DE4444937A1 - Verfahren zur Herstellung eines langgestreckten Hoch-T¶c¶-Supraleiters mit einer Bi-2223-Phase - Google Patents
Verfahren zur Herstellung eines langgestreckten Hoch-T¶c¶-Supraleiters mit einer Bi-2223-PhaseInfo
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Description
Die Erfindung bezieht sich auf Verfahren zur Herstellung
eines langgestreckten Ein- oder Mehrkernsupraleiters mit min
destens einem in einer Matrix aus Ag-Material eingebetteten
Leiterkern, der ein bismuthaltiges Supraleitermaterial mit
einer Hoch-Tc-Phase vom 2223-Typ aufweist. Bei diesem Verfah
ren werden folgende Verfahrensschritte durchgeführt:
- - Es wird ein Aufbau aus dem Matrixmaterial und mindestens einem Kern aus einem Vorprodukt des Supraleitermaterials erstellt, wobei das Vorprodukt einen gegenüber der Stö chiometrie der Hoch-Tc-Phase erhöhten Sauerstoffanteil be sitzt,
- - der Aufbau wird mittels einer insbesondere querschnitts vermindernden Verformungsbehandlung in einen Rohleiter überführt, und
- - der Rohleiter wird mindestens einer Glühbehandlung in einer sauerstoffhaltigen Atmosphäre zur Ausbildung der Hoch-Tc-Phase unterzogen.
Ein entsprechendes Verfahren ist aus dem Beitrag von M. Wil
helm et al. mit dem Titel "Fabrication and Properties of Mul
tifilamentary BiPbSrCaCuO-2223 Tapes" des "International Sym
posium on Superconductivity" (ISS′93), Hiroshima (JP), Oct.
26-29, 1993, zu entnehmen.
Unter bekannte supraleitende Metalloxidverbindungen mit hohen
Sprungtemperaturen Tc von über 77 K, die deshalb auch als
Hoch-Tc-Supraleitermaterialien (Abkürzung: HTSL-Materialien)
bezeichnet werden, fallen insbesondere Cuprate auf Basis des
Bismut-Stoffsystems Bi-Sr-Ca-Cu-O (Abkürzung: BSCCO) oder
Bi(Pb)-Sr-Ca-Cu-O (Abkürzung: B(P)SCCO). Innerhalb dieses
Stoffsystems treten zwei supraleitende Phasen auf, die sich
durch die Anzahl der Kupfer-Sauerstoff-Netzebenen (-Schich
ten) innerhalb der kristallinen Einheitszelle unterscheiden.
Eine supraleitende Phase mit der ungefähren Zusammensetzung
Bi₂Sr₂CaCu₂O8+y hat eine Sprungtemperatur Tc von etwa 85 K
(sogenannter 2-Schichter/sogenannte 85 K- bzw. 2212-Phase),
während die Sprungtemperatur einer supraleitenden Phase mit
der ungefähren Zusammensetzung Bi₂Sr₂Ca2Cu₃O10+x bei etwa
110 K liegt (sogenannter 3-Schichter oder sogenannte 110 K- bzw.
2223-Phase).
Mit diesen HTSL-Materialien wird versucht, langgestreckte Su
praleiter in Draht- oder Bandform herzustellen. Ein hierfür
als geeignet angesehenes Verfahren ist die sogenannte "Pul
ver-im-Rohr-Technik", die prinzipiell von der Herstellung von
Supraleitern mit dem klassischen metallischen Supraleiterma
terial Nb₃Sn her bekannt ist (vgl. z. B. die DE-AS
12 57 436). Entsprechend dieser Technik wird auch zur Her
stellung von Leitern mit HTSL-Material in einen rohrförmigen
Träger bzw. in eine Matrix aus einem normalleitenden Mate
rial, insbesondere aus Ag oder einer Ag-Legierung, Pulver aus
einem Vorprodukt des HTSL-Materials eingebracht, das im all
gemeinen noch nicht oder nur zu einem geringen Teil die ge
wünschte supraleitende Hoch-Tc-Phase enthält. Der so zu er
haltende Aufbau wird anschließend mittels Verformungsbehand
lungen, die gegebenenfalls durch mindestens eine Wärmebe
handlung unterbrochen sein können, auf die gewünschte Enddi
mension gebracht. Danach wird der so erhaltene draht- oder
bandförmige Rohleiter zur Einstellung oder Optimierung seiner
supraleitenden Eigenschaften bzw. zur Ausbildung der ge
wünschten Hoch-Tc-Phase mindestens einer Glühbehandlung un
terzogen, die wenigstens teilweise in einer sauerstoffhalti
gen Atmosphäre, z. B. an Luft, durchgeführt wird (vgl. den
eingangs genannten Beitrag des ISS′93 oder "Supercond. Sci.
