DE4444470A1 - Sender/Empfänger-Anordnung für ein optisches Duplexsystem - Google Patents
Sender/Empfänger-Anordnung für ein optisches DuplexsystemInfo
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- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims abstract description 34
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 claims abstract description 25
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 18
- 230000000295 complement effect Effects 0.000 claims abstract description 15
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 13
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 claims abstract description 11
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 claims description 16
- 239000000835 fiber Substances 0.000 abstract description 14
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 abstract description 8
- 230000010354 integration Effects 0.000 abstract description 6
- 238000010276 construction Methods 0.000 abstract description 2
- 238000003491 array Methods 0.000 abstract 1
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 6
- 238000011161 development Methods 0.000 description 4
- 230000018109 developmental process Effects 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 4
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 4
- 238000012549 training Methods 0.000 description 4
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 3
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 3
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 3
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 3
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 3
- 229910000530 Gallium indium arsenide Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000002457 bidirectional effect Effects 0.000 description 2
- 230000005693 optoelectronics Effects 0.000 description 2
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 2
- 102100040678 Programmed cell death protein 1 Human genes 0.000 description 1
- 101710089372 Programmed cell death protein 1 Proteins 0.000 description 1
- 230000000712 assembly Effects 0.000 description 1
- 238000000429 assembly Methods 0.000 description 1
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 1
- 239000002826 coolant Substances 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 238000013016 damping Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 230000002787 reinforcement Effects 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 230000008054 signal transmission Effects 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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-
- H—ELECTRICITY
- H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
- H04B—TRANSMISSION
- H04B10/00—Transmission systems employing electromagnetic waves other than radio-waves, e.g. infrared, visible or ultraviolet light, or employing corpuscular radiation, e.g. quantum communication
- H04B10/40—Transceivers
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L31/00—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L31/12—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof structurally associated with, e.g. formed in or on a common substrate with, one or more electric light sources, e.g. electroluminescent light sources, and electrically or optically coupled thereto
- H01L31/125—Composite devices with photosensitive elements and electroluminescent elements within one single body
-
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- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S5/00—Semiconductor lasers
- H01S5/02—Structural details or components not essential to laser action
- H01S5/026—Monolithically integrated components, e.g. waveguides, monitoring photo-detectors, drivers
- H01S5/0262—Photo-diodes, e.g. transceiver devices, bidirectional devices
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S5/00—Semiconductor lasers
- H01S5/10—Construction or shape of the optical resonator, e.g. extended or external cavity, coupled cavities, bent-guide, varying width, thickness or composition of the active region
- H01S5/18—Surface-emitting [SE] lasers, e.g. having both horizontal and vertical cavities
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Description
Die Erfindung bezieht sich auf eine Sender/Empfänger-Anordnung, die in Form zweier
komplementärer Typen für ein optisches Duplexsystem mit zwei in entgegengesetzten
Richtungen über eine Lichtleitfaser zu übertragenden Betriebswellenlängen vorgesehen
ist und deren Sendelaser und Empfangsdiode optisch in Reihe liegen und auf der Basis
von III-V-Materialien mit unterschiedlichen Transmissions- bzw.
Absorptionseigenschaften bezüglich der beiden Betriebswellenlängen aufgebaut sind.
Lichtleitfasern, die als optische Anschlußleitungen in der Teilnehmerebene bidirektional,
mit einer ersten Lichtwellenlänge λ₁ in der einen und einer zweiten Lichtwellenlänge λ₂
in der dazu entgegengesetzten Richtung, betrieben werden, ermöglichen kollisionsfreien
nachrichtentechnischen Gegenverkehr. Für Punkt-zu-Punkt-Verbindungen werden dazu
jeweils zwei Sender- sowie zwei Empfängertypen benötigt, die wechselseitig einander
zugeordnet und jeweils auf die eine bzw. die andere Lichtwellenlänge ausgelegt sind.
