DE4332859A1 - Positionsgeber zur Erfassung der Lage eines Lichtstrahls - Google Patents
Positionsgeber zur Erfassung der Lage eines LichtstrahlsInfo
- Publication number
- DE4332859A1 DE4332859A1 DE4332859A DE4332859A DE4332859A1 DE 4332859 A1 DE4332859 A1 DE 4332859A1 DE 4332859 A DE4332859 A DE 4332859A DE 4332859 A DE4332859 A DE 4332859A DE 4332859 A1 DE4332859 A1 DE 4332859A1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- electrodes
- strip
- photocurrent
- position transmitter
- transmitter according
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000009826 distribution Methods 0.000 claims abstract description 16
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 claims abstract description 9
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims abstract description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 10
- 229910021417 amorphous silicon Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims description 9
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 8
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 3
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 claims description 2
- 230000000295 complement effect Effects 0.000 claims description 2
- 229910021419 crystalline silicon Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 claims description 2
- 239000010408 film Substances 0.000 claims description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 claims 2
- 238000001459 lithography Methods 0.000 claims 1
- 230000002596 correlated effect Effects 0.000 abstract 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 9
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 8
- 230000014509 gene expression Effects 0.000 description 5
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 5
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 4
- 230000004807 localization Effects 0.000 description 2
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 2
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 2
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 230000005670 electromagnetic radiation Effects 0.000 description 1
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 1
- 230000005622 photoelectricity Effects 0.000 description 1
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 230000001629 suppression Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L27/00—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
- H01L27/14—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation
- H01L27/144—Devices controlled by radiation
- H01L27/1446—Devices controlled by radiation in a repetitive configuration
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01D—MEASURING NOT SPECIALLY ADAPTED FOR A SPECIFIC VARIABLE; ARRANGEMENTS FOR MEASURING TWO OR MORE VARIABLES NOT COVERED IN A SINGLE OTHER SUBCLASS; TARIFF METERING APPARATUS; MEASURING OR TESTING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- G01D5/00—Mechanical means for transferring the output of a sensing member; Means for converting the output of a sensing member to another variable where the form or nature of the sensing member does not constrain the means for converting; Transducers not specially adapted for a specific variable
- G01D5/26—Mechanical means for transferring the output of a sensing member; Means for converting the output of a sensing member to another variable where the form or nature of the sensing member does not constrain the means for converting; Transducers not specially adapted for a specific variable characterised by optical transfer means, i.e. using infrared, visible, or ultraviolet light
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
- Light Receiving Elements (AREA)
- Solid State Image Pick-Up Elements (AREA)
Description
Die vorliegende Erfindung betrifft einen Positionsgeber
zur Erfassung der Lage eines Lichtstrahls. Der Begriff
Lichtstrahl ist im folgenden im weitesten Sinne zu verstehen
und betrifft elektromagnetische Strahlung über den sichtbaren
Bereich hinaus, oder auch Teilchen, die in einem Wandler
Licht erzeugen.
Positionsgeber der im Oberbegriff des Patentanspruchs
1 angegebenen Art finden überall dort Verwendung, wo die
Veränderung der Relativlagen eines Lichtstrahls und eines
Positionsgebers Informationen über einen Zustand liefern.
So finden Positionsgeber Verwendung als Winkelmesser,
wenn der Lichtstrahl seine Lage nicht verändert und der
Positionsgeber beispielsweise auf einer Zylindermantel
fläche eines rotierenden Objektes angeordnet ist. Posi
tionsgeber können andererseits zur Justage von Geräten
verwendet werden, wobei der Geber selbst starr mit einem
Gerät verbunden ist und ein zur Justierung dienender Re
ferenzlichtstrahl, beispielsweise ein Laserstrahl auf
die Positionsgeberoberfläche einfällt.
Es sind Positionsgeber bekannt, die im wesentlichen aus
einer homogenen photosensitiven Detektorfläche und einer
Signalauslese- und -auswerteschaltung bestehen. Mit dieser
werden vom Auftreffpunkt eines Lichtstrahls auf der homo
genen Detektorfläche zu zwei aufeinander senkrecht stehen
den Detektorflächenrändern Ströme abgetastet und daraus
die Lage des Auftreffpunktes des Lichtstrahls auf dem
Detektor berechnet. Inhomogenitäten in der Photosensi
bilität bzw. in den Widerstandswerten der Detektorfläche
verfälschen das Ergebnis der Positionsbestimmung. Auch
Streulicht oder auf die Detektorfläche einfallendes Ta
geslicht verfälschen das Ergebnis, da dadurch die Ströme
nicht mehr allein ihre Ursache in dem Auftreffen des zu
messenden Lichtstrahls auf der Detektoroberfläche haben.
Der vorliegenden Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde
einen Positionsgeber vorzustellen, der bei höherer Genauig
keit eine absolute Positionsangabe auch bei Umgebungslicht
ermöglicht, wobei die Detektorfläche sehr groß und preis
günstig herstellbar ist.
Diese Aufgabe wird mit den Merkmalen des Patentanspruchs
1 gelöst. Merkmale bevorzugter Ausführungsformen sind
in den Unteransprüchen gekennzeichnet.
Gemäß der vorliegenden Erfindung besteht ein Positionsgeber
aus einer großflächigen Diodenstruktur, deren Elektroden vor
zugsweise streifenförmig angeordnet sind. Die Abmessungen der
streifenförmigen Elektroden sind so gewählt, daß ein typi
scher zu messender Lichtstrahl 5 bis 10 Streifen jeweils
teilweise überdeckt. Die auf die jeweiligen Photodioden
fallenden Anteile des Lichtstrahls werden gemessen entweder
direkt über den Photostrom oder über den Spannungsabfall des
Photostroms an einem externen oder integrierten Widerstand.