Technol.", Vol. 4, 1991, Seiten 165 bis 171).
Bündelt man in an sich bekannter Weise mehrere entsprechende
band- oder drahtförmige Hoch-Tc-Supraleiter oder deren Lei
tervorprodukte, so kann man auch Leiter mit mehreren supra
leitenden Leiterkernen, sogenannte Mehrkern- oder Multifila
mentleiter, erhalten, die für technische Anwendungen eine
Reihe von Vorteilen bieten (vgl. den eingangs genannten Bei
trag des ISS′93).
Um die Ausbildung der gewünschten supraleitenden Hoch-Tc-
Phase des genannten Bi-Cuprates zu gewährleisten, muß bei er
höhten Temperaturen zwischen im allgemeinen 600 und 900°C dem
Vorprodukt hinreichend viel Sauerstoff zur Verfügung gestellt
werden. Im allgemeinen wird deshalb die entsprechende Glühbe
handlung in einer sauerstoffhaltigen Atmosphäre mit einem
verhältnismäßig hohen Sauerstoff-Partialdruck oder in Luft
durchgeführt (vgl. z. B. den eingangs genannten Beitrag des
ISS′93).
Bisher konnten mit der Glühbehandlung derartiger, in eine
normalleitende Ag-Matrix eingebrachter Vorprodukte zur Aus
bildung der gewünschten Hoch-Tc-Phase des Bi-Cuprates nur Su
praleiter erhalten werden, die im Vergleich zu texturierten
supraleitenden Hoch-Tc-Dünnfilmen eine verhältnismäßig ge
ringe kritische Stromdichte von z. B. einigen 10⁴ A/cm² (bei
77 K) im Nullfeld (0T) haben.
Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es, das Verfahren mit
den eingangs genannten Merkmalen dahingehend auszugestalten,
daß mit ihm Bi-2223-Hoch-Tc-Supraleiter mit einer ver
gleichsweise höheren kritischen Stromdichte bei Leiterlängen,
wie sie für technische Anwendungen gefordert werden, herzu
stellen sind.
Eine erste Lösung dieser Aufgabe wird erfindungsgemäß darin
gesehen, daß der Rohleiter beim Aufheizen auf die Glühtempe
ratur der Glühbehandlung zur Ausbildung der Hoch-Tc-Phase zu
mindest ab einer Temperatur oberhalb von 300°C mit einer Auf
heizrate von höchstens 5 K/min aufgeheizt wird.
Die Erfindung geht dabei von der Erkenntnis aus, daß es bei
der Glühbehandlung des in das Ag-Matrixmaterial eingeschlos
senen Vorproduktes zur Ausbildung der gewünschten supralei
tenden Hoch-Tc-Phase vom 3-Schichter-Typ des Bi-Cuprates ne
ben einer eventuellen Wasserdampf- und/oder CO₂-Entwicklung
vor allem zu einem Freisetzen von überschüssigem Sauerstoff
kommt. Diese Gasentwicklung bzw. die damit verbundene Aus
dehnung kann zu einem unerwünschten Aufblähen eines insbeson
dere verhältnismäßig dünnwandigen Ag-Trägerkörpers führen,
wobei sich das Trägermaterial von der Keramik des Hoch-Tc-Ma
terials abhebt und damit dessen Filamentstruktur zerstört
wird. Diese Gefahr eines Aufblähens ist besonders groß bei
einer dünnwandigen Bandform des Verbundes aus dem Vorprodukt
material und dem Ag-Trägermaterial. Zur Verhinderung eines
derartigen Aufblähens können zwar vor der eigentlichen Reak
tionsglühung sogenannte Aufblähglühungen durchgeführt und die
dabei entstandenen Blasen durch mechanisches Pressen oder
Walzen zusammengedrückt werden. Dieser Vorgang könnte solange
wiederholt werden, bis keine Blasen mehr zu beobachten sind.
