DE4335573A1 - CVD-Verfahren zur Beschichtung und Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens - Google Patents
CVD-Verfahren zur Beschichtung und Vorrichtung zur Durchführung des VerfahrensInfo
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Description
Die Erfindung betrifft ein CVD-Verfahren und eine Vor
richtung zur Durchführung einer kontinuierlichen Be
schichtung von elektrisch leitfähigen oder leitfähig ge
machten fadenförmiger Materialien und flächenhafte
Gewirke daraus mit pyrolytischem Kohlenstoff und Hart
stoffschichten. Das Substrat wird in einem offenen
System unter leicht erhöhtem Druck der Beschichtungs
atmosphäre durch Widerstandserwärmung auf Prozeßtem
peratur gebracht.
Verfahren zur kontinuierlichen Beschichtung faserför
miger Substrate sind bekannt und beispielsweise in dem
EP 0466 360 A1 beschrieben. Dort wird die elektrische
Kontaktierung durch zwei Flüssigkeitskontakte (Legie
rung: Qecksilber/Palladium) realisiert.
Bei der Beschichtung von C-Fasern kann ein Austragen
von Kontaktmaterial nicht ganz verhindert werden.
In der US-PS 3 811 940 wird die Substratheizung durch
Absorption von hochfrequenten elektrischen Strömen be
werkstelligt. Nachteile sind z. B. bei höherer zugeführter
elektrischer Leistung die Reaktorwanderwärmung durch
abgestrahlte Wärmeenergie des Substrates, die zu einer
Beschichtung der Reaktorwand führen und der relativ
hohe apparative Aufwand zur HF-Energieerzeugung.
Das in der Patentschrift DE 41 04 591 A1 beschriebene
Verfahren nutzt die indirekte Substratheizung. Diese
indirekten Verfahren lassen keine Absenkung der
Reaktorwandtemperatur unter die Prozeßtemperatur zu,
so daß es hier ebenfalls zu Abscheidungen an der
Wand kommt. Ein weiterer Nachteil ist in dem höheren
Energieverbrauch der eingesetzten Wärmequellen gegen
über der direkten Substratheizung zu sehen.
Die Erfindung hat das Ziel, ein energetisch effektives
Verfahren mit sparsamstem Verbrauch von Prozeßgasen
zur Beschichtung aus der Gasphase unter Vermeidung der
Nachteile von bisher bekannten CVD-Verfahren, wie
Reaktorwandbeschichtung und "Verkleben" von Filamenten
von Faserwerkstoffen (besonders bei größeren Schicht
dicken) bei gleichzeitig vergleichsweise geringem
gerätetechnischem Aufwand, zu entwickeln.
Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß unter Verwendung des
bekannten CVD-Verfahrens (Chemical Vapour Deposition)
dadurch gelöst, daß das zu beschichtende Substrat geeig
net mechanisch elektrisch kontaktiert und somit durch
Widerstandserwärmung auf die erforderliche Prozeßtem
peratur gebracht werden kann.
Die Kontaktierung kann z. B. durch Rollen, Walzen oder
auch direkt durch die Abwickel- und Aufwickelspule er
folgen.
Mit Kontaktierungen durch Rollen oder Walzen sind
kleinste Funkenbildungen in der Regel nicht ohne Hilfs
stoffe zu vermeiden. Daher wurden gesonderte Kontakt
rollen entwickelt, die diesen Nachteil zuverlässig ver
meiden. Ein Umschlingungswinkel des Substrates von z. B.
90° um diese Rollen oder Walzen wird dazu genutzt,
daß die voneinander isolierten Segmente der Rollen dann
zugeschaltet werden, wenn das fadenförmige Substrat be
reits an dem zuschaltendem Segment anliegt. Die Ab
schaltung eines Segmentes erfolgt kurz vor Abhebung des
fadenförmigen Substrates von diesem. Um eine kontinuier
liche Kontaktierung zu sichern, sind die Segmente elek
trisch in mindestens zwei Gruppen zusammengefaßt. Durch
eine gezielte Erzeugung einer Fadenspannung wird eine
Relativbewegung des fadenförmigen Substrates zu den Seg
menten ausgeschlossen bzw. durch Hilfantriebe verhindert.
Die Anwendung der Erfindung ist nicht auf diesen An
wendungsfall begrenzt - siehe Fig. 3.
Durch den Stromfluß stoßen sich die Filamente von Faser
werkstoffen (z. B. C-Fasern) aufgrund des sich um jede
Faser bildenden Magnetfeldes ab. Der Roving "bläht" sich
auf. Dadurch wird ein "Zusammenwachsen" der Filamente
beim Beschichten verhindert und die Diffusion des Pre
cursors in den Roving gefördert.