Bei derartigen optoelektronischen Systemen zielen im allgemeinen die Bestrebungen,
kostengünstige und funktionell hervorragende Lösungen zur Verfügung stellen zu
können, auf die Einsetzbarkeit integrierter Schaltungen (optoelectronic integrated
circuit - OEIC; photonic integrated circuit - PIC) ab. Auch dabei erfordern
mikromechanische Justierungen, insbesondere an den Faser/Chip-Schnittstellen einen
nicht zu unterschätzenden Aufwand.
Anläßlich der "Integrated Photonics Research (IPR)"-Konferenz, 17. bis 19. Februar
1994, San Francisco, USA; wurde von R. Matz et al über "Development of a Photonic
Integrated Transceiver Chip for WDM Transmission" berichtet (vgl. Postdeadline Paper
PD 1, Seiten 1 bis 3). Die eine Form der benötigten beiden komplementären Typen, zu
der Einzelheiten bekanntgegeben wurden, enthält den Sendelaser für 1530 nm und eine
ihm zugeordnete Monitordiode, einen wellenlängenselektiven Richtkoppler und die
Empfangsdiode für 1300 nm. Im Vergleich zu hybriden mikrooptischen Aufbauten bietet
ein solcher Chip durch die Verlagerung eines großen Teiles des Justageaufwandes in die
lithographische Chipherstellung zwar beachtliche Erleichterungen, jedoch ist die
Flächenausbeute von Wafern mit Chipabmessungen von 4 mm×0,6 mm nicht besonders
hoch, und der Herstellungsaufwand eines solchen planaren (= horizontalen) OEIC′s ist
beträchtlich.
Etwas anders als der vorstehend erwähnte Chip sind die bei der selben Konferenz von A.
C. Carter vorgestellten Lösungen (vgl. Proc. of IPR Paper # 26/ThC 1, ThC 1/27 und
28 ThC 1-3) gestaltet. Wenn auch verbal knapp erläutert, so doch zeichnerisch
informativ dargestellt ist in dieser Veröffentlichung eine Komponente einer
Teilnehmeranschlußschaltung, die für eine bidirektionale Telefonverbindung im
Wellenlängenbereich 1300 nm (Senderichtung zwischen 1270 nm und 1300 nm;
Empfangsrichtung zwischen 1310 nm und 1340 nm) und zum Empfang eines
Breitbanddienstes im Wellenlängenbereich 1530 nm ausgelegt ist. Den größten
Platzbedarf erfordern dort bei einer Chiplänge der Komponente von 3,75 mm die
optischen Wellenleiter mit den daraus gebildeten Kopplern. Der Sendelaser für 1300 nm
mit einer Monitordiode befindet sich an einem Ende eines optischen Wellenleiters. Von
fünf weiteren Wellenleiterenden bildet eines die netzseitige Chip/Faser-Schnittstelle,
zwei andere führen zu den Empfangsdiodenkomponenten für 1300 nm und 1530 nm.
Besonders unter Berücksichtigung von Sachzwängen, denen derartige Entwicklungen im
allgemeinen unterliegen, beispielsweise Anforderungen bezüglich Kompatibilität mit
bereits bewährten, in der Produktion befindlichen Komponenten, übergeordnete
Konzeptvorstellungen wie auch subjektive Vorstellungen von Forschern und
Entwicklern u. dgl., lassen sich aus den vorstehend beispielhaft ausgewählten
Veröffentlichungen zwei Entwicklungstendenzen erkennen. Die eine ist auf hybride
mikrooptische Aufbauten, die andere auf möglichst weitgehende Integration in
horizontalen Strukturen ausgerichtet.
Eine weitere Richtung, die den Stand der Technik bildet, von dem die Erfindung
ausgeht, ist bekannt aus: "Proc. Internat. Semiconductor Laser Conf", DAVOS-CH
(1990). K-4. Seiten 166/167. Dort wird unter der Bezeichnung "Simple In-Line Bi-
Directional 1.5 µm/1.3 µm Transceivers" von T.L. Koch et al über exemplarische
photonische integrierte Schaltungen berichtet, deren Architektur auf der
Planartechnologie beruht. Die dort angewendete optische Reihenschaltung der in einer
horizontalen Integrationsstruktur nebeneinander angeordneten Komponenten
(Sendelaser/Empfangsdiode) und die verwendeten III-V-Materialien mit
unterschiedlichen Verstärkungs- bzw. Dämpfungseigenschaften für unterschiedliche
Lichtwellenlängen führen zu erheblichen Strukturvereinfachungen gegenüber PIC-
Konzepten, die Interferometer und/oder Gitteranordnungen, Koppler und andere passive
Elemente zusätzlich zu den Sendelasern und Empfangsdioden benötigen. Allerdings sind
auch bei diesem Stand der Technik noch eine aufwendige Chipherstellung sowie an der
Chip/Faser-Schnittstelle hochgenaue mikromechanische Justagen erforderlich.
