DE4402437A1 - Galvanisiervorrichtung - Google Patents
GalvanisiervorrichtungInfo
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Description
Diese Erfindung betrifft eine Galvanisiervorrichtung und ein
Verfahren, insbesondere eine Galvanisiervorrichtung für das
Plattieren von Tiefdruckzylindern.
Galvanisieren ist ein seit langem verwendetes Verfahren für
das Plattieren von Gegenständen mit einem bestimmten Materi
al. Das Galvanisieren ist ein relativ einfacher Weg, um ei
nen Gegenstand mit einem Material, z. B. Kupfer, zu beschich
ten, wenn es schwierig ist eine dünne gleichmäßige Beschich
tung durch andere Verfahren bereitzustellen.
Galvanisieren wurde für das Plattieren von Tiefdruckzylin
dern verwendet, die herkömmlicherweise bei Druckverfahren
verwendet werden. Ein Tiefdruckzylinder wird mit einer dün
nen Schicht eines Materials, z. B. Kupfer, plattiert und an
schließend wird der gewünschte Druck in die Kupferschicht
geätzt. In solchen Fällen bildet ein Stahl- oder Aluminium
zylinder das Substrat, welches die Galvanisierungsschicht
trägt. Ist das Drucken beendet, muß der Tiefdruckzylinder
überholt bzw. wiederhergestellt werden, so daß ein anderer
Druck in den Zylinder geätzt werden kann. Das Überholen
erfordert das zumindestens teilweise Entfernen der Galvani
sierungsschicht, um das frühere Ätzen zu entfernen, so daß
eine neue Galvanisierungsschicht auf dem Zylinder aufge
bracht werden kann. Wie zuvor kann, sobald die neue Schicht
des Galvanisierungsmaterials den Zylinder bedeckt, das ge
wünschte Ätzen durchgeführt werden, für ein zukünftiges
Drucken.
Eine Galvanisiervorrichtung erfordert ein Ionenflüssigkeits
bad, bzw. Ionenfluidbad, welches mit dem zu plattierenden
Gegenstand in Berührung kommt. Das Ionenflüssigkeitsbad ent
hält Ionen des Abscheidungsmaterials. Eine Zufuhr des Galva
nisierungsmaterials muß des weiteren in Berührung mit dem
Ionenflüssigkeitsbad stehen, um dem Flüssigkeitsbad zusätz
liche Ionen zuzuführen, wenn das Plattierungsverfahren be
ginnt.
Soll z. B. ein Tiefdruckzylinder mit Kupfer plattiert werden,
wird der Zylinder eingetaucht oder rotiert, während er sich
in Kontakt mit einem Kupferionen-enthaltenden Flüssigkeits
bad befindet. Eine Schale bzw. ein Behälter mit Kupferklum
pen oder Kupferbarren würde normalerweise in das Flüssig
keitsbad in der Nähe des Tiefdruckzylinders eingetaucht wer
den. Anschließend würde ein elektrisches Feld über dem Ge
genstand und der Zufuhr des Abscheidungsmaterials aufgebaut.
Die auf den Gegenstand übertragene Ladung wäre der Ladung
der Ionen in dem Flüssigkeitsbad entgegengesetzt und würde
so die Ionen an den Gegenstand angezogen. Auf diese Weise
werden die Ionen auf dem Gegenstand abgeschieden und bilden
eine Schicht oder plattieren den Gegenstand. In der Zwi
schenzeit lösen sich zusätzliche Ionen von der Abscheidungs
materialzufuhr und treten in das Flüssigkeitsbad ein, um im
allgemeinen die Ionen zu ersetzen, die von dem Gegenstand
angezogen wurden. In dem Beispiel des Tiefdruckzylinders
kann der Zylinder durch das Flüssigkeitsbad rotiert werden,
während die Galvanisierung stattfindet, so daß sich eine
Schicht des Abscheidungsmaterials im wesentlichen über die
gesamte Oberfläche des Tiefdruckzylinders legt.
Häufig werden während der Galvanisierung Oxide und andere
Verunreinigungen abgegeben, während die Galvanisierungsmate
rialzufuhr ionisiert wird; d. h. wenn Ionen von der Abschei
dungsmaterialzufuhr freigesetzt werden und in das Flüssig
keitsbad eintreten. Dies beruht im wesentlichen auf den Ver
unreinigungen, die in dem Zufuhrmaterial vorhanden sind. Da
her wird die Ionenflüssigkeit, welche in dem Flüssigkeitsbad
verwendet wird, häufig durch ein größeres Reservoir der
Ionenflüssigkeit zykliert. Vor der Rückkehr in das Flüssig
keitsbad wird die Ionenflüssigkeit gefiltert und dem Flüs
sigkeitsbad wieder zugeführt. In Bergin et al., U.S. Patent
Nr. 3,923,610 ist ein Verfahren beschrieben für das Kupfer
plattieren eines Tiefdruckzylinders, für welches ein typi
sches Plattierungssystem verwendet wird. Ein Zylinder ist
rotierbar in Berührung mit einem Elektrolyt befestigt, wel
cher in einem Behälter gehalten wird. Der Elektrolyt besteht
im wesentlichen aus einer Lösung von Kupfersulfat und Schwe
felsäure in Wasser. Der Zylinder wird teilweise in das
Ionenflüssigkeitsbad eingetaucht und rotiert, während ein
elektrisches Feld über dem Zylinder und einer Festkupferzu
fuhr aufgebaut wird.
Ein Problem der Vorrichtung des Standes der Technik, wie
z. B. der Vorrichtung von Bergin, ist, daß solche Vorrichtun
gen nicht in der Lage waren, Material auf dem zu plattieren
den Gegenstand in einer präzisen, gleichförmigen Weise abzu
scheiden. Das führt zu Problemen beim Plattieren oder Über
holen von Gegenständen, wie Tiefdruckzylindern, welche eine
extrem präzise und gleichmäßige glatte Oberfläche erfordern.
Um solch eine erwünschte gleichmäßige Oberfläche unter Ver
wendung der Plattiervorrichtungen des Standes der Technik zu
erzielen, wurde eine alte Schicht eines Abscheidungsmateri
als zunächst entfernt und anschließend wurde der Gegenstand
gründlich gereinigt. Nach diesem Reinigen wurde der Gegen
stand normalerweise mit einer relativ dicken Schicht eines
Galvanisierungsmaterials plattiert, und anschließend wurde
die Schicht einem Veredelungsverfahren unterworfen, umfas
send ein Rauhschleifen der Galvanisierungsschicht auf eine
im wesentlichen gleichmäßige Oberflächengüte, ein Fein
schleifen der raufgeschliffenen Oberfläche, und anschließend
ein Polieren der Oberfläche, bis diese die gewünschten
glatten und gleichförmigen Eigenschaften aufwies. Dieses
Verfahren war jedoch zeitaufwendig und verbrauchte viel
Galvanisierungsmaterial.
Man fand heraus, daß die Ungleichmäßigkeit der Galvanisie
rungsschicht, welche unter Verwendung der Plattierungsvor
richtung des Standes der Technik erzielt wurde, hauptsäch
lich durch ungleichmäßige Dispersion von Ionen bewirkt wird,
wenn diese an den Gegenstand angezogen werden und durch Ver
unreinigungen, welche in das Flüssigkeitsbad eintreten, und
welche an dem zu plattierenden Gegenstand haften. Es wäre
vorteilhaft zu verhindern, daß die Verunreinigungen in das
Flüssigkeitsbad eingeführt werden, weder von der Galvanisie
rungsmaterialzufuhr noch von der rezyklierten Ionenflüssig
keit, welche in das Flüssigkeitsbad eingeführt wird. Zusätz
lich wäre es vorteilhaft die Ionen in dem Flüssigkeitsbad
gleichförmig zu dispergieren, wenn Ionen in das Flüssig
keitsbad entweder aus der Galvanisierungsbadzufuhr oder aus
der Ionenflüssigkeit eingeführt werden, welche in das Flüs
sigkeitsbad rezykliert wird. Es trat z. B. ein Problem bei
den Einrichtungen des Standes der Technik auf, daß die
Ionenflüssigkeit in das Flüssigkeitsbad durch Öffnungen ein
geführt wurde, welche im allgemeinen Flüssigkeitssäulen in
das Flüssigkeitsbad sprühten. Man fand heraus, daß solches
säulenartiges Sprühen ein ungleichmäßiges Plattieren des
Zylinders bewirkt, und zu hohen Flecken bzw. Bereiches und
niedrigen Flecken bzw. Bereichen in dem auf dem Zylinder ab
geschiedenen Material führt, entsprechend der Anordnung der
Zufuhröffnungen.
Andere Verfahren und Vorrichtungen für das Galvanisieren ei
nes Materials sind z. B. in den Patenten von Datwyler, U.S.
Patent Nr. 4,437,942 und Katano et al., U.S. Patent Nr.
4,405,709 beschrieben. Dieser Stand der Technik beschäftigt
sich jedoch nicht mit den oben beschriebenen Problemen.
Die vorliegende Erfindung stellt eine Vorrichtung und ein
Verfahren zur Veränderung der Oberfläche eines Gegenstandes
zur Verfügung, dadurch daß eine Menge eines Abscheidungsma
terials auf dem Gegenstand angeordnet bzw. aufgebracht wird.