Die Streifenelektroden können in zwei Gruppen senkrecht
zueinander in Matrixform angeordnet werden, sie können
auch sternförmig und/oder konzentrisch angeordnet sein
auf einem starren Glas- oder Metallsubstrat oder auch
auf einer biegbaren Folie.
Die Photodioden können als Schottky-Dioden oder als PIN-
Dioden ausgelegt sein, aus amorphem oder kristallinem
Silizium bestehen und mit photolithographischen Metho
den auf dem Substrat aufgebracht sein.
Die Auswerteschaltung kann ebenfalls integriert in Si
liziumdünnfilmtechnik hergestellt sein und Dekoder oder
Schieberegister und Dünnfilmtransistoren aufweisen.
Im folgenden wird die vorliegende Erfindung anhand der
Beschreibung von Ausführungsbeispielen unter Bezugnahme
auf die Zeichnung näher erläutert. Darin zeigen:
Fig. 1a bis 1d eine erste Ausführungsform eines
erfindungsgemäßen eindimensionalen
Positionsgebers in Draufsicht, Seiten
ansicht, sein Schaltschema sowie
ein typisches Ausgangssignal,
Fig. 2 zeigt einen zweidimensionalen Positions
geber in Matrixanordnung in Draufsicht,
Fig. 3 zeigt ein ausführlicheres Schaltschema,
Fig. 4 eine Darstellung des Photostroms
über der Streifenelektrodennummer
mit Erläuterung der Störsignalunter
drückung,
Fig. 5 ein Schaltbild einer weiteren Ausfüh
rungsform der vorliegenden Erfindung,
Fig. 6 noch ein weiteres Schaltbild einer
Ausführungsform der vorliegenden
Erfindung,
Fig. 7 eine Photodiodenanordnung nach einer
weiteren Ausführungsform der vorlie
genden Erfindung,
Fig. 8 die Positionsmessung eines Licht
schattens,
Fig. 9 eine integrierte Auswerteschaltung,
Fig. 10 eine Adressierungsmethode, und
Fig. 11 eine Photodiodenanordnung nach einer
weiteren Ausführungsform der vorlie
genden Erfindung.
Fig. 12 eine Photodiodenanordnung nach einer wei
teren Ausführungsform der vorliegenden
Erfindung.
Fig. 1a zeigt einen Positionsgeber zur eindimensionalen
Lokalisierung eines Lichtflecks, der hier mit dem Bezugs
zeichen 20 versehen ist. Der Lichtfleck 20 bedeckt teil
weise sechs Streifenelektroden 13, die parallel zueinander
dicht beabstandet angeordnet sind. Unter den Streifenelek
troden 13 befindet sich ein Photoleiter 12, beispielsweise
aus amorphem Silizium. Darunter befindet sich die Grundelek
trode 11, die auf dem Substrat 10 aufgebracht ist. Fig. 1b
zeigt die Anordnung im Querschnitt. Die Streifenelektroden 13
sind aus einem TCO-Material (transparent conducting oxide)
gefertigt, so daß ein Teil des einfallenden Lichtes auf die
Photoleiterschicht treffen kann. Fig. 1c zeigt schematisch
eine Aneinanderreihung von Photodioden, die sich aus der
räumlichen Anordnung gemäß der Fig. 1a bzw. 1b ergibt. Fig.
1d zeigt die Photostromstärke gemessen an den zumindest
teilweise beschienenen Streifenelektroden 13. Man erkennt,
daß mit der Elektrodenstruktur die Photostromstärkeverteilung
gemessen wird, die eine genaue Positionszuordnung des
Lichtstrahles ermöglicht.
Solch eindimensionale Positionsgeber eignen sich auch zur
Bestimmung der Winkellage von sich drehenden Teilen, wenn
das Substrat zu einer Zylindermantelfläche bzw. einem Teil
einer solchen Fläche gekrümmt ist. Wie weiter unten noch
erläutert wird, ist es nicht zwingend, die Elektroden als
gerade Streifen parallel zueinander anzuordnen, auch rota
tionssymmetrische Anordnungen sind beispielsweise denkbar.
Die Dioden können als Schottky-Dioden oder PIN-Dioden
ausgebildet sein, als Substrat kommen grundsätzlich eine
Vielzahl von Materialien in Betracht wie beispielsweise
Metall, Keramik oder Glas, wobei im letzten Fall, wenn die
Grundelektrode 11 auch aus einem transparenten leitenden
Oxid hergestellt ist, auch eine Beleuchtung des Positions
gebers durch das Substrat hindurch möglich ist. Ebenfalls
denkbar sind flexible Substrate beispielsweise aus Kunst
stoffolie, solange die Beschränkungen hinsichtlich des
elektrischen Verhaltens bei mechanischen Belastungen der
Beschichtungen berücksichtigt werden.
Fig. 2 zeigt eine Matrixanordnung zweier Schichten zu
einander senkrecht verlaufender Streifenelektroden 11
bzw. 13, die durch eine Photoleiterschicht 12 voneinander
getrennt sind. Durch das Auslesen der Photoströme über
die streifenförmigen Elektroden 13 bzw. die Grundelek
troden 11 erhält man so die Projektion des Lichtstrahl
flecks (20) in x- und y-Richtung. Unter dem Positions
geber bzw. rechts daneben sind die entsprechenden Photo
stromstärkeverteilungen aufgezeichnet.
Fig. 3 zeigt ein Blockschaltbild für einen eindimensionalen
Positionsgeber nach Fig. 1 mit Ansteuerung und Signalverar
beitung. Ein Analogschalter 32 leitet die Signale der
Streifenelektroden 33, gesteuert durch den Adreßbus 31
seriell zu einem Strom/Spannungswandler 34. Die Spannungs
signale werden anschließend mit dem Analog/Digitalwandler 35
digitalisiert und können für die Auswertung der Photostrom
stärkeverteilung in einem PC oder Mikrocontroller eingelesen
werden. Natürlich ist auch eine parallele Datenverarbeitung
möglich, falls die im speziellen Anwendungsfall vorliegende
Streifenelektrodenzahl dies zuläßt. Entsprechend kann
statt der angegebenen Strom/Spannungswandlung mit einem
Integrator auch eine Ladungsmessung erfolgen.
