Übereinstimmung mit der Erfindung ist in Anspruch 1 definiert.
- Ein Beispiel des erfindungsgemäßen Verfahrens liefert eine Struktur, z. B. ein photonisches Bandlückenmaterial, das eine wesentliche Periodizität in einem Mikronmaßstab zeigt, wobei das Verfahren zu verbesserter Dichte und mechanischer Integrität führt, verglichen mit laufenden Verfahren. Periodizität, wie hier benutzt, zeigt an, dass sich die Struktur aus einer dreidimensionalen, periodischen Anordnung von wiederholten Einheiten zusammensetzt. Siehe z. B. N. W. Ashcroft et al., Solid State Physics, 64, W. B. Saunders Co. (1976). Das exemplarische Verfahren beinhaltet die Schritte zum Bereitstellen einer Schablone, die einen kolloidalen Kristall aufweist, ferner Einbringen der Schablone in eine elektrolytische Lösung und elektrochemisches Bilden eines Gittermaterials, z. B. eines Materials mit einem hohen Brechungsindex innerhalb des kolloidalen Kristalls. Die kolloidalen Kristallteilchen werden dann in typischer Art und Weise, z. B. durch Erwärmen, Ätzen oder Auflösen entfernt, um die gewünschte Struktur zu bilden. Die Elektrode ist im allgemeinen so orientiert, dass der Elektroniederschlag im wesentlichen entlang einer Ebene stattfindet, die sich in einer Einzelrichtung bewegt, um eine gewünschte Dichte zu erreichen. Überdies gibt es, da das elektrochemisch gewachsene Gitter selbst ein dreidimensional zwischengeschalteter Feststoff ist, im wesentlichen keine Schrumpfung bei der nachfolgenden Behandlung, um den kolloidalen Kristall zu entfernen. Nützliche Gittermaterialien, die durch Elektrochemie gebildet werden, umfassen, sind aber nicht darauf beschränkt, Cadmiumsulfid, Cadmiumselenid, Zinkselenid, Selen und verschiedene Metalle.
- Fig. 1 ist ein Rasterelektronenmikroskopbild eines geordneten Cadmiumselenidgitters, gebildet durch ein Beispiel der Erfindung.
- Fig. 2 ist ein Raster-Elektronenmikroskopbild eines geordneten Cadmiumsulfidgitters, gebildet durch ein Beispiel der Erfindung.
- Das Beispiel der Erfindung beinhaltet die Schritte zum Bereitstellen einer Schablone, die einen kolloidalen Kristall enthält; Einbringen der Schablone in eine elektrolytische Lösung und elektrochemisches Bilden eines Gittermaterials, z. B. ein Material mit hohem Brechungsindex innerhalb des kolloidalen Kristalls. Die kolloidalen Kristallteilchen werden dann in typischer Art und Weise entfernt, z. B. durch Erwärmen, Ätzen oder Auflösen. Die resultierende Struktur ist ein Materialgitter, das eine periodische Anordnung von Fehlstellen enthält, welche ein Abbild der Kristallschablone sind.
- Kolloidale Kristalle sind periodische Strukturen, die von kleinen, in Lösung suspendierten Teilchen in typischer Art und Weise gebildet werden. Es ist möglich, sie durch langsame Sedimentation von im wesentlichen gleich großen Teilchen in einer Flüssigkeit dergestalt herzustellen, dass sich die Teilchen in einer periodischen Art und Weise selbst ordnen. Andere Herstellungsverfahren sind auch möglich. Für photonische Bandlückenanwendungen liegt der durchschnittliche Teilchendurchmesser typisch im Bereich von etwa 100 nm bis etwa 5 um. Verschiedene Größen sind möglich, jedoch hängt dies von der gewünschten Struktur, der Verwendung des Endproduktes und den vorhandenen Nanoteilchen ab, welche genügend kleiner als die Räume zwischen den Kristallteilchen sind. Es ist möglich, kolloidale Kristalle aus irgendwelchen geeigneten Materialien zu bilden. Beispiele hierfür sind Polystyrol, Polymethylmethacrylat und Silica. Polystyrol und andere organische Stoffe sind nach Bildung der fest zusammenhängenden Nanoteilchenstruktur durch Erhitzen leicht entfernbar. Silicateilchen sind durch Ätzen, z. B. durch HF, leicht entfernbar.