Hiervon ausgehend liegt der Erfindung das technische Problem zugrunde, sowohl den
Justage- als auch den Herstellungsaufwand zu verringern, die Flächenausbeute von
Wafern weiter zu erhöhen, hybride und integrierte Aufbauten sowie eine Testbarkeit der
Chips bereits auf dem Wafer und einen vollständig polarisationsunabhängigen Betrieb
der Sender/Empfänger-Anordnung zu ermöglichen.
Die erfindungsgemäße Lösung für eine Sender/Empfänger-Anordnung der eingangs
genannten Art sieht vor, daß der Sendelaser und die Empfangsdiode aus
Materialschichten bestehen, die im wesentlichen senkrecht zur gemeinsamen optischen
Achse ausgerichtet sind.
In einer derartigen vertikalen Anordnung weisen die erforderlichen Strukturierungen
innerhalb der Chipgrenzen im Vergleich mit horizontalen Anordnungen eine wesentlich
geringere Komplexität auf und erfordern somit einen geringeren Herstellungsaufwand.
Die Chipfläche ist hinsichtlich des absoluten Flächenbedarfs mit z. B. (0,3×0,3) mm²
äußerst gering. Alle optischen und elektrischen Anschlüsse lassen sich auf der Ober-
bzw. Unterseite der Chips anordnen, sind also jederzeit frei zugänglich. Da die
Transmissions- und Absorptionseigenschaften der für Sendelaser und Empfangsdiode
eingesetzten Materialschichten polarisationsunabhängig sind und eine effiziente
Fasereinkopplung sowie kleine Chipflächen realisiert werden können, ist ein vollständig
polarisationsunabhängiger Betrieb der erfindungsgemäßen Sender/Empfänger-
Anordnung möglich.
Die Trennung der beiden Betriebswellenlängen erfolgt ohne besondere optische Filter
infolge der Transparenz von Halbleiterschichten oberhalb und der Absorption unterhalb
der Bandkantenwellenlänge. Bei einem Wellenlängenunterschied von nicht wesentlich
unter 250 nm im Wellenlängenbereich zwischen 1,3 µm und 1,6 µm sind für das
Verhältnis von Absorption und Transmission Werte von größer 40 dB erreichbar.
Die Randbedingung, daß der Kanalabstand 250 nm Wellenlängenunterschied im
genannten Spektralbereich nicht wesentlich unterschritten werden sollte, läßt sich bei
einem optischen Duplexsystem ohne Schwierigkeiten erfüllen.
Derartige Sender/Empfänger-Chips sind Schlüsselbauelemente, lassen sich infolge der
vertikalen Integrationsstruktur in großer Anzahl pro Wafer, z. B. 20 000 Stück pro 2-
Zoll-Wafer, mit geringen Kosten herstellen und prinzipiell bezüglich der monomodalen
Sendelaser mit integrierter elektrischer Treiberstufe sowie bezüglich der
Empfangsdioden als Photodioden mit nachgeschalteter elektronischer Verstärkerstufe
ausrüsten.
Besonders vorteilhafte Ausbildungsformen der Erfindung ergeben sich dadurch, daß der
Sendelaser als oberflächenemittierende Komponente ausgebildet ist. Wegen der geringen
Divergenz des abgestrahlten Lichtes sind die Toleranzgrenzen für eine effiziente
Faserankopplung bei einer derartigen Komponente groß.