Es zeigt sich jedoch, daß einmal zerrissene Filamente durch
ein derartiges Zusammenpressen nicht vollständig wie
derhergestellt werden können. Außerdem kann es trotz dieser
Verfahrensschritte immer noch zu Aufblähungen kommen, die
nicht erkannt werden und so z. B. zu Hohlräumen mit einer Aus
dehnung von einigen Mikrometern führen. Derartige Hohlräume
sind jedoch die Ursache für ein verändertes Reaktionsgesche
hen bei der Reaktionsglühung und führen z. B. zu einem Wachs
tum unerwünschter nicht-texturierter Plattenkristalle, die
der Grund für eine verminderte kritische Stromdichte sind.
Mit einem gemäß dem ersten Lösungsweg vorgenommenen langsamen
Aufheizen des Rohleiters auf die Temperatur der Reaktions
glühung wird nun vorteilhaft erreicht, daß der eine even
tuelle Blasenbildung in erster Linie verursachende Sauerstoff
hinreichend schnell durch das Ag-Material der Matrix abwan
dern kann, bevor eine unerwünschte Blasenbildung möglich ist.
Erfindungsgemäß so hergestellte Hoch-Tc-Supraleiter zeigen
deshalb eine vergleichsweise höhere kritische Stromdichte als
schnell aufgeheizte Leiter.
Die Gefahr einer Aufblähung dem Rohleiters während der Reak
tionsglühung zur Ausbildung der supraleitenden Hoch-Tc-Phase
läßt sich gemäß einem zweiten Lösungsweg auch dadurch bannen,
daß man wenigstens auf eine Außenseite, insbesondere allsei
tig auf die Außenseiten des Rohleiters einen hinreichend ho
hen Druck vorzugsweise unter Anwendung eines Gases ausübt.
Dieser Gasdruck ist so zu wählen, daß ein durch eine interne
Gasbildung hervorgerufener und so eine eventuelle Aufblähung
verursachender Innendruck im Rohleiter kompensiert wird. Fi
lamentbrüche, die zu einer Reduzierung der kritischen Strom
dichte des Supraleiters führen, lassen sich auf diese Weise
vorteilhaft vermeiden.
Selbstverständlich ist es auch möglich, beide erfindungsge
mäßen Lösungswege zur Unterdrückung einer Blasenbildung bei
der Reaktionsglühung miteinander zu kombinieren.
Vorteilhafte Ausgestaltungen der erfindungsgemäßen Verfahren
gehen aus den jeweils abhängigen Ansprüchen hervor.
Die Erfindung wird nachfolgend unter Bezugnahme auf die
Zeichnung noch weiter erläutert, in deren einziger Figur
schematisch ein Querschnitt durch einen erfindungsgemäß zu
behandelnden Rohleiter veranschaulicht ist.
Dem Verfahren nach der Erfindung zur Herstellung eines lang
gestreckten Supraleiters mit Bismut (Bi)-Hoch-Tc-Supraleiter
material läßt sich die an sich bekannte Pulver-im-Rohr-Tech
nik zugrundelegen. Mit dem Verfahren sind langgestreckte Ver
bundkörper wie z. B. Drähte oder Bänder zu erhalten, die HTSL-Material
auf Basis des Stoffsystems Bi-Sr-Ca-Cu-O aufweisen.