Der Gegenstand befindet sich in Flüssigkeitsverbindung mit
einem Ionenflüssigkeitsbad, welches die Ionen des Abschei
dungsmaterials enthält. Die Vorrichtung umfaßt einen Behäl
ter zur Aufnahme des Ionenflüssigkeitsbades und ein Reser
voir zur Aufnahme des Abscheidungsmaterials in Flüssigkeits
verbindung mit dem Ionenflüssigkeitsbad. Eine elektrische
Stromquelle wird im Betrieb mit dem Abscheidungsmaterial in
dem Reservoir und mit dem Gegenstand verbunden und baut ein
elektrisches Feld über dem Abscheidungsmaterial und dem Ge
genstand auf. Die elektrische Stromquelle überträgt eine er
ste Ladung auf den Gegenstand und eine zweite Ladung auf das
Abscheidungsmaterial in dem Reservoir. Die erste und zweite
Ladung weisen einander entgegengesetzte Polaritäten auf und
besitzen im wesentlichen gleiche Größenordnungen. Die erste
und zweite Ladung kooperieren miteinander, um das elektri
sche Feld zwischen dem Gegenstand und dem Abscheidungsmate
rial über das Ionenflüssigkeitsbad aufzubauen. Auf diese
Weise kooperieren das Ionenflüssigkeitsbad und das Abschei
dungsmaterial, ausgelöst durch das elektrische Feld, um die
Abscheidung von Ionen auf dem Gegenstand zu bewirken.
Eine Barriere wird vorzugsweise zwischen dem Gegenstand und
der Reservoireinrichtung angeordnet, um den Übergang der
Verunreinigungen aus dem Abscheidungsmaterial zu dem Gegen
stand zu behindern.
Zusätzlich wird ein Diffusionselement zwischen dem Gegen
stand und dem Reservoir angeordnet, um die Diffusion der
Ionen zu unterstützen, wenn sich die Ionen durch das Ionen
flüssigkeitsbad während der Abscheidung der Ionen auf dem
Gegenstand bewegen.
Des weiteren wird vorzugsweise ein Filter bereitgestellt, um
die Flüssigkeit zu filtrieren, welche rezykliert wird oder
auf andere Weise dem Ionenflüssigkeitsbad zugegeben wird.
Der Filter ist so aufgebaut, daß eine gleichmäßige Vertei
lung der gefilterten Flüssigkeit in das Ionenflüssigkeitsbad
sichergestellt wird.
Die Erfindung stellt des weiteren ein Verfahren zur Kondi
tionierung eines Gegenstandes bereit, um eine glatte,
gleichmäßige Oberflächengüte auf dem Gegenstand zur Verfü
gung zu stellen, welche für das Ätzen und zur Verwendung
beim Tiefdruck geeignet ist. Das Verfahren der Erfindung er
fordert weniger oder kürzere Bearbeitungsschritte und Endbe
arbeitungsschritte, um eine gleichförmige Oberflächengüte zu
erzielen.
Die Erfindung wird im folgenden in bezug auf die begleiten
den Zeichnungen beschrieben, wobei gleiche Bezugszeichen
gleiche Elemente angeben. Es zeigt:
Fig. 1 einen schematischen Querschnitt;
Fig. 2 eine Draufsicht, welche die Details der Erfindung
darstellt, wobei der zu plattierende Gegenstand
entfernt ist;
Fig. 3 ein Flußdiagramm, welches das Verfahren des Stan
des der Technik für das Überholen der Tiefdruck
walze darstellt; und
Fig. 4 ein Flußdiagramm, welches das Verfahren des Über
holens einer Tiefdruckwalze gemäß der vorliegenden
Erfindung darstellt.
Im folgenden wird auf den schematischen Querschnitt aus Fig.
1 Bezug genommen, eine Galvanisiervorrichtung, im allgemei
nen als 10 bezeichnet, ist dargestellt, umfassend eine Ab
scheidungsmaterialzufuhr 12, ein Ionenflüssigkeitsbad 14,
welches Ionen des Abscheidungsmaterials enthält, einen Ge
genstand 16, auf welchen das Abscheidungsmaterial aufge
bracht werden soll, oder von welchem das Abscheidungsmateri
al entfernt werden soll, einen Behälter 18, zur Aufnahme des
Ionenflüssigkeitsbades 14, und ein Reservoir 20, zur Aufnah
me der Abscheidungsmaterialzufuhr 12 in Flüssigkeitsverbin
dung mit dem Ionenflüssigkeitsbad 14. Eine elektrische
Stromquelle 22 ist im Betrieb mit der Abscheidungsmaterial
zufuhr 12 und mit dem Gegenstand 16 verbunden. Eine Barriere
24 ist zwischen dem Gegenstand 16 und der Abscheidungsmate
rialzufuhr 12 angeordnet. Gleichermaßen ist auch ein Diffu
sionselement zwischen dem Gegenstand 16 und der Abschei
dungsmaterialzufuhr 12 angeordnet.
Eine Flüssigkeitszufuhr 28 befindet sich in Flüssigkeitsver
bindung mit dem Flüssigkeitsbad 14, vorzugsweise über eine
Rohrleitung 30. Eine Flüssigkeitspumpe 32 kann verwendet
werden, um Flüssigkeit durch die Rohrleitung 30 und in das
Ionenflüssigkeitsbad 14 zu pumpen. In einer bevorzugten Aus
führungsform wird die Flüssigkeit durch einen Filter 34 ge
pumpt, bevor sie in dem Ionenflüssigkeitsbad 14 dispergiert
wird. Der Filter 34 ist vorzugsweise ein Filterrohr, das
sich im wesentlichen über die ganze Länge des Reservoirs 20
erstreckt.
Die Abscheidungsmaterialzufuhr 12 kann aus einer Vielzahl
von Materialien bestehen, die bei Galvanisierungen verwendet
werden. Das Material muß ionisiert werden können, um die
Ionen zu ersetzen, die aus dem Ionenflüssigkeitsbad 14 ent
fernt wurden, um den Gegenstand 16 zu plattieren. Ein gutes
Beispiel eines Abscheidungsmaterials, welches leicht verwen
det werden kann, ist Kupfer, und Kupfer wird als das primäre
Beispiel in dieser Beschreibung verwendet, ohne eine Be
schränkung auf die Art des Abscheidungsmaterials, welches
verwendet werden kann, zu treffen. Im Fall von Kupfer weisen
die Kupferionen eine positive Ladung auf, so daß die Strom
quelle 22 auf den Gegenstand 16 eine negative Ladung und auf
die Abscheidungsmaterialzufuhr 12 eine positive Ladung über
tragen muß, um das Plattieren zu bewirken. Der negativ gela
dene Gegenstand zieht die positiv geladenen Kupferionen an,
welche dann auf der Oberfläche des Gegenstandes 16 abge
schieden werden. Wenn die Kupferionen auf dem Gegenstand 16
abgeschieden werden und aus dem Ionenflüssigkeitsbad 14 ent
fernt werden, werden zusätzliche Kupferionen durch das elek
trische Potential eingeführt, welches zwischen dem Gegen
stand 16 und der Abscheidungsmaterialzufuhr 12 vorhanden
ist, um sich von der Abscheidungsmaterialzufuhr 12 abzutren
nen und die Ionen zu ersetzen, die aus dem Ionenflüssig
keitsbad 14 abgesondert wurden.
Das Ionenflüssigkeitsbad 14 besteht aus einer Trägerflüssig
keit und Ionen, die im allgemeinen in der Flüssigkeit dis
pergiert sind. In dem Kupferbeispiel würde ein Kupfersulfat
typischerweise mit einer Flüssigkeit z. B. Wasser vermischt.
Andere Zusätze, welche normalerweise im Stand der Technik
verwendet werden, können auch hinzugefügt werden. Das
Kupfersulfat zersetzt sich in Ionen des Kupfers und des
Sulfats, und die Kupferionen weisen eine positive Ladung auf
und die Sulfationen haben eine negative Ladung. Wird dann
ein elektrisches Feld zwischen dem Gegenstand 16 und der Ab
scheidungsmaterialzufuhr 12 aufgebaut, werden die Kupferio
nen zu dem negativ geladenen Gegenstand 16 gezogen, während
sich die Sulfationen zu dem Reservoir 20 bewegen. Die Kup
ferionen scheiden sich auf der Oberfläche des Gegenstandes
16 ab, während sich die Sulfationen in die Nähe der Abschei
dungsmaterialzufuhr 12 bewegen und sich mit natürlich in dem
Kupfer auftretenden Oxiden verbinden, und einen Schlamm bil
den, der in das Reservoir 20 fällt. Wird ein anderes Ab
scheidungsmaterial verwendet, welches negative Ionen in dem
Ionenflüssigkeitsbad 14 verwendet, würde die Stromquelle 22
so angeschlossen, daß der Gegenstand 16 eine positive Ladung
hätte.
Der Gegenstand 16 kann ein Gegenstand mit im wesentlichen
jeder Form seine solange dieser eine elektrische Ladung emp
fangen kann. Nur der Bereich des Gegenstandes 16, der sich
in Flüssigkeitsverbindung mit dem Ionenflüssigkeitsbad 14
befindet, wird durch das Abscheidungsmaterial plattiert. In
der bevorzugten Ausführungsform ist der Gegenstand 16 eine
Tiefdruckwalze, welche auf einer Welle 36 befestigt ist, mit
einer Längsachse 37, und die Tiefdruckwalze wird während der
Galvanisierung rotiert. Daher wird, auch wenn sich zu einem
bestimmten Zeitpunkt nur ein Bereich des Gegenstandes 16 in
Flüssigkeitsverbindung mit dem Ionenflüssigkeitsbad 14 be
findet, der Gegenstand 16 auf der gesamten Außenfläche 38
plattiert, da alle Teile der Oberfläche 38 durch das Ionen
flüssigkeitsbad 14 rotiert werden. Die Galvanisierung kann
sowohl auf einem rotierenden Gegenstand, wie auch auf einem
stationären Gegenstand durchgeführt werden.