Insbesondere können solche oberflächenemittierenden Sendelaser bei
Ausbildungsformen der Erfindung mit einem vertikalen Resonator ausgebildet sein,
dessen Spiegelschichten aus als zur Laserschicht parallel liegenden Materialschichten
bestehen.
Der Aufbau von Sender/Empfänger-Anordnungen nach der Erfindung und ihren oben
genannten vorteilhaften Ausbildungsformen stellt ein Grundkonzept für weitere
Modifikationen dar. Beispielsweise kann zwischen dem Sendelaser und der
Empfangsdiode ein für beide Betriebswellenlängen transparentes Medium angeordnet
sein. Ein solches Medium stellt z. B. Luft dar, über die als Kühlmedium die
Betriebstemperatur beeinflußbar ist. Alternativ dazu können der Sendelaser und die
Empfangsdiode monolithisch auf einem Chip integriert sein, wobei sie auf derselben oder
aufeinander gegenüberliegenden Seiten eines gemeinsamen Substrats, angeordnet sind.
Für den Duplexverkehr über eine gemeinsame Lichtleitfaser ist es zweckmäßig, die
Betriebswellenlängen λ₁ = 1300 nm und λ₂ = 1550 nm und demgemäß die beiden
komplementären Typen - a): Tλ₁/Rλ₂ mit Lichtleitfaseranschluß am Sendelaser Tλ₁
und b): Tλ₂/Rλ₁ mit Lichtleitfaseranschluß an der Empfangsdiode Rg₂ - vorzusehen.
Diese Betriebswellenlängen sind sowohl bei herkömmlichen Lichtleitfasern auf
Quarzbasis als auch bei Sendelasern und Photodioden als Empfangsdioden vor allem in
Telekommunikationsanwendungen üblich. Der Kanalabstand beträgt 250 nm, so daß die
Trennung von Hin- und Rückkanal in den Sender/Empfänger-Anordnungen aufgrund
der unterschiedlichen optischen Transmissions- bzw. Absorptionseigenschaften der
betreffenden Materialien für Sendelaser und Empfangsdiode herbeigeführt werden kann.
Das "Hochpaß"-Verhalten von III-V-Materialien führt dazu, daß in den komplementären
Typen der Sender/Empfänger-Anordnungen diejenigen Komponenten, die auf die
kürzere Betriebswellenlänge ausgelegt sind, sich an der Faser/Chip-Schnittstelle befinden
müssen und das längerwelligere Licht zu den optisch in Reihe liegenden Komponenten
durchzulassen haben.
Chip-Aufbauten bestehen z. B. beim einem Typ a) (Tg₁/Rλ₂) aus:
- - einer Laserdiode für 1300 nm mit vertikalem Resonator ("vertical cavity" - VC - Laser) an der Chip/Faser-Schnittstelle,
- - dem Substrat aus InP und
- - einer Detektorschicht aus InGaAs für 1550 nm
wobei zudem eine Filterschicht mit einer Grenzwellenlänge zwischen etwa 1350 nm und
1400 nm direkt auf der Ober- und/oder Unterseite des InP-Substrats zur Absorption der
rückwärtigen Restlichtstrahlung des Lasers vorgesehen sein kann, und
beim anderen Typ b) (Tλ₂/Rλ₁) aus:
- - einer Laserdiode für 1550 nm mit vertikalem Resonator,
- - dem Substrat aus InP und
- - einer Detektorschicht aus InGaAsP oder InGaAlAs für 1300 nm an der Chip/Faser- Schnittstelle.
In diesem Zusammenhang ist auf die noch nicht abgeschlossene technologische
Entwicklung hinzuweisen, langwellige VC-Laser für den Wellenlängenbereich von ca.
1,3 µm bis 1,6 µm mit brauchbaren optischen Ausgangsleistungen im Dauerstrichbetrieb
bei Raumtemperatur bereitzustellen. Dazu werden hochreflektierende Halbleiter-
Braggspiegel benötigt, für die prinzipiell verschiedene Schichtkombinationen aus den
Materialsystemen InGaAsP und InGaAlAs oder auch aus Nicht-III-V-Materialien
verwendet werden können. Ein attraktiver Lösungseinsatz besteht auch darin, derartige
Spiegelschichten mit hohen Brechzahlunterschieden aus Sb-haltigen III-V-Materialien,
deren Kristallgitter zum InP-Gitter angepaßt ist, herzustellen.