In dem HTSL-Material soll dabei die sogenannte 2223-Phase zu
mehr als 50 Gew.-% vorhanden sein. Zur Herstellung des ent
sprechenden HTSL-Materials ist es möglich, daß lediglich von
den fünf genannten Elementen des Stoffsystems ausgegangen
wird. Da das für das erfindungsgemäße Verfahren ausgewählte
Stoffsystem aber nur die Basis für das HTSL-Material zu bil
den braucht bzw. den Grundtyp darstellt, soll das erfindungs
gemäße Verfahren folglich auch mit einschließen, daß einzelne
der genannten Elemente teilweise oder auch ganz durch andere
Elemente aus der jeweiligen Elementengruppe des Periodensy
stems in an sich bekannter Weise ersetzt sind. So kann z. B.
das Bi auch teilweise durch Sb oder insbesondere durch das
die Ausbildung der 2223-Phase fördernde Pb substituiert wer
den; für die Erdalkalimetalle Sr und Ca kommt beispielsweise
auch Ba in Frage. Ferner kann eine teilweise Substitution des
Cu auch durch kleinere Mengen anderer Metalle wie z. B. Fe,
Co, Ni oder Al erfolgen. Darüber hinaus soll mit eingeschlos
sen sein, daß dem Stoffsystem noch Zusatzmaterialien
(Additive) zugegeben werden können, die zur Verbesserung des
Reaktionsmechanismus dienen. So ist es z. B. bekannt, daß Ag- oder
Ag₂O-Beigaben aktiv an dem Reakionsgeschehen bei der
Ausbildung der gewünschten Hoch-Tc-Phase teilnehmen, jedoch
nicht in die kristalline Struktur dieser Phase selbst einge
baut werden. Für das Ausführungsbeispiel sei nachfolgend je
doch ein HTSL-Material mit den sechs Komponenten Bi, Pb, Sr,
Ca, Cu und O zugrundegelegt, wobei unvermeidbare Verunreini
gungen der einzelnen Komponenten mit eingeschlossen sein sol
len.
Zur Herstellung eines entsprechenden pulverförmigen Vorpro
duktes des HTSL-Materials wird von einer bekannten Einwaage
ausgegangen, die eine Ausbildung der 110 K- bzw. 2223-Phase
ermöglicht. Um die Stöchiometrie dieser Hoch-Tc-Phase zu ge
währleisten, werden Oxid- oder Carbonatpulver der einzelnen
Komponenten des Stoffsystems Bi-Pb-Sr-Ca-Cu-O, beispielsweise
Pulver aus Bi₂O₃₁ PbO, SrCO₃, CaO und CuO, in einem Verhält
nis 1,8 : 0,4 : 2,0:(1,8 bis 2,2):3,0 : 10,3 der einzelnen Kompo
nenten zusammengestellt. Diese Pulvermischung wird dann in
bekannter Weise beispielsweise in zwei Stufen calciniert, wo
bei während 3 bis 4 Stunden lang bei etwa 800°C und anschlie
ßend z. B. 16 Stunden lang bei etwa 820°C geglüht wird. Das so
entstandene Calcinat wird anschließend z. B. in einer Plane
tenkugelmühle noch vermahlen. Es stellt dann das pulverför
mige, auch als "Precursor" bezeichnete Vorprodukt des HTSL-Materials
dar und weist eine Vielzahl von ganz verschiedenen
Verbindungen der Komponenten des HTSL-Materials, beispiels
weise auch Anteile aus einer 2201- und aus einer 2212-Phase,
auf. Dabei läßt sich nicht vermeiden, daß sein Sauerstoffan
teil gegenüber der Stöchiometrie der ²²23-Hoch-Tc-Phase noch
deutlich erhöht ist.
Das so hergestellte Vorprodukt des HTSL-Materials wird an
schließend in einen rohrförmigen Trägerkörper aus einem be
sonderen Matrixmaterial eingebracht und dort vorverdichtet.
Als Matrixmaterialien sind vorteilhaft Ag und Ag-Legierungen
geeignet, da durch diese Materialien hindurch insbesondere
bei erhöhter Temperatur ein Sauerstofftransport aufgrund von
Diffusionsmechanismen möglich ist.