Fig. 4 zeigt zur Verdeutlichung des Auswerteverfahrens für
den patentgemäßen Positionsgeber die Photostromstärke über
der Streifenelektrodennummer bei einer eindimensionalen Elek
trodenanordnung. Erfindungsgemäß wird für jede Streifenelek
trode n die zugehörige Photostromstärke gemessen. Der gemes
senen Photostromstärkenverteilung wird durch eine geeignete
Parameterreduktion eine eindeutige, die Stromstärkenvertei
lung beschreibende Position zugeordnet. Als Beispiel für eine
solche, die Verteilung beschreibende Funktion, ist die
Schwerpunktbildung angegeben. Bei der Bestimmung des Schwer
punktes nsp
können Rauschen 26 oder auch Störsignale 25 von vornherein
diskriminiert werden, so daß diese nicht in die Berechnung
des Schwerpunkts eingehen. Dazu eignet sich beispielsweise
die Einführung eines Schwellenwertes oder andere Diskrimi
nierungsmethoden. Die Schwerpunktposition nsp kann bis
auf den Bruchteil der Breite einer Streifenelektrode er
rechnet werden. Die Streifenelektrodenbreite, die bereits
aufgrund ihrer Herstellungsart (Photolithographie) sehr
gering gewählt werden kann, stellt somit keine untere
Grenze der Auflösung bei der Positionsbestimmung dar.
Die Möglichkeit nur die Umgebung der eigentlichen inte
ressierenden Verteilung zu berücksichtigen, macht den erfin
dungsgemäßen Positionsgeber besonders für großflächige Detek
toren attraktiv.
Fig. 5 zeigt eine Variante des Positionsgebers, bei der
statt des Photostroms der einzelnen Streifenelektroden
der durch den Photostrom über einen Widerstand 41 erzeugte
Spannungsabfall gemessen wird. Diese Variante ist dann
besonders vorteilhaft, wenn die Widerstände integriert
hergestellt werden können, d. h. direkt bei der Herstellung
des Positionsgebers realisiert werden können. Die Wider
stände müssen möglichst (lokal) homogen sein, da Streu
ungen der Widerstandswerte direkt das zu messende Span
nungssignal verfälschen.
Fig. 6 zeigt eine zweidimensionale Anordnung des Positions
gebers nach Fig. 3. Die Photoströme der matrixartig ange
ordneten Elektroden werden jeweils über einen Analogschal
ter 32 durchgeschaltet. Die Adressierung 31 für Grund-
bzw. Deckelektroden kann dabei unabhängig oder auch ver
einfacht synchron erfolgen. Natürlich kann die zweidimen
sionale Anordnung auch mit der Spannungsmessung gemäß
Fig. 5 realisiert werden.
Fig. 7 zeigt als Beispiel einer nichtorthogonalen Anordnung
einen rotationssymmetrischen Positionsgeber, der als
Ausgangsgrößen direkt Winkel und Radius liefert. Dabei
ist eine Streifenelektrodenschicht als konzentrische Kreise
11 und die zweite Elektrodenschicht als radiale Anordnung
von Elektroden 13 ausgeführt. Auf diese Weise werden als
Ausgangsgrößen direkt Winkellage und Radius angegeben.
Mit dem erfindungsgemäßen Positionsgeber können auch
Schattenstrukturen eines Objektes 45 lokalisiert werden,
was mit herkömmlichen Positionsgebern der eingangs geschil
derten Art nicht möglich ist. Zu diesem Zweck werden die
Photostromstärkeverteilungsflanken 46, wie in Fig. 8 gezeigt,
herangezogen.
Fig. 9 zeigt die integrierte Ausführung einer Diodenstruk
tur einschließlich der zugehörigen Analogschalter. Diese
Herstellungsform ist besonders interessant bei der Aus
führung des Positionsgebers in amorphem Silizium. Eine
Dekoderschaltung 61 aus TFT (Thin Film Transistor)-Elemen
ten schaltet eine Streifenelektrode 33 zur Strommessung
65 nur dann über den Schalttransistor 68 durch, wenn die
entsprechende Adresse anliegt. Der Photostrom aller nicht
adressierten Streifenelektroden wird ungemessen zu einer
auf gleichem Potential liegenden Stelle 66 weitergeleitet,
so daß durch den Meßvorgang an der Photodiode keine Poten
tialänderung verursacht wird. Da die mit Dünnfilmtransistoren
unter Verwendung von amorphem Silizium erreichbaren Schalt
frequenzen deutlich geringer sind als etwa bei kristallinen
Bauelementen, ist eine optimale Ansteuerung und Realisierung
der Analogschalter aus amorphem Silizium notwendig. Im fol
genden wird ein aus Dünnfilmtransistoren unter Verwendung
von amorphem Silizium hergestellter Analogschalter beschrie
ben, der für hohe Schaltfrequenzen geeignet ist:
Die Grundinverterschaltung, aus der der Analogschalter aufgebaut ist, besteht aus einem Drive-TFT 71 sowie einem Load-TFT 72. Um die erforderlichen Signalpegel zu erhalten, wird die geometrische Abmessung des Load-TFT deutlich kleiner gewählt als die des Drive-TFT, typischerweise ist das Verhältnis mindestens 1 : 10. Aufgrund des asymme trischen Größenverhältnisses der beiden TFTs ist auch das dynamische Schaltverhalten unsymmetrisch. Das Schal ten von high- auf low-Pegel, bei der die Umladung durch den größeren Drive-TFT realisiert wird, ist schnell, ver glichen mit dem Schalten von high- auf low-Pegel, bei der die Umladung durch den kleineren Load-TFT bewirkt wird. Eine Erhöhung der erreichbaren Schaltfrequenz wird dadurch erreicht, daß parallel zum Load-TFT ein weiterer TFT 73 mit Abmessungen, die ungefähr denen des Drive-TFT 71 entsprechen, angeordnet wird. Dieser TFT wird durch ein zusätzliches Signal angesteuert, das deutlich kürzer anliegt, als das Adreßsignal. Während dieser Zeit kann die Umladung durch den Load-TFT 72 vernachlässigt werden, so daß im wesentlichen ein symmetrischer Inverteraufbau vorliegt. Liegt am Invertereingang ein low-Pegel an, so schaltet der Zusatz-TFT 73 auf einen etwas reduzierten high-Pegel. Da der Umladevorgang deutlich schneller als durch den Load-TFT 72 erfolgt, kann der Zusatz-TFT schon nach kurzer Zeit wieder abgeschaltet werden. Danach stellt sich der durch den Load-TFT 72 bedingte höhere high-Pegel mit der langsameren Zeitkonstanten ein. Da für das Inver terverhalten aber nur das Erreichen eines Pegels wesent lich ist, kann durch diese Maßnahme eine deutlich höhere Taktrate erreicht werden.