Die Bedeutung der Erfindung zeigt sich auch darin, daß für Ausbildungsformen von
Duplexsystemen der eine Typ - a) oder b) - für die Ausrüstung aller Teilnehmerstationen
und der andere Typ - b) oder a) - der Sender/Empfänger-Anordnungen für die
Ausrüstung einer Vermittlungsstelle vorgesehen sein können. Die elektrischen Signale,
mit denen die in einem Chip befindlichen, optisch in Reihe liegenden Sendelaser
angesteuert werden bzw. die die Empfangsdioden liefern, sind in den
Teilnehmerstationen den betreffenden Signalquellen, z. B. Mikrofon, Kamera, bzw.
Signalsenken, z. B. Lautsprecher, Bildschirm, zugeordnet. In der Vermittlungsstelle
werden diese Signale von den betreffenden Empfangsdioden über ein Koppelfeld den
Sendelasern zugeführt, so daß beliebige Punkt-zu-Punkt-Verbindungen zwischen jeweils
zwei - oder mehreren - Teilnehmerstationen realisiert werden können.
In einem solchen Duplexsystem sind damit baugleiche Sender/Empfänger-Chips des
einen Typs bei allen Teilnehmerstationen sowie ebenfalls baugleiche Sender/Empfänger-
Chips des anderen, komplementären Typs in der Vermittlungsstelle vorzusehen, wobei
jeder Chiptyp in der Anzahl der Teilnehmerstationen benötigt wird.
In der Zeichnung sind Ausbildungsformen der Erfindung schematisch dargestellt. Dabei
zeigen:
Fig. 1 ein Blockschaltbild für optischen Wellenlängenduplex-Verkehr über dieselbe
Faser zwischen zwei Stationen, die mit komplementären Sender/Empfänger-
Chips ausgerüstet sind;
Fig. 2 ein Blockschaltbild eines Duplexsystems für beliebig viele Teilnehmerstationen,
wobei alle Teilnehmerstationen mit einem Typ baugleicher Sender/Empfänger-
Chips und eine Vermittlungsstelle mit einem anderen komplementären Typ
ebenfalls baugleicher Sender-Empfänger-Chips ausgerüstet sind, und
Fig. 3 in Querschnittsdarstellung - für ein Beispiel der Erfindung - die Ausbildungen
der beiden Chip-Typen komplementärer, monolithisch integrierter
Sender/Empfänger-Anordnungen in vertikaler Integrationsstruktur unter
Verwendung von "vertical cavlty"-Laserdioden.
Das in Fig. 1 dargestellte Blockschaltbild zeigt zwei Typen komplementärer
Sender/Empfänger-Anordnungen für optischen Wellenlängenduplexverkehr, die jeweils
einen Sendelaser T und eine Empfangsdiode R in optischer Reihenschaltung aufweisen.
Über eine Lichtleitfaser werden der Hin- und der Rückkanal mittels zweier
Betriebswellenlängen λ₁, λ₂ realisiert.
Aus dem in Fig. 2 dargestellten Blockschaltbild eines Wellenlängenduplexsystems ist zu
erkennen, daß beliebig viele Teilnehmerstationen mit baugleichen Sender/Empfänger-
Anordnungen ausgerüstet und durch separate Lichtleitfasern miteinander über eine
Vermittlungsstelle verbindbar sind. Die Vermittlungsstelle ist mit dem komplementären
Typ, ebenfalls unter sich baugleicher Sender/Empfänger-Anordnungen und mit einem
Koppelfeld E aufgebaut.
An die Eingänge dieses Koppelfeldes E gelangen die von den Empfangsdioden R(λ₁)
gelieferten elektrischen Signale und werden dort jeweils zu demjenigen Ausgang des
Koppelfeldes E durchgeschaltet, der zu demjenigen Sendelaser T(λ₂) führt, der für die
gewählte Verbindung zuständig ist. Der Aufbau und die Funktion der Vermittlungsstelle
ist bezüglich der Signale im elektrischen Bereich unabhängig von der Signalübermittlung
im optischen Bereich zwischen den einzelnen Teilnehmerstationen und der
Vermittlungsstelle.