Der so erhaltene Aufbau aus dem rohrförmigen Trägerkörper und
dem von ihm umschlossenen Kern aus dem Vorproduktmaterial
wird anschließend mindestens einer insbesondere querschnitts
vermindernden Verformungsbehandlung und mindestens einer
Glühbehandlung zur Ausbildung der gewünschten 2223-Phase un
terzogen. Im allgemeinen sind zur Ausbildung der gewünschten
Endform des Leiters eine Abfolge von mehreren Verformungsbe
handlungen und zur Ausbildung der Hoch-Tc-Phase des Supralei
termaterials mindestens eine Glühbehandlung erforderlich. Für
die mindestens eine Verformungsbehandlung kommen alle bekann
ten Verfahren wie z. B. Strangpressen, Rollen, Walzen, Hämmern
und Ziehen in Frage, die auch miteinander kombiniert sein
können. Diese Behandlung kann sowohl bei Raumtemperatur als
auch bei erhöhter Temperatur durchgeführt werden. Der auf den
Kern aus dem behandelten Vorproduktmaterial dabei ausgeübte
Druck wird vorteilhaft so eingestellt, daß er zwischen 3 und
20 kbar, vorzugsweise zwischen 5 und 10 kbar, liegt. Auf
diese Weise läßt sich ein hochdichter Leiterkern in einer Ag-Matrix
erhalten.
Nach der mindestens einen Verformungsbehandlung liegt dann
ein Rohleiter in Form eines Verbundkörpers mit einer dem an
gestrebten Endprodukt zumindest weitgehend entsprechenden Ge
stalt, vorzugsweise in Bandform, vor. Dieser Verbundkörper
weist jedoch noch nicht die gewünschten supraleitenden Eigen
schaften auf. Deshalb erfolgt noch die mindestens eine Wärme- oder
Glühbehandlung, welche vorzugsweise in einer
sauerstoffhaltigen Atmosphäre wie z. B. Luft durchgeführt
wird, um so dem Vorproduktmaterial den für die Ausbildung der
gewünschten 2223-Phase erforderlichen Sauerstoff zur Verfü
gung zu stellen. Für diese Reaktionsglühung werden vorteil
haft Glühtemperaturen Tg zwischen 810°C und 860°C, vorzugs
weise zwischen 830°C und 840°C, vorgesehen. Die konkret zu
wählende Glühtemperatur hängt dabei von dem vorgesehenen
Sauerstoff-Partialdruck ab. Der zu wählende Sauerstoff-Par
tialdruck liegt im allgemeinen zwischen 1 und 200 mbar.
Bei dieser Reaktionsglühung besteht die Gefahr einer uner
wünschten Gasentwicklung und -ausdehnung, die zu einem Auf
blähen der Matrix führen könnte. Um dieser insbesondere bei
dünnwandigen Verbundkörpern gegebenen Gefahr zu begegnen,
lassen sich die folgenden beiden erfindungsgemäßen Verfah
renswege beschreiten:
Der verformte Rohleiter wird zur Ausbildung der Hoch-Tc-Phase
in seinem mindestens einen Kern aus dem Vorprodukt
material so langsam auf die Glühtemperatur Tg aufgeheizt,
daß der dabei freiwerdende Sauerstoff durch das Ag-Matrix
material nach außen diffundieren kann, bevor es im Inneren
des Rohleiters zu der unerwünschten Gasausdehnung kommt.
Hierzu muß zumindest für einen Temperaturbereich oberhalb
von 300°C die Aufheizrate unter 5 K/min, vorzugsweise un
ter 2 K/min, liegen. Dabei werden vorteilhaft für die hö
heren Temperaturen, insbesondere oberhalb von 500°C, die
geringere Aufheizrate von insbesondere höchstens 2 K/min
vorgesehen. Dementsprechend läßt sich in verschiedenen
Temperaturbereichen die Aufheizung auch mit verschiedenen
Aufheizraten durchführen.