Die Grundinverterschaltung, aus der der Analogschalter aufgebaut ist, besteht aus einem Drive-TFT 71 sowie einem Load-TFT 72. Um die erforderlichen Signalpegel zu erhalten, wird die geometrische Abmessung des Load-TFT deutlich kleiner gewählt als die des Drive-TFT, typischerweise ist das Verhältnis mindestens 1 : 10. Aufgrund des asymme trischen Größenverhältnisses der beiden TFTs ist auch das dynamische Schaltverhalten unsymmetrisch. Das Schal ten von high- auf low-Pegel, bei der die Umladung durch den größeren Drive-TFT realisiert wird, ist schnell, ver glichen mit dem Schalten von high- auf low-Pegel, bei der die Umladung durch den kleineren Load-TFT bewirkt wird. Eine Erhöhung der erreichbaren Schaltfrequenz wird dadurch erreicht, daß parallel zum Load-TFT ein weiterer TFT 73 mit Abmessungen, die ungefähr denen des Drive-TFT 71 entsprechen, angeordnet wird. Dieser TFT wird durch ein zusätzliches Signal angesteuert, das deutlich kürzer anliegt, als das Adreßsignal. Während dieser Zeit kann die Umladung durch den Load-TFT 72 vernachlässigt werden, so daß im wesentlichen ein symmetrischer Inverteraufbau vorliegt. Liegt am Invertereingang ein low-Pegel an, so schaltet der Zusatz-TFT 73 auf einen etwas reduzierten high-Pegel. Da der Umladevorgang deutlich schneller als durch den Load-TFT 72 erfolgt, kann der Zusatz-TFT schon nach kurzer Zeit wieder abgeschaltet werden. Danach stellt sich der durch den Load-TFT 72 bedingte höhere high-Pegel mit der langsameren Zeitkonstanten ein. Da für das Inver terverhalten aber nur das Erreichen eines Pegels wesent lich ist, kann durch diese Maßnahme eine deutlich höhere Taktrate erreicht werden.
Liegt am Invertereingang ein high-Pegel an, so wird beim
Schalten des Zusatz-TFT 73 wieder der reduzierte high-
Pegel eingestellt. Erst nach Abschalten des Zusatz-TFT
stellt sich der low-Pegel ein. Insgesamt wird also durch
den Betrieb mit dem Zusatz-TFT 73 das Schalten auf low-
Pegel etwas verlangsamt (um etwas weniger als die Ein
schaltzeit des Zusatz-TFT). Da dieser Schaltvorgang jedoch
nicht zeitbestimmend ist, ergibt sich insgesamt eine deut
lich höhere Taktrate. Ein besonders vorteilhaftes Adres
sierungsverfahren bei Verwendung von Dünnfilmtransistoren
aus amorphem Silizium wird im folgenden unter Bezug auf
Fig. 10 beschrieben.
Die Adresse der auszulesenden Streifenelektrode wird von
der vorgeschalteten kristallinen Elektronik einmal binär
codiert und ein zweites Mal als "Anti-Adresse" d. h. kom
plementäre Adresse mit negierter Bitinformation erzeugt.
Durch eine Adreßcodierung, wie in Fig. 10 gezeigt, wird
erreicht, daß alle Adreßdecoder (low-aktiv) durch einen
identischen vorgeschalteten Inverter aus TFTs realisiert
werden. Die Unterscheidung zwischen den verschiedenen
Adressen wird durch die jeweils vorliegende Bit/Antibit-
Auswahl erreicht. Dadurch wird die Schaltzeit unabhängig
von der jeweiligen Adresse minimiert. Fig. 10 zeigt eine
Adreßcodierung anhand des Adreßbeispiels "9" mit einer
4-Bit-Adresse.
Ein weiterer Vorteil dieser in Fig. 10 gezeigten Adreß
codierung ist, daß gezielt das Summensignal einzelner
Bereiche oder Blöcke eines Positionsgebers angesteuert
werden können, so daß eine flexiblere Adressierung mög
lich wird. Soll beispielsweise jeweils ein Kanal ausge
lesen werden, so liegt auf dem Adreßbus eine eindeutige
Adresse an, mit sich daraus ergebender Antibit-Information.
