DE4241439A1 - Verfahren zur Erzeugung einer formschlüssigen Verbindung zwischen metallischen Verbindern und metallischen Kontakten von Halbleiteroberflächen - Google Patents
Verfahren zur Erzeugung einer formschlüssigen Verbindung zwischen metallischen Verbindern und metallischen Kontakten von HalbleiteroberflächenInfo
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- 238000002844 melting Methods 0.000 title claims abstract description 36
- 230000008018 melting Effects 0.000 title claims abstract description 29
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims abstract description 7
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 36
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 claims abstract description 15
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 14
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 14
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 claims abstract description 13
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 claims abstract description 12
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 6
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims abstract description 4
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 3
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 3
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 claims abstract description 3
- 229910052745 lead Inorganic materials 0.000 claims abstract description 3
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 claims abstract description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 3
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims abstract description 3
- 229910052762 osmium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 3
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 3
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 claims abstract description 3
- 229910052702 rhenium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 3
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 3
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 3
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 claims abstract description 3
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 50
- 210000004027 cell Anatomy 0.000 claims description 19
- 238000005304 joining Methods 0.000 claims description 18
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 13
- 239000004332 silver Substances 0.000 claims description 13
- 239000010931 gold Substances 0.000 claims description 11
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 238000005476 soldering Methods 0.000 claims description 6
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 claims description 5
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 5
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 claims description 4
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 claims description 4
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 3
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 claims description 3
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 claims description 2
- 238000001816 cooling Methods 0.000 claims description 2
- 230000006872 improvement Effects 0.000 claims description 2
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 claims description 2
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 claims description 2
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 claims description 2
- 238000007711 solidification Methods 0.000 claims description 2
- 230000008023 solidification Effects 0.000 claims description 2
- 238000003860 storage Methods 0.000 claims description 2
- 238000003825 pressing Methods 0.000 claims 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 4
- 230000008569 process Effects 0.000 description 4
- 238000003466 welding Methods 0.000 description 3
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical group [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910017482 Cu 6 Sn 5 Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 2
- 229910016347 CuSn Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910005887 NiSn Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910020888 Sn-Cu Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910019204 Sn—Cu Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 229910002056 binary alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 239000000969 carrier Substances 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 210000003298 dental enamel Anatomy 0.000 description 1
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 description 1
- 238000005324 grain boundary diffusion Methods 0.000 description 1
- 239000004922 lacquer Substances 0.000 description 1
- 230000000873 masking effect Effects 0.000 description 1
- 230000035939 shock Effects 0.000 description 1
- 239000010944 silver (metal) Substances 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 230000002277 temperature effect Effects 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K35/00—Rods, electrodes, materials, or media, for use in soldering, welding, or cutting
- B23K35/001—Interlayers, transition pieces for metallurgical bonding of workpieces
- B23K35/007—Interlayers, transition pieces for metallurgical bonding of workpieces at least one of the workpieces being of copper or another noble metal
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K35/00—Rods, electrodes, materials, or media, for use in soldering, welding, or cutting
- B23K35/001—Interlayers, transition pieces for metallurgical bonding of workpieces
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L31/00—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L31/02—Details
- H01L31/0224—Electrodes
- H01L31/022408—Electrodes for devices characterised by at least one potential jump barrier or surface barrier
- H01L31/022425—Electrodes for devices characterised by at least one potential jump barrier or surface barrier for solar cells
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L31/00—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L31/04—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof adapted as photovoltaic [PV] conversion devices
- H01L31/042—PV modules or arrays of single PV cells
- H01L31/05—Electrical interconnection means between PV cells inside the PV module, e.g. series connection of PV cells
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K35/00—Rods, electrodes, materials, or media, for use in soldering, welding, or cutting
- B23K35/001—Interlayers, transition pieces for metallurgical bonding of workpieces
- B23K35/004—Interlayers, transition pieces for metallurgical bonding of workpieces at least one of the workpieces being of a metal of the iron group
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K35/00—Rods, electrodes, materials, or media, for use in soldering, welding, or cutting
- B23K35/001—Interlayers, transition pieces for metallurgical bonding of workpieces
- B23K35/005—Interlayers, transition pieces for metallurgical bonding of workpieces at least one of the workpieces being of a refractory metal
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/80—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
- H01L2224/83—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a layer connector
- H01L2224/838—Bonding techniques
- H01L2224/83801—Soldering or alloying
- H01L2224/8382—Diffusion bonding
- H01L2224/83825—Solid-liquid interdiffusion
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01079—Gold [Au]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/013—Alloys
- H01L2924/0132—Binary Alloys
- H01L2924/01327—Intermediate phases, i.e. intermetallics compounds
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
- Y02E10/00—Energy generation through renewable energy sources
- Y02E10/50—Photovoltaic [PV] energy
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Sustainable Development (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Sustainable Energy (AREA)
- Photovoltaic Devices (AREA)
Description
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Erzeugung einer
formschlüssigen Verbindung zwischen metallischen Verbin
dern und metallischen Kontakten von Halbleiteroberflächen,
insbesondere von zur Serien- und/oder Parallelschaltung
von Solarzellen dienenden Verbindern und Solarzellenkon
takten.