Die Abscheidungsmaterialzufuhr 12 wird in dem Reservoir 20
gehalten. Das Reservoir 20 umfaßt eine Hauptschale 40, bzw.
eine Hauptmulde 40, welche vorzugsweise von einem Träger 42
gehalten wird. In einer bevorzugten Ausführungsform ist der
Träger 42 ein Träger vom Kolbentyp, welcher sich zwischen
einer Bodenwand 44 des Behälters 18 und einer Hauptschale 40
erstreckt. Vorzugsweise wird die Hauptschale 40 aus einem
Titanblech hergestellt. Eine Auskleidung 46 wird vorzugs
weise zwischen der Hauptschale 40 und der Abscheidungsmate
rialzufuhr 12 angeordnet. Ein leitfähiges Blech 48 wird vor
zugsweise in Kontakt mit der Abscheidungsmaterialzufuhr 12
zwischen der Baseschale 40 und der Abscheidungsmaterialzu
fuhr 12 angeordnet. In einer bevorzugten Ausführungsform be
steht das leitfähige Blech 48 aus Blei und ist zwischen der
Auskleidung 46 und dem Abscheidungsmaterial 12 angeordnet.
Die Auskleidung 46 besteht vorzugsweise aus einer Kunst
stoffschicht bzw. einem Kunststoffbogen.
Um die Entwässerung zu unterstützen, können sowohl die Aus
kleidung 46 als auch das leitfähige Blech 48 perforiert
sein, um so zu ermöglichen, daß die Flüssigkeit zu der
Hauptschale 40 durchlaufen kann. Ein Entwässerungsrohr 50
erstreckt sich durch die Hauptschale 40, um einen Entwässe
rungsweg für die Flüssigkeit bereitzustellen, welche durch
das leitfähige Blech 48 und die Auskleidung 46 gefiltert
wird. In einer bevorzugten Ausführungsform führt das Entwäs
serungsrohr 50 die Entwässerungsflüssigkeit zurück zu der
Flüssigkeitszufuhr 28.
Im folgenden wird auf Fig. 2 Bezug genommen. In einer bevor
zugten Ausführungsform weist das Reservoir 20 einen im we
sentlichen U-förmigen Aufbau auf. Ein Paar äußere Stützwände
52 erstrecken sich von der Hauptschale 40 aus nach oben und
definieren ein Paar äußerer Längsseiten 53 des Reservoirs
20. Ein Paar Stirnwände 54 sind an den länglichen Enden des
Reservoirs 20 angeordnet. Das Reservoir 20 kann andere For
men aufweisen als die in der bevorzugten Ausführungsform
dargestellten. Bei der Plattierung von Tiefdruckwalzen er
streckt sich jedoch das Reservoir 20 vorzugsweise über eine
größere Länge in einer im allgemeinen parallelen Richtung zu
der Längsachse 37 der Tiefdruckwalze 16.
Ein Paar von inneren Stützwänden 56 erstrecken sich vorzugs
weise nach oben unter einem bestimmten Abstand von den
Stützwänden 52. Vorzugsweise ist die gesamte Abscheidungsma
terialzufuhr zwischen den inneren Stützwänden 56 enthalten.
Angeordnet zwischen jeder inneren Stützwand 56 und äußeren
Stützwand 52 sind Filterrohre 34. Die Filterrohre 34 er
strecken sich der Länge nach zwischen den Stützwänden 52 und
56, im allgemeinen parallel zu der Achse 37, vorzugsweise
über die gesamte Länge des Reservoirs 20. Die Filterrohre 34
können eine Vielzahl von kürzeren Filterrohren enthalten,
welche an einer Vielzahl von Trägern 58 befestigt sind, die
sich von dem Reservoir 20 aus erstrecken, wie in Fig. 2 dar
gestellt. Des weiteren ist über jedem Filterrohr 34 ein Ver
schlußelement 60 angeordnet. Jedes Verschlußelement 60 um
faßt eine Vielzahl von Öffnungen 62. Daher ist jedes Filter
rohr 34, wenn das Galvanisieren stattfindet, zwischen einer
Stützwand 52, einer inneren Stützwand 56, einem Bereich der
Auskleidung 46 und dem Verschlußelement 60 eingeschlossen.
Eine Barriere 24 ist zwischen der Abscheidungsmaterialzufuhr
12 und dem Gegenstand 16 angeordnet. Die Barriere 24 er
streckt sich zwischen jeder inneren Wand 56, und bedeckt da
her die Abscheidungsmaterialzufuhr 12, welche sonst dem Ge
genstand 16 ausgesetzt wäre. Auf diese Weise müssen die von
der Abscheidungsmaterialzufuhr 12 abgegebenen Ionen durch
die Barriere 24 treten, bevor sie in Kontakt mit den Gegen
stand 16 treten können. Die Barriere 24 verhindert jedoch,
daß Oxide oder andere unerwünschte Verunreinigungen in enge
Nähe zum Gegenstand 16 fließen, in welcher sie möglicherwei
se den Gegenstand 16 berühren könnten und zu Oberflächende
formationen des Abscheidungsmaterials führen könnten, wel
ches auf dem Gegenstand 16 abgeschieden wird. Die Barriere
24 wird vorzugsweise auf einer Platte oder einer Tafel auf
Polypropylen hergestellt, umfassen Durchgänge, die geeignet
dimensioniert sind, um den Durchfluß der Ionenflüssigkeit
zwischen der Abscheidungsmaterialzufuhr 12 und dem Gegen
stand 16 zu vereinfachen, während der Durchfluß von Kupfer
oxiden und anderen Verunreinigungen und Teilchen, die in der
Ionenflüssigkeit vorhanden sein können, oder welche durch
die Galvanisierung erzeugt werden, behindert werden.
Das Diffusionselement 26 ist auf ähnliche Weise zwischen der
Abscheidungsmaterialzufuhr 12 und dem Gegenstand 16 angeord
net. In einer bevorzugten Ausführungsform umfaßt das Diffu
sionselement 26 ein erstes Titangitter 64 und ein zweites
Titangitter 66. Beide Titangitter sind vorzugsweise an einem
Gelenk 68 befestigt und können daher von der Abscheidungsma
terialzufuhr 12 weggedreht werden, um die Entfernung des Ge
genstandes 16 aus dem Ionenflüssigkeitsbad 14 zu vereinfa
chen. Vorzugsweise ist die Barriere 24 zwischen dem ersten
und den zweiten Titangittern 64, 66 angeordnet. Auf diese
Weise wird die Barriere 64 sicher an dem Platz gehalten und
die Ionen können diffundiert und gefiltert werden, bevor sie
von der Abscheidungsmaterialzufuhr 12 in die Nähe des Gegen
standes 16 gelangen. Das erste und das zweite Gitter 64, 66
umfaßt eine Vielzahl von Öffnungen 70, welche es ermögli
chen, daß die Ionen durchtreten, während die Diffusion der
Ionen beschleunigt wird. In einer bevorzugten Ausführungs
form sind die Öffnungen 70 kreisförmig, mit weniger als
2,54 cm (2 inch) Durchmesser, und sie weisen verschiedene
Größen auf. Durch das Diffundieren der Ionen, werden die
Ionen gleichförmiger in dem Ionenflüssigkeitsbad 14 verteilt
und werden daher in einer gleichmäßigeren Weise von dem
Gegenstand 16 angezogen, was zu einer größeren Gleichmäßig
keit der Plattierungsablagerung führt.
Eine gleichmäßigere Dispersion der Ionen in dem Flüssig
keitsbad 14 wird auch vereinfacht, wenn die Ionenflüssigkeit
durch die Filterrohre 34 geleitet wird. Das heißt, die Fil
terrohre 34 filtern nicht nur Oxide und andere Verunreini
gungen raus, sondern beschleunigen auch die gleichförmige
Ionenflüssigkeitsverteilung über die Länge des Reservoirs
20. Die Filterrohre 34 sind vorzugsweise aus einem
Polypropylenmaterial konstruiert, welches in einer bevorzug
testen Ausführungsform ein 4 × 10 µm Polypropylenmaterial
ist, das den Durchfluß der Ionenflüssigkeit in das Flüssig
keitsbad 14 einschränkt. Flüssigkeit tritt in einen hohlen
inneren Bereich 71 der Filterrohre 34 ein und fließt dann
radial durch das Polypropylenmaterial nach außen und in das
Flüssigkeitsbad 14 hinein. Das beschränkende
Polypropylenfiltermaterial stellt sicher, daß die Filter
rohre 34 wenigstens teilweise mit Ionenflüssigkeit gefüllt
sind und beschleunigt eine langsame, gleichmäßige Verteilung
der Ionenflüssigkeit über die Länge des Reservoirs 20, und
beschleunigt somit die Ionendispersion und die gleichmäßige
Haftung der Ionen an dem Gegenstand 16.
Die Ionenflüssigkeit wird den Filterrohren 34 über die Rohr
leitung 30 zugeführt, welche vorzugsweise ein PVC-Rohr ist.
Das Rohr 30 ist mit der Flüssigkeitspumpe 32 verbunden und
erstreckt sich durch den Flüssigkeitszuführbehälter 28. Das
Rohr 30 erstreckt sich durch die Bodenwand 44, durch die
Hauptschale 40 und in die Filterrohre 34, um Ionenflüssig
keit in die inneren Bereiche 71 der Filterrohre 34 zuzufüh
ren. Da die Filterrohre 34 den Durchfluß der Flüssigkeit
beschränken, sind die Filterrohre 34 im allgemeinen mit
Ionenflüssigkeit angefüllt, die durch das Rohr 30 zugeführt
wird, und auf diese Weise wird die gleichmäßige Verteilung
der Ionenflüssigkeit über die Länge des Reservoires 20 be
schleunigt, wie oben diskutiert.
Der Flüssigkeitspegel in dem Behälter 18 wird durch über ei
ne Überflußwand 42 beibehalten, welche mit Abstand von einer
äußeren Wand 74 des Behälters 18 angeordnet ist. Das Ionen
flüssigkeitsbad 14 wird auf einem konstanten Pegel gehalten,
da jeder Überschuß der Ionenflüssigkeit über die Überfluß
wand 72 und in einen Durchfluß 76 fließt, über welchen die
übergelaufende Flüssigkeit in den Flüssigkeitszufuhrbehälter
28 zurückgeführt wird.