- Die Gitterstruktur von kolloidalen Kristallen zeigt im allgemeinen eine zweidimensionale Periodizität, aber nicht notwendigerweise eine substantielle, dreidimensionale Periodizität. Insbesondere führt Sedimentation der kolloidalen Teilchen zu einem ungeordneten Stapeln mit dichtest-gepackten Ebenen senkrecht zur Schwerkraft. Solch eine dichtest-gepackte Struktur zeigt im wesentlichen nicht eine substantielle, dreidimensionale Periodizität wegen der Zufälligkeit in der Schwerkraftrichtung. Es ist möglich, dass solche Materialien für einige Anwendungen, z. B. für Filter und Katalysatoren, geeignet sind. Jedoch ist es für viele PBG-Anwendungen wünschenswert, Materialien zu haben, die eine echte, substantielle dreidimensionale Periodizität haben. Eine Möglichkeit, dies zu tun, besteht darin, eine kolloidale Epitaxie zu benutzen, um den Schablonenkristall zu bilden, wie diskutiert in A. von Blaaderen et al., "Schablonen gerichtete kolloidale Kristallisation", Nature, Bd. 385, 321 (Januar 1997). Kolloidale Epitaxie beinhaltet Wachsen eines kolloidalen Kristalls, der senkrecht zu einem darunter liegenden Muster steht, z. B. eine Serie von Löchern, die einen bestimmten dreidimensional geordneten Kristall wiedergeben, z. B. die (100)-Fläche eines flächenzentrierten kubischen Kristalls (FCC). Die Löcher ordnen die erste Schicht von abgesetzten kolloidalen Teilchen in einer Art und Weise, die die weitere Sedimentation steuert.
- Die Elektrode für den Elektroniederschlag wird durch irgendein geeignetes Verfahren bereitgestellt. Beispielsweise ist es möglich, den kolloidalen Kristall auf ein leitfähiges Substrat zu platzieren, um den Kristall auf einem leitfähigen Substrat zu bilden oder eine leitfähige Schicht auf einer Fläche des kolloiden Kristalls niederzuschlagen. Die Elektrode ist im allgemeinen dergestalt orientiert, dass der Elektro-Niederschlag im wesentlichen entlang einer Ebene stattfindet, die sich in einer Einzelrichtung bewegt, um eine gewünschte Dichte zu erreichen. Das leitfähige Substrat ist irgendein Material, das geeignet ist, um den erforderlichen Strom während des Elektroniederschlages zu liefern. Beispiele umfassen Indiumzinnoxid und goldplattiertes oder platinplattiertes Glas oder Saphir (bei dem das Plattieren z. B. durch Elektronenstrahl-Niederschlag durchgeführt wird). Vorteilhaft ist, dass das Substrat bei irgendwelchen Ätz- oder Auflösungsschritten stabil ist, die in den Verfahren benutzt werden. Das leitfähige Substrat und der kolloidale Kristall werden in typischer Weise so gewählt, dass der Kristall am Substrat gut haftet. Es ist auch möglich, das Substrat und den Kristall zu behandeln, um eine derartige Haftung zu fördern. Diese Haftung ist dahingehend wünschenswert, dass sie den Kristall während des Elektro- Niederschlages sichert, was die Stabilität, die Dichte und die Gleichmäßigkeit des niedergeschlagenen Gittermaterials verbessert.
- Das Gittermaterial ist irgendein Material, das für den Elektro-Niederschlag geeignet ist, welcher die gewünschten Eigenschaften in der Endstruktur liefert. Für photonische Bandlückenmaterialien zeigt das Gittermaterial vorteilhaft einen Brechungsindex von etwa 2 oder größer wie auch einen relativ geringen Verlust. Solche Hochindexmaterialien umfassen Kadmiumsulfid, Kadmiumselenid, Selen und Zinkselenid. Eine Vielzahl von Metallen ist auch geeignet, z. B. für Anwendungen, wie Filter, Katalysatoren und bioverträgliche Körper.