Um das Substrat zu mechanischen Schwingungen anzuregen,
wird ein Magnetfeld senkrecht zu dem stromdurchflossenen
Substrat angelegt. Dazu ist ein magnetisches Gleichfeld
bei Wechselstromerwärmung des Rovings oder ein magne
tisches Wechselfeld bei Gleichstromerwärmung des Rovings
erforderlich.
Die Reaktorwand wird durch eine Luftkühlung unter der
Prozeßtemperatur gehalten.
Die Ausführung der Erfindung wird nachfolgend anhand von
drei Zeichnungen näher beschrieben.
In den Zeichnungen zeigen:
Fig. 1 Kontaktierung von fadenförmigen Substraten
innerhalb des Reaktors,
Fig. 2 Kontaktierung an der Auf- und Abwickelspule,
Fig. 3 Gesonderte Rolle zur Kontaktierung.
Die Anwendung der Erfindung wird in den Ausführungsbei
spielen anhand der Beschichtung von Kohlenstoffasern
mit pyrolytischem Kohlenstoff beschrieben.
In Fig. 1 erfolgt die Kontaktierung innerhalb des unter
Prozeßtemperatur luftgekühlten Reaktors 1 durch die
Rollen 2. Der Reaktor wird gegenüber der umgebenden
Atmosphäre mit leichtem Überdruck gefahren, so daß durch
die Schleusen 3 kein Luftsauerstoff in den Reaktor ge
langt.
Die Abwickeleinrichtung 4 wird zur Erreichung eines
gleichmäßigen elektrischen Übergangswiderstandes des
Kontaktes mit einem gleichbleibenden mechanischen Gegen
moment abgebremst. Mit Hilfe der regelbaren
Stromquelle 5 wird der Strom zur Erreichung der erfor
derlichen Temperatur des Rovings eingestellt. Das Träger
gas (Ar) und Spülgas 6 wird in einer Waschflasche 7 mit
den Precursor (z. B. Benzen) 8, der thermostatiert ist,
beladen und im Gegenstrom zur Bewegung des Rovings ein
geleitet. Die Aufwicklung der beschichteten Fasern er
folgt mit der Aufwickeleinrichtung 9. Die Gasschleusen 3
übernehmen gleichzeitig Führungsaufgaben, jedoch keine
Kontaktierung.
In Fig. 2 des zweiten Ausführungsbeispieles erfolgt die
Kontaktierung an der Ab- 4 bzw. Aufwickelspule 9. Beide
Spulen befinden sich in mit Inertgas gefüllten Ge
häusen 10. Die Gasschleusen 3 übernehmen ebenfalls keine
Kontaktierung. Durch die Lage der Schleusen und die damit
verbundene Prozeßgaseinleitung ist mit dieser Apparatur
auch eine Hartstoffbeschichtung möglich, da aggressive
Reaktionsprodukte von der Kontaktierung ferngehalten wer
den.
Eine Kombination beider Varianten hinsichtlich der Kon
taktierung und Gaseinleitung ist möglich.
In Fig. 3 übernehmen die Segmente 1 die Kontaktierung
des fadenförmigen Substrates 2. Der Strom wird durch die
Achsen 3 zugeschaltet.
Die abgeschiedene Schicht wird in beiden Ausführungsbei
spielen durch Precursortemperatur und damit des Beladungs
grades des Trägergases, der Trägergasmenge und der Faden
durchlaufzeit eingestellt.
So wurde bei einem Reaktor mit 750 mm Länge und 16 mm
Durchmesser bei folgenden Prozeßparametern:
Temperatur des Rovings 1150°C; Geschwindigkeit des
Roving 50 m/h; Precurtemperatur (Benzen) 40°C; Träger
gasmenge(Ar) 25 l/h eine Schichtdicke des abgeschiedenen
pyrolytischen Kohlenstoffes von 340 nm erreicht. Der
Reaktor und die Gehäuse wurden vor Prozeßbeginn mit
Innertgas gespült. Die Frequenz des Wechselstromes betrug
50 Hz.
Als besondere Vorteile des Verfahrens sind zu nennen:
Bei Einhaltung der Prozeßparameter ist eine sehr gute Re
produzierbarkeit gesichert. Ein "Verkleben" von Filamenten
wurde selbst bei größeren Schichtdicken im Bereich
100-450 nm nicht beobachtet. Abscheidungen von Reaktions
produkten an der luftgekühlten Reaktorwand waren selbst
nach Stunden minimal und beeinflussen den Prozeß nicht.
Die Temperatur der Reaktorwand betrug ca. 600°C. Der
Energiebedarf liegt wesentlich unter dem der Heißwand
reaktoren und der Gasverbrauch wurde minimiert. Eine Nach
behandlung der Substrate ist nicht erforderlich.