Der Betrieb der Galvanisiervorrichtung 10 wird im folgenden
unter Verwendung des Beispieles des Plattierens eines Tief
druckzylinders mit einer gleichförmigen Schicht von Kupfer
beschrieben. Die Erfindung ist jedoch weder auf das Plattie
ren von Tiefdruckzylindern beschränkt, noch auf die Verwen
dung von Kupfer als Abscheidungsmaterial.
Im Betrieb wird das Reservoir 20 umfassend die Abscheidungs
materialzufuhr 12 aus Kupfer, vorzugsweise in der Form von
Kupferklumpen, in ein Ionenflüssigkeitsbad 14 eingetaucht.
Das Ionenflüssigkeitsbad 14 besteht primär aus Wasser ge
mischt mit Kupferionen und Sulfationen. Der Gegenstand 16,
welcher in diesem Beispiel ein Tiefdruckzylinder ist, wird
in dem Ionenflüssigkeitsbad 14 durch herkömmliche Einrich
tungen (nicht dargestellt) rotiert, die auf diesem Gebiet
bekannt sind, während die Stromquelle 22 auf den Tiefdruck
zylinder und die Abscheidungsmaterialzufuhr 12 eine Ladung
überträgt. In dieser beispielhaft angeführten bevorzugten
Ausführungsform wird eine negative Ladung auf den Gegenstand
16 über eine mit der Welle 36 verbundene Verbindung 78 über
tragen und eine positive Ladung wird auf die Stromschiene 80
übertragen, wobei sich die Stromschiene 80 der Länge nach,
entlang des Reservoirs 20 erstreckt (im allgemeinen parallel
zu der Achse 37), in Kontakt mit der Abscheidungsmaterialzu
fuhr 12. Das elektrische Potential zwischen dem Gegenstand
16 und der Abscheidungsmaterialzufuhr 12 liegt vorzugsweise
in einem Bereich von 10 bis 11 1/2 Volt, obwohl ein breite
rer Voltbereich auch geeignet ist, um die Abscheidung des
Materials auf dem Gegenstand 16 zu erzielen. Wenn die Tief
druckwalze (d. h. der Gegenstand 16) rotiert, werden Ionen
aus dem Ionenflüssigkeitsbad 14 von der Außenfläche 38 des
Gegenstandes 16 angezogen und in einer feinen, im wesentli
chen gleichförmigen Schicht abgeschieden. Während sich die
Ionen auf der Außenfläche 38 abscheiden, werden zusätzliche
Ionen von der Abscheidungsmaterialquelle 12 freigegeben, um
das Ionenflüssigkeitsbad 14 zu ergänzen. Zusätzlich wird
Flüssigkeit, typischerweise Ionenflüssigkeit, aus dem Flüs
sigkeitszufuhrbehälter 28 in die Filterrohre 34 gepumpt, um
den Pegel des Ionenflüssigkeitsbades 14 beizubehalten. Die
Filterrohre 34 stellen sicher, daß Verunreinigungen nicht in
das Ionenflüssigkeitsbad 14 eintreten und sich des weiteren
die Flüssigkeit gleichmäßig in das Flüssigkeitsbad 14 dis
pergiert.
Durch den Betrieb der beschriebenen Vorrichtung 10, können
Tiefdruckzylinder sehr viel effizienter überholt werden, mit
weniger Abfall des Abscheidungsmaterials. Das beruht im we
sentlichen auf der Gleichförmigkeit, mit der eine neue Ab
scheidungsschicht auf den Tiefdruckzylinder aufgebracht wer
den kann.
Wie in Fig. 3 dargestellt, umfaßt ein typisches Verfahren
für das Überholen eines Tiefdruckzylinders, gemäß des Stan
des der Technik, zeitkonsumierende Extraschritte. Der Zylin
der wurde zunächst rauhgeschliffen, um eine Kupferschicht
von ungefähr 150 µm Dicke (100) zu entfernen. Auf diese
Weise wurde das geätzte Bild und etwas zusätzliches Material
von dem Tiefdruckzylinder entfernt. Anschließend wurden die
Zylinder zu einem Reinigungsbehälter überführt, in welchem
Verunreinigungen wie Verschmutzungen und Oxide entfernt wur
den (110). Der Reinigungsbehälter war typischerweise ein
Elektroreinigungsbehälter. Nach dem Reinigen wurde der Tief
druckzylinder mit einer neuen Schicht des Abscheidungsmate
rials, Kupfer, plattiert, welche ungefähr 250 µm dick war
(120). Diese 250 µm-Schicht war dick genug, um die Schicht
zu ersetzen, die zuvor entfernt wurde und eine zusätzliche
Schicht zur Verfügung zu stellen, mit ungefähr 125 µm Dicke,
die für das Bearbeiten notwendig war. Das Bearbeiten war
notwendig, um den Tiefdruckzylinder mit einer ausreichend
glatten und gleichmäßigen Oberfläche für das Drucken zu ver
sehen. Nachdem er eine neue Kupferschicht erhalten hatte,
wurde der Zylinder gekühlt, vorzugsweise auf ungefähr 72°C
(13).
Nach dem Abkühlen war der plattierte Tiefdruckzylinder für
die Bearbeitung bereit (140). Zunächst wurden die hohen
Zylinderkanten abgefräst (150). Anschließend wurde eine
Schicht von ungefähr 75 µm Dicke durch Raufschleifen ent
fernt (160). Dieser Schritt wurde von einem Feinschleifen
einer zusätzlichen Materialschicht von ungefähr 50 µm Dicke
(170) gefolgt. Insgesamt wurde eine Schicht von ungefähr
125 µm Dicke von dem Tiefdruckzylinder entfernt. In dem
letzten Schritt wurde der Zylinder mit Polierscheiben
poliert. Die Oberfläche wurde typischerweise zunächst mit
einer Polierscheibe mit einer Körnungsnummer von C2000 (180)
poliert und das wurde von einem weiteren Polieren mit einer
Polierscheibe mit einer Körnungsnummer von GC3000 (190)
gefolgt.
Die ungefähre Zeit die für jeden Schritt notwendig ist, ist
in Fig. 3 dargestellt, wie auch die ungefähre Gesamtzeit von
3 Stunden und 50 Minuten. Dieses Verfahren des Standes der
Technik war komplex, zeitaufwendig und führte zu einem über
mäßigen Abfall an Abscheidungsmaterial.
Unter Verwendung der oben beschriebenen Galvanisiervorrich
tung 10 wird ein sehr viel effizienteres Verfahren für das
Überholen von Tiefdruckzylindern möglich. Gemäß dieses neuen
Verfahrens für das Überholen der Oberfläche der Tiefdruckzy
linder wird eine alte Schicht des Abscheidungsmaterials von
dem Tiefdruckzylinder entfernt. Nachdem das Abscheidungsma
terial entfernt ist, wird eine Unteroberfläche freigelegt.
Diese Unteroberfläche wird anschließend von übriggebliebenen
Verunreinigungen wie Schmutz oder Oxiden gereinigt. Eine
neue Schicht des Abscheidungsmaterials wird anschließend
gleichmäßig über die Unteroberfläche aufgebracht, bis die
neue Schicht ungefähr die gleiche Dicke wie die alte, zuvor
entfernte, Schicht aufweist. Diese neue Schicht wird gleich
mäßig mit der Galvanisiervorrichtung 10 aufgebracht, und
führt zu einer glatten Oberfläche die nur minimale Bearbei
tung erfordert. Der letzte Schritt dieses Verfahrens umfaßt
das Polieren der neuen Schicht des Abscheidungsmaterials.
Gemäß des bevorzugtesten Verfahrens, welches in Fig. 4 dar
gestellt ist, wird eine Schicht von ungefähr 60 µm Dicke von
dem zu überholenden Tiefdruckzylinder rauhgeschliffen (200).
Dies wird gefolgt von einem Feinschleifen einer Schicht von
ungefähr 40 µm Dicke von dem Tiefdruckzylinder (210). Nach
dem beide Schichten entfernt sind, zusammen ungefähr 100 µm
in der Dicke, wird eine Unteroberfläche freigelegt und von
Oxiden und Verunreinigungen gereinigt (220). Nach dem Reini
gungsschritt wird die Unteroberfläche mit einer gleichmäßi
gen Schicht des Abscheidungsmaterials, von ungefähr 100 µm
Dicke galvanisiert (230). Diese neue Schicht des Abschei
dungsmaterials wird anschließend auf ein erstes Glättemaß
poliert und anschließend auf ein zweites Glättemaß poliert,
vorzugsweise zunächst mit einer C2000-Polierscheibe (240),
gefolgt von einer GC3000-Polierscheibe (250). Daher ermög
licht die Galvanisiervorrichtung 10 ein leichteres Verfahren
des Überholens der Tiefdruckzylinder, mit weniger Bearbei
tung, weniger Abfall Galvanisiermaterials und wesentlicher
Zeiteinsparung. Fig. 4 zeigt die ungefähre Zeit die für je
den Schritt notwendig ist, wie auch die Gesamtzeit von unge
fähr 2 Stunden und 30 Minuten.
Es wird deutlich, daß die vorgehende Beschreibung nur eine
bevorzugte, als Beispiel dienende, Ausführungsform der Er
findung ist, und daß die Erfindung nicht auf die spezifi
schen dargestellten Formen beschränkt ist. Zum Beispiel kann
die beschriebene Vorrichtung zum Galvanisieren für verschie
dene Gegenstände verwendet werden, kann unterschiedlich in
Größe oder Form sein, und kann eine Vielzahl von unter
schiedlichen Materialien verwenden. Gleichermaßen können die
Schritte des neuen Verfahrens der Überholung des Tiefdruck
zylinders verändert werden, z. B. durch das Entfernen oder
das Hinzufügen von Schichten des Abscheidungsmaterials mit
anderen Dicken als die oben beschriebenen. Diese und andere
Modifikationen können an der Konstruktion und der Anordnung
der Elemente durchgeführt werden, ohne sich von dem Kern der
Erfindung zu lösen, wie in den angefügten Ansprüchen ausge
drückt.