Die Teilnehmerstationen senden ihre optischen Signale im Kanal mit der
Betriebswellenlänge λ₁ an die Vermittlungsstelle und empfangen von dort die für sie
bestimmten optischen Signale im Kanal mit der Betriebswellenlänge λ₂ ihre
Sender/Empfänger-Chips enthalten demgemäß Empfangsdioden R(λ₂) und Sendelaser
T(λ₁) in optischer Reihenschaltung.
Es ist ohne weiteres möglich, bei Ausführungsformen der Erfindung die
Sender/Empfänger-Chips der Teilnehmerstationen mit Empfangsdioden R(λ₁) und
Sendelasern T(λ₂) und in der Vermittlungsstelle mit Empfangsdioden R(λ₂) und
Sendelasern T(λ₁) vorzusehen. Damit kehrt sich dann der jeweilige Richtungssinn der
beiden Kanäle mit den Betriebswellenlängen λ₁ und λ₂ in den Lichtleitfasern gegenüber
dem in Fig. 2 dargestellten Beispiel um.
Mit Fig. 3 wird anhand der Querschnittsdarstellungen der als ein Beispiel für die
Erfindung gezeigten beiden komplementären Sender/Empfänger-Chiptypen für optischen
Wellenlängenduplexverkehr deren Aufbau und Wirkungsweise verdeutlicht.
Bei beiden Chiptypen sind jeweils auf der Oberseite eines InP-Substrats S die Sendelaser
Tλ₁, Tλ₂ (VCSEL vertical cavity surface emitting laser) und auf der Unterseite die
Empfangsdioden Rλ₂, Rλ₁ mit fluchtenden vertikalen optischen Achsen auf der Basis
zueinander parallelliegender Materialschichten ausgebildet. Anstelle des Substrats S
kann ein beliebiges, für beide Betriebswellenlängen transparentes Medium, auch Luft,
angeordnet sein.
Der Chip des einen Typs - in Fig. 3 links - ist auf die Betriebswellenlänge λ₁ = 1,3 µm
für den Sendekanal und auf die Betriebswellenlänge λ₂ = 1,55 µm für den
Empfangskanal ausgelegt. Die in der Laserschicht des Sendelasers Tg₁ erzeugte
optische Welle breitet sich in vertikaler Richtung zunächst zwar nach beiden Seiten aus,
wird aber in einer Spiegelschicht zwischen Laserschicht und Substrat reflektiert. Eine
weitere Spiegelschicht oberhalb der Laserschicht ist teildurchlässig, so daß sowohl die
Laserresonanzbedingungen erfüllt werden als auch die Abstrahlung mit für die
Anwendung ausreichender optischer Leistung erfolgen kann. Die erzeugte optische
monomodale Welle mit der Wellenlänge λ₁ = 1,3 µm gelangt an der Chip/Faser-
Schnittstelle in die Lichtleitfaser L.
Die von der Lichtleitfaser L empfangene optische Welle mit der
Betriebswellenlänge λ₂ = 1,55 µm tritt an derselben Chip/Faser-Schnittstelle ein,
durchdringt infolge der geringen Absorption von längerwelligerem Licht in den
Materialschichten des kürzerwelligeren Lasers Tλ₁ diesen sowie das InP-Substrat S
und gelangt in die aus ternärem Material InGaAs bestehende, die Empfangsdiode Rλ₂
bildende Schicht. Voraussetzung ist aber, daß die spektralen Reflexionskurven der
Spiegelschichten so schmal sind, daß λ₂ nicht reflektiert wird. Dies schränkt die
Materialauswahl für die Spiegelschichten ein.