Der Rohleiter wird während des Aufheizvorganges auf die
Glühtemperatur Tg sowie zumindest in der Anfangszeit der
Glühung vorzugsweise allseitig, d. h. wenigstens annähernd
isostatisch, unter einen so hohen Druck mittels eines
Druckgases gesetzt, daß aufgrund dieser Druckeinwirkung
ein Aufblähen der Außenflächen des Rohleiters nicht zu be
fürchten ist. Ist an einzelnen Außenflächen des Rohleiters
die Gefahr von Aufblähungen nicht gegeben, beispielsweise
weil dort der Rohleiter verhältnismäßig dickwandig ausge
bildet ist und/oder der Rohleiter an der betreffenden
Außenfläche form- und kraftschlüssig mit einem hinreichend
starren Hilfskörper, z. B. einer Unterlage, verbunden ist,
so braucht die Druckeinwirkung des Druckgases selbstver
ständlich nur auf die anderen, freien Außenflächen zu er
folgen. Der Druck des Druckgases muß mindestens 1 bar be
tragen und kann z. B. zwischen 1 und 20 bar liegen. Als
Druckgas ist z. B. eine Ar- oder N₂-Atmosphäre geeignet,
wobei der für die Ausbildung der gewünschten 2223-Phase
erforderliche Sauerstoff in dieser Atmosphäre einen Par
tialdruck zwischen 1 mbar und 200 mbar haben kann. Gegebe
nenfalls läßt sich der Überdruck des Druckgases gegen Ende
der Glühbehandlung zurücknehmen. Falls auch dann noch die
Gefahr eines Aufblähens des Rohleiters besteht, muß auch
der sich an die Glühbehandlung anschließende Abkühlvorgang
bei erhöhtem Gasdruck vorgenommen werden.
Selbstverständlich ist es auch möglich, die vorstehend be
schriebenen Verfahrenswege I und II gleichzeitig zur Anwen
dung zu bringen.
Das vorstehend beschriebene Verfahren kann nicht nur zur Her
stellung von Einkernleitern dienen, sondern ist auch, wie für
die Figur der Zeichnung angenommen, zur Herstellung von Mehr
kernleitern geeignet. Solche Mehrkern- bzw. Multifilament
leiter werden im allgemeinen mittels einer an sich bekannten
Bündelungstechnik ausgebildet. Demgemäß ist z. B. eine Bünde
lung von mehreren Ausgangsprodukten, die jeweils aus einem
Trägerrohr und einem darin befindlichen Kern aus dem Vorpro
duktmaterial bestehen, in einem Hüllrohr aus dem Matrixmate
rial möglich. Selbstverständlich können auch vorverformte
oder gegebenenfalls vorgeglühte Rohleiter in ein solches
Hüllrohr eingebracht werden.
Ein nach einer Abfolge von Preß- und Walzvorgängen zu erhal
tender Rohleiter eines erfindungsgemäß herzustellenden band
förmigen Mehrkernleiters geht aus der Figur der Zeichnung als
Querschnitt hervor. Der Rohleiter ist allgemein mit 2 be
zeichnet. Seine beispielsweise 19 Leiterkerne 3i (mit 1 i
19) aus dem Vorproduktmaterial sind in einer Matrix 4 aus Ag
eingebettet. Der Rohleiter 2 hat z. B. die nachfolgend auf
geführten, für Bandformen typischen Abmessungen:
Banddicke D: 100 µm bis 500 µm,
vorzugsweise 200 µm bis 350 µm
Bandbreite B: 2 µm bis 6 µm,
vorzugsweise 3,5 µm bis 4,5 µm;
Leiterkerndicke d: 10 µm bis 50 µm,
vorzugsweise 20 µm bis 35 µm;
Leiterkernbreite b: 30 µm bis 200 µm,
vorzugsweise 150 µm bis 180 µm.
vorzugsweise 200 µm bis 350 µm
Bandbreite B: 2 µm bis 6 µm,
vorzugsweise 3,5 µm bis 4,5 µm;
Leiterkerndicke d: 10 µm bis 50 µm,
vorzugsweise 20 µm bis 35 µm;
Leiterkernbreite b: 30 µm bis 200 µm,
vorzugsweise 150 µm bis 180 µm.
Die entsprechenden typischen Abmessungen für einen bandförmi
gen Einkernleiter sind:
50 µm D 400 µm, vorzugsweise 100 µm D 200 µm;
1,5 mm B 5 mm, vorzugsweise 2 mm B 3 mm;
10 µm d 40 µm, vorzugsweise 20 µm d 30 µm;
500 µm b 4,5 mm, vorzugsweise 1,5 mm b 2,5 mm.
1,5 mm B 5 mm, vorzugsweise 2 mm B 3 mm;
10 µm d 40 µm, vorzugsweise 20 µm d 30 µm;
500 µm b 4,5 mm, vorzugsweise 1,5 mm b 2,5 mm.