Claims (29)
1. Vorrichtung für das Verändern der Oberfläche eines Ge
genstandes, dadurch daß eine Menge eines Abscheidungs
materials auf diesem Gegenstand angeordnet wird, wobei
dieser Gegenstand in Flüssigkeitsverbindung mit einem
Ionenflüssigkeitsbad steht, umfassend Ionen dieses Ab
scheidungsmaterials, die Vorrichtung umfaßt:
einen Behälter zur Aufnahme des Ionenflüssigkeitsbades;
eine Reservoireinrichtung zur Aufnahme einer Abschei dungsmaterialzufuhr in Flüssigkeitsverbindung mit die sem Ionenflüssigkeitsbad;
eine elektrische Stromquelleneinrichtung für das Auf bauen eines elektrischen Feldes, wobei die elektrische Stromquelleneinrichtung im Betrieb mit der Abschei dungsmaterialzufuhr in dieser Reservoireinrichtung und mit den Gegenstand verbunden ist, diese elektrische Stromquelleneinrichtung dem Gegenstand eine erste La dung überträgt und der Abscheidungsmaterialzufuhr in dieser Reservoireinrichtung eine zweite Ladung über trägt, die erste Ladung und die zweite Ladung einander entgegengesetzte Polaritäten aufweisen und im wesentli chen gleiche Größenordnungen besitzen; und wobei diese erste und zweite Ladung miteinander kooperieren, um dieses elektrische Feld zwischen dem Gegenstand und der Abscheidungsmaterialzufuhr über dieses Ionenflüssig keitsbad aufzubauen; und das Ionenflüssigkeitsbad und das Abscheidungsmaterial ausgelöst durch das elektri sche Feld, miteinander kooperieren, um die Abscheidung der Ionen auf den Gegenstand zu bewirken; und
eine Barriereneinrichtung, um den Durchfluß von Verun reinigungen von der Abscheidungsmaterialzufuhr zu die sem Gegenstand zu behindern, wobei diese Barrierenein richtungen zwischen dem Gegenstand und dieser Abschei dungsmaterialzufuhr angeordnet sind.
einen Behälter zur Aufnahme des Ionenflüssigkeitsbades;
eine Reservoireinrichtung zur Aufnahme einer Abschei dungsmaterialzufuhr in Flüssigkeitsverbindung mit die sem Ionenflüssigkeitsbad;
eine elektrische Stromquelleneinrichtung für das Auf bauen eines elektrischen Feldes, wobei die elektrische Stromquelleneinrichtung im Betrieb mit der Abschei dungsmaterialzufuhr in dieser Reservoireinrichtung und mit den Gegenstand verbunden ist, diese elektrische Stromquelleneinrichtung dem Gegenstand eine erste La dung überträgt und der Abscheidungsmaterialzufuhr in dieser Reservoireinrichtung eine zweite Ladung über trägt, die erste Ladung und die zweite Ladung einander entgegengesetzte Polaritäten aufweisen und im wesentli chen gleiche Größenordnungen besitzen; und wobei diese erste und zweite Ladung miteinander kooperieren, um dieses elektrische Feld zwischen dem Gegenstand und der Abscheidungsmaterialzufuhr über dieses Ionenflüssig keitsbad aufzubauen; und das Ionenflüssigkeitsbad und das Abscheidungsmaterial ausgelöst durch das elektri sche Feld, miteinander kooperieren, um die Abscheidung der Ionen auf den Gegenstand zu bewirken; und
eine Barriereneinrichtung, um den Durchfluß von Verun reinigungen von der Abscheidungsmaterialzufuhr zu die sem Gegenstand zu behindern, wobei diese Barrierenein richtungen zwischen dem Gegenstand und dieser Abschei dungsmaterialzufuhr angeordnet sind.
2. Vorrichtung zum Verändern der Oberfläche eines Gegen
standes, dadurch daß eine Menge eines Abscheidungsmate
rials auf dem Gegenstand angeordnet wird, wobei der Ge
genstand in Flüssigkeitsverbindung mit einem Ionenflüs
sigkeitsbad steht, umfassend Ionen des Abscheidungsma
terials, die Vorrichtung umfaßt:
einen Behälter zur Aufnahme des Ionenflüssigkeitsbades;
eine Reservoireinrichtung zur Aufnahme einer Abschei dungsmaterialzufuhr in Flüssigkeitsverbindung mit dem Ionenflüssigkeitsbad;
eine elektrische Stromquelleneinrichtung für das Auf bauen eines elektrischen Feldes, wobei die elektrische Stromquelleneinrichtung im Betrieb mit der Abschei dungsmaterialzufuhr in dieser Reservoireinrichtung und mit dem Gegenstand verbunden ist, diese elektrische Stromquelleneinrichtung eine erste Ladung auf den Ge genstand überträgt und eine zweite Ladung auf die Ab scheidungsmaterialzufuhr in der Reservoireinrichtung überträgt, die erste Ladung und die zweite Ladung ein ander entgegengesetzte Polaritäten aufweisen und im we sentlichen gleiche Größenordnungen besitzen; und wobei diese erste und zweite Ladung miteinander kooperieren, um das elektrische Feld zwischen dem Gegenstand und der Abscheidungsmaterialzufuhr über dieses Ionenflüssig keitsbad aufzubauen; und das Ionenflüssigkeitsbad und das Abscheidungsmaterial ausgelöst durch das elektri sche Feld, miteinander kooperieren, um die Abscheidung der Ionen auf den Gegenstand zu bewirken;
eine Barriereneinrichtung um den Durchfluß der Verun reinigungen aus der Abscheidungsmaterialzufuhr auf den Gegenstand zu verhindern, wobei diese Barriereneinrich tungen zwischen dem Gegenstand und der Abscheidungsma terialzufuhr angeordnet sind; und
ein Diffusionselement für das Diffundieren der Ionen durch das Ionenflüssigkeitsbad während der Ablagerung dieser Ionen auf dem Gegenstand, wobei das Diffusions element zwischen dem Gegenstand und der Abscheidungsma terialzufuhr angeordnet ist.
einen Behälter zur Aufnahme des Ionenflüssigkeitsbades;
eine Reservoireinrichtung zur Aufnahme einer Abschei dungsmaterialzufuhr in Flüssigkeitsverbindung mit dem Ionenflüssigkeitsbad;
eine elektrische Stromquelleneinrichtung für das Auf bauen eines elektrischen Feldes, wobei die elektrische Stromquelleneinrichtung im Betrieb mit der Abschei dungsmaterialzufuhr in dieser Reservoireinrichtung und mit dem Gegenstand verbunden ist, diese elektrische Stromquelleneinrichtung eine erste Ladung auf den Ge genstand überträgt und eine zweite Ladung auf die Ab scheidungsmaterialzufuhr in der Reservoireinrichtung überträgt, die erste Ladung und die zweite Ladung ein ander entgegengesetzte Polaritäten aufweisen und im we sentlichen gleiche Größenordnungen besitzen; und wobei diese erste und zweite Ladung miteinander kooperieren, um das elektrische Feld zwischen dem Gegenstand und der Abscheidungsmaterialzufuhr über dieses Ionenflüssig keitsbad aufzubauen; und das Ionenflüssigkeitsbad und das Abscheidungsmaterial ausgelöst durch das elektri sche Feld, miteinander kooperieren, um die Abscheidung der Ionen auf den Gegenstand zu bewirken;
eine Barriereneinrichtung um den Durchfluß der Verun reinigungen aus der Abscheidungsmaterialzufuhr auf den Gegenstand zu verhindern, wobei diese Barriereneinrich tungen zwischen dem Gegenstand und der Abscheidungsma terialzufuhr angeordnet sind; und
ein Diffusionselement für das Diffundieren der Ionen durch das Ionenflüssigkeitsbad während der Ablagerung dieser Ionen auf dem Gegenstand, wobei das Diffusions element zwischen dem Gegenstand und der Abscheidungsma terialzufuhr angeordnet ist.
3. Vorrichtung nach Anspruch 2, wobei das Diffusionsele
ment zwischen der Barriereneinrichtung und dem Gegen
stand angeordnet ist.
4. Vorrichtung nach Anspruch 2, wobei das Diffusionsele
ment zwischen der Barriereneinrichtung und der Abschei
dungsmaterialzufuhr angeordnet ist.
5. Vorrichtung nach Anspruch 2, wobei dieses Diffusions
element ein erstes Gitter und ein zweites Gitter um
faßt, und wobei diese Barriereneinrichtung zwischen
diesem ersten Gitter und diesem zweiten Gitter angeord
net ist.