Der Chip des anderen Typs - in Fig. 3 rechts - ist auf die Betriebswellenlänge λ₂
(= 1,55 µm) für den Sendekanal und auf die Betriebswellenlänge λ₁ (= 1,3 µm) für den
Empfangskanal ausgelegt. Hier ist der Sendelaser Tλ₂ auf der Oberseite mit einer
hochreflektierenden Schicht und einer teildurchlässigen Spiegelschicht zwischen
Laserschicht und InP-Substrat S ausgebildet. Die erzeugte optische monomodale Welle
der Wellenlänge λ₂ (= 1,55 µm) durchdringt das InP-Substrat S sowie eine quaternäre
Schicht mit einer Grenzwellenlänge λg zwischen etwa 1,35 µm und 1,4 µm und gelangt
sodann an der dort befindlichen Chip/Faser-Schnittstelle in die Lichtleitfaser L.
Die vom Sender/Empfänger-Chip dieses Typs zu empfangende optische Welle mit der
Betriebswellenlänge λ1 = 1,3 µm tritt aus der Lichtleitfaser L kommend direkt in die aus
der quaternären Schicht gebildete Empfangsdiode Rλ₂ ein und wird dort absorbiert, d. h.
optisch/elektrisch gewandelt. Die Dicke der quaternären Schicht muß so gewählt
werden, daß eine vollständige Absorption gewährleistet ist.
Die monomodalen Laser der Sender/Empfänger-Anordnungen werden in ihrer Funktion
durch Licht der anderen Betriebswellenlänge nicht beeinflußt. Hingegen sind
Photodioden vergleichsweise breitbandig, so daß Vorkehrungen zu treffen sind, die
deren Ansprechen auf Licht der anderen Betriebswellenlänge verhindern. Beim
Sender/Empfänger-Chip mit der Betriebswellenlänge λ₁ = 1300 nm für den Sendelaser
Tλ₁ kann direkt auf der Ober- und/oder der Unterseite des InP-Substrats S eine
Filterschicht F vorgesehen werden, deren Grenzwellenlänge etwa zwischen 1350 nm
und 1400 nm liegt. Die hohe Absorption unterhalb und die hohe Transmission oberhalb
dieser Grenzwellenlänge gewährleistet, daß eine Reststrahlung durch die "eigene"
ausgesendete optische Welle der Betriebswellenlänge λ₁ = 1300 nm nicht zur
Empfangsdiode Rλ₂ der Betriebswellenlänge λ₂ = 1550 nm gelangt. Beim
Sender/Empfänger-Chip des anderen Typs mit der Betriebswellenlänge λ₂ = 1550 nm
für den Sendelaser Tλ₂ muß allerdings die quaternäre Schicht für die Empfangsdiode R
λ1 von sich aus die entsprechende Grenzwellenlänge von zwischen etwa 1350 nm und
1400 nm aufweisen, damit nur Licht der Betriebswellenlänge λ₂ = 1300 nm detektiert
und das des "eigenen" Sendelasers Tλ₂ mit der Betriebswellenlänge λ₂ = 1550 nm
transmittiert wird.
Nicht dargestellt und auch nicht näher zu erläutern ist, daß bei Ausbildungsformen der
Erfindung elektrische Treiberstufen für die Sendelaser T und Verstärkerstufen für die
Empfangsdioden R integrierbar sind. Alle Anschlüsse, sowohl der optische als auch die
elektrischen, können in der vertikalen Integrationsstruktur dieser Chips auf deren Ober-
bzw. Unterseite angebracht sein und ermöglichen somit die Testbarkeit der Chips
unmittelbar während und/oder nach der Fertigstellung auf dem Wafer. Die Faser/Chip-
Kopplung erfordert keine engen Toleranzen, läßt sich also mit geringem Aufwand
vornehmen. Weitere Vorzüge der Erfindung, insbesondere deren vollständige
Polarisationsunempfindlichkeit, sind in den vorliegenden Unterlagen ausdrücklich
erwähnt und können auch aus dem Zusammenhang entnommen werden.