Werden jedoch das LSB und die zugehörige Antibit-Leitung
beide auf low gelegt, so werden zwei Analogschalter gleich
zeitig geschaltet (lowaktiv). Das gleiche Vorgehen führt beim
zweiten LSB, dritten LSB bzw. n-ten LSB zu 4, 8 bzw. 2n
gleichzeitig schaltenden Analogschaltern. Dadurch ist es mög
lich, durch Zusammenfassen von Streifenelektroden in gro
beren Schritten den Positionsgeber schneller vollständig
auszulesen. Ein Beispiel dafür ist etwa eine Suchsequenz,
bei der der Positionsgeber abgerastert werden soll, oder
bei dem ein Bereich des Sensors mit hoher Auflösung (also
kanalweise) und ein anderer Bereich mit groberer Auflösung
durch Zusammenfassen von Kanälen untersucht werden soll.
Eine Suchsequenz kann z. B. folgendermaßen ablaufen: Es
wird zuerst zwischen der rechten und der linken Sensor
hälfte durch Schalten des MSB unterschieden. Im nächsten
Schritt wird für die gewünschte Sensorhälfte entsprechend
das zweite MSB geschaltet, alle niederwertigeren Bits
und Antibits bleiben auf low gesetzt (lowaktiv). Dieses
Verfahren wird fortgesetzt, bis der Strahlfleck lokalisiert
ist. Auch bei diesem Ausführungsbeispiel kann ein inte
grierter Widerstand verwendet werden, um direkt einen
Potentialabfall als Meßsignal zu erzeugen. Natürlich kann
diese mit der Photodiode integriert hergestellte Auslese
schaltung auch bei Verwendung der einkristallinen Her
stellungsmethode realisiert werden.
Fig. 11 zeigt eine weitere Ausführungsform der vorliegen
den Erfindung, mit der eine direkte Messung des Schwer
punktes einer Photostromverteilung ohne Multiplexer möglich
ist. Die in Fig. 11 gezeigte Ausführungsform ist der Ein
fachheit halber eindimensional ausgelegt. Selbstverständlich
läßt sich diese Ausführungsform analog zu der in Fig. 2
gezeigten Ausführungsform auf zwei Dimensionen erweitern.
Die Elektroden einer jeden Diodengruppe sind wiederum
in viele Streifen aufgeteilt, so daß durch die Kenntnis
der Streifenelektrodennummer und des Photostroms eines
jeden Streifens in bekannter Weise das Profil der Photo
stromstärkeverteilung gemessen werden kann. Zusätzlich
sind bei dieser Ausführungsform jedoch die Flächenverhält
nisse der Streifenelektroden so ausgeführt, daß direkt
die für die Schwerpunktbestimmung erforderliche Größe
Photostrom×Streifenelektrodennummer gemessen werden
kann. Zu diesem Zweck ist jede Elektrode unterteilt in
zwei voneinander getrennte Elektrodenflächen, die jeweils
ihren eigenen Abgriff 81 bzw. 82 haben. Dabei hat eine
Teilelektrode jeweils eine Breite bzw. bei jeweils gleicher
Länge eine Oberfläche, die proportional zur Elektrodennummer
ist und die jeweils andere Teilelektrode hat eine Breite
bzw. Oberfläche, derart, daß die Summe der Oberflächen
der beiden Teilelektroden für alle Elektroden konstant
ist. Die Signale der Teilelektroden, deren Oberfläche
proportional zur Elektrodennummer wächst, werden auf einen
Sammelabgriff 83 geführt, wohingegen die anderen Elektro
den gemeinsam mit dem Abgriff 84 kontaktiert sind. Am
Kontakt 83 liegt demnach das Signal an:
wobei N+1: die Gesamtzahl der Elektroden bedeutet,
n: der Laufparameter der Elektrodennumerierung istI: bezeichnet die Photostromstärke der n-ten Elektrode
Am Kontakt 84 liegt dagegen das Signal
n: der Laufparameter der Elektrodennumerierung istI: bezeichnet die Photostromstärke der n-ten Elektrode
Am Kontakt 84 liegt dagegen das Signal
an.
Durch Subtraktion der beiden Signale ergibt sich der
Ausdruck
Die Addition der beiden Signale ergibt den Gesamtphoto
strom.
Alternativ zum Aufteilen der Streifenelektrode in zwei
Teilelektroden unterschiedlicher Breite kann die gleiche
Gewichtung des Photostroms mit der Streifenelektrodennummer
durch nachgeschaltete Widerstände erreicht werden. Je
nach der Streifenelektrodennummer wird nur ein Bruchteil
des Photostroms für die Messung des Ausdrucks
weitergeführt, der Reststrom wird über den parallelen
Widerstand für die Messung des zweiten Ausdrucks
geleitet, so daß wie im obigen Fall wieder der Schwer
punkt der Photostromstärkenverteilung
berechnet werden kann. Aufgrund der durch die Verdrahtung
erreichten direkten Messung der Ausdrücke (1) und (2)
sind die Positionsgeber nach Fig. 11 und Fig. 12 besonders
für schnelle Positionsbestimmungen geeignet. Da die
Schwerpunktbildung additiv ist, können großflächige
Positionsgeber durch Blockbildung (Aneinanderreihen meh
rerer unabhängiger Strukturen) zusammengesetzt werden.
Der Schwerpunkt der Photostromstärkeverteilung wird in
diesem Fall durch folgenden Ausdruck ermittelt:
mit
m: Blocknummer
Sm: Schwerpunktlage innerhalb des Blocks mI: Gesamtphotostromstärke des Blocks m.
m: Blocknummer
Sm: Schwerpunktlage innerhalb des Blocks mI: Gesamtphotostromstärke des Blocks m.
Eine matrixförmige Anordnung von zwei Gruppen von Streifen
elektroden ermöglicht die zweidimensionale Lokalisierung
eines Lichtflecks, mit direkter Schwerpunktbestimmung.