6. Vorrichtung für das Verändern der Oberfläche eines Ge
genstandes, dadurch daß eine Menge eines Abscheidungs
materials auf dem Gegenstand angeordnet wird, wobei
der Gegenstand in Flüssigkeitsverbindung mit einem
Ionenflüssigkeitsbad steht, umfassend Ionen des Ab
scheidungsmaterials, die Vorrichtung umfaßt:
einen Behälter zur Aufnahme des Ionenflüssigkeitsbades;
eine Reservoireinrichtung für das Aufnehmen einer Ab scheidungsmaterialzufuhr in Flüssigkeitsverbindung mit diesem Ionenflüssigkeitsbad;
eine elektrische Stromquelleneinrichtung für das Auf bauen eines elektrischen Feldes, wobei diese elektri sche Stromquelleneinrichtung im Betrieb mit dieser Ab scheidungsmaterialzufuhr in dieser Reservoireinrichtung und mit dem Gegenstand verbunden ist, die elektrische Stromquelleneinrichtung eine erste Ladung auf den Ge genstand überträgt und eine zweite Ladung auf die Ab scheidungsmaterialzufuhr in dieser Reservoireinrichtung überträgt, die erste Ladung und die zweite Ladung ein ander entgegengesetzte Polaritäten aufweisen und im we sentlichen die gleiche Größenordnung besitzen; und wo bei diese erste und zweite Ladung miteinander kooperie ren, um dieses elektrische Feld zwischen dem Gegenstand und der Abscheidungsmaterialzufuhr über dieses Ionen flüssigkeitsbad aufzubauen; und das Ionenflüssig keitsbad und das Abscheidungsmaterial ausgelöst durch dieses elektrische Feld, miteinander kooperieren, um die Abscheidung dieser Ionen auf den Gegenstand zu bewirken;
eine Barriereneinrichtung um den Durchfluß der Verun reinigungen von der Abscheidungsmaterialzufuhr auf den Gegenstand zu behindern, wobei diese Barriereneinrich tung zwischen dem Gegenstand und der Abscheidungsmate rialzufuhr angeordnet ist; und
einen Filter, angeordnet in diesem Flüssigkeitsbad im wesentlichen parallel zu einer Längsachse dieses Gegen standes, um eine Flüssigkeit zu filtrieren, wenn diese Flüssigkeit zu diesem Ionenflüssigkeitsbad zugegeben wird, wobei der Filter so aufgebaut ist, daß eine gleichförmige Verteilung der Flüssigkeit in dem Flüs sigkeitsbad bewirkt wird.
einen Behälter zur Aufnahme des Ionenflüssigkeitsbades;
eine Reservoireinrichtung für das Aufnehmen einer Ab scheidungsmaterialzufuhr in Flüssigkeitsverbindung mit diesem Ionenflüssigkeitsbad;
eine elektrische Stromquelleneinrichtung für das Auf bauen eines elektrischen Feldes, wobei diese elektri sche Stromquelleneinrichtung im Betrieb mit dieser Ab scheidungsmaterialzufuhr in dieser Reservoireinrichtung und mit dem Gegenstand verbunden ist, die elektrische Stromquelleneinrichtung eine erste Ladung auf den Ge genstand überträgt und eine zweite Ladung auf die Ab scheidungsmaterialzufuhr in dieser Reservoireinrichtung überträgt, die erste Ladung und die zweite Ladung ein ander entgegengesetzte Polaritäten aufweisen und im we sentlichen die gleiche Größenordnung besitzen; und wo bei diese erste und zweite Ladung miteinander kooperie ren, um dieses elektrische Feld zwischen dem Gegenstand und der Abscheidungsmaterialzufuhr über dieses Ionen flüssigkeitsbad aufzubauen; und das Ionenflüssig keitsbad und das Abscheidungsmaterial ausgelöst durch dieses elektrische Feld, miteinander kooperieren, um die Abscheidung dieser Ionen auf den Gegenstand zu bewirken;
eine Barriereneinrichtung um den Durchfluß der Verun reinigungen von der Abscheidungsmaterialzufuhr auf den Gegenstand zu behindern, wobei diese Barriereneinrich tung zwischen dem Gegenstand und der Abscheidungsmate rialzufuhr angeordnet ist; und
einen Filter, angeordnet in diesem Flüssigkeitsbad im wesentlichen parallel zu einer Längsachse dieses Gegen standes, um eine Flüssigkeit zu filtrieren, wenn diese Flüssigkeit zu diesem Ionenflüssigkeitsbad zugegeben wird, wobei der Filter so aufgebaut ist, daß eine gleichförmige Verteilung der Flüssigkeit in dem Flüs sigkeitsbad bewirkt wird.
7. Vorrichtung für das Verändern der Oberfläche eines Ge
genstandes, dadurch daß eine Menge eines Abscheidungs
materials auf dem Gegenstand angeordnet wird, wobei
der Gegenstand in Flüssigkeitsverbindung mit einem
Ionenflüssigkeitsbad steht, umfassend Ionen des Ab
scheidungsmaterials, die Vorrichtung umfaßt:
einen Behälter zur Aufnahme des Ionenflüssigkeitsbades;
eine Reservoireinrichtung für das Aufnehmen einer Ab scheidungsmaterialzufuhr in Flüssigkeitsverbindung mit diesem Ionenflüssigkeitsbad;
eine elektrische Stromquelleneinrichtung für das Auf bauen eines elektrischen Feldes, wobei diese elektri sche Stromquelleneinrichtung im Betrieb mit dieser Ab scheidungsmaterialzufuhr in dieser Reservoireinrichtung und mit dem Gegenstand verbunden ist, die elektrische Stromquelleneinrichtung eine erste Ladung auf den Ge genstand überträgt und eine zweite Ladung auf die Ab scheidungsmaterialzufuhr in dieser Reservoireinrichtung überträgt, die erste Ladung und die zweite Ladung ein ander entgegengesetzte Polaritäten aufweisen und im we sentlichen die gleiche Größenordnung besitzen; und wo bei diese erste und zweite Ladung miteinander kooperie ren, um dieses elektrische Feld zwischen dem Gegenstand und der Abscheidungsmaterialzufuhr über dieses Ionen flüssigkeitsbad aufzubauen; und das Ionenflüssig keitsbad und das Abscheidungsmaterial ausgelöst durch dieses elektrische Feld, miteinander kooperieren, um die Abscheidung dieser Ionen auf den Gegenstand zu bewirken;
eine Barriereneinrichtung um den Durchfluß der Verun reinigungen von der Abscheidungsmaterialzufuhr auf den Gegenstand zu behindern, wobei diese Barriereneinrich tung zwischen dem Gegenstand und der Abscheidungsmate rialzufuhr angeordnet ist;
ein Diffusionselement für das Diffundieren dieser Ionen durch das Ionenflüssigkeitsbad während der Ablagerung dieser Ionen auf diesem Gegenstand, wobei das Diffusi onselement zwischen dem Gegenstand und dieser Abschei dungsmaterialzufuhr angeordnet ist; und
ein Filter, angeordnet in diesem Flüssigkeitsbad im we sentlichen parallel zu einer Längsachse dieses Gegen standes, um eine Flüssigkeit zu filtrieren, wenn diese Flüssigkeit in das Ionenflüssigkeitsbad zugegeben wird, wobei der Filter so aufgebaut ist, daß eine gleichför mige Verteilung dieser Flüssigkeit in das Flüssigkeits bad bewirkt wird.
einen Behälter zur Aufnahme des Ionenflüssigkeitsbades;
eine Reservoireinrichtung für das Aufnehmen einer Ab scheidungsmaterialzufuhr in Flüssigkeitsverbindung mit diesem Ionenflüssigkeitsbad;
eine elektrische Stromquelleneinrichtung für das Auf bauen eines elektrischen Feldes, wobei diese elektri sche Stromquelleneinrichtung im Betrieb mit dieser Ab scheidungsmaterialzufuhr in dieser Reservoireinrichtung und mit dem Gegenstand verbunden ist, die elektrische Stromquelleneinrichtung eine erste Ladung auf den Ge genstand überträgt und eine zweite Ladung auf die Ab scheidungsmaterialzufuhr in dieser Reservoireinrichtung überträgt, die erste Ladung und die zweite Ladung ein ander entgegengesetzte Polaritäten aufweisen und im we sentlichen die gleiche Größenordnung besitzen; und wo bei diese erste und zweite Ladung miteinander kooperie ren, um dieses elektrische Feld zwischen dem Gegenstand und der Abscheidungsmaterialzufuhr über dieses Ionen flüssigkeitsbad aufzubauen; und das Ionenflüssig keitsbad und das Abscheidungsmaterial ausgelöst durch dieses elektrische Feld, miteinander kooperieren, um die Abscheidung dieser Ionen auf den Gegenstand zu bewirken;
eine Barriereneinrichtung um den Durchfluß der Verun reinigungen von der Abscheidungsmaterialzufuhr auf den Gegenstand zu behindern, wobei diese Barriereneinrich tung zwischen dem Gegenstand und der Abscheidungsmate rialzufuhr angeordnet ist;
ein Diffusionselement für das Diffundieren dieser Ionen durch das Ionenflüssigkeitsbad während der Ablagerung dieser Ionen auf diesem Gegenstand, wobei das Diffusi onselement zwischen dem Gegenstand und dieser Abschei dungsmaterialzufuhr angeordnet ist; und
ein Filter, angeordnet in diesem Flüssigkeitsbad im we sentlichen parallel zu einer Längsachse dieses Gegen standes, um eine Flüssigkeit zu filtrieren, wenn diese Flüssigkeit in das Ionenflüssigkeitsbad zugegeben wird, wobei der Filter so aufgebaut ist, daß eine gleichför mige Verteilung dieser Flüssigkeit in das Flüssigkeits bad bewirkt wird.