Es ist bekannt, metallische Verbinder und metallische Kon
takte von Halbleiteroberflächen durch Löt- oder Schweiß
verfahren miteinander zu verbinden. Während es bei derar
tigen, durch Löten hergestellten Verbindungen von Nachteil
ist, daß diese keiner hohen Temperaturbelastung und nur
wenigen Temperaturwechseln ausgesetzt werden können, ist
es bei geschweißten Verbindungen nachteilig, daß die Halb
leiter verhältnismäßig großen Anpreßdrücken und infolge
der hohen Schweißtemperaturen einem Temperaturschock un
terliegen.
Der Erfindung liegt daher die Aufgabe zugrunde, ein Ver
fahren zur Erzeugung einer zuverlässigen formschlüssigen
Verbindung zwischen metallischen Verbindern und metalli
schen Halbleiterkontakten zu schaffen, die eine lange Le
bensdauer aufweist und eine große Anzahl von Temperatur
wechseln übersteht.
Die Aufgabe wird erfindungsgemäß durch folgende Verfah
rensschritte gelöst:
- a) zwischen einem Verbinder und einem Kontakt wird eine Zwischenschicht aus einem gegenüber dem Verbinder und metallischen Kontakt niedrigschmelzendem Metall ange ordnet,
- b) der höherschmelzende Verbinder, die niedrigschmelzende Zwischenschicht und der höherschmelzende Kontakt werden miteinander in Berührung gebracht und unter einem vor gegebenen Temperatur- und Anpreßdruckverlauf auf bzw. über die Schmelztemperatur der Zwischenschicht derart erwärmt, daß die flüssige Zwischenschicht die Fügeober flächen von Verbinder und Kontakt benetzt,
- c) daß durch Diffusion der verschwindenden flüssigen Zwi schenschicht in den Verbinder und Kontakt eine interme tallische Phase vom Material der Zwischenschicht und des zu fügenden Verbinders und Kontakts gebildet wird, und
- d) daß abschließend durch Abkühlung und Erstarrung während des vorgegebenen Temperatur- und Anpreßdruckverlaufes die formschlüssige Verbindung zwischen Verbinder und Kontakt hergestellt wird, deren Schmelztemperatur höher ist, als die der ursprünglichen Zwischenschicht.