- Der Elektro-Niederschlag wird durch irgendwelche elektrochemischen Wege durchgeführt. Im allgemeinen sind elektrochemische Verfahren, die zur Bildung dünner Filme auf leitfähigen Substraten benutzt werden, geeignet, um das dreidimensionale Gitter innerhalb des Schablonenkristalls zu bilden. Eine besondere Betrachtung besteht darin, dass das Substrat, der kolloidale Kristall und das Elektroniederschlagverfahren so gewählt werden sollten, dass das Substrat und der Kristall während der Elektroniederschlagung im wesentlichen intakt bleibt. Außerdem ist ein Verfahren, das eine genügend schnelle Wachstumsrate liefert, in typischer Weise erwünscht. Der Elektroniederschlag liefert ein dichtes und gleichmäßiges Gitter, da die Bildung in der Nähe des leitfähigen Substrats (oder an einer anderen Elektrode) beginnt und sich nach oben entlang der kolloidalen Kristallschablone bewegt, wobei das Wachstum im wesentlichen entlang einer Ebene erfolgt, die sich in einer einzigen Richtung bewegt, d. h. senkrecht zum Substrat. Da das elektrochemisch gewachsene Gitter ein dreidimensional verbundener Feststoff ist, gibt es überdies eine sehr geringe Schrumpfung bei der nachfolgenden Behandlung, bei der der kolloidale Kristall entfernt wird.
- Sobald der Elektroniederschlag fertiggestellt ist, wird das sich ergebende Verbundmaterial im allgemeinen behandelt, um das kolloidale Kristallmaterial zu entfernen. Beispielsweise wird im Falle eines organischen kolloidalen Kristalls das Verbundmaterial in typischer Weise erhitzt, um das organische Material herauszubrennen, z. B. bei einer Temperatur von mindestens 250ºC. Andere Verfahren sind ebenfalls möglich, wie z. B. Bestrahlung oder plasmaunterstütztes Ätzen des organischen Materials. Im Falle anorganischer Materialien wird im allgemeinen ein geeignetes Ätzmittel benutzt, z. B. Aussetzen von Silica zu HF.
- Für ein solches Ätzmittel ist es möglich, auch das darunterliegende leitfähige Substrat zu entfernen, was von dem besonderen benutzten Substrat abhängt. Die Größe der Fehlstellen hängt, wie zuvor erwähnt, von den Teilchen des kolloidalen Kristalls ab. Für photonische Anwendungen liegen die Fehlstellen im Bereich von etwa 100 nm bis etwa 5 um, und der effektive Brechungsindex ist vorteilhaft größer als 2.
- Die geordnete Struktur ist für verschiedene photonische Anwendungen einschließlich optischer Filter, optischer Schalter, Wellenleiter, Router, Laserhohlräume und andere photonische Bandlückenanwendungen geeignet. Besondere Ausführungsbetrachtungen für PBG-Materialien sind im Stand der Technik genannt, wie beispielsweise reflektiert in J. D. Joannopoulos et al., "Photonische Kristalle", Princeton University Press (1995). Andere Anwendungen enthalten Filter, Katalysatoren und bioverträgliche Materialien.
- Die Erfindung wird ferner durch die folgenden Beispiele, die nur beispielhaft sein sollen, erläutert.
- Ein wasserhaltiger, bei Raumtemperatur durchgeführter potentiostatischer Niederschlag von CdSe wurde wie folgt durchgeführt; siehe auch J. D. Klein et al., "Elektrochemische Herstellung von Cadmium-Chalkogenide Mikrodioden-Anordnungen", Chem. Mater, Bd. 5, 902 (1993). Ein Indiumzinnoxid-Substrat (niedergeschlagen auf Glas) wurde benutzt. Das Substrat wurde durch eine zehnminütige Schallbehandlung in Äthanol gereinigt, gefolgt von einer einminütigen Schallbehandlung in 50%iger HCl. Ein kolloidaler Kristall aus Polystyrol wurde von einer wässrigen Suspension gebildet und auf einem Indiumzinnoxid-Substrat platziert. Der Kristall und das Substrat wurden für eine Stunde lang bei 105ºC geglüht und wurde dann in den Elektrolyten eingesetzt.