8. Vorrichtung für das Verändern der Oberfläche eines Ge
genstandes, dadurch daß eine Menge eines Abscheidungs
materials auf dem Gegenstand angeordnet wird, wobei
der Gegenstand in Flüssigkeitsverbindung mit einem
Ionenflüssigkeitsbad steht, umfassend Ionen des Ab
scheidungsmaterials, die Vorrichtung umfaßt:
einen Behälter zur Aufnahme des Ionenflüssigkeitsbades;
eine Reservoireinrichtung für das Aufnehmen einer Ab scheidungsmaterialzufuhr in Flüssigkeitsverbindung mit diesem Ionenflüssigkeitsbad;
eine elektrische Stromquelleneinrichtung für das Auf bauen eines elektrischen Feldes, wobei diese elektri sche Stromquelleneinrichtung im Betrieb mit dieser Ab scheidungsmaterialzufuhr in dieser Reservoireinrichtung und mit dem Gegenstand verbunden ist, die elektrische Stromquelleneinrichtung eine erste Ladung auf den Ge genstand überträgt und eine zweite Ladung auf die Ab scheidungsmaterialzufuhr in dieser Reservoireinrichtung überträgt, die erste Ladung und die zweite Ladung ein ander entgegengesetzte Polaritäten aufweisen und im we sentlichen die gleiche Größenordnung besitzen; und wo bei diese erste und zweite Ladung miteinander kooperie ren, um dieses elektrische Feld zwischen dem Gegenstand und der Abscheidungsmaterialzufuhr über dieses Ionen flüssigkeitsbad aufzubauen; und das Ionenflüssig keitsbad und das Abscheidungsmaterial ausgelöst durch dieses elektrische Feld, miteinander kooperieren, um die Abscheidung dieser Ionen auf den Gegenstand zu bewirken;
ein Diffusionselement für das Diffundieren dieser Ionen durch das Ionenflüssigkeitsbad während der Ablagerung dieser Ionen auf dem Gegenstand, wobei das Diffusions element zwischen dem Gegenstand und der Abscheidungsma terialzufuhr angeordnet ist.
einen Behälter zur Aufnahme des Ionenflüssigkeitsbades;
eine Reservoireinrichtung für das Aufnehmen einer Ab scheidungsmaterialzufuhr in Flüssigkeitsverbindung mit diesem Ionenflüssigkeitsbad;
eine elektrische Stromquelleneinrichtung für das Auf bauen eines elektrischen Feldes, wobei diese elektri sche Stromquelleneinrichtung im Betrieb mit dieser Ab scheidungsmaterialzufuhr in dieser Reservoireinrichtung und mit dem Gegenstand verbunden ist, die elektrische Stromquelleneinrichtung eine erste Ladung auf den Ge genstand überträgt und eine zweite Ladung auf die Ab scheidungsmaterialzufuhr in dieser Reservoireinrichtung überträgt, die erste Ladung und die zweite Ladung ein ander entgegengesetzte Polaritäten aufweisen und im we sentlichen die gleiche Größenordnung besitzen; und wo bei diese erste und zweite Ladung miteinander kooperie ren, um dieses elektrische Feld zwischen dem Gegenstand und der Abscheidungsmaterialzufuhr über dieses Ionen flüssigkeitsbad aufzubauen; und das Ionenflüssig keitsbad und das Abscheidungsmaterial ausgelöst durch dieses elektrische Feld, miteinander kooperieren, um die Abscheidung dieser Ionen auf den Gegenstand zu bewirken;
ein Diffusionselement für das Diffundieren dieser Ionen durch das Ionenflüssigkeitsbad während der Ablagerung dieser Ionen auf dem Gegenstand, wobei das Diffusions element zwischen dem Gegenstand und der Abscheidungsma terialzufuhr angeordnet ist.
9. Vorrichtung für das Verändern der Oberfläche eines Ge
genstandes, dadurch daß eine Menge eines Abscheidungs
materials auf dem Gegenstand angeordnet wird, wobei
der Gegenstand in Flüssigkeitsverbindung mit einem
Ionenflüssigkeitsbad steht, umfassend Ionen des Ab
scheidungsmaterials, die Vorrichtung umfaßt:
einen Behälter zur Aufnahme des Ionenflüssigkeitsbades;
eine Reservoireinrichtung für das Aufnehmen einer Ab scheidungsmaterialzufuhr in Flüssigkeitsverbindung mit diesem Ionenflüssigkeitsbad;
eine elektrische Stromquelleneinrichtung für das Auf bauen eines elektrischen Feldes, wobei diese elektri sche Stromquelleneinrichtung im Betrieb mit dieser Ab scheidungsmaterialzufuhr in dieser Reservoireinrichtung und mit dem Gegenstand verbunden ist, die elektrische Stromquelleneinrichtung eine erste Ladung auf den Ge genstand überträgt und eine zweite Ladung auf die Ab scheidungsmaterialzufuhr in dieser Reservoireinrichtung überträgt, die erste Ladung und die zweite Ladung ein ander entgegengesetzte Polaritäten aufweisen und im we sentlichen die gleiche Größenordnung besitzen; und wo bei diese erste und zweite Ladung miteinander kooperie ren, um dieses elektrische Feld zwischen dem Gegenstand und der Abscheidungsmaterialzufuhr über dieses Ionen flüssigkeitsbad aufzubauen; und das Ionenflüssig keitsbad und das Abscheidungsmaterial ausgelöst durch dieses elektrische Feld, miteinander kooperieren, um die Abscheidung dieser Ionen auf den Gegenstand zu bewirken;
ein Diffusionselement für das Diffundieren dieser Ionen durch dieses Ionenflüssigkeitsbad während der Ablage rung dieser Ionen auf dem Gegenstand, wobei das Diffu sionselement zwischen dem Gegenstand und der Abschei dungsmaterialzufuhr angeordnet ist; und
ein Filter, angeordnet in diesem Flüssigkeitsbad im we sentlichen parallel zu einer Längsachse dieses Gegen standes, um eine Flüssigkeit zu filtrieren, wenn diese Flüssigkeit in das Ionenflüssigkeitsbad zugegeben wird, wobei der Filter so aufgebaut ist, daß eine gleichför mige Verteilung dieser Flüssigkeit in dem Flüssigkeits bad bewirkt wird.
einen Behälter zur Aufnahme des Ionenflüssigkeitsbades;
eine Reservoireinrichtung für das Aufnehmen einer Ab scheidungsmaterialzufuhr in Flüssigkeitsverbindung mit diesem Ionenflüssigkeitsbad;
eine elektrische Stromquelleneinrichtung für das Auf bauen eines elektrischen Feldes, wobei diese elektri sche Stromquelleneinrichtung im Betrieb mit dieser Ab scheidungsmaterialzufuhr in dieser Reservoireinrichtung und mit dem Gegenstand verbunden ist, die elektrische Stromquelleneinrichtung eine erste Ladung auf den Ge genstand überträgt und eine zweite Ladung auf die Ab scheidungsmaterialzufuhr in dieser Reservoireinrichtung überträgt, die erste Ladung und die zweite Ladung ein ander entgegengesetzte Polaritäten aufweisen und im we sentlichen die gleiche Größenordnung besitzen; und wo bei diese erste und zweite Ladung miteinander kooperie ren, um dieses elektrische Feld zwischen dem Gegenstand und der Abscheidungsmaterialzufuhr über dieses Ionen flüssigkeitsbad aufzubauen; und das Ionenflüssig keitsbad und das Abscheidungsmaterial ausgelöst durch dieses elektrische Feld, miteinander kooperieren, um die Abscheidung dieser Ionen auf den Gegenstand zu bewirken;
ein Diffusionselement für das Diffundieren dieser Ionen durch dieses Ionenflüssigkeitsbad während der Ablage rung dieser Ionen auf dem Gegenstand, wobei das Diffu sionselement zwischen dem Gegenstand und der Abschei dungsmaterialzufuhr angeordnet ist; und
ein Filter, angeordnet in diesem Flüssigkeitsbad im we sentlichen parallel zu einer Längsachse dieses Gegen standes, um eine Flüssigkeit zu filtrieren, wenn diese Flüssigkeit in das Ionenflüssigkeitsbad zugegeben wird, wobei der Filter so aufgebaut ist, daß eine gleichför mige Verteilung dieser Flüssigkeit in dem Flüssigkeits bad bewirkt wird.
10. Vorrichtung für das Verändern der Oberfläche eines Ge
genstandes, dadurch daß eine Menge eines Abscheidungs
materials auf dem Gegenstand angeordnet wird, wobei
der Gegenstand in Flüssigkeitsverbindung mit einem
Ionenflüssigkeitsbad steht, umfassend Ionen des Ab
scheidungsmaterials, die Vorrichtung umfaßt:
einen Behälter zur Aufnahme des Ionenflüssigkeitsbades;
eine Reservoireinrichtung für das Aufnehmen einer Ab scheidungsmaterialzufuhr in Flüssigkeitsverbindung mit diesem Ionenflüssigkeitsbad;
eine elektrische Stromquelleneinrichtung für das Auf bauen eines elektrischen Feldes, wobei diese elektri sche Stromquelleneinrichtung im Betrieb mit dieser Ab scheidungsmaterialzufuhr in dieser Reservoireinrichtung und mit dem Gegenstand verbunden ist, die elektrische Stromquelleneinrichtung eine erste Ladung auf den Ge genstand überträgt und eine zweite Ladung auf die Ab scheidungsmaterialzufuhr in dieser Reservoireinrichtung überträgt, die erste Ladung und die zweite Ladung ein ander entgegengesetzte Polaritäten aufweisen und im we sentlichen die gleiche Größenordnung besitzen; und wo bei diese erste und zweite Ladung miteinander kooperie ren, um dieses elektrische Feld zwischen dem Gegenstand und der Abscheidungsmaterialzufuhr über dieses Ionen flüssigkeitsbad aufzubauen; und das Ionenflüssig keitsbad und das Abscheidungsmaterial ausgelöst durch dieses elektrische Feld, miteinander kooperieren, um die Abscheidung dieser Ionen auf den Gegenstand zu bewirken; und
ein Filter, angeordnet in diesem Flüssigkeitsbad, im wesentlichen parallel zu einer Längsachse dieses Gegen standes, um eine Flüssigkeit zu filtrieren, wenn diese Flüssigkeit in das Ionenflüssigkeitsbad zugegeben wird, wobei der Filter so aufgebaut ist, daß eine gleichför mige Verteilung dieser Flüssigkeit in diesem Flüssig keitsbad bewirkt wird.
einen Behälter zur Aufnahme des Ionenflüssigkeitsbades;
eine Reservoireinrichtung für das Aufnehmen einer Ab scheidungsmaterialzufuhr in Flüssigkeitsverbindung mit diesem Ionenflüssigkeitsbad;
eine elektrische Stromquelleneinrichtung für das Auf bauen eines elektrischen Feldes, wobei diese elektri sche Stromquelleneinrichtung im Betrieb mit dieser Ab scheidungsmaterialzufuhr in dieser Reservoireinrichtung und mit dem Gegenstand verbunden ist, die elektrische Stromquelleneinrichtung eine erste Ladung auf den Ge genstand überträgt und eine zweite Ladung auf die Ab scheidungsmaterialzufuhr in dieser Reservoireinrichtung überträgt, die erste Ladung und die zweite Ladung ein ander entgegengesetzte Polaritäten aufweisen und im we sentlichen die gleiche Größenordnung besitzen; und wo bei diese erste und zweite Ladung miteinander kooperie ren, um dieses elektrische Feld zwischen dem Gegenstand und der Abscheidungsmaterialzufuhr über dieses Ionen flüssigkeitsbad aufzubauen; und das Ionenflüssig keitsbad und das Abscheidungsmaterial ausgelöst durch dieses elektrische Feld, miteinander kooperieren, um die Abscheidung dieser Ionen auf den Gegenstand zu bewirken; und
ein Filter, angeordnet in diesem Flüssigkeitsbad, im wesentlichen parallel zu einer Längsachse dieses Gegen standes, um eine Flüssigkeit zu filtrieren, wenn diese Flüssigkeit in das Ionenflüssigkeitsbad zugegeben wird, wobei der Filter so aufgebaut ist, daß eine gleichför mige Verteilung dieser Flüssigkeit in diesem Flüssig keitsbad bewirkt wird.
