DE4333006C2 - Detektor zum Nachweis von Stickstoffmonoxid NO und Ammoniak NH3 - Google Patents
Detektor zum Nachweis von Stickstoffmonoxid NO und Ammoniak NH3Info
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Description
Die Stickoxid- und Partikelemission (Staub) eines auf
Leistung und Verbrauch optimierten Dieselmotors läßt
sich durch verbrennungstechnische Maßnahmen nur
noch unwesentlich verringern. Um auch die in Zukunft
vom Gesetzgeber vorgeschriebenen Abgaswerte ein
halten zu können, ist daher eine Nachbehandlung der
dieselmotorischen Abgase unumgänglich.
Eine deutliche Verringerung der NOx-Emission eines
Motors mit Luftüberschuß läßt sich durch Anwendung
des sogenannten Selective-Catalytic-Reduction-Verfah
rens erreichen. Beim SCR-Verfahren wird gasförmiges
Ammoniak NH₃, Ammoniak in wäßriger Lösung oder
Harnstoff als Reduktionsmittel in das Abgassystem ein
gespritzt, so daß an einem Katalysator insbesondere die
chemischen Reaktionen
4 NO + 4 NH₃ + O₂ → 4 N₂ + 6 H₂O
2 NO₂ + 4 NH₃ + O₂ → 3 N₂ + 6 H₂O
2 NO₂ + 4 NH₃ + O₂ → 3 N₂ + 6 H₂O
ablaufen können. Zur vollständigen Reduktion von 1
Mol NOx im dieselmotorischen Abgas benötigt man et
wa 0,9 bis 1,1 Mol NH₃. Wird weniger Ammoniak NH₃
eingespritzt, arbeitet der Katalysator nicht mehr mit
dem höchsten Wirkungsgrad. Eine Überdosierung ist
ebenfalls zu vermeiden, da ansonsten unverbrauchtes
Ammoniak NH₃ in die Atmosphäre gelangt. Von Vorteil
wären daher Sensoren, mit denen man den NH₃-Schlupf
messen bzw. die NH₃-Dosierung kontrollieren oder
regeln könnte.
Seitens der Automobilindustrie besteht der Wunsch, Klimaanla
gen und Lüftungssysteme so zu steuern, daß die Schadstoffkon
zentration in der Fahrgastzelle eines PKW immer unterhalb ei
ner für die Gesundheit des Menschen unbedenklichen Schwelle
bleibt. Hierfür benötigt man beispielsweise einen Sensor für
Stickoxide NOx, der die Frischluftzufuhr ab einer bestimmten
NOx-Konzentration reduziert bzw. unterbricht und das Lüftungs
system in den Umluftbetrieb umschaltet. Ahnlich wie ein NH₃-
Sensor könnte ein auf Stickoxide ansprechender Detektor auch
zur Regelung eines Dieselkatalysators herangezogen werden.
Der aus (1) bekannte Gasdetektor besitzt eine etwa 0,5 mm
dicke, aus einer Mischung der Metalloxide Al₂O₃ und V₂O₅
bestehende Sensorschicht. Diese durch Anwendung eines
Calcinierungsverfahrens hergestellte und gleiche Anteile von
Al₂O₃ und V₂O₅ aufweisende Schicht ist im Temperaturbereich
573°K < T < 873°K für die Stickoxide NO und NO₂ empfind
lich, wobei die Sensitivität jeweils mit steigender Tempe
ratur abnimmt. Die optimale Betriebstemperatur des Detektors
beträgt T = 673°K. Der Widerstand der Sensorschicht zeigt
auch eine schwache Abhängigkeit vom CO-Partialdruck. Kohlen
dioxid CO₂ läßt sich hingegen auch bei höheren Konzen
trationen nicht nachweisen.
Ziel der Erfindung ist die Schaffung eines Detektors, mit dem
sich sowohl Ammoniak NH₃ als auch Stickstoffmonoxid NO in
einem Gasgemisch nachweisen lassen. Ein Nachweis dieser Gase
soll auch dann noch gewährleistet sein, wenn deren Konzen
trationen im ppm-Bereich liegen. Ein Detektor mit den in
Patentanspruch 1 angegebenen Merkmalen besitzt diese Eigen
schaften. Er läßt sich durch Ausführen der in Patentanspruch
8 angegebenen Verfahrensschritte herstellen.