Als konkrete Ausführungsbeispiele wurden zwei Bandleiter mit
die Bi-2223-Phase enthaltendem Supraleitermaterial aus Roh
leitern mit einem der in der Figur gezeigten Ausführungsform
entsprechenden Querschnitt und mit Leiterlängen von 100 m
hergestellt. Dabei wurde für den einen Bandleiter der Verfah
rensweg I beschritten, wobei beim Aufheizen ab einer Tempera
tur von 550° mit einer Aufheizrate von 2 K/min auf die Glüh
temperatur Tg von etwa 830°C aufgeheizt wurde. An dem so her
gestellten Bandleiter wurde eine kritische Stromdichte von
über 6 × 10⁴ A/cm² im Nullfeld gemessen. Für den weiteren
Bandleiter wurde dessen Rohleiter gemäß Verfahrensweg II un
ter einen Druck von 4 bar einer Ar-Atmosphäre während des
Aufheizens und der Glühung zur Ausbildung der 2223-Phase ge
setzt. Die mittlere Aufheizrate betrug dabei oberhalb von
300°C etwa 10 K/min. Auch für diesen Bandleiter wurde eine
kritische Stromdichte in der Größenordnung des über den Ver
fahrensweg I hergestellten Bandleiters gemessen.
Gemäß den vorstehenden Ausführungsbeispielen wurde davon aus
gegangen, daß die langgestreckten, insbesondere bandförmigen
Supraleiter mittels einer Pulver-im-Rohr-Technik erfindungs
gemäß herzustellen sind. Die Erfindung ist jedoch nicht auf
eine derartige Technik beschränkt. Sie ist ebensogut für die
Herstellung von Supraleitern mit der Bi-Ag-2223-Phase geeig
net, die auch nachträglich zusammengesetzte Ag-Material-Um
hüllungen um ein Vorprodukt mit Sauerstoff-Überschuß aufwei
sen und bei denen somit ebenfalls die Gefahr einer uner
wünschten Aufblähung der Umhüllung aufgrund von Gasentwick
lung bzw. -ausdehnung besteht. Eine derartige zusammenge
setzte Umhüllung geht z. B. aus der DE-OS 43 08 681 hervor.
Gemäß dieser Veröffentlichung ist das Vorprodukt über eine
Siebdrucktechnik auf einem bandförmigen Träger in Pastenform
aufzubringen. Die noch freien Oberflächenteile dieses Vor
produktes müßten dann mit Hilfe eines beispielsweise folien
artigen Abdeckelementes abgedichtet werden, bevor dieser
Aufbau zu einem Rohleiter weiterverarbeitet wird, der dann
erfindungsgemäß aufzuheizen und zu glühen ist.
Claims (15)
1. Verfahren zur Herstellung eines langgestreckten Ein- oder
Mehrkernsupraleiters mit mindestens einem in einer Matrix aus
Ag-Material eingebetteten Leiterkern, der ein bismuthaltiges
Supraleitermaterial mit einer Hoch-Tc-Phase vom 2223-Typ auf
weist, bei welchem Verfahren
- - ein Aufbau aus dem Matrixmaterial und mindestens einem Kern aus einem Vorprodukt des Supraleitermaterials er stellt wird, wobei das Vorprodukt einen gegenüber der Stöchiometrie der Hoch-Tc-Phase erhöhten Sauerstoffanteil besitzt,
- - der Aufbau mittels mindestens einer insbesondere quer schnittsvermindernden Verformungsbehandlung in einen Roh leiter überführt wird, und
- - der Rohleiter mindestens einer Glühbehandlung in einer sauerstoffhaltigen Atmosphäre zur Ausbildung der Hoch-Tc-Phase unterzogen wird,
dadurch gekennzeichnet, daß der Roh
leiter (2) beim Aufheizen auf die Glühtemperatur der Glühbe
handlung zur Ausbildung der Hoch-Tc-Phase zumindest ab einer
Temperatur oberhalb von 300°C mit einer Aufheizrate von höch
stens 5 K/min aufgeheizt wird.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekenn
zeichnet, daß eine Aufheizrate von höchstens
2 K/min vorgesehen wird.
3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch ge
kennzeichnet, daß die Aufheizrate ab einer Tem
peratur oberhalb von 500°C vorgesehen wird.