Claims (10)
1. CVD-Verfahren zur Beschichtung elektrisch leitender
oder leitend gemachter Fasern oder bandförmigen Lagen
solcher Fasern, dadurch gekennzeichnet, daß die Fasern
oder Lagen ein gekühltes Reaktionsgefäß durchlaufen, an
dessen beiden Enden elektrisch kontaktiert und ohmisch
beheizt werden.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
daß die Kontaktierung der Fasern oder Lagen unter Zug
vorspannung derselben durch einfache Rollen erfolgt.
3. Verfahren nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet,
daß die Kontaktierung durch die Vorratsrollen der Fa
sern oder Lagen erfolgt.
4. Verfahren nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet,
daß die Kontaktierung durch gesonderte Kontaktrollen
erfolgt.
5. Verfahren nach Anspruch 4, gekennzeichnet durch die
eine Fadenführung zur bzw. von der Rolle in eine andere
Richtung realisiert wird.
6. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
daß die Kontaktierung durch Rollenpaare erfolgt.
7. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche,
dadurch gekennzeichnet, daß die Reaktorinnenwand unter
die CVD-Prozeßtemperatur abgekühlt wird.
8. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche,
dadurch gekennzeichnet, daß die Fasern oder Lagen mit
Wechselstrom beheizt werden und ein senkrecht zum
Stromfluß gerichtetes Gleichmagnetfeld durchlaufen.
9. Verfahren nach den Ansprüchen 1 bis 7, dadurch ge
kennzeichnet, daß die Fasern oder Lagen mit Gleichstrom
beheizt werden und ein senkrecht zum Stromfluß gerich
tetes Wechselmagnetfeld durchlaufen.
10. Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens nach
den Ansprüchen 1 bis 9, dadurch gekennzeichnet, daß die
Kontaktrollen im Reaktionsgefäß angeordnet sind.
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Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB2385864A (en) * | 2002-02-28 | 2003-09-03 | Qinetiq Ltd | Production of nanocarbons |
DE102007006624A1 (de) * | 2007-02-06 | 2008-08-07 | Schunk Kohlenstofftechnik Gmbh | Elektrischer Leiter und Verfahren zur Herstellung eines elektrischen Leiters |
GB2462843A (en) * | 2008-08-22 | 2010-02-24 | Tisics Ltd | Direct contact electrodes for filament coating apparatus |
GB2462846B (en) * | 2008-08-22 | 2013-03-13 | Tisics Ltd | Coated filaments and their manufacture |
US10961618B2 (en) | 2014-07-16 | 2021-03-30 | Imperial College Innovations Limited | Process for producing carbon-nanotube grafted substrate |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB1141551A (en) * | 1966-01-24 | 1969-01-29 | Dow Corning | A method of coating metallic filaments |
US3437511A (en) * | 1966-04-07 | 1969-04-08 | Us Air Force | Metal surfaced with boron and coating of silicon,silicon carbide or titanium nitride |
US3367304A (en) * | 1967-03-13 | 1968-02-06 | Dow Corning | Deposition chamber for manufacture of refractory coated filaments |
US3598955A (en) * | 1969-04-04 | 1971-08-10 | Gen Electric | Electrical contact for moving filaments |
US3811940A (en) * | 1969-10-09 | 1974-05-21 | United Aircraft Corp | High frequency heating method for vapor deposition of coatings onto filaments |
US5141595A (en) * | 1990-03-05 | 1992-08-25 | Northrop Corporation | Method and apparatus for carbon coating and boron-doped carbon coating |
GB9015356D0 (en) * | 1990-07-12 | 1990-08-29 | British Petroleum Co Plc | Process for coating ceramic fibres |
-
1993
- 1993-10-19 DE DE19934335573 patent/DE4335573C2/de not_active Expired - Fee Related
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB2385864A (en) * | 2002-02-28 | 2003-09-03 | Qinetiq Ltd | Production of nanocarbons |
US8048485B2 (en) | 2002-02-28 | 2011-11-01 | Qinetiq Limited | Method and apparatus for the production of carbon nanostructures |
DE102007006624A1 (de) * | 2007-02-06 | 2008-08-07 | Schunk Kohlenstofftechnik Gmbh | Elektrischer Leiter und Verfahren zur Herstellung eines elektrischen Leiters |
GB2462843A (en) * | 2008-08-22 | 2010-02-24 | Tisics Ltd | Direct contact electrodes for filament coating apparatus |
GB2462846B (en) * | 2008-08-22 | 2013-03-13 | Tisics Ltd | Coated filaments and their manufacture |
GB2462843B (en) * | 2008-08-22 | 2013-03-20 | Tisics Ltd | Coated filaments and their manufacture |
US9187828B2 (en) | 2008-08-22 | 2015-11-17 | Tisics Limited | Coated filaments and their manufacture |
US10961618B2 (en) | 2014-07-16 | 2021-03-30 | Imperial College Innovations Limited | Process for producing carbon-nanotube grafted substrate |
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