- Der potentiostatische Niederschlag von CdSe beinhaltete Zyklisierung zwischen einem Potential, gerade leicht negativ des Cd2+-Reduktionspotentials (-760 mv gegen eine gesättigte Kalomel-Elektrode (SCE)) für ein Potential, das bedeutend positiver als das Cd²&spplus;-Reduktionspotential ist; siehe J. D. Klein et al., supra. Die benutzten wirklichen Potentiale lagen bei -400 mV und -800 mV vs SCE und wurden angewandt als eine 20 Hz-Rechteckspannung. Der Elektrolyt war 0,3 M CdSO&sub4;, 0,25 M H&sub2;SO&sub4; und 1 mM SeO&sub2; in Wasser. Die Niederschlagsbildung wurde eine Stunde lang durchgeführt. Das Polystyrol wurde durch mehrfaches Waschen in Toluol und Dimethylformamid entfernt. Das sich ergebende Gitter ist in Fig. 1 gezeigt.
- Bei erhöhter Temperatur wurde mit Hilfe eines organischen Lösungsmittels ein galvanostatisches Wachstum von CdS wie folgt durchgeführt; siehe auch T. Edamura und J. Muto "Elektroniederschlag und Eigenschaften von Kupfer-dotiertem Kadmiumsulfid", Thin Solid Films, Bd. 235, 198 (1993). Das Substrat war eine durch Elektronenstrahl niedergeschlagene Goldschicht auf Glas. Ein Silica-kolloidaler Kristall mit 0,99 um Teilchen wurde durch Sedimentation auf die Goldschicht gebracht.
- Der galvanische Niederschlag wurde unter Benutzung einer Stromdichte von 1 mA/cm³ mit einer Spannungsgrenze von 10 V durchgeführt, welcher den aktuellen Strom für die ersten Paar Minuten des Experiments begrenzte. Das elektrolytische System bestand aus 0,055 M CdCl&sub2; und 0,19 M Schwefel in Dimethylformamid, und die Elektroniederschlagung wurde bei 115ºC für 30 Minuten durchgeführt. Nach der Elektroniederschlagsbildung wurde der kolloidale Kristall aus SiO&sub2; mit etwa 5% HF in Wasser über Nacht aufgelöst (welche auch das darunterliegende Glassubstrat auflöste). Die sich ergebende Gitterstruktur ist in Fig. 2 gezeigt.
- Andere Ausführungen der Erfindung werden für den Durchschnittsfachmann aus der Betrachtung der Beschreibung und der Praxis der Erfindung ersichtlich, die hierin offenbart ist.
Claims (9)
1. Verfahren der Herstellung eines Artikels, der ein
Material mit im wesentlichen dreidimensionaler
Periodizität aufweist, mit folgenden Schritten des
Verfahrens:
eine Schablone mit einem kolloidalen Kristall wird
vorgesehen;
gekennzeichnet durch die folgenden weiteren Schritte des
Verfahrens:
ein Material wird elektrochemisch niedergeschlagen,
um ein Gitter des Materials innerhalb des kolloidalen
Kristalls zu bilden;
der kolloidale Kristall wird entfernt, damit das
Material gebildet wird, welches die wesentliche
Periodizität zeigt.
2. Verfahren nach Anspruch 1,
dadurch gekennzeichnet, dass der kolloidale Kristall auf
einem leitfähigen Substrat gebildet wird und dass der
Niederschlag des Gittermaterials derart erfolgt, dass
das Wachstum entlang einer Ebene stattfindet, die sich
im wesentlichen senkrecht zu einer Oberfläche des
leitfähigen Substrats bewegt.