Der mit der Erfindung erzielbare Vorteil besteht insbesondere
darin, daß man den Detektor auch bei den im Abgastrakt eines
Dieselmotors herrschenden Temperaturen von 500 bis 600°C
noch problemlos betreiben kann, wobei die Empfindlichkeit der
Sensorschicht auf Stickstoffmonoxid NO und Ammoniak NH₃ um
einige Größenordnungen über der Querempfindlichkeit auf Sau
erstoff O₂ und Wasserstoff H₂ liegt. Auf Methan CH₄, Kohlen
monoxid CO und Kohlendioxid CO₂ spricht der Detektor nicht
an. Es treten auch keine Maskierungseffekte auf, d. h. die
Empfindlichkeit des Detektors auf NO und NH₃ wird durch die
Anwesenheit der anderen Gase nicht verändert. Außerdem kann
man zwischen den Stickoxiden NO und NO₂ unterscheiden, sofern
nur eines der beiden Gase im Meßgas vorhanden ist.
Während die abhängigen Ansprüche 2 bis 7 Weiterbildungen des
Detektors nach Patentanspruch 1 betreffen, sind die Ansprüche
9 bis 13 auf Ausgestaltungen des Verfahrens nach Patentan
spruch 8 gerichtet. Patentanspruch 14 hat eine Verwendung des
Detektors zum Gegenstand. Die Erfindung wird im folgenden an
hand der Zeichnungen erläutert. Hierbei zeigt:
Fig. 1 und 2 den schematischen Aufbau des erfindungsgemäßen
Detektors,
Fig. 3 die Kammelektroden des Detektors,
Fig. 4 Verfahrensschritte zur Herstellung der Kammelektroden,
Fig. 5 die auf den Kammelektroden abgeschiedene AI₂O₃-V₂O₅-
Sandwich-Struktur,
Fig. 6 bis 10 die Sensitivität der erfindungsgemäß herge
stellten AIVO₅-Dünnschichten des Detektors auf Stick
stoffmonoxid NO, Ammoniak NH₃ und andere Gase.
Die Fig. 1 und 2 zeigen einen erfindungsgemäßen Detektor,
dessen Substrat 1 aus einem sehr gut elektrisch isolierenden
Material wie Glas, Berylliumoxid BeO, Aluminiumoxid Al₂O₃
oder Silizium (mit Si₃N₄/SiO₂-Isolation) besteht. Auf dem
zwischen 0,1 und 2 mm dicken Substrat 1 sind zwei eine Inter
digitalstruktur bildende Platinelektroden 2, 2′, eine diese
Elektroden leitend verbindende Vanadatschicht (AIVO₄ oder
FeVO₄) als NH₃ bzw. NO empfindliches Element sowie ein Tem
peraturfühler 4 angeordnet. Die mit 5 bezeichnete Passivie
rungsschicht aus Siliziumoxid schirmt die den beiden Kamm
elektroden 2, 2′ und dem Temperaturfühler 4 jeweils zugeord
neten Anschlußleitung 6, 6′ bzw. 7, 7′ vor dem im Meßgas vor
handenen Sauerstoff ab.
Um die gewünschte Betriebstemperatur von bis zu 600°C ein
stellen und unabhängig von äußeren Einflüssen konstant halten
zu können, wird der Detektor mit Hilfe einer auf der Rück
seite des Substrats 1 angeordneten Widerstandsschicht aktiv
beheizt. Die in Fig. 2 mit 8 bezeichnete Widerstandsschicht
besteht beispielsweise
aus Platin Pt, Gold Au oder einer elektrisch leitfähigen
Keramik und besitzt eine mäanderförmige Struktur.
Dargestellt ist auch die etwa 10 bis 100 nm dicke und aus
Titan Ti, Chrom Cr, Nickel Ni oder Wolfram W beste
hende Metallschicht 9, die die Haftung zwischen dem
Substrat 1 und den Platinelektroden 2, 2′ verbessert
Die Abmessungen der Kammelektroden 2 und 2′ hän
gen vom spezifischen Widerstand der darüber aufge
brachten Sensorschicht 3 im gewünschten Temperatur
bereich ab. So kann die Kammstruktur 2, 2′ beispiels
weise Dicken von 0,1 bis 10 µm, Breiten von 1 bis 1000
µm und Elektrodenabstände von 1 bis 100 µm aufweisen.