Claims (13)
1. Positionsgeber zur Erfassung der Lage eines Lichtstrahls
mit mindestens einer Gruppe zueinander benachbart ange
ordneter Photodioden,
dadurch gekennzeichnet, daß
dadurch gekennzeichnet, daß
- - die Elektroden der Photodiodenstruktur streifenförmig gestaltet sind, derart, daß mindestens zwei, typischer weise 5 bis 10 streifenförmige Elektroden einer Photo diodenstruktur von dem Licht- oder Teilchenstrahl mindestens teilweise überdeckt werden, und
- - eine Auswerteschaltung den Photostrom oder eine korre lierte Größe der einzelnen Streifenelektroden mißt und anhand der Photostromstärkeverteilung die Lage des Strahls angibt.
2. Positionsgeber nach Anspruch 1,
dadurch gekennzeichnet, daß
die Photodioden streifenförmige Elektroden (13) mit
gleicher Breite aufweisen, die parallel zueinander
dicht nebeneinander angeordnet sind.
3. Positionsgeber nach Anspruch 1 oder 2,
dadurch gekennzeichnet, daß
die Photodioden zwei Gruppen jeweils zueinander paralleler
Elektroden (11, 13) aufweisen und die Elektroden unter
schiedlicher Gruppen orthogonal zueinander liegen.
4. Positionsgeber nach Anspruch 1,
dadurch gekennzeichnet, daß
die Elektroden in Form einer Gruppe konzentrischer
Kreise angeordnet sind.
5. Positionsgeber nach Anspruch 4,
dadurch gekennzeichnet, daß
eine zweite Gruppe streifenförmiger Photodioden radial
vom Mittelpunkt der konzentrischen Kreise der Photo
dioden der ersten Gruppe aus angeordnet ist.
6. Positionsgeber nach einem der Ansprüche 1-5,
dadurch gekennzeichnet, daß
die Photodioden als Schottky- oder PIN-Dioden durch
Aufbringen von amorphem Silizium auf ein starres Glas-,
Keramik- oder Metallsubstrat (10) oder auf Folienmaterial
in Lithographietechnik hergestellt sind, oder daß die
Diodenstruktur durch die Verfahren des kristallinen
Siliziums realisiert wird.
7. Positionsgeber nach einem der Ansprüche 1-6,
dadurch gekennzeichnet, daß
die Auswerteschaltung den Spannungsabfall des Photo
stroms an einem externen oder integrierten Widerstand
(41) mißt.
8. Positionsgeber nach einem der Ansprüche 6 und 7,
dadurch gekennzeichnet, daß
die Photodioden aus amorphem Silizium hergestellt sind
und die Auswerteschaltung einen Decoder oder Schiebere
gister zum Auslesen der Signale aus integriert herge
stellten Dünnfilmtransistoren aufweist.
9. Positionsgeber nach Anspruch 8,
dadurch gekennzeichnet, daß
der Decoder einen Pre-Charge-Dünnfilmtransistor zur
Erhöhung der Schaltfrequenz aufweist.
10. Positionsgeber nach einem der Ansprüche 8 und 9,
dadurch gekennzeichnet, daß
alle Dünnfilmtransistor-Decoder identisch aufgebaut
sind und deren Adressierung durch ein Paar, bestehend
aus einer binär codierten Adresse sowie einer dazu
komplementären negierten Adresse, erfolgt.
11. Positionsgeber nach einem der vorstehenden Ansprüche,
dadurch gekennzeichnet, daß
zur Beschreibung der Position der Photostromstärke
verteilung ein Kurvenanpassungsverfahren benutzt wird.
12. Positionsgeber nach einem der Ansprüche 1-3 oder 6,
dadurch gekennzeichnet, daß
jede einzelne streifenförmige Elektrode konstanter Breite derart in zwei entlang ihrer Längserstreckung getrennte zueinander parallele Bereiche aufgeteilt ist, daß die Breite des jeweils ersten Bereichs bei Zählung der nebeneinanderliegenden Elektroden, ausge hend von einer Seite des Detektorfeldes proportional zu der jeweiligen Elektroden-Nummer zunimmt und die Breite des jeweils zweiten Bereichs proportional zu der jeweiligen Elektroden-Nummer abnimmt,
und der jeweils erste Bereich mit einem ersten gemein samen Abgriff zur Ermittlung der Summe des mit der Elektroden-Nummer gewichteten Photostromes verbunden ist, und der jeweils zweite Bereich mit einem zweiten gemeinsamen Abgriff verbunden ist, so daß aus der Diffe renz sowie der Summe der Signale des ersten gemeinsamen Abgriffs und des zweiten gemeinsamen Abgriffs der Schwer punkt der Photostromstärkeverteilung bestimmt werden kann.
jede einzelne streifenförmige Elektrode konstanter Breite derart in zwei entlang ihrer Längserstreckung getrennte zueinander parallele Bereiche aufgeteilt ist, daß die Breite des jeweils ersten Bereichs bei Zählung der nebeneinanderliegenden Elektroden, ausge hend von einer Seite des Detektorfeldes proportional zu der jeweiligen Elektroden-Nummer zunimmt und die Breite des jeweils zweiten Bereichs proportional zu der jeweiligen Elektroden-Nummer abnimmt,
und der jeweils erste Bereich mit einem ersten gemein samen Abgriff zur Ermittlung der Summe des mit der Elektroden-Nummer gewichteten Photostromes verbunden ist, und der jeweils zweite Bereich mit einem zweiten gemeinsamen Abgriff verbunden ist, so daß aus der Diffe renz sowie der Summe der Signale des ersten gemeinsamen Abgriffs und des zweiten gemeinsamen Abgriffs der Schwer punkt der Photostromstärkeverteilung bestimmt werden kann.