Das erfindungsgemäße Verfahren, welches als isotherme Er
starrung bezeichnet wird, kann als Fügeverfahren nicht
eindeutig den Löt- oder den Schweißprozessen zugeordnet
werden. Verfahrensprinzip ist die Erzeugung einer form
schlüssigen Verbindung zwischen zwei Fügepartnern aus
höherschmelzenden Metallen unter Zuhilfenahme einer ver
schwindenden flüssigen Zwischenschicht aus einem niedrig
schmelzenden Metall. Der Prozeßverlauf wird am Beispiel
des Systems Cu-Sn-Cu verdeutlicht. Die auf den koplanaren
Fügeflächen mit dünnen Schichten von Zinn versehenen Kup
ferteile werden in Kontakt gebracht und über die Schmelz
temperatur Ts des Zinns erwärmt. Die dünne Schmelzschicht
benetzt die Fügeteile. Durch Diffusion von Zinn in das Kup
fer bildet sich zunächst die intermetallische Phase
Cu3Sn unter Aufzehrung der schmelzflüssigen Phase. Hier
durch entsteht eine Festkörper-Verbindung. Bei weiterer
Temperatureinwirkung, zum Beispiel bei der Verwendung der
hergestellten Festkörper-Verbindung unter erhöhten Tempe
raturen, wird dann die intermetallische Phase mit höherem
Cu-Gehalt, Cu6Sn5 gebildet.
Das erfindungsgemäße Verfahren bringt folgende Vorteile
mit sich:
- - Kontaktierung bei niedrigen Temperaturen von 160 bis 450°C, die dem Löten entsprechen.
- - Hohe Temperaturstabilität der Verbindungen, da die Schmelztemperatur Ts intermetallischer Phasen um 100 bis 300 K über der Fügetemperatur liegt.
- - Große Festigkeit der Verbindungen wegen geringer Verform barkeit der intermetallischen Phasen.
- - Geringe mechanische Belastung der Bauteile durch gerin gen Anpreßdruck.
Die Suche nach geeigneten binären Systemen für das obige
Verfahren, bestehend aus einem hoch- und einem niedrig
schmelzenden Metall, wurde unter den Randbedingungen der
Kontaktierung von Solarzellen vorgenommen, wobei folgende
Kriterien beachtet wurden:
- - geringster Schmelzpunkt des Systems Ts < 400°C,
- - Bildung von hochlegierten Mischkristallen bzw. interme tallische Phasen,
- - Vollständigkeit des Systems, und führte dazu, daß gemäß Ausgestaltungen des erfindungs gemäßen Verfahrens als niedrigschmelzende Zwischenschicht Metalle mit einem Schmelzpunkt unter 450°C verwendet wer den, wie Bi, Cd, Ga, In, Pb, Sn oder Zn, und daß als höher schmelzende Verbinder und Kontakte Metalle wie Ag, Au, Cu, Co, Fe, Mn, Ni, Pd, Pt, Ir, Os, Re, Rh oder Ru verwendet werden.
Weitere Ausgestaltungen des erfindungsgemäßen Verfahrens
gehen dahin, daß die Schmelztemperatur und der vorgegebene
Anpreßdruck mittels einer Druck-Heiz-Zeit-Vorrichtung auf
gebracht werden, wobei eine Vorrichtung mit einer Anpreß
fläche von 0,5 mm × 7 mm, deren Temperaturbereich von 100
bis 500°C um 3K regelbar ist, verwendet werden kann,
oder dahin, daß die Schmelztemperatur in einem Ofen bei
gleichzeitiger Aufbringung des Anpreßdruckes mittels einer
mechanischen Druckvorrichtung aufgebracht wird.
Das erfindungsgemäße Verfahren mit seinen erfinderischen
Ausgestaltungen eignet sich in vorteilhafterweise zur Her
stellung von Verbindungen zwischen Dünnschichten. Hier
bei erfolgt das Wachstum der gebildeten intermetallischen
Phasen in Dünnschichtpaaren nicht in ebener Front, sondern
in Form noppenartiger (CuSn) oder stengeliger (NiSn) Ein
kristalle. Es wird näherungsweise durch ein parabolisches
Gesetz in Form
di = k × tn
beschrieben, wobei die Werte von n für Cu6Sn5 bei
n = 0,2 bis 0,4, bei Ni3Sn4 bei ca. 0,5 liegen. Die Ab
weichungen vom Gesetz werden durch über lagerte Volumen-
und Korngrenzendiffusion bedingt.
Zur Herstellung von formschlüssigen Verbindungen zwischen
zur Serien- und/oder Parallelschaltung von Solarzellen
dienenden Verbindern und Solarzellenkontakten sind bei
spielsweise zwei verschiedene Systeme verwendbar