Für eine 1 µm dicke AIVO₄-Schicht 3 führen die folgen
den Abmessungen zu gut meßbaren spezifischen Wider
ständen im Temperaturbereich zwischen 500 und
600°C: Elektrodendicke D = 1,5 µm, Länge der Interdi
gitalstruktur L = 1 mm, Elektrodenabstand S = 50 µm.
Die Fig. 3 zeigt eine maßstabsgetreue Abbildung ei
ner Interdigitalstruktur in Draufsicht. Als Temperatur
fühler findet bei diesem Ausführungsbeispiel eine aus
Platin bestehende Widerstandsschicht 10 Verwendung.
Zur Herstellung der Kammelektroden 2, 2′ wird zu
nächst eine 1,5 µm dicke Platinschicht 11 auf dem be
heizten Korundsubstrat 1 in einer Sputteranlage abge
schieden (s. Fig. 4a, b). Die Strukturierung dieser Schicht
11 erfolgt in einem positiv-Fotoschritt, bei dem man den
Fotolack 12 am Ort der zu erzeugenden Elektroden
aufbringt und durch eine Maske 13 belichtet (s. Fig. 4c,
d, e). Der entwickelte Fotolack 12 schützt die Platin
schicht 11 während des nachfolgenden Ätzschritts (s.
Fig. 4f). Nach dem Entfernen des Fotolacks 12 mit Aze
ton erhält man die gewünschten Kammelektroden 2 und
2′ (s. Fig. 4g) auf der anschließend die sensitive Vanadat
schicht 3 abgeschieden wird (s. Fig. 4h).
Die Verwendung von Gold Au anstelle von Platin Pt
als Elektrodenmaterial hat keinen Einfluß auf die Gas
empfindlichkeit der Vanadatschicht 3.
Die außergewöhnlichen Eigenschaften des erfin
dungsgemäßen Detektors beruhen auf dem Verfahren
zur Herstellung der gassensitiven Schicht. Im Unter
schied zu dem aus Sensors and Actuators 19 (19898) 259-265
bekannten Calcinierungsverfahren
wird die sensitive Schicht in einem speziellen Sputter
verfahren aufgebracht und anschließend mehrere Stun
den lang getempert. Die Beschichtung der Kammelek
troden kann man beispielsweise in der Sputteranlage
Z490 von Leybold vornehmen. Als Ausgangsmaterialien
dienen metallisches Vanadium V und Aluminium Al, die
reaktiv, d. h. in einem aus 80% Argon und 20% Sauer
stoff bestehenden Plasma von entsprechenden Targets
zerstäubt werden und sich auf dem beheizten Substrat
niederschlagen. Durch abwechselndes Zerstäuben der
beiden Targets baut sich die in Fig. 5 dargestellte Sand
wich-Struktur 14 auf. Sie hat eine Dicke von etwa 1 µm
und besteht aus jeweils 60 bis 80 etwa 10 bis 15 nm
dicken V₂O₅- bzw. Al₂O₃-Schichten, wobei der
Al₂O₃-Anteil bei 50% bis maximal 70% liegt. Die Sput
terparameter sind in der folgenden Tabelle angegeben:
Restgasdruck | |
ca. 2-4 × 10⁶ mbar | |
Sputtergasdruck | 4,2 × 10-3 mbar |
Sputtergas | 20% O₂/80% Ar |
DC-Potential | Al-Target: 155 V |
V-Target : 225 V | |
Substrattemperatur | ca. 250°C |
Um ein homogenes Mischoxid zu erzeugen, wird die
Sandwich-Struktur 14 in einem Hochtemperaturofen an
Luft etwa 5 bis 15 Stunden getempert. Die Ofentempe
ratur hat hierbei einen entscheidenden Einfluß auf die
Topographie und die Phase der Al₂O₃/V₂O₅-Schichten.