13. Positionsgeber nach einem der Ansprüche 1-6,
dadurch gekennzeichnet, daß
jede einzelne streifenförmige Elektrode konstanter
Breite derart mit jeweils zwei externen oder internen
Widerständen verbunden ist, daß der Anteil des Photo
stroms, der über den jeweils ersten Widerstand fließt,
bei Zählung der nebeneinanderliegenden Elektroden,
ausgehend von einer Seite des Detektorfeldes proportional
zur Streifenelektroden-Nummer zunimmt, und der Anteil
des Photostroms, der über den jeweils zweiten Widerstand
fließt, proportional zur Streifenelektroden-Nummer
abnimmt,
und der jeweils erste Widerstand jeder Streifenelektrode mit einem ersten gemeinsamen Abgriff zur Ermittlung der Summe des mit der Elektroden-Nummer gewichteten Photostroms verbunden ist, und der jeweils zweite Wider stand mit einem zweiten gemeinsamen Abgriff verbunden ist, so daß aus der Differenz sowie der Summe der Signale des ersten gemeinsamen Abgriffs und des zweiten gemein samen Abgriffs der Schwerpunkt der Photostromstärkever teilung bestimmt werden kann.
und der jeweils erste Widerstand jeder Streifenelektrode mit einem ersten gemeinsamen Abgriff zur Ermittlung der Summe des mit der Elektroden-Nummer gewichteten Photostroms verbunden ist, und der jeweils zweite Wider stand mit einem zweiten gemeinsamen Abgriff verbunden ist, so daß aus der Differenz sowie der Summe der Signale des ersten gemeinsamen Abgriffs und des zweiten gemein samen Abgriffs der Schwerpunkt der Photostromstärkever teilung bestimmt werden kann.
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE4332859A DE4332859C2 (de) | 1993-09-27 | 1993-09-27 | Positionsgeber zur Erfassung der Lage eines Licht- oder Teilchenstrahls |
US08/312,083 US5444234A (en) | 1993-09-27 | 1994-09-26 | Position transmitter for acquiring the position of a light beam |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE4332859A DE4332859C2 (de) | 1993-09-27 | 1993-09-27 | Positionsgeber zur Erfassung der Lage eines Licht- oder Teilchenstrahls |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE4332859A1 true DE4332859A1 (de) | 1995-03-30 |
DE4332859C2 DE4332859C2 (de) | 1998-12-24 |
Family
ID=6498748
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE4332859A Expired - Fee Related DE4332859C2 (de) | 1993-09-27 | 1993-09-27 | Positionsgeber zur Erfassung der Lage eines Licht- oder Teilchenstrahls |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5444234A (de) |
DE (1) | DE4332859C2 (de) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE19528465A1 (de) * | 1995-08-03 | 1997-02-06 | Leica Ag | Verfahren und Vorrichtung zur Erfassung der Lage einer Zielmarke |
WO2009049761A1 (de) * | 2007-10-20 | 2009-04-23 | Dr. Johannes Heidenhain Gmbh | Detektorelement-matrix für eine optische positionsmesseinrichtung |
Families Citing this family (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0724165B1 (de) * | 1995-01-25 | 2001-12-05 | Control Devices, Inc. | Photosensor zur Erkennung der Einfallsrichtung und Intensität von optischer Strahlung |
US5567976A (en) * | 1995-05-03 | 1996-10-22 | Texas Instruments Incorporated | Position sensing photosensor device |
DE10041796A1 (de) * | 2000-08-25 | 2002-03-14 | Infineon Technologies Ag | Elektronische Verstärkerschaltung mit schaltbarem Eingangstransistor |
US6690022B2 (en) | 2001-01-17 | 2004-02-10 | Varian Semiconductor Equipment Associates, Inc. | Ion beam incidence angle and beam divergence monitor |
EP1351094B1 (de) * | 2002-02-20 | 2006-11-29 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Verfahren und Vorrichtung zur Reproduktion eines Strahlungsbildes |
US20040217258A1 (en) * | 2003-04-30 | 2004-11-04 | Clugston P. Edward | Solar sensor including reflective element to transform the angular response |
US8785865B2 (en) * | 2008-12-03 | 2014-07-22 | Tohoku University | Semiconductor detector for two-dimensionally detecting radiation positions and method for two-dimensionally detecting radiation positions using the same |
JP5163719B2 (ja) * | 2010-09-15 | 2013-03-13 | コニカミノルタビジネステクノロジーズ株式会社 | 画像形成装置 |
ITVI20120166A1 (it) | 2012-07-10 | 2014-01-11 | St Microelectronics Srl | Biosensore |
Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4490036A (en) * | 1982-08-18 | 1984-12-25 | Eastman Kodak Company | Image sensor and rangefinder device having background subtraction with paired analog shift registers |
DE3540418A1 (de) * | 1985-11-14 | 1987-05-21 | Moeller J D Optik | Optische fuehlereinrichtung |
EP0233594A2 (de) * | 1986-02-18 | 1987-08-26 | Messerschmitt-Bölkow-Blohm Gesellschaft mit beschränkter Haftung | Digitaler Positionsgeber |
US4766307A (en) * | 1985-11-01 | 1988-08-23 | U.S. Philips Corporation | Semiconductive radial photodetector and apparatus comprising such a detector |
DE3710986A1 (de) * | 1987-04-01 | 1988-10-20 | Messerschmitt Boelkow Blohm | Lichtempfindliche detektorvorrichtung |
US4806747A (en) * | 1988-02-19 | 1989-02-21 | The Perkin-Elmer Corporation | Optical direction of arrival sensor with cylindrical lens |
US4857721A (en) * | 1988-03-28 | 1989-08-15 | The Perkin-Elmer Corporation | Optical direction sensor having gray code mask spaced from a plurality of interdigitated detectors |