3. Verfahren nach Anspruch 1,
dadurch gekennzeichnet, dass das Material eine
photonische Bandlücke zeigt.
4. Verfahren nach Anspruch 1,
dadurch gekennzeichnet, dass die Partikel des
kolloidalen Kristalls einen durchschnittlichen
Durchmesser im Bereich von ungefähr 100 nm bis 5 um
aufweisen.
5. Verfahren nach Anspruch 1,
dadurch gekennzeichnet, dass die Partikel des
kolloidalen Kristalls aus Polystyrol,
Polymethylmethanacrylat und Silica ausgewählt sind.
6. Verfahren nach Anspruch 1,
dadurch gekennzeichnet, dass das Gittermaterial aus
Cadmiumsulfid, Cadminiumselenid, Zinkselenid und Selen
ausgewählt ist und/oder einen Brechungsindex von
mindestens 2 zeigt.
7. Verfahren nach Anspruch 1,
dadurch gekennzeichnet, dass die Entfernung des
kolloidalen Kristalls durch einen Schritt ausgeführt
wird, der zwischen Erwärmung und dem Aussetzen einer
Säure ausgewählt wird.
8. Verfahren nach Anspruch 1,
dadurch gekennzeichnet, dass der kolloidale Kristall
durch den Verfahrensschritt der kolloidalen Epitaxy
gebildet wird.
9. Verfahren nach Anspruch 1,
dadurch gekennzeichnet, dass der kolloidale Kristall
eine flächenzentrierte kubische Struktur aufweist.
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---|---|---|---|---|
US6716475B1 (en) * | 1999-03-18 | 2004-04-06 | Massachusetts Institute Of Technology | Biocompatible photonic crystals |
US20030156319A1 (en) * | 2000-01-28 | 2003-08-21 | Sajeev John | Photonic bandgap materials based on silicon |
WO2002033461A2 (en) * | 2000-10-16 | 2002-04-25 | Ozin Geoffrey A | Method of self-assembly and optical applications of crystalline colloidal patterns on substrates |
US7018467B2 (en) | 2002-01-17 | 2006-03-28 | Micron Technology, Inc. | Three-dimensional complete bandgap photonic crystal formed by crystal modification |
US6898362B2 (en) * | 2002-01-17 | 2005-05-24 | Micron Technology Inc. | Three-dimensional photonic crystal waveguide structure and method |
US20030129501A1 (en) * | 2002-01-04 | 2003-07-10 | Mischa Megens | Fabricating artificial crystalline structures |
JP4150344B2 (ja) * | 2002-01-17 | 2008-09-17 | マイクロン テクノロジー,インコーポレイテッド | 三次元フォトニック結晶導波路構造形成方法 |
US6747123B2 (en) | 2002-03-15 | 2004-06-08 | Lucent Technologies Inc. | Organosilicate materials with mesoscopic structures |
US7008757B2 (en) * | 2002-12-17 | 2006-03-07 | Lucent Technologies Inc. | Patterned structures of high refractive index materials |
US7001669B2 (en) * | 2002-12-23 | 2006-02-21 | The Administration Of The Tulane Educational Fund | Process for the preparation of metal-containing nanostructured films |
US8137525B1 (en) | 2003-01-13 | 2012-03-20 | The Regents Of The University Of California | Colloidal sphere templates and sphere-templated porous materials |
US7027689B2 (en) * | 2003-01-24 | 2006-04-11 | Lucent Technologies Inc. | Optical routers based on surface plasmons |
WO2005028519A2 (en) * | 2003-02-19 | 2005-03-31 | Vanderbilt University | Polymer matrixes having nanoscale channels and uses |
US6891682B2 (en) * | 2003-03-03 | 2005-05-10 | Lucent Technologies Inc. | Lenses with tunable liquid optical elements |
US7168266B2 (en) * | 2003-03-06 | 2007-01-30 | Lucent Technologies Inc. | Process for making crystalline structures having interconnected pores and high refractive index contrasts |