4. Verfahren zur Herstellung eines langgestreckten Ein- oder
Mehrkernsupraleiters mit mindestens einem in einer Matrix aus
Ag-Material eingebetteten Leiterkern, der ein bismuthaltiges
Supraleitermaterial mit einer Hoch-Tc-Phase vom 2223-Typ auf
weist, bei welchem Verfahren
- - ein Aufbau aus dem Matrixmaterial und mindestens einem Kern aus einem Vorprodukt des Supraleitermaterials er stellt wird, wobei das Vorprodukt einen gegenüber der Stöchiometrie der Hoch-Tc-Phase erhöhten Sauerstoffanteil besitzt,
- - der Aufbau mittels mindestens einer insbesondere quer schnittsvermindernden Verformungsbehandlung in einen Roh leiter überführt wird, und
- - der Rohleiter mindestens einer Glühbehandlung in einer sauerstoffhaltigen Atmosphäre zur Ausbildung der Hoch-Tc- Phase unterzogen wird,
dadurch gekennzeichnet, daß der Roh
leiter (2) beim Aufheizen auf die Glühtemperatur der Glühbe
handlung zur Ausbildung der Hoch-Tc-Phase und zumindest in
der Anfangszeit der Glühbehandlung unter einen zumindest
weitgehend gleichmäßigen Druck auf wenigstens eine seiner
Außenflächen von mindestens 1 bar, vorzugsweise unter Anwen
dung eines Gases, gesetzt wird.
5. Verfahren nach Anspruch 4, dadurch gekenn
zeichnet, daß ein Druck des Gases auf die Außen
flächen des Rohleiters (2) von höchstens 20 bar vorgesehen
wird.
6. Verfahren nach Anspruch 4 oder 5, dadurch ge
kennzeichnet, daß der Druck des Gases während
der gesamten Glühbehandlung und gegebenenfalls auch zumindest
in der Anfangszeit der sich daran anschließenden Abkühlung
aufrechterhalten wird.
7. Verfahren nach einem der Ansprüche 4 bis 6, da
durch gekennzeichnet, daß der Rohleiter
(2) an wenigstens einer seiner Außenflächen form- und kraft
schlüssig mit einem hinreichend starren Hilfskörper verbunden
wird und die Druckeinwirkung auf die übrigen Außenflächen
vorgesehen wird.
8. Verfahren nach einem der Ansprüche 4 bis 7, ge
kennzeichnet durch eine Kombination mit den
Merkmalen nach einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 3.
9. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 8, da
durch gekennzeichnet, daß die Glühbe
handlung des Rohleiters (2) zur Ausbildung der Hoch-Tc-Phase
bei einem Sauerstoff-Partialdruck zwischen 1 mbar und 200
mbar vorgenommen wird.
10. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 9, da
durch gekennzeichnet, daß bei der min
destens einen Glühbehandlung zur Ausbildung der Hoch-Tc-Phase
eine Temperatur zwischen 810°C und 860°C, vorzugsweise zwi
schen 830°C und 840°C, eingestellt wird.
11. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 10, da
durch gekennzeichnet, daß zur Herstel
lung des Vorproduktmaterials wenigstens eine der metallischen
Komponenten des genannten Typs der Hoch-Tc-Phase wenigstens
teilweise durch eine weitere metallische Komponente, insbe
sondere das Bi der Bi-Komponente teilweise durch Pb, ersetzt
wird und/oder eine von der Zusammensetzung der Hoch-Tc-Phase
abweichende Stöchiometrie vorgesehen wird, sofern eine zu
mindest teilweise Ausbildung der supraleitenden 2223-Phase
gewährleistet ist.
12. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 11, da
durch gekennzeichnet, daß der Aufbau
aus dem Matrixmaterial und dem mindestens einen Kern aus dem
Vorproduktmaterial nach einer Pulver-im-Rohr-Technik erstellt
wird.
13. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 12, da
durch gekennzeichnet, daß bei der min
destens einen insbesondere querschnittsvermindernden Verfor
mungsbehandlung das Vorproduktmaterial einem Druck zwischen 3
und 20 kbar, vorzugsweise zwischen 5 und 10 kbar, ausgesetzt
wird.
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