DE3939905A1 (de) * | 1989-12-02 | 1991-06-06 | Teldix Gmbh | Winkelgeber |
DE4002431A1 (de) * | 1990-01-27 | 1991-08-01 | Philips Patentverwaltung | Sensormatrix |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5130775A (en) * | 1988-11-16 | 1992-07-14 | Yamatake-Honeywell Co., Ltd. | Amorphous photo-detecting element with spatial filter |
-
1993
- 1993-09-27 DE DE4332859A patent/DE4332859C2/de not_active Expired - Fee Related
-
1994
- 1994-09-26 US US08/312,083 patent/US5444234A/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4490036A (en) * | 1982-08-18 | 1984-12-25 | Eastman Kodak Company | Image sensor and rangefinder device having background subtraction with paired analog shift registers |
US4766307A (en) * | 1985-11-01 | 1988-08-23 | U.S. Philips Corporation | Semiconductive radial photodetector and apparatus comprising such a detector |
DE3540418A1 (de) * | 1985-11-14 | 1987-05-21 | Moeller J D Optik | Optische fuehlereinrichtung |
EP0233594A2 (de) * | 1986-02-18 | 1987-08-26 | Messerschmitt-Bölkow-Blohm Gesellschaft mit beschränkter Haftung | Digitaler Positionsgeber |
DE3710986A1 (de) * | 1987-04-01 | 1988-10-20 | Messerschmitt Boelkow Blohm | Lichtempfindliche detektorvorrichtung |
US4806747A (en) * | 1988-02-19 | 1989-02-21 | The Perkin-Elmer Corporation | Optical direction of arrival sensor with cylindrical lens |
US4857721A (en) * | 1988-03-28 | 1989-08-15 | The Perkin-Elmer Corporation | Optical direction sensor having gray code mask spaced from a plurality of interdigitated detectors |
DE3939905A1 (de) * | 1989-12-02 | 1991-06-06 | Teldix Gmbh | Winkelgeber |
DE4002431A1 (de) * | 1990-01-27 | 1991-08-01 | Philips Patentverwaltung | Sensormatrix |
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
WELLHAUSEN, Heinz: Elektronische Kamera. In: Elektronik, Heft 1/1991, S. 60-64 * |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE19528465A1 (de) * | 1995-08-03 | 1997-02-06 | Leica Ag | Verfahren und Vorrichtung zur Erfassung der Lage einer Zielmarke |
DE19528465C2 (de) * | 1995-08-03 | 2000-07-06 | Leica Geosystems Ag | Verfahren und Vorrichtung zur schnellen Erfassung der Lage einer Zielmarke |
WO2009049761A1 (de) * | 2007-10-20 | 2009-04-23 | Dr. Johannes Heidenhain Gmbh | Detektorelement-matrix für eine optische positionsmesseinrichtung |
CN101828096B (zh) * | 2007-10-20 | 2011-09-14 | 约翰尼斯海登海恩博士股份有限公司 | 用于光学位置测量装置的检测元件阵列 |
US8169619B2 (en) | 2007-10-20 | 2012-05-01 | Dr. Johannes Heidenhain Gmbh | Detector element matrix for an optical position measuring instrument |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US5444234A (en) | 1995-08-22 |
DE4332859C2 (de) | 1998-12-24 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE69419098T2 (de) | Verfahren und vorrichtung zur ausstattung eines lichtdetektors mit einem offset | |
EP1222471B1 (de) | Gebersystem mit einem beschleunigungsgeber und einem positionsgeber | |
EP2520906B1 (de) | Optische Positionsmesseinrichtung | |
DE4332859C2 (de) | Positionsgeber zur Erfassung der Lage eines Licht- oder Teilchenstrahls | |
DE10244176A1 (de) | Bilddetektor für Röntgenstrahlung | |
DE112019003597T5 (de) | Photodetektionsvorrichtung, Halbleiter-Photodetektionselement und Verfahren zum Ansteuern eines Halbleiter-Photodetektionselements | |
DE2723914B2 (de) | Lichtfühler | |
EP0431686B1 (de) | Anordung zum Auslesen licht- oder röntgenstrahlenempfindlicher Sensoren | |
DE2914423A1 (de) | Verfahren zum unterscheiden gueltiger erster signale einer an einer zentrifuge befestigten probe und zentrifugenanordnung zur durchfuehrung dieses verfahrens | |
DE69031245T2 (de) | Nichtlinearer Analog-/Digitalwandler | |
DE102014222690A1 (de) | Detektormodul für einen Röntgendetektor | |
EP2898296B1 (de) | Vorrichtung zur erfassung von winkel- oder lageänderungen | |
EP0125390A1 (de) | Semitransparente Sensoren sowie deren Herstellung und Anwendung | |
DE4205757A1 (de) | Vorrichtung zum erfassen der position und intensitaet von licht sowie festkoerperbauelement zur verwendung hierfuer | |
DE69633363T2 (de) | Sensorelement | |
DE2458868C3 (de) | Anordnung zur Messung des Fokussierungszustandes in optischen Systemen, insbesondere in photographischen Kameras | |
DE3910462A1 (de) | Radiographische bildaufnahmevorrichtung | |
DE4239012C2 (de) | Photoelektrische Konvertierungsvorrichtung zum Erfassen der Bewegung eines Objekts | |
DE2404645A1 (de) | Strahlungsmess- bzw. detektoreinrichtung | |
DE2461224B2 (de) | Ortsempfindlicher detektor fuer den nachweis von ionen in der fokalebene eines magneten eines massenspektrometers | |
DE4115534C2 (de) | ||
DE19709311C2 (de) | Ortsauflösendes optoelektronisches Sensorsystem | |
DE3211257C2 (de) | ||
DE4323624C2 (de) | Lichtelektrische Längen- oder Winkelmeßeinrichtung | |
EP0911620A2 (de) | Detektoreinrichtung zur Verwendung in der Atomabsorptionsspektroskopie |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
OP8 | Request for examination as to paragraph 44 patent law | ||
D2 | Grant after examination | ||
8364 | No opposition during term of opposition | ||
8327 | Change in the person/name/address of the patent owner |
Owner name: PERKINELMER OPTOELECTRONICS GMBH, 65199 WIESBADEN, |
|
8339 | Ceased/non-payment of the annual fee |