US6929984B2 (en) | 2003-07-21 | 2005-08-16 | Micron Technology Inc. | Gettering using voids formed by surface transformation |
US7106519B2 (en) * | 2003-07-31 | 2006-09-12 | Lucent Technologies Inc. | Tunable micro-lens arrays |
JP2005068546A (ja) * | 2003-08-26 | 2005-03-17 | Toru Yamazaki | 3次元周期性階層構造をもつ複合合金とその製造方法 |
JP4237610B2 (ja) * | 2003-12-19 | 2009-03-11 | 株式会社東芝 | 保守支援方法及びプログラム |
US8936683B2 (en) * | 2004-02-03 | 2015-01-20 | Robert A. Marshall | Synthetic opal and photonic crystal |
KR100594804B1 (ko) * | 2004-02-19 | 2006-07-03 | 삼성전자주식회사 | 콜로이드 자기조립 광결정의 패턴닝 방법 및 이를 이용한역전된 오팔구조의 3차원 광결정 광도파로 제작방법 |
US20060140843A1 (en) * | 2004-12-23 | 2006-06-29 | In-Kyung Sung | Macroporous structures for heterogeneous catalyst support |
EP1839093A1 (de) * | 2005-01-11 | 2007-10-03 | Technische Universität Dresden | Verfahren zur herstellung eines bauteils mit nanometer-multischichten für optische anwendungen sowie nach diesem verfahren hergestelltes bauteil |
US7794538B2 (en) * | 2005-02-02 | 2010-09-14 | Robert A Marshall | Self-assembly method, opal, photonic band gap, and light source |
ES2422455T3 (es) * | 2005-08-12 | 2013-09-11 | Modumetal Llc | Materiales compuestos modulados de manera composicional y métodos para fabricar los mismos |
US7666665B2 (en) | 2005-08-31 | 2010-02-23 | Alcatel-Lucent Usa Inc. | Low adsorption surface |
US8734003B2 (en) * | 2005-09-15 | 2014-05-27 | Alcatel Lucent | Micro-chemical mixing |
US8721161B2 (en) * | 2005-09-15 | 2014-05-13 | Alcatel Lucent | Fluid oscillations on structured surfaces |
US7412938B2 (en) * | 2005-09-15 | 2008-08-19 | Lucent Technologies Inc. | Structured surfaces with controlled flow resistance |
US20070059213A1 (en) * | 2005-09-15 | 2007-03-15 | Lucent Technologies Inc. | Heat-induced transitions on a structured surface |
US8287808B2 (en) * | 2005-09-15 | 2012-10-16 | Alcatel Lucent | Surface for reversible wetting-dewetting |
US7872563B2 (en) * | 2007-04-09 | 2011-01-18 | The Board Of Trustees Of The University Of Illinois | Variably porous structures |
US8237538B2 (en) * | 2007-04-09 | 2012-08-07 | The Board Of Trustees Of The University Of Illinois | Porous battery electrode for a rechargeable battery and method of making the electrode |
US8222988B2 (en) * | 2007-04-09 | 2012-07-17 | The Board Of Trustees Of The University Of Illinois | Porous device for optical and electronic applications and method of fabricating the porous device |
CA2730229C (en) | 2008-07-07 | 2017-02-14 | John D. Whitaker | Property modulated materials and methods of making the same |
US7927975B2 (en) | 2009-02-04 | 2011-04-19 | Micron Technology, Inc. | Semiconductor material manufacture |
BR122013014464B1 (pt) | 2009-06-08 | 2020-10-20 | Modumetal, Inc | revestimento de multicamadas resistente à corrosão em um substrato e método de eletrodepósito para produção de um revestimento |
US8721923B2 (en) | 2010-01-15 | 2014-05-13 | The Research Foundation For The State University Of New York | Metal sulfide and rare-earth phosphate nanostructures and methods of making same |
CN105386103B (zh) | 2010-07-22 | 2018-07-31 | 莫杜美拓有限公司 | 纳米层压黄铜合金的材料及其电化学沉积方法 |