Eine optimale Sensitivität für Ammoniak NH₃ und
Stickstoffmonoxid NO zeigen Schichten, die bei Tempe
raturen T zwischen 550°C T 610°C getempert
wurden und aus gleichen Anteilen von V₂O₅ und Al₂O₃
bestehen. Durch das Tempern entsteht das für die hohe
Gasempfindlichkeit verantwortliche Aluminiumvanadat
AIVO₄. Die maximale Arbeitstemperatur der Vanadat
schicht liegt bei etwa 600°C. Aluminiumvanadat AIVO₄
besitzt eine trikline Einheitszelle mit a = 0,6471 nm, b
= 0,7742 nm, c = 0,9084 um, α = 96,848 Å, β = 105,825
Å und x = 101,399 Å, deren Volumen V = 0,4219 nm³
beträgt.
Schichten mit einem Al₂O₃-Anteil von mehr als 50%
zeigen einen etwas kleineren Meßeffekt. Man kann sie
allerdings auch noch bei höheren Temperaturen von bis
zu 680°C einsetzen.
Die folgenden Diagramme sollen die Empfindlichkeit
bzw. Sensitivität der nach dem beschriebenen Verfah
ren hergestellten AIVO₄-Dünnschichten auf verschiede
ne Gase dokumentieren. Aufgetragen ist jeweils die
Größe σ/σ₀ (σ₀: Leitfähigkeit der sensitiven Schicht in
synthetischer Luft (80% N₂/20% O₂)) in Abhängigkeit
von der Zeit t bzw. der Konzentration des jeweiligen
Gases.
Bereits die Anwesenheit kleinster Mengen von Stick
stoffmonoxid NO und Ammoniak NH₃ in trockener syn
thetischer Luft führt zu einem deutlichen Anstieg der
Leitfähigkeit des Aluminiumvanadats AIVO₄ (s. Fig. 6
und 7). So ändert sich die Leitfähigkeit um etwa 75%,
wenn man der Luft 10 ppm Stickstoffmonoxid NO bei
mischt. Die Zugabe von 10 ppm Ammoniak NH₃ hat
eine Erhöhung der Leitfähigkeit um mehr als ein Faktor
6 zur Folge.
Wie die Fig. 8 zeigt, erhöht sich der spezifische Wi
derstand der AIVO₄-Dünnschicht bei Anwesenheit von
Stickstoffdioxid NO₂. Da das Vanadat gegenüber Stick
stoffmonoxid NO ein völlig anderes Verhalten zeigt
(Verringerung des spezifischen Widerstandes, s. Fig. 6),
kann man beide Stickoxide eindeutig voneinander un
terscheiden.
Außer auf Stickstoffmonoxid NO und Ammoniak
NH₃ spricht die Vanadatschicht auch auf Änderungen
des Sauerstoffpartialdrucks und Wasserstoff H₂ an (s.
Fig. 9). Die Querempfindlichkeit auf Sauerstoff O₂ und
Wasserstoff H₂ ist allerdings erheblich kleiner als die
Reaktion auf Stickstoffmonoxid NO und Ammoniak
NH₃. So haben 500 ppm Wasserstoff H₂ in Luft annä
hernd dieselbe Änderung der Leitfähigkeit zur Folge
wie die Zugabe von 10 ppm Stickstoffmonoxid NO.
Nicht nachweisbar sind die Gase Kohlenmonoxid CO
(bis 1500 ppm), Methan CH₄ (bis 5000 ppm) und Koh
lendioxid CO₂ (bis 10/0) bis zu den in den Klammern
jeweils angegebenen Konzentrationen. In feuchter Luft
(80 mbar H₂O) beobachtet man eine deutliche Abnahme
der NH₃-Sensitivität; sie bleibt aber immer noch dop
pelt so groß wie die Empfindlichkeit für Stickstoffmon
oxid NO (s. den rechten Teil der Fig. 9).