11. Vorrichtung nach Anspruch 4, des weiteren umfassend ein
Rohr, welches sich durch diese Reservoireinrichtung er
streckt, wobei das Rohr aufgebaut ist, um diese Flüs
sigkeit dem Filter zuzuführen, wenn die Flüssigkeit dem
Flüssigkeitsbad zugegeben wird.
12. Vorrichtung nach Anspruch 4, wobei der Filter aufgebaut
ist, um eine Ionenflüssigkeit zu filtrieren.
13. Vorrichtung nach Anspruch 9, wobei der Filter aufgebaut
ist, um Ionen in die Ionenflüssigkeit zu diffundieren,
wenn die Ionenflüssigkeit durch den Filter läuft.
14. Vorrichtung nach Anspruch 10, wobei dieser Filter aus
einem Material umfassend Polypropylen hergestellt ist.
15. Vorrichtung nach Anspruch 11, wobei das Filtermaterial
ein 4 × 10 µm Polypropylenfilter umfaßt.
16. Vorrichtung nach Anspruch 11, wobei der Filter ein Rohr
mit einem hohlen inneren Bereich ist, wobei die Flüs
sigkeit in den hohlen inneren Bereich eintritt und ra
dial durch das Rohr in das Flüssigkeitsbad fließt.
17. Vorrichtung nach Anspruch 13, wobei der Filter eine
Vielzahl von Rohren aufweist, wobei jedes Rohr einen
hohlen inneren Bereich aufweist.
18. Vorrichtung nach Anspruch 4, wobei das Diffusionsele
ment ein Gitter umfaßt, mit einer Vielzahl von sich
durch dieses erstreckenden Öffnungen.
19. Vorrichtung nach Anspruch 15, wobei dieses Diffusions
element des weiteren ein zweites Gitter umfaßt, mit ei
ner Vielzahl von sich durch dieses erstreckenden Öff
nungen, wobei dieses zweite Gitter im wesentlichen par
allel zu diesem ersten Gitter angeordnet ist.
20. Vorrichtung nach Anspruch 16, wobei die Gitter aus
Titan hergestellt sind.
21. Vorrichtung nach Anspruch 4, wobei diese Barrierenein
richtung eine Tafel mit Durchgängen bzw. Öffnungen um
faßt.
22. Vorrichtung nach Anspruch 18, wobei diese Barrierenein
richtung ein Polypropylenmaterial umfaßt.
23. Vorrichtung nach Anspruch 19, wobei diese Durchgänge
eine ausreichende Größe aufweisen, um den Durchfluß von
Kupferionen und Sulfationen zu ermöglichen.
24. Vorrichtung nach Anspruch 16, wobei diese Barrierenein
richtung eine Tafel mit Durchgängen umfaßt, wobei diese
Tafel zwischen dem ersten Gitter und dem zweiten Gitter
angeordnet ist.
25. Verfahren für das Überholen einer Oberfläche eines
Tiefdruckzylinders, welcher mit einem Abscheidungsmate
rial plattiert wird, umfassend folgende Schritte:
Entfernen einer alten Schicht des Abscheidungsmaterials von dem Tiefdruckzylinder, um eine Unteroberfläche freizulegen, wobei die alte Schicht eine erste Dicke aufweist;
Entfernen der verbliebenen Verunreinigungen von dieser Unteroberfläche;
Aufbringen einer neuen Schicht des Abscheidungsmateri als gleichmäßig auf dieser Unteroberfläche, und die neue Schicht eine zweite Dicke aufweist, wobei die zweite Dicke im wesentlichen der ersten Dicke ent spricht, und wobei der Schritt des Auftragens des wei teren durch Galvanisieren durchgeführt wird; und
Polieren dieser neuen Schicht aus Abscheidungsmaterial.
Entfernen einer alten Schicht des Abscheidungsmaterials von dem Tiefdruckzylinder, um eine Unteroberfläche freizulegen, wobei die alte Schicht eine erste Dicke aufweist;
Entfernen der verbliebenen Verunreinigungen von dieser Unteroberfläche;
Aufbringen einer neuen Schicht des Abscheidungsmateri als gleichmäßig auf dieser Unteroberfläche, und die neue Schicht eine zweite Dicke aufweist, wobei die zweite Dicke im wesentlichen der ersten Dicke ent spricht, und wobei der Schritt des Auftragens des wei teren durch Galvanisieren durchgeführt wird; und
Polieren dieser neuen Schicht aus Abscheidungsmaterial.
26. Verfahren nach Anspruch 22, wobei der Schritt des Ent
fernens des weiteren die Schritte des Rauhschleifens
eines Teils der alten Schicht umfaßt, gefolgt von einem
Feinschleifen eines Teils dieser alten Schicht.
Feinschleifen eines Teils dieser alten Schicht.
27. Verfahren nach Anspruch 22, wobei die gleichmäßige
Dicke dieser alten Schicht ungefähr in dem Bereich von
etwa 75 Mikron bis ungefähr 125 Mikron liegt.
28. Verfahren nach Anspruch 22, wobei dieser Schritt des
Polierens des weiteren die Schritte, des Polierens der
neuen Schicht mit einer ersten Polierscheibe und an
schließendes Polieren der neuen Schicht mit einer zwei
ten Polierscheibe umfaßt, wobei die zweite Polier
scheibe der neuen Oberfläche eine feinere Oberflächen
güte verleiht, als die erste Polierscheibe.
29. Vorrichtung für das Verändern der Oberfläche eines Ge
genstandes, dadurch daß eine Menge eines Abscheidungs
materials auf dem Gegenstand angeordnet wird, wobei der
Gegenstand in Flüssigkeitsverbindung mit einem Ionen
flüssigkeitsbad steht, umfassend Ionen dieses Abschei
dungsmaterials, die Vorrichtung umfaßt:
ein Behälter für die Aufnahme dieses Ionenflüssigkeits bades;
eine Abscheidungsmaterialzufuhr in Flüssigkeitsverbin dung mit diesem Ionenflüssigkeitsbad;
eine elektrische Stromquelleneinrichtung für das Auf bauen eines elektrischen Feldes, wobei die elektrische Stromquelleneinrichtung im Betrieb mit dieser Abschei dungsmaterialzufuhr und mit diesem Gegenstand verbunden ist, die elektrische Stromquelleneinrichtung eine erste Ladung auf den Gegenstand überträgt, und eine zweite Ladung auf die Abscheidungsmaterialzufuhr überträgt, die erste Ladung und die zweite Ladung einander entge gengesetzte Polaritäten aufweisen und im wesentlichen die gleiche Größenordnung besitzen; und wobei die erste Ladung und die zweite Ladung miteinander kooperieren, um das elektrische Feld zwischen dem Gegenstand und der Abscheidungsmaterialzufuhr über dieses Ionenflüssig keitsbad aufzubauen; und das Ionenflüssigkeitsbad und das Abscheidungsmaterial ausgelöst durch das elektri sche Feld, miteinander kooperieren, um die Abscheidung dieser Ionen auf dem Gegenstand zu bewirken; und
eine Barriereneinrichtung, um den Durchfluß der Verun reinigungen aus dem Abscheidungsmaterial auf den Gegen stand zu behindern, wobei diese Barriereneinrichtung zwischen dem Gegenstand und der Abscheidungsmaterialzu fuhr angeordnet ist.
ein Behälter für die Aufnahme dieses Ionenflüssigkeits bades;
eine Abscheidungsmaterialzufuhr in Flüssigkeitsverbin dung mit diesem Ionenflüssigkeitsbad;
eine elektrische Stromquelleneinrichtung für das Auf bauen eines elektrischen Feldes, wobei die elektrische Stromquelleneinrichtung im Betrieb mit dieser Abschei dungsmaterialzufuhr und mit diesem Gegenstand verbunden ist, die elektrische Stromquelleneinrichtung eine erste Ladung auf den Gegenstand überträgt, und eine zweite Ladung auf die Abscheidungsmaterialzufuhr überträgt, die erste Ladung und die zweite Ladung einander entge gengesetzte Polaritäten aufweisen und im wesentlichen die gleiche Größenordnung besitzen; und wobei die erste Ladung und die zweite Ladung miteinander kooperieren, um das elektrische Feld zwischen dem Gegenstand und der Abscheidungsmaterialzufuhr über dieses Ionenflüssig keitsbad aufzubauen; und das Ionenflüssigkeitsbad und das Abscheidungsmaterial ausgelöst durch das elektri sche Feld, miteinander kooperieren, um die Abscheidung dieser Ionen auf dem Gegenstand zu bewirken; und
eine Barriereneinrichtung, um den Durchfluß der Verun reinigungen aus dem Abscheidungsmaterial auf den Gegen stand zu behindern, wobei diese Barriereneinrichtung zwischen dem Gegenstand und der Abscheidungsmaterialzu fuhr angeordnet ist.
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