US9234291B2 (en) * | 2010-09-09 | 2016-01-12 | Globalfoundries Inc. | Zinc thin films plating chemistry and methods |
CN101942700B (zh) * | 2010-10-20 | 2012-07-04 | 南京师范大学 | 基于光纤的圆柱环状胶体晶体的制备方法 |
WO2012115591A1 (en) | 2011-02-24 | 2012-08-30 | National University Of Singapore | Light-reflective structures and methods for their manufacture and use |
US9453942B2 (en) | 2012-06-08 | 2016-09-27 | National University Of Singapore | Inverse opal structures and methods for their preparation and use |
CA2905575C (en) | 2013-03-15 | 2022-07-12 | Modumetal, Inc. | A method and apparatus for continuously applying nanolaminate metal coatings |
BR112015022235A2 (pt) | 2013-03-15 | 2017-07-18 | Modumetal Inc | revestimentos nanolaminados |
WO2014145588A1 (en) | 2013-03-15 | 2014-09-18 | Modumetal, Inc. | Nickel chromium nanolaminate coating having high hardness |
CN110273167A (zh) | 2013-03-15 | 2019-09-24 | 莫杜美拓有限公司 | 通过添加制造工艺制备的制品的电沉积的组合物和纳米层压合金 |
CN103556227B (zh) * | 2013-11-07 | 2016-08-17 | 河南理工大学 | 一种制备亚微米尺度单层聚苯乙烯胶粒晶体的方法 |
KR101534502B1 (ko) * | 2013-11-27 | 2015-07-07 | 서울대학교산학협력단 | 연료전지용 역 오팔 구조의 금속 촉매 전극 및 그 제조방법 |
AR102068A1 (es) | 2014-09-18 | 2017-02-01 | Modumetal Inc | Métodos de preparación de artículos por electrodeposición y procesos de fabricación aditiva |
BR112017005464A2 (pt) | 2014-09-18 | 2017-12-05 | Modumetal Inc | método e aparelho para aplicar continuamente revestimentos de metal nanolaminado |
US10727374B2 (en) | 2015-09-04 | 2020-07-28 | Seoul Semiconductor Co., Ltd. | Transparent conductive structure and formation thereof |
US10741724B2 (en) | 2015-10-02 | 2020-08-11 | Seoul Viosys Co., Ltd. | Light emitting diode devices with zinc oxide layer |
US10407315B2 (en) | 2016-04-14 | 2019-09-10 | Seoul Semiconductor Co., Ltd. | Method and/or system for synthesis of zinc oxide (ZnO) |
US10981800B2 (en) | 2016-04-14 | 2021-04-20 | Seoul Semiconductor Co., Ltd. | Chamber enclosure and/or wafer holder for synthesis of zinc oxide |
US10981801B2 (en) | 2016-04-14 | 2021-04-20 | Seoul Semiconductor Co., Ltd. | Fluid handling system for synthesis of zinc oxide |
US11365488B2 (en) | 2016-09-08 | 2022-06-21 | Modumetal, Inc. | Processes for providing laminated coatings on workpieces, and articles made therefrom |
CN109963966B (zh) | 2016-09-14 | 2022-10-11 | 莫杜美拓有限公司 | 用于可靠、高通量、复杂电场生成的系统以及由其生产涂层的方法 |
WO2018085591A1 (en) | 2016-11-02 | 2018-05-11 | Modumetal, Inc. | Topology optimized high interface packing structures |
US11293272B2 (en) | 2017-03-24 | 2022-04-05 | Modumetal, Inc. | Lift plungers with electrodeposited coatings, and systems and methods for producing the same |
CA3060619A1 (en) | 2017-04-21 | 2018-10-25 | Modumetal, Inc. | Tubular articles with electrodeposited coatings, and systems and methods for producing the same |
CN112272717B (zh) | 2018-04-27 | 2024-01-05 | 莫杜美拓有限公司 | 用于使用旋转生产具有纳米层压物涂层的多个制品的设备、系统和方法 |
Family Cites Families (20)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3628017A (en) * | 1970-06-18 | 1971-12-14 | Itek Corp | Ultraviolet light-sensitive cell using a substantially chemically unchanged semiconductor electrode in an electrolyte |
US4425194A (en) * | 1976-06-08 | 1984-01-10 | Monosolar, Inc. | Photo-voltaic power generating means and methods |