In Fig. 10 ist die Empfindlichkeit der AIVO₄-Dünn
schicht in feuchter Luft (80 mbar H₂O) bei 500°C und
einem NO-Anteil von 10 ppm dargestellt. Innerhalb der
jeweils durch eine waagrechte Linie markierten Zeitin
tervallen wurde der feuchten Luft ein weiteres Gas in
der angegebenen Konzentration beigemischt. Die Luft
enthielt also beispielsweise zwischen der 80. Minute und
der 110. Minute neben den 10 ppm Stickstoffmonoxid
NO noch 1500 ppm Kohlenmonoxid CO. Wie die Meß
ergebnisse zeigen, wird die NO-Empfindlichkeit der AI-
VO₄-Schicht durch die Anwesenheit von Kohlenmon
oxid CO, Methan CH₄ und Kohlendioxid CO₂ nicht be
einflußt. Die Beimischung von Wasserstoff H₂ bewirkt
zwar keine Maskierung der NO-Sensitivität, es ist aber
eine eindeutige Querempfindlichkeit festzustellen. Ei
nen ähnlichen Effekt beobachtet man bei Sauerstoff O₂,
wenn sich dessen Konzentration von 20% auf 2% ver
ringert.
Der erfindungsgemäße Detektor läßt sich beispiels
weise als Luftgütesensor in einem Kraftfahrzeug ver
wenden. Seine Querempfindlichkeit auf Sauerstoff O₂
und Wasserstoff H₂ ist hierbei nicht von Nachteil, da
Autoabgase keine größeren Wasserstoffmengen enthal
ten und die Sauerstoffkonzentration der in Luft ver
dünnten Abgase nahezu konstant bleibt.
Claims (14)
1. Detektor zum Nachweis von Stickstoffmonoxid und Ammoniak
mit einer auf einem isolierenden Grundkörper (1) angeordneten
Sensorschicht (3) und einem die Sensorschicht (3) kon
taktierenden Elektrodenpaar (2, 2′),
dadurch gekennzeichnet
daß die Sensorschicht (3) aus einem Vanadat MeVO₄ oder einem
Beimischungen eines Metalloxids Me₂O₃ enthaltenden Vanadat
MeVO₄ besteht.
2. Detektor nach Anspruch 1, mit einer durch folgendes Ver
fahren hergestellten Sensorschicht:
- - Abdecken des Elektrodenpaares (2, 2′) und der dazwischen liegenden Oberfläche des Grundkörpers (1) mit mehreren Metalloxidschichten, so daß eine Schichtenfolge Me₂O₃-V₂O₅-Me₂O₃-V₂O₅- usw.entsteht und
- - Tempern der Metalloxidschichten.
3. Detektor nach Anspruch 2,
dadurch gekennzeichnet,
daß der Anteil des Metalloxids Me₂O₃ bei 50% bis maximal 70%
liegt.
4. Detektor nach einem der Ansprüche 1 bis 3,
dadurch gekennzeichnet,
daß die Sensorschicht (3) eine Dicke d < 10 µm aufweist.
5. Detektor nach einem der Ansprüche 1 bis 4,
dadurch gekennzeichnet,
daß das dreiwertige Metall Me Aluminium oder Eisen ist.
6. Detektor nach einem der Ansprüche 1 bis 5,
dadurch gekennzeichnet,
daß das Elektrodenpaar (2, 2′) als Interdigitalstruktur aus
gebildet ist.
7. Detektor nach einem der Ansprüche 1 bis 6,
dadurch gekennzeichnet,
daß ein Temperaturfühler (4, 10) und/oder ein Heizelement (8)
auf dem Grundkörper (1) angeordnet sind.
8. Verfahren zur Herstellung eines Detektors zum Nachweis von
Stickstoffmonoxid und Ammoniak bei dem
- - eine aus einem elektrisch leitenden Material bestehende Schicht (11) auf einem isolierenden Grundkörper (1) abge schieden wird,
- - mindestens ein nicht leitend miteinander verbundenes Elek trodenpaar (2, 2′) durch Strukturierung der Schicht (11) erzeugt wird,
- - auf dem Elektrodenpaar (2, 2′) und der dazwischenliegenden Oberfläche des Grundkörpers (1) mehrere Metalloxidschichten derart abgeschieden werden, daß eine Schichtenfolge Me₂O₃-V₂O₅-Me₂O₃-V₂O₅- usw.entsteht, wobei Me ein dreiwertiges Metall bezeichnet und
- - die Metalloxidschichten mehrere Stunden lang getempert werden, wobei die Temperatur so gewählt ist, daß sich Vanadat MeVO₄ bildet.