Claims (9)
1. Sender/Empfänger-Anordnung, die in Form zweier komplementärer Typen für ein
optisches Duplexsystem mit zwei in entgegengesetzten Richtungen über eine
Lichtleitfaser zu übertragenden Betriebswellenlängen vorgesehen ist und deren
Sendelaser und Empfangsdiode optisch in Reihe liegen und auf der Basis von III-V-
Materialien mit unterschiedlichen Transmissions- bzw. Absorptionseigenschaften
bezüglich der beiden Betriebswellenlängen aufgebaut sind,
dadurch gekennzeichnet, daß der Sendelaser (T) und die Empfangsdiode
(R) aus Materialschichten bestehen, die im wesentlichen senkrecht zur gemeinsamen
optischen Achse ausgerichtet sind.
2. Sender/Empfänger-Anordnung nach Anspruch 1,
dadurch gekennzeichnet, daß der Sendelaser (T) als
oberflächenemittierende Komponente ausgebildet ist.
3. Sender/Empfänger-Anordnung nach Anspruch 2,
dadurch gekennzeichnet, daß der oberflächenemittierende Sendelaser (T)
mit einem vertikalen Resonator (VC) ausgebildet ist.
4. Sender/Empfänger-Anordnung nach einem der Ansprüche 1 bis 3,
dadurch gekennzeichnet, daß zwischen dem Sendelaser (T) und der
Empfangsdiode (R) ein für beide Betriebswellenlängen transparentes Medium
angeordnet ist.
5. Sender/Empfänger-Anordnung nach einem der Ansprüche 1 bis 4,
dadurch gekennzeichnet, daß der Sendelaser (T) und die
Empfangsdiode (R) monolithisch auf einem Chip integriert sind.
6. Sender/Empfänger-Anordnung nach einem der Ansprüche 1 bis 5,
dadurch gekennzeichnet, daß der Sendelaser (T) und die
Empfangsdiode (R) auf einander gegenüberliegenden Seiten eines gemeinsamen
Substrats angeordnet sind.
7. Sender/Empfänger-Anordnung nach einem der Ansprüche 1 bis 6,
dadurch gekennzeichnet, daß im Duplexsystem die beiden
Betriebswellenlängen λ₁ = 1300 nm und λ₂ = 1550 nm und demgemäß die
komplementären Typen:
- - a): (Tλ₁/Rλ₂) mit Lichtleitfaseranschluß am Sendelaser (Tλ₁) und
- - b): (Tλ₂/Rλ₁) mit Lichtleitfaseranschluß an der Empfangsdiode (Rλ₁) vorgesehen sind.
8. Sender/Empfänger-Anordnung nach Anspruch 7,
dadurch gekennzeichnet, daß beim Typ a) (Tλ₁/Rλ₂) im optischen
Weg zwischen dem Sendelaser (Tλ₁) und der Empfangsdiode (Rλ₂) eine bezüglich der
dort auszusendenden Betriebswellenlängen (λ₁) nicht transparente, bezüglich der dort
zu empfangenden Betriebswellenlängen (λ₂) jedoch transparente Filterschicht
vorgesehen ist.
9. Sender/Empfänger-Anordnung nach einem der Ansprüche 1 bis 8,
dadurch gekennzeichnet, daß im Duplexsystem von beiden
komplementären Typen
- - alle Teilnehmerstationen mit der einen Form,
- - eine Vermittlungsstelle mit der anderen Form ausgerüstet sind.
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19944444470 DE4444470A1 (de) | 1994-11-29 | 1994-11-29 | Sender/Empfänger-Anordnung für ein optisches Duplexsystem |
PCT/DE1995/001757 WO1996017417A1 (de) | 1994-11-29 | 1995-11-29 | Sender/empfänger-anordnung für ein optisches duplexsystem |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19944444470 DE4444470A1 (de) | 1994-11-29 | 1994-11-29 | Sender/Empfänger-Anordnung für ein optisches Duplexsystem |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE4444470A1 true DE4444470A1 (de) | 1996-05-30 |
Family
ID=6535757
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19944444470 Withdrawn DE4444470A1 (de) | 1994-11-29 | 1994-11-29 | Sender/Empfänger-Anordnung für ein optisches Duplexsystem |
Country Status (2)
Country | Link |
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DE (1) | DE4444470A1 (de) |
WO (1) | WO1996017417A1 (de) |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
8122 | Nonbinding interest in granting licenses declared | ||
8139 | Disposal/non-payment of the annual fee |