US4488943A (en) * | 1980-11-18 | 1984-12-18 | The United States Of America As Represented By The United States Department Of Energy | Polymer blends for use in photoelectrochemical cells for conversion of solar energy to electricity and methods for manufacturing such blends |
US5711884A (en) * | 1990-08-22 | 1998-01-27 | University Of Pittsburgh Of The Commonwealth System Of Higher Education | Method of filtering submicron particles with gel lattice membrane filter |
US5281370A (en) | 1990-08-22 | 1994-01-25 | University Of Pittsburgh Of The Commonwealth System Of Higher Education | Method of making solid crystalline narrow band radiation filter |
US5172267A (en) | 1990-12-21 | 1992-12-15 | Bell Communications Research, Inc. | Optical reflector structure, device, method of fabrication, and communications method |
US5365541A (en) | 1992-01-29 | 1994-11-15 | Trw Inc. | Mirror with photonic band structure |
US5737102A (en) * | 1992-12-30 | 1998-04-07 | University Of Pittsburgh Of The Commonwealth System Of Higher Education | Method of making an optically nonlinear switched optical device and related devices |
US5600483A (en) * | 1994-05-10 | 1997-02-04 | Massachusetts Institute Of Technology | Three-dimensional periodic dielectric structures having photonic bandgaps |
FR2734097B1 (fr) | 1995-05-12 | 1997-06-06 | Thomson Csf | Laser a semiconducteurs |
DE19526734A1 (de) * | 1995-07-21 | 1997-01-23 | Siemens Ag | Optische Struktur und Verfahren zu deren Herstellung |
US5730852A (en) * | 1995-09-25 | 1998-03-24 | Davis, Joseph & Negley | Preparation of cuxinygazsen (X=0-2, Y=0-2, Z=0-2, N=0-3) precursor films by electrodeposition for fabricating high efficiency solar cells |
US5739796A (en) | 1995-10-30 | 1998-04-14 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Army | Ultra-wideband photonic band gap crystal having selectable and controllable bad gaps and methods for achieving photonic band gaps |
US5751466A (en) | 1996-01-11 | 1998-05-12 | University Of Alabama At Huntsville | Photonic bandgap apparatus and method for delaying photonic signals |
US5802236A (en) | 1997-02-14 | 1998-09-01 | Lucent Technologies Inc. | Article comprising a micro-structured optical fiber, and method of making such fiber |
US5748057A (en) | 1996-06-03 | 1998-05-05 | Hughes Electronics | Photonic bandgap crystal frequency multiplexers and a pulse blanking filter for use therewith |
US5855753A (en) * | 1996-11-26 | 1999-01-05 | The Trustees Of Princeton University | Method for electrohydrodynamically assembling patterned colloidal structures |
DE59913080D1 (de) | 1998-03-19 | 2006-04-13 | Max Planck Gesellschaft | Herstellung von nano- und mikrokapseln durch schichtweise polyelektrolyt-selbstassemblierung |
JP2003522621A (ja) | 1998-03-19 | 2003-07-29 | マックス−プランク−ゲゼルシャフト・ツア・フェルデルング・デア・ヴィッセンシャフテン・エー・ファオ | 分解性コロイド原型上のナノ複合多層の静電的自己集成体による多層被覆粒子及び中空シェルの製造 |
EP0972563A1 (de) | 1998-07-15 | 2000-01-19 | Max-Planck-Gesellschaft zur Förderung der Wissenschaften e.V. | Herstellung von mit Mehrlagen gestrichenen Partikeln und hohlen Schalen durch elektrostatische Selbstorganisierung von Nanokompositmehrlagen auf zersetzbaren kolloidalen Schablonen |
-
1999
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