9. Verfahren nach Anspruch 8,
dadurch gekennzeichnet,
daß die Metalloxidschichten durch reaktive Kathodenzerstäu
bung in einer Argon-Sauerstoffatmosphäre oder durch reaktive
Elektronenstrahlverdampfung erzeugt werden.
10. Verfahren nach Anspruch 8 oder 9,
dadurch gekennzeichnet,
daß jeweils mehr als 50 Me₂O₃- oder V₂O₅-Schichten abgeschie
den werden.
11. Verfahren nach einem der Ansprüche 8 bis 10,
dadurch gekennzeichnet
daß jeweils nur Schichten mit einer Dicke d < 20 nm erzeugt
werden.
12. Verfahren nach einem der Ansprüche 8 bis 11,
dadurch gekennzeichnet,
daß der Metalloxid-Anteil im Bereich zwischen 50% und 70%
liegt.
13. Verfahren nach einem der Ansprüche 8 bis 12,
dadurch gekennzeichnet,
daß eine Schichtenfolge
Al₂O₃-V₂O₅-Al₂O₃-V₂O₅- usw.erzeugt und bei einer im Bereich zwischen 550°C und 640°C
liegenden Temperatur getempert wird.
14. Verwendung eines Detektors nach einem oder mehreren der
Ansprüche 1 bis 7 als Luftgütesensor oder NH₃-Schlupfwächter.
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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DE102006026739B4 (de) * | 2006-06-08 | 2008-11-27 | Continental Automotive Gmbh | Verfahren und Vorrichtung zum Betreiben einer Brennkraftmaschine |
DE102006021089B4 (de) * | 2006-05-05 | 2009-11-12 | Continental Automotive Gmbh | Verfahren und Vorrichtung zum Betreiben einer Brennkraftmaschine |
Families Citing this family (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0851222A1 (de) * | 1996-12-31 | 1998-07-01 | Corning Incorporated | Kohlenwasserstoffsensor mit einem Katalysator aus Metall-Oxid-Halbleiter |
DE19846487C5 (de) | 1998-10-09 | 2004-12-30 | Basf Ag | Meßsonde für die Detektion der Momentankonzentrationen mehrerer Gasbestandteile eines Gases |
DE19919472C2 (de) * | 1999-04-29 | 2001-04-19 | Bosch Gmbh Robert | Vorrichtung und Verfahren zur Detektion von Ammoniak |
JP3580547B2 (ja) * | 2002-09-30 | 2004-10-27 | 三井金属鉱業株式会社 | アルコール濃度検出装置およびそれを用いたアルコール濃度検出方法、ならびにアルコール濃度検出センサーの製造方法 |
KR100534561B1 (ko) * | 2002-11-28 | 2005-12-07 | 주식회사아리랑비앤에스 | 축사용 온도/습도/암모니아가스 측정장치 |
US7074319B2 (en) * | 2002-12-11 | 2006-07-11 | Delphi Technologies, Inc. | Ammonia gas sensors |
AT501921B1 (de) * | 2006-05-09 | 2007-08-15 | Avl List Gmbh | Verfahren zum betreiben eines abgasnachbehandlungssystems |
DE102006013698A1 (de) * | 2006-03-24 | 2007-09-27 | Robert Bosch Gmbh | Gassensor |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JPS5395097A (en) * | 1977-01-31 | 1978-08-19 | Toshiba Corp | Gas-sensitive element |
JP2686382B2 (ja) * | 1991-08-21 | 1997-12-08 | 新コスモス電機株式会社 | 半導体式アンモニアガスセンサ |
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102006021089B4 (de) * | 2006-05-05 | 2009-11-12 | Continental Automotive Gmbh | Verfahren und Vorrichtung zum Betreiben einer Brennkraftmaschine |
DE102006026739B4 (de) * | 2006-06-08 | 2008-11-27 | Continental Automotive Gmbh | Verfahren und Vorrichtung zum Betreiben einer Brennkraftmaschine |
Also Published As
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WO1995009361A1 (de) | 1995-04-06 |
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JPH09503062A (ja) | 1997-03-25 |
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