DE4243040C2 - Mehrschichtige Metall-Keramik-Leiterplatte und Verfahren zu ihrer Herstellung - Google Patents
Mehrschichtige Metall-Keramik-Leiterplatte und Verfahren zu ihrer HerstellungInfo
- Publication number
- DE4243040C2 DE4243040C2 DE4243040A DE4243040A DE4243040C2 DE 4243040 C2 DE4243040 C2 DE 4243040C2 DE 4243040 A DE4243040 A DE 4243040A DE 4243040 A DE4243040 A DE 4243040A DE 4243040 C2 DE4243040 C2 DE 4243040C2
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- ceramic
- glass
- layer
- circuit board
- metal
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/46—Manufacturing multilayer circuits
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/12—Mountings, e.g. non-detachable insulating substrates
- H01L23/14—Mountings, e.g. non-detachable insulating substrates characterised by the material or its electrical properties
- H01L23/142—Metallic substrates having insulating layers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C10/00—Devitrified glass ceramics, i.e. glass ceramics having a crystalline phase dispersed in a glassy phase and constituting at least 50% by weight of the total composition
- C03C10/0054—Devitrified glass ceramics, i.e. glass ceramics having a crystalline phase dispersed in a glassy phase and constituting at least 50% by weight of the total composition containing PbO, SnO2, B2O3
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/12—Mountings, e.g. non-detachable insulating substrates
- H01L23/14—Mountings, e.g. non-detachable insulating substrates characterised by the material or its electrical properties
- H01L23/15—Ceramic or glass substrates
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/481—Disposition
- H01L2224/48151—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
- H01L2224/48221—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
- H01L2224/48245—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic
- H01L2224/48247—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic connecting the wire to a bond pad of the item
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L24/00—Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
- H01L24/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L24/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/0001—Technical content checked by a classifier
- H01L2924/00014—Technical content checked by a classifier the subject-matter covered by the group, the symbol of which is combined with the symbol of this group, being disclosed without further technical details
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01014—Silicon [Si]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01019—Potassium [K]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/0102—Calcium [Ca]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01039—Yttrium [Y]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01046—Palladium [Pd]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01078—Platinum [Pt]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01079—Gold [Au]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01087—Francium [Fr]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/095—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00 with a principal constituent of the material being a combination of two or more materials provided in the groups H01L2924/013 - H01L2924/0715
- H01L2924/097—Glass-ceramics, e.g. devitrified glass
- H01L2924/09701—Low temperature co-fired ceramic [LTCC]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/10—Details of semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/11—Device type
- H01L2924/14—Integrated circuits
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/15—Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/151—Die mounting substrate
- H01L2924/1515—Shape
- H01L2924/15153—Shape the die mounting substrate comprising a recess for hosting the device
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/15—Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/151—Die mounting substrate
- H01L2924/1517—Multilayer substrate
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/15—Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/151—Die mounting substrate
- H01L2924/153—Connection portion
- H01L2924/1532—Connection portion the connection portion being formed on the die mounting surface of the substrate
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/15—Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/181—Encapsulation
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Ceramic Engineering (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Dispersion Chemistry (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Production Of Multi-Layered Print Wiring Board (AREA)
- Ceramic Products (AREA)
- Insulated Metal Substrates For Printed Circuits (AREA)
- Glass Compositions (AREA)
Description
Die Erfindung betrifft eine als Ganzes gebrannte mehrschichtige
Keramik-Metall-Leiterplatte mit den im Oberbegriff des An
spruchs 1 angegebenen Merkmalen, sowie ein Verfahren zur Her
stellung einer solchen Platte.
Es ist bekannt, mehrschichtige, gemeinsam gebrannte Keramik-
Schaltungsplatten aus einem Stapel von Schichten aus im Handel
erhältlichem keramischem dielektrischen Bandmaterial herzustel
len, wie es unter dem Handelsnamen GREEN TAPE von der Firma
E.I. Du Pont Company, Wilmington, Delaware (USA) erhältlich
ist. Die Schichten aus dem keramischen Bandmaterial haben je
weils eine Dicke von etwa 0,13 mm. Die Oberfläche jeder Schicht
kann mit metallischen Leitern bedruckt sein, die miteinander
durch kleine Löcher (vias) in einer oder mehreren dieser
Schichten elektrisch verbunden werden können. Die Löcher werden
mit einem leitfähigen Material ausgefüllt. Eine solche durch
einen gemeinsamen Brennvorgang hergestellte keramische Schal
tungsplatte ist beispielsweise in der US-PS 5 041 695 (J.A.
Olenick) beschrieben.
Es stehen zwei Typen von miteinander gemeinsam gebrannten
keramischen Schaltungsplatten zur Verfügung, nämlich:
- (1) bei hoher Temperatur (typischerweise unter 1300°C) gebrannte und
- (2) bei niedriger Temperatur (typischerweise unter 1000°C) gebrannte.
Die Hochtemperatur-Sintertechnologie wird für Aluminiumoxid- und
Aluminiumnitrid-Keramik verwendet, während die Niedertempe
ratur-Sintertechnologie für Glaskeramik (mit keramischem Füll
stoff versetzte Gläser im Glaszustand oder entglasten Zustand)
verwendet wird. Aus der DE 25 33 687 C2 und der US 4 185 139 ist
es bekannt, Füllstoffe mit niedrigerer Wärmeausdehnung zu ver
wenden, um die thermische Ausdehnung des Lötglases herabzuset
zen, so daß es sich mit Keramiken, die eine geringere Wärmeaus
dehnung haben als Lötglas, verträgt. Ferner ist es aus der US 5 047 371
bekannt, ein Füllmaterial wie Calciumfluorid (Fluß
spat) zur Erhöhung des thermischen Ausdehnungskoeffizienten ei
nes Versiegelungsglases zu verwenden, um diesen Koeffizienten
demjenigen eines Metalls wie etwa Kupfer anzugleichen. Jedoch
wird dort von der Verwendung solcher Füllstoffe abgeraten, weil
diese dazu neigen, die Fließeigenschaften des Versiegelungsgla
ses zu verschlechtern und damit die Güte der Versiegelung zu
beeinträchtigen. Schließlich ist aus der DE 33 24 933 C2 eine
keramische Mehrschicht-Leiterplatte bekannt, in der eine Viel
zahl von keramischen Schichten mit jeweils einem Leiterbahn
muster auf der oberen Oberfläche übereinandergeschichtet sind,
wobei jede keramische Schicht ein Sinterprodukt ist, das Sili
ziumoxid und ein Glas enthält, dessen Erweichungspunkt unter
dem Schmelzpunkt des die Leiterbahnmuster bildenden elektrisch
leitenden Materials liegt, wobei jede keramische Schicht minde
stens zwei Arten von sich in ihrer Kristallform unterscheiden
den Siliziumoxid enthält, die unterschiedliche thermische Aus
dehnungskoeffizienten aufweisen. Außer dem Vorteil einer nied
rigen Dielektrizitätskonstanten von Siliziumdioxid, welche im
Interesse einer möglichst geringen Übertragungsverzögerung
elektrischer Signale erwünscht ist, läßt sich über das Mi
schungsverhältnis der beiden Siliziumoxidarten der thermische
Ausdehnungskoeffizient steuern. Die Leitermetallurgie für bei
hoher Temperatur gleichzeitig gebrannte Schaltungsplatten ar
beitet mit W oder Mo-Mn, während bei Schaltungsplatten, die als
Ganzes bei niedriger Temperatur gebrannt werden, Leiter aus Ag,
Au, AgPd oder Cu verwendet werden.
Ein Problem, das bei der Herstellung von mehrschichtigen, als
Ganzes gebrannten keramischen Schaltungsplatten auftritt, ist
der Volumenschwund beim Brennen. Dieser Schwund, der sowohl in
den Flächenrichtungen x und y als auch in der Dickenrichtung z
der jeweiligen Schichten auftritt, hat seine Ursache darin, daß
während des Brennens Luft entweicht, welche zwischen den Teil
chen sowie im organischen Binder des GREEN TAPE-Bandmaterials
eingeschlossen ist. Der Schwund ist verhältnismäßig groß, typi
scherweise 10 bis 15% für bei niedriger Temperatur als Ganzes
gebrannte Mehrschicht-Schaltungsplatten. Man kann zwar versu
chen, den Schwund in den Flächenrichtungen x und y durch Über
dimensionierung der Fläche der Schichten aus dem GREEN TAPE-
Bandmaterial zu kompensieren, es ist jedoch recht schwierig,
den Schwund konsistent zu kontrollieren. Um beispielsweise die
Schwankungen der x- und y-Abmessungen einer gebrannten mehr
schichtigen Schaltungsplatte innerhalb eines Toleranzbereiches
von 0,1% zu halten, ist ein Grad von Kontrolle erforderlich,
der bis zu ein oder zwei Teile pro Hundert im Ausmaß des
Schwundes betragen kann. Aus diesem Grund ist der Ausschuß bei
als Ganzes gebrannten Schaltungsplatten hoch. Die bei niedriger
Temperatur als Ganzes gebrannten mehrschichtigen Schaltungs
platten haben außerdem wegen der Glaskeramik eine schlechte
Wärmeleitfähigkeit und eine niedrige Biegefestigkeit.
Es sind auch Einfachschichten aus Keramik bekannt, die auf ein
Metallsubstrat aufgebrannt sind, wie Porzellanemail auf Stahl.
Da der Wärmeausdehnungskoeffizient des das Substrat bildenden
Stahls relativ groß ist, muß auch das Material der auf das
Stahlsubstrat aufgeschmolzenen Keramikschicht einen relativ
großen Wärmeausdehnungskoeffizienten haben, um dem des Sub
strats möglichst nahezukommen. Man hat Glaskeramiken mit hohem
Bariumgehalt und hohem Ausdehnungskoeffizienten entwickelt, die
für die Herstellung solcher Porzellanemail-auf-Stahl-Platten
verwendet werden können. Es sind auch andere Keramiksysteme be
kannt, die einen relativ großen Wärmeausdehnungskoeffizienten
aufweisen, der typischerweise durch den Zusatz von Oxiden von
Schwermetallen, wie Blei, Barium oder Alkalien, z. B. Natrium
und Kalium, erreicht wird. In der US 4 256 796 ist die Zusam
mensetzung eines solchen Systems unter Verwendung von Barium
oxid zur Erreichung des gewünschten hohen thermischen Ausdeh
nungskoeffizienten bekannt. Dies hat jedoch höhere Dielektrizi
tätskonstanten und höhere dielektrische Verluste zur Folge und
kann zu einer schlechteren chemischen Beständigkeit führen, was
solche Systeme hoher Wärmedehnung zu schlechten Kandidaten für
die Verwendung zur Herstellung von mehrschichtigen, als Ganzes
gebrannten Keramik-Schaltungsplatten macht, die in mikroelek
tronischen Baugruppen oder Moduleinheiten und zur Halterung und
zum Anschluß von IC-Chips verwendet werden können.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, eine mehrschichtige,
als Ganzes gebrannte Keramik-Metall-Leiterplatte, vorzugsweise
für mikroelektronische Baugruppen zu schaffen, bei denen die
Zusammensetzung des Glas-Keramik/Füllstoff-Materials derart ge
wählt ist, daß sein Wärmeausdehnungskoeffizient in einem Tempe
raturbereich von Raumtemperatur bis etwa 600°C weitgehend mit
dem des metallischen Trägers übereinstimmt. Insbesondere soll
der Wärmeausdehnungskoeffizient der Leiterplatte im Bereich von
90 bis 130 × 10-7/°C und ihre Dielektrizitätskonstante bei
1 MHz unter 6,9 liegen und bei 1 MHz soll ihr Verlustfaktor
maximal 0,5 betragen. Ferner soll durch die Erfindung ein Ver
fahren zur Herstellung einer derartigen Leiterplatte angegeben
werden, bei der eine sichere Verbindung der Keramik mit dem Me
tallträger gewährleistet wird.
Diese Aufgabe wird durch die im Anspruch 1 bzw. Anspruch 5 an
gegebenen Merkmale gelöst. Weiterbildungen der Erfindung sind
in den Unteransprüchen gekennzeichnet.
Die Erfindung wird im folgenden unter Bezugnahme auf die
Zeichnungen näher erläutert. Es zeigen:
Fig. 1 eine schematische Darstellung einer
mikroelektronischen Baugruppe, die gemäß der
Erfindung hergestellt wurde, und
Fig. 2 ein Flußdiagramm der Verfahrensschritte einer
bevorzugten Ausführungsform der vorliegenden
Erfindung.
Zur Herstellung der in Fig. 1 im Schnitt und stark vergrößert
dargestellten Struktur stellt man als erstes einen metallischen
Träger oder ein Metallsubstrat 12 mit zwei einander
entgegengesetzten Hauptflächen oder Seiten 14 und 16 her, beispielsweise
durch Stanzen eines nicht dargestellten Metallkernes und
anschließendes Anlassen des Kernes bei einer Temperatur von
etwa 500 bis 900°C) um eine gute Dimensionsstabilität zu
gewährleisten. Die Oberflächen des Kerns werden gereinigt,
um Schmutz und Oxide zu entfernen. Vorzugsweise wird
mindestens eine der Seiten 14 und 16 mit einem
geeigneten Material, wie Kupfer, mit einer Dicke von etwa
0,5 bis 25 um galvanisiert. Geeignete Materialien für das
Substrat 12 sind u. a. Cu, Al, Ni, nichtrostender Stahl,
kohlenstoffarmer Stahl, Cu/Invarstahl/Cu, Cu/Mo/Cu oder
Cu/nichtrostender Stahl/Cu, wobei letzteres bevorzugt wird.
Eine Bindeschicht 18 aus Glas, insbesondere ein Glas mit
einem Wärmeausdehnungskoeffizienten, der kleiner ist als der
des Substrats 12, wird als Suspension auf eine der
Seiten, z. B. die Seite 14 des Substrats 12 aufgebracht.
Die Suspension kann durch Siebdruck, Sprühen, Schleuder
beschichtung, Streichen, Fluidbettbeschichtung, elektro
phoretisches Niederschlagen oder andere äquivalente Methoden
erfolgen. In der Praxis wurden bei der Herstellung von
Schaltungsplatten gemäß der Erfindung Siebdruck- und Sprüh
verfahren verwendet. Auf der Glas-Bindeschicht 18 wird eine
mehrschichtige Keramikstruktur 20 vorgesehen.
Die mehrschichtige Keramikstruktur 20 kann durch Aufbringen
von mehreren Schichten grünen Bandes auf die Glas-Binde
schicht hergestellt werden oder die laminierte Keramik
struktur kann biskuitgebrannt oder getrocknet werden, bevor
sie auf die Glas-Bindeschicht 18 aufgebracht wird. Für eine
Cu/nichtrostender Stahl/Cu-Basis wird die resultierende
Struktur in Stickstoff (etwa 10.000 ppm O2) mit einer
Spitzentemperatur von etwa 900 bis 930°C für etwa 2 bis 20
Minuten als Ganzes gebrannt, um die Keramik mit der Ober
fläche 14 der Basis oder des Substrats 12 zu verbinden. Die
Binde-Zwischenschicht 18 aus Glas hat zwei Funktionen: Sie
dient zur Anbringung der mehrschichtigen Keramik 20 an der
Basis 12 und sie hält den Schwund der Keramik 20 in der x- und
der y-Dimension während des Brennens minimal. Die
Bindeschicht 18 aus Glas muß außer, daß sie einen Ausdehnungs
koeffizienten, der kleiner als der des Metallsubstrats 12 ist,
hat, genügend mit der Kupferbeschichtung und den Kupferoxiden
auf der Oberfläche 14 des Substrats 12 reagieren, um die
Verbindung zwischen der Keramik 20 und Substrat während des
gemeinsamen Brennvorganges zu fordern und aufrechtzuerhalten.
Das Glas der Bindeschicht 18 muß einen relativ niedrigen
Erweichungspunkt (kleiner als 600°C) haben, so daß es
fließen und sich mit der Oberfläche 14 des Metallsubstrats 12
verbinden kann, und es muß geeignete Oberflächenspannungs
eigenschaften bei Temperaturen unterhalb des Erweichungs
punktes des Glases in der Keramikschicht 20 aufweisen, um
den lateralen (x und y) Schwund der Keramik so klein wie
möglich zu halten. Außerdem muß das Glas der Bindeschicht 18
eine gute chemische Beständigkeit und gute dielektrische
Eigenschaften aufweisen.
Die Zusammensetzung der Glas-Bindeschicht 18 wird durch die
Zusammensetzung des Metallkernes und seiner thermischen
Eigenschaften sowie durch die Zusammensetzung des Keramik
laminats, die Sintereigenschaften und das bei der Her
stellung der zusammengebrannten Keramik-auf-Metall-
Schaltungsplatte verwendete Verfahren beeinflußt. Jede
Schicht der mehrschichtigen Keramikstruktur enthält eine
Glaskeramik/Füllstoff-Zusammensetzung mit einem Wärmeaus
dehnungskoeffizient, der mit dem der Basis und der Glas-
Bindeschicht im Temperaturbereich von Raumtemperatur bis
etwa 600°C weitgehend übereinstimmt. Eine Anzahl von Gläsern
des Mehrstoffsystems PbO-ZnO-BaO-B₂O₃ -SiO2 sind für die
Bindeschicht 18 geeignet. Diese Gläser können auch kleine
Mengen von ZrO2 und Al₂O₃ enthalten. Einige verallgemeinerte
Zusammensetzungen und ihre typischen Eigenschaften sind in
der folgenden TABELLE I aufgeführt.
Keramik-Metall-Leiterplatten gemäß der Erfindung
wurden unter Verwendung von Gläsern der Pb-Zn-Borosilicat- und
Pb-Zn-Ba-Borosilicat-Glassysteme, die in TABELLE I
aufgeführt sind, hergestellt. Das bevorzugte Glas des
Pb-Zn-Ba-Borosilicat-Systems ist ein handelsübliches Glas
mit der Bezeichnung SCC-11, das von der Firma SEM-CON Co.
Toledeo, OH, USA erhältlich ist. Ein anderes geeignetes Glas
aus demselben System wird von der Firma Owens Illinois,
Toledo, OH, USA, unter der Bezeichnung CV-808 vertrieben.
Dieses letzterwähnte Glas enthält einen kleinen Anteil an
ZrO2. Ein geeignetes Glas aus dem Pb-Zn-Borosilicat-System
ist das Glas des Typs CV-101 der Firma Owens Illinois.
Diese Bindegläser wurden mit Erfolg eingesetzt, um eine gute
Haftung der laminierten Keramik an eine Cu/nichtrostender/
Stahl/Cu-Substrat 12 zu gewährleisten. Außerdem wird der
x-y-Schwund der laminierten Keramikschicht 20 durch
Verwendung dieser Gläser um mehr als eine Größenordnung auf
etwa 0,8% verringert. Der x-y-Schwund des Keramiklaminats
beträgt ohne die Glas-Bindeschicht 18 typischerweise 12-15%.
Das Metallsubstrat 12 weist außerdem eine gute thermische
Leitfähigkeit und eine hohe Biegefestigkeit auf, so daß auch
die Probleme der schlechten Wärmeleitfähigkeit und niedrigen
Biegefestigkeit der bekannten Schaltungsplatten, die nur
eine mehrschichtige, bei niedriger Temperatur als Ganzes
gebrannte Glaskeramik enthalten, überwunden werden.
Für die Leitermaterialien eignen sich Ag, Au, AuPt, AgPd, Ni
und Cu. Wenn Schaltungsplatten mit Edelmetalleitern als
Ganzes gebrannt werden, können Stickstoff oder irgendeine
andere inerte Atmosphäre erforderlich sein, um eine
Oxidation des Metallsubstrats zu verhindern. In dem laminierten
Band können geeignete Schlitze für integrierte-Schaltungs-
Chips vorgesehen sein, um diese direkt auf dem Metallsubstrat
anzuordnen, wobei ein Kleber, ein Lot oder irgendein anderes
direktes Verbindungsverfahren verwendet werden kann, um eine
sehr wirksame Hitzeverteilung zu gewährleisten. Eine
Schaltung hoher Dichte kann auf der als Ganzes gebrannten
Keramik unter Verwendung der Photolithographie für die
Deckschichtleiter hergestellt werden. Es ist außerdem
möglich, zusätzliche Polymerschichten auf die als Ganzes
gebrannte Keramik, z. B. durch Schleuderbeschichtung,
aufzubringen und dann Dünnschicht-Galvanisierungs- oder
Schichtbildungstechniken zur Bildung von Schaltungen sehr
hoher Dichte zu verwenden.
Die hier beschriebene Technologie für die als Ganzes
gebrannten Schaltungsplatten auf Metallsubstrat ermöglicht es
außer der Herstellung von Schaltungsplatten hoher Dichte
mit ausgezeichneten Wärmeableitungs- bzw. Wärmeverteilungs- und
Schwundsteuereigenschaften auch eine mechanisch robuste
Basis zu erhalten. Ferner können IC-Schaltungsplättchen und
andere Komponenten direkt am Metall angebracht werden, indem
man Schlitze entweder im GREEN-TAPE-Material vorsieht, wie
es in Fig. 1 dargestellt und unten beschrieben ist oder auf
der der mehrschichten Keramik entgegengesetzten Seite des
Metallsubstrats. Die Komponenten können durch Löten, Draht
verbindung, TAB (Filmbonden) Flip-Chip-oder Klebstoff-
Befestigung angebracht werden. Die Kapselung kann hermetisch-
(Glas-Metall-Verschmelzung) oder nichthermetisch mit
geeignetem Einhüllen oder Vergießen zum Komponentenschutz
erfolgen.
Es ist nicht beabsichtigt, die erfindungsgemäße mit Brennen
als Ganzes arbeitende Mehrschicht-Keramik-auf-Metall-
Technologie der vorliegenden Erfindung auf irgendeine
spezielle Anwendung zu beschränken, sie eignet sich jedoch
besonders für mikroelektronische Packungen und Einheiten, da
die gebrannte mehrschichtige Keramik hierfür geeignete
elektrische Eigenschaften und andere günstige Eigenschaften
aufweist. Diesbezüglich wird auf die folgende TABELLE II
verwiesen, die ein Beispiel für eine Pflichtenliste der
elektrischen und anderen Eigenschaften enthält, bei einem
praktischen Fall einer mikroelektronischen Packung von der
gebrannten mehrschichtigen Keramik gefordert werden.
Eigenschaften | |
Gewünschter Wert | |
Wärmeausdehnungskoeffizient (25-250°C) | 90-130 × 10-7/°C |
Dielektrizitätskonstante (1 MHz) | < 6,6 |
Verlustfaktor (1 MHz) | < 0,0035 |
Spannungsfestigkeit | < 2 kV/mm |
Spezifischer (Volumen-) Widerstand | < 1012 Ohm cm |
Flächenwiderstand der vergrabenen Leiter | < 10 mOhm/Quadrat |
Spezifischer Widerstand von Via-Leiter | < 50 mOhm/Quadrat |
Spezifischer Widerstand der Oberflächenleiter | < 50 mOhm/Quadrat |
Krümmung | < 0,005''/Zoll |
Langzeit-Zuverlässigkeit (HHBT-Bedingungen) | (keine Kurzschlüsse). |
In der TABELLE II beziehen sich die HHBT-Bedingungen
bezüglich der Langzeit-Zuverlässigkeit auf einen beschleunig
ten Alterungstest, bei welchem eine Mikroelektronikpackungs
probe bei hoher Feuchtigkeit und hoher Temperatur eine
vorgegebenen Spannungsbeanspruchung für eine bestimmte Zeit
ohne elektrischen Durchbruch standhalten muß.
Die Verwendung der mit Brennen als Ganzes arbeitenden Mehr-
Schicht-Keramik-auf-Metall-Technologie der vorliegenden
Erfindung auf mikroelektronische Packungen und Einheiten
erforderte die Entwicklung von Glaskeramik-(GC)-Materialien,
die in Glaskeramik+Füllstoff (GC/F)-Zusammensetzungen
verwendet werden können, die den in TABELLE II aufgeführten
Anforderungen genügen.
In der Vergangenheit wurden Glas-, Glaskeramik- und Glas+Füll
stoff-Systeme entwickelt und mit Erfolg in mikroelek
tronischen Packungen für Anwendungen mit hoher Packungs
dichte verwendet. Der hauptsächliche Vorteil dieser
Materialien gegenüber den konventionellen Keramiken, wie
Aluminiumoxid, ist die niedrigere Brenntemperatur, die die
Verwendung von Materialien mit hoher elektrischer Leitfähig
keit, wie Ag, Cu, Au und Ag-Pd als verträgliche Metalli
sierungen ermöglicht. Während dieser Entwicklungen entstand
eine Vielzahl von Glas-Keramik- und Glas+Füllstoff-Systemen,
man hat jedoch in erster Linie auf die Anpassung der Wärme
dehnung an Silizium und in manchen Fällen an Ga-As Wert
gelegt. Die Wärmeexpansionskoeffizienten reichen typischer
weise von 30-70 × 10-7/°C. Die Fragen der Beherrschung der
Dielektrizitätskonstante, der dielektrischen Verluste, der
Festigkeit, der spezifischen Masse- und Oberflächen
widerstände, der elektrischen Durchbruchsfestigkeit, der
chemischen Beständigkeit, des Schwundes während des Brennens
und der Verträglichkeit mit der Metallisierung wurden in
einem großen Bereich von Borat-, Borosilicat- und Silicat-
Glas- sowie Glas-Keramik-Systemen, die Füllstoffe mit
niedriger oder mittlerer Wärmeausdehnung enthielten, wie
Aluminiumoxid, Cordierit, Forsterit, Eucryptit usw. an
gesprochen. Keines dieser Glas-, Glas-Keramik- und Glas+Füll
stoff-Systeme erfüllt jedoch einigermaßen die Anforderungen
hinsichtlich der in der TABELLE II aufgeführten Werte.
Insbesondere ist der Ausdehnungskoeffizient dieser bekannten
Systeme zu niedrig, um sie mit Erfolg bei der Herstellung
als Ganzes gebrannten hochdichten Mehrschicht-Keramik-auf-
Metall-Schaltungsplatten verwenden zu können.
Es ist eines der Ziele der vorliegenden Erfindung
- 1) ein Glas-Keramik-System und spezielle Glas-Keramik- Materialien innerhalb dieses Systems mit geeigneten thermischen, elektrischen, chemischen und mechanischen Eigenschaften anzugeben, die ihre Verwendung zur Herstellung von als Ganzes ge brannten hochdichten Mehrschicht-Keramik-Metall-Leiterplatten erlauben und
- 2) dann geeignete Füllstoffe in solche ins Auge gefaßten GC- Materialien zu inkorporieren, um die GC/F-Materialien so fein abzustimmen, daß ihre Eigenschaften den in TABELLE II geforderten Werten im wesentlichen genügen.
In der folgenden TABELLE III ist ein MgO-B2O3-SiO2-System
angegeben, welches CaO, ZnO und SnO als Zusätze enthält und
für die Entwicklung von vorgesehenen Glas-Keramik-(GC)-
Materialien für die Verwendung bei der Herstellung einer als
Ganzes gebrannten hochdichten Mehrschicht-Keramik-auf-
Metall-Schaltungsplatte gewählt wurde. Den Gläsern wurden
keine Alkalioxide absichtlich zugesetzt, sie können jedoch
als Verunreinigungen in den Rohmaterialien vorhanden sein.
ZrO2 wurde in allen Materialien als Keimbildungsmittel zur
Steuerung der Kristallisation zugesetzt. Die Zusammensetzung
der verschiedenen Gläser, die hergestellt und untersucht
wurden, sind in der TABELLE III aufgeführt. Glas-Keramik
wurde durch Wärmebehandlung der Gläser bei 850-950°C für
10-30 Minuten erzeugt. Der Wärmeausdehnungskoeffizient der
resultierenden Glas-Keramiken reichte von 85 bis 105 × 10-7/°C
über einen Temperaturbereich von Raumtemperatur (RmT) bis
etwa 600°C (wie die unten in Tabelle III aufgeführten
thermischen Ausdehnungskoeffizienten der Glas-Keramiken GC-1
bis GC-7 im speziellen zeigen), was für ein weiteres Maß
schneidern durch Einbringung von Füllstoffen geeignet ist.
Die Empfindlichkeit gegen Feuchtigkeit wurde dadurch
bestimmt, daß die Glas-Keramiken Dampf von 1,05 × 105Pa (15 psi)
für zwölf Stunden ausgesetzt wurden. Keines der Materialien
zeigte eine sichtbare Verschlechterung durch die Feuchtigkeit.
Basierend auf den Zusammensetzungen der Glas-Keramiken GC-1
bis GC-14 wurden die folgenden Zusammensetzungsbereiche (in
Gewichts-%) als geeignet für ausdehnungsangepaßte Glas-
Keramiken, die gemeinsam auf Cu/rostfreier Stahl/Cu-Metall
kerne oder -Substrate gebrannt werden, festgestellt:
SiO2 | 10-20% |
B2O3 | 20-35% |
MgO | 25-50% |
ZnO | 0-10% |
CaO | 0-22% |
SnO2 | 0-18% |
BaO | 0-10% |
Es kann möglich und zweckmäßig sein, andere Oxide
einschließlich Alkali- und Schwermetalloxide in kleinen
Mengen mit kleinerem Einfluß auf die Dielektrizitätskonstante
und die dielektrischen Verluste hinzuzufügen. Anstelle von
ZrO2 können auch andere Keimbildungsmittel, wie TiO2 und
P2O5 verwendet werden. Beispielsweise können bis zu 5 Gew.-%
(einzeln oder in Kombination) dieser Keimbildungsmittel
eingesetzt werden. Um eine gewünschte Farbe zu erhalten,
können bis zu 3 Gew.-% (einzeln oder in Kombination) von
Cr2O3, CoO, Fe2O3, CuO, CeO2, und/oder Pr2O3 e ingesetzt
werden. Die Glas-Keramik kann ferner als weitere Zusatze bis
zu 10 Gew.-% (einzeln oder in Kombination) Li2O, Na2O, K2O,
Al2O3, PbO, Bi2O3 und/oder SrO enthalten.
Drei Füllstoffe wurden als Materialien zur Feinabstimmung der
Eigenschaften der Glaskeramik ausgewählt, nämlich Flußspat
(CaF ), Quarz (SiO2) und Cristobalit (SiO2) . Die thermischen
Ausdehnungskoeffizienten von Flußspat, Quarz und Cristobalit
im Bereich von 20 bis 600°C sind 225, 237 bzw. 271 × 10-7/°C.
Es wurden verschiedene Glas-Keramik/Füllstoff-(GC/F)-Kom
binationen mit üblichen Bandgießverfahren verarbeitet. Einer
oder mehrere dieser Füllstoffe, bis zu 50 Vol.-%, wurden für
die Änderung der Ausdehnungs- und der Dielektrizitätskonstante
der Substrat-Glas-Keramik (GC) in Betracht gezogen. Durch
Änderung des Füllstoffanteils im Glas-Keramik/Füllstoff-
System kann der Ausdehnungskoeffizient der Glas-Keramik/Füll
stoff-Systeme bis auf 130 × 10-7/°C erhöht werden.
Fünf neue Glas-Keramik/Füllstoffmaterialien GC/F-1 bis
GC/F-5 mit Eigenschaften, die sie für die Verwendung bei der
Herstellung als Ganzes zum Verbinden der Struktur und zum
Sintern der Keramik fertiggebrannten mehrschichtigen
Keramik- Schaltungsplatten geeignet machen, sind unten in
TABELLE IV aufgeführt. Es wurde gefunden, daß von diesen
fünf Glas-Keramik/Füllstoffmaterialien die Typen GC/F-4 und
GC/F-5 insgesamt die besten Eigenschaften für den
vorliegenden Zweck haben.
Zur weiteren Erhöhung des Wärmeausdehnungskoeffizienten und
zur Verbesserung des Schwundverhaltens können insgesamt bis
zu 50 Gew.-% der Füllstoffe Quarz, Flußspat und Cristobalit
einzeln oder in Kombination verwendet werden.
Ein Beispiel einer mikroelektronischen Packung oder Einheit
eines Mehrchip-Moduls ist in Fig. 1 dargestellt. Die als
Ganzes gebrannte Keramik-auf-Metall-Struktur 10 enthält das
Metallsubstrat 12, welches eine erste und eine zweite Seite
14 bzw. 16 aufweist, und die gemeinsam gebrannte
mehrschichtige Keramik 20, die mit der ersten Seite 14
durch die Glas-Bindeschicht 18 verbunden ist. Jede Lage des
laminierten Glas-Keramik/Füllstoff-Bandes kann vor dem
Brennen mit geeigneten Löchern oder Vias versehen werden,
welche nach dem Brennen Schlitze 22 in der gemeinsam
gebrannten mehrschichtigen Keramik 20 bilden, so daß
integrierte-Schaltungschips 24 (oder andere Komponenten)
unmittelbar an dem Metallsubstrat 12 angebracht werden können.
Ein Gehäuse 26, das die jeweiligen Chips 24 abdeckt, kann
hermetisch mit dem Metallsubstrat 12 verbunden werden. Die
Chips 24 werden elektrisch, z. B. durch Drahtverbinden oder
andere bekannte Mittel elektrisch angeschlossen. Alternativ
können die Chips 24 jeweils durch eine nicht-hermetische
Vergußmasse oder Verkapselung 26 geschützt werden.
An der entgegengesetzten Seite 16 des Substrats 12 ist
durch einen Kleber 32 ein Kühlkörper 30 angebracht. Die
mikroelektronische Einheit enthält ferner eine Halterungs
struktur 34, mit der das Multichip-Modul in einem nicht
dargestellten Gerät montiert werden kann.
Obwohl in Fig. 1 nicht dargestellt, enthält die gemeinsam
gebrannte mehrschichtige Keramik 20 metallische Leiter, die
derzeit Ag und Ag/Pd enthalten. Metallische Leiter, die Cu
oder Au enthalten, sollten jedoch ebenfalls mit den
gemeinsam gebrannten mehrschichtigen Keramik-auf-Metall-
Platten des hier beschriebenen Typs verträglich sein.
Die neuen Glas-Keramik-(GC)-Materialien, die in TABELLE III
aufgeführt sind und insbesondere auch die Glas-Keramik/Füll
stoff-Materialien, die in TABELLE IV aufgeführt sind, wurden
zwar für die Verwendung in einer mikroelektronischen Packung
oder Halterungsstruktur eines Keramik-auf-Metall-Multichip-
Moduls des in Fig. 1 dargestellten Typs entwickelt, diese
neuen Materialien sind jedoch sicher auch für andere übliche
Mehrschicht-Keramik-Packungen oder Halterungsstrukturen mit
oder ohne Metallbasis oder Metallsubstrat brauchbar.
Bei dem in Fig. 2 dargestellten neuen Verfahren wird eine
Glas-Bindeschicht 18 beispielsweise durch Sprühbeschichtung
auf die eine Seite, z. B. die Seite 14, des Substrats 12
aufgebracht. Bei einer bevorzugten Ausführungsform des
Verfahrens wurde eine Schicht aus einem Glas des Typs SCC-11
verwendet, von dem eine Suspension hergestellt worden war,
indem man es in Pulverform mit etwa 60 bis 90 Volumen-
Prozent eines geeigneten Lösungsmittels, wie 2-Propanol,
Aceton, Ethanol oder Terpinol mischte, wobei 2-Propanol
bevorzugt wird. Die laminierte Keramik-Schicht 20 kann
getrennt hergestellt werden, indem man eine Anzahl von Lagen
aus selektiv metallisiertem Glas-Keramik/Füllstoff-Band,
in dem Durchbrüche oder Vias gebildet wurden, aufeinander
stapelt und die laminierte Struktur einer Vorerhitzung oder
einem Biskuit-Brennen unterwirft, um die organischen Bestand
teile aus ihr zu entfernen und einen monolithischen Keramik-
Körper zu erzeugen. Die Keramik- Schicht 20 kann alternativ
dadurch gebildet werden, daß man mehrere Lagen aus
metallisiertem und mitgestanzten Durchbrüchen versehenen
Glas-Keramik/Füllstoffband auf die Glas-Bindeschicht 18
aufbringt.
Bei dem bevorzugten Verfahren wird die Glas-
Bindeschicht 18 auf eine Temperatur von etwa 450°C erhitzt,
um das Glas der Bindeschicht vorher fließen zu lassen und
einen dünnen Glasüberzug mit einer Dicke von etwa 0,025 mm
auf der Oberfläche 14 zu bilden. Dann wird die vorher
gebildete Keramikschicht auf die Glas-Bindeschicht 18 gelegt
und die ganze Struktur wird zusammen, als Ganzes in Stick
stoff (ungefähr 10.000 ppm O2) für etwa 2-20 Minuten bei bei
einer Temperatur von 900-930°C fertiggebrannt oder gesintert.
Die maximalen Brenntemperaturen beim gemeinsamen Endbrand
hängen vom Metall des Substrats 12 und der Zusammensetzung der
Keramik-Schicht 20 ab. Die Haftung der mehrlagigen Keramik
schicht 20 am Substrat 12, die aus der Verwendung der
Glas-Bindeschicht 18 resultiert, verringert den x-y-Schwund
der Keramikschicht während des gemeinsamen Brennens ganz
erheblich und der Volumenschwund der Keramik wird in erster
Linie auf die z- oder Dickenrichtung beschränkt.
Claims (8)
1. Gesinterte mehrschichtige Keramik-Metall-Leiterplatte
mit einem metallischen Träger, einer auf diesem befindlichen
Bindeschicht und einer darauf angeordneten Keramikschicht,
welche übliche Leitstrukturen trägt, dadurch gekennzeichnet,
daß
- - die Bindeschicht eine Glasschicht auf Basis von Pb-Zn- oder Pb-Zn-Ba-Borosilikaten ist,
- - die Keramikschicht aus mindestens 50 Gew.-% einer Glas
keramik aus:
10-20 Gew.-% SiO2
20-35 Gew.-% B2O3
25-50 Gew.-% MgO
0-10 Gew.-% ZnO
0-22 Gew.-% CaO
0-18 Gew.-% SnO2
0-10 Gew.-% BaO und Füllstoffen aus Quarz und/oder Flußspat und/oder Cristo balit (Si02-Modifikation) mit höchstens 50 Gew.-% besteht.
2. Leiterplatte nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
daß das Keramik-Material zusätzlich bis 3 Gew.-% Cr2O3, CoO,
Fe2O3, CuO, CeO2 und/oder Pr2O3 und bis zu 10 Gew.-% Li2O, Na2O,
K2O, Al2O3, PbO, Bi2O3 und/oder SrO enthält.
3. Leiterplatte nach einem der vorhergehenden Ansprüche,
dadurch gekennzeichnet, daß der metallische Träger aus Cu, Al,
nichtrostendem Stahl, Ni, kohlenstoffarmem Stahl, Cu/Invar/Cu,
Cu/Mo/Cu oder Cu/rostfreiem Stahl/Cu besteht.
4. Leiterplatte nach einem der vorhergehenden Ansprüche,
dadurch gekennzeichnet, daß die Leitstrukturen als mindestens
eines der Leitermaterialien Ag, Au, AuPt, Ag/Pd, Ni und Cu
enthalten.
5. Verfahren zum Herstellen einer Keramik-Metall-Leiter
platte nach Anspruch 1, bei welchem auf einer Seite eines dop
pelseitigen metallischen Trägers eine Bindeschicht und auf
dieser eine Keramikschicht aufgebracht wird,
dadurch gekennzeichnet, daß auf dieser Seite (14) eine Binde
schicht (18) aus dem Glas mit einem Wärmeexpansionskoeffizien
ten, der nicht größer als derjenige des Trägers ist, aufge
bracht wird und daß auf dieser Glasschicht (18) die Keramik
schicht in Form einer aus mehreren Schichten eines Keramikban
des bestehenden Keramikstruktur (20) angeordnet wird und daß
der Träger, die Glasschicht und die mehrschichtige Kera
mikstruktur auf einer ausreichenden Temperatur zur sicheren
Befestigung der Keramikstruktur auf dem Träger gebrannt wer
den.
6. Verfahren nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet,
daß die Glasschicht (18) vor dem Aufbringen der mehrschichti
gen Keramikstruktur (20) auf eine Temperatur von etwa 450°C
erhitzt wird, bei welcher das Glas fließt.
7. Verfahren nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet,
daß das Brennen bei einer Temperatur von etwa 900°C bis 930°C
durchgeführt wird.
8. Verfahren nach einem der Ansprüche 5 bis 7, dadurch
gekennzeichnet, daß das Brennen in einer Stickstoffatmosphäre
durchgeführt wird.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US07/809,372 US5277724A (en) | 1991-12-18 | 1991-12-18 | Method of minimizing lateral shrinkage in a co-fired, ceramic-on-metal circuit board |
US07/809,371 US5256469A (en) | 1991-12-18 | 1991-12-18 | Multi-layered, co-fired, ceramic-on-metal circuit board for microelectronic packaging |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE4243040A1 DE4243040A1 (de) | 1993-06-24 |
DE4243040C2 true DE4243040C2 (de) | 1999-06-17 |
Family
ID=27123219
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE4243040A Expired - Fee Related DE4243040C2 (de) | 1991-12-18 | 1992-12-18 | Mehrschichtige Metall-Keramik-Leiterplatte und Verfahren zu ihrer Herstellung |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2922375B2 (de) |
KR (1) | KR970008145B1 (de) |
DE (1) | DE4243040C2 (de) |
GB (1) | GB2263253B (de) |
SG (1) | SG50478A1 (de) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE10148751A1 (de) * | 2001-10-02 | 2003-04-17 | Siemens Ag | Verfahren zur Herstellung einer Elektronikeinheit sowie Elektronikeinheit |
Families Citing this family (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6233817B1 (en) * | 1999-01-17 | 2001-05-22 | Delphi Technologies, Inc. | Method of forming thick-film hybrid circuit on a metal circuit board |
KR100382416B1 (ko) * | 1999-09-28 | 2003-05-01 | 가부시끼가이샤 도시바 | 세라믹 회로기판 |
KR100696861B1 (ko) * | 1999-12-10 | 2007-03-19 | 고등기술연구원연구조합 | 금속상 저온 동시 소성 세라믹 기판 제조 방법 |
KR100696859B1 (ko) * | 1999-12-10 | 2007-03-19 | 고등기술연구원연구조합 | 금속상 저온 동시 소성 세라믹 기판 제조 방법 |
US20100089620A1 (en) * | 2006-11-30 | 2010-04-15 | Richard Matz | Electronic Component Module and Method for the Production Thereof |
JP5585649B2 (ja) | 2010-03-30 | 2014-09-10 | 株式会社村田製作所 | 金属ベース基板およびその製造方法 |
JP6285271B2 (ja) * | 2014-04-24 | 2018-02-28 | 株式会社ノリタケカンパニーリミテド | 接合材およびその利用 |
JP6577763B2 (ja) * | 2015-06-23 | 2019-09-18 | イビデン株式会社 | エンジンバルブ及びその製造方法 |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4185139A (en) * | 1977-12-30 | 1980-01-22 | International Standard Electric Corporation | Filler for a glass-ceramic material comprising CaF2 granules overcoated with a silicon dioxide film |
US4256796A (en) * | 1979-11-05 | 1981-03-17 | Rca Corporation | Partially devitrified porcelain composition and articles prepared with same |
DE2533687C2 (de) * | 1974-07-30 | 1982-11-04 | Owens-Illinois, Inc., 43666 Toledo, Ohio | Gemisch von Bleiborat-Lötglaspartikeln und einem hochschmelzenden Füllstoff niedrigerer Wärmeausdehnung und seine Verwendung |
DE3324933C2 (de) * | 1982-07-12 | 1985-01-03 | Hitachi, Ltd., Tokio/Tokyo | Keramische Mehrschicht-Leiterplatte |
US5041695A (en) * | 1989-06-01 | 1991-08-20 | Westinghouse Electric Corp. | Co-fired ceramic package for a power circuit |
US5047371A (en) * | 1988-09-02 | 1991-09-10 | Olin Corporation | Glass/ceramic sealing system |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
AU529811B2 (en) * | 1979-04-19 | 1983-06-23 | Chloride Silent Power Ltd. | Glass seals for sealing beta-alumina in electro-chemical cells |
-
1992
- 1992-12-15 KR KR1019920024285A patent/KR970008145B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1992-12-16 SG SG1996002358A patent/SG50478A1/en unknown
- 1992-12-16 GB GB9226220A patent/GB2263253B/en not_active Expired - Lifetime
- 1992-12-18 DE DE4243040A patent/DE4243040C2/de not_active Expired - Fee Related
- 1992-12-18 JP JP4356082A patent/JP2922375B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE2533687C2 (de) * | 1974-07-30 | 1982-11-04 | Owens-Illinois, Inc., 43666 Toledo, Ohio | Gemisch von Bleiborat-Lötglaspartikeln und einem hochschmelzenden Füllstoff niedrigerer Wärmeausdehnung und seine Verwendung |
US4185139A (en) * | 1977-12-30 | 1980-01-22 | International Standard Electric Corporation | Filler for a glass-ceramic material comprising CaF2 granules overcoated with a silicon dioxide film |
US4256796A (en) * | 1979-11-05 | 1981-03-17 | Rca Corporation | Partially devitrified porcelain composition and articles prepared with same |
DE3324933C2 (de) * | 1982-07-12 | 1985-01-03 | Hitachi, Ltd., Tokio/Tokyo | Keramische Mehrschicht-Leiterplatte |
US5047371A (en) * | 1988-09-02 | 1991-09-10 | Olin Corporation | Glass/ceramic sealing system |
US5041695A (en) * | 1989-06-01 | 1991-08-20 | Westinghouse Electric Corp. | Co-fired ceramic package for a power circuit |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE10148751A1 (de) * | 2001-10-02 | 2003-04-17 | Siemens Ag | Verfahren zur Herstellung einer Elektronikeinheit sowie Elektronikeinheit |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
SG50478A1 (en) | 1998-07-20 |
GB9226220D0 (en) | 1993-02-10 |
KR930015993A (ko) | 1993-07-24 |
GB2263253B (en) | 1996-02-07 |
GB2263253A (en) | 1993-07-21 |
DE4243040A1 (de) | 1993-06-24 |
KR970008145B1 (ko) | 1997-05-21 |
JP2922375B2 (ja) | 1999-07-19 |
JPH05270934A (ja) | 1993-10-19 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE69632722T2 (de) | Gasbondierungsanlage für ein Versteifungssubstrat einer keramischen Leiterplatte | |
DE69628548T2 (de) | Elektrische durchführung für keramische leiterplattenträgersubstrate | |
DE60004924T2 (de) | Zusammensetzung für Keramiksubstrat und Keramikschaltungselement | |
DE69332599T2 (de) | Bei niedriger Temperatur gesinterte keramische Bandstruktur mit gleichzeitig gesintertem ferromagnetischen Element | |
DE10157443B4 (de) | Glas-Keramikzusammensetzung für ein elektronisches Keramikbauteil, Verwendung der Glas-Keramikzusammensetzung für ein elektronisches Keramikbauteil und Vefahren zur Herstellung eines elektronischen Vielschicht-Keramikbauteils | |
DE69327747T2 (de) | Dielektrische Zusammensetzung, Mehrschichtleitersubstrat und keramischer Mehrschichtkondensator | |
DE68910155T2 (de) | Mehrschichtige keramische Unterlagen und Verfahren zu ihrer Herstellung. | |
DE69434049T2 (de) | Keramisches Substrat und Verfahren zu dessen Herstellung | |
DE69835659T2 (de) | Mehrschichtiges keramisches Substrat mit einem passiven Bauelement, sowie Herstellungsverfahren | |
DE69300907T2 (de) | Keramisches Mehrschichtsubstrat mit Gradienten-Kontaktlöchern. | |
DE3621667C2 (de) | ||
DE3317963C2 (de) | Keramikkondensator mit Schichtaufbau | |
DE102005042554B4 (de) | Metall-Keramik-Substrat und Verfahren zur Herstellung eines Metall-Keramik-Substrats | |
DE19608484B4 (de) | Bei niedriger Temperatur gebranntes Keramik-Schaltungssubstrat | |
DE69103807T2 (de) | Verfahren zum Anlöten metallisierter Komponenten an keramische Substrate. | |
EP0276004B1 (de) | Keramisches Mehrschichtsubstrat und Verfahren zu seiner Herstellung | |
KR20070105296A (ko) | 마이크로파 어플리케이션에서의 ltcc 테이프를 위한후막 전도체 페이스트 조성물 | |
DE19961537B4 (de) | Verfahren zur Herstellung einer Glaskeramiktafel | |
DE3701973C2 (de) | ||
DE112007001868T5 (de) | Glaskeramikzusammensetzung, gesinterter Glaskeramikkörper und elektronische Komponente aus monolithischer Keramik | |
DE4243040C2 (de) | Mehrschichtige Metall-Keramik-Leiterplatte und Verfahren zu ihrer Herstellung | |
DE69919806T2 (de) | Leitpaste und Keramikschaltungsplatte | |
DE10108666A1 (de) | Isolierende Dickschichtzusammensetzung, keramisches elektronisches Bauelement, bei dem diese verwendet wird, und elektronisches Gerät | |
DE10110151B4 (de) | Verdrahtungssubstrat, Verfahren zum Herstellen desselben und elektronische Vorrichtung, die dasselbe verwendet | |
DE69726056T2 (de) | Dielektrische Dickschichtzusammensetzung für Kondensatoren |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
OP8 | Request for examination as to paragraph 44 patent law | ||
D2 | Grant after examination | ||
8364 | No opposition during term of opposition | ||
8320 | Willingness to grant licences declared (paragraph 23) | ||
8339 | Ceased/non-payment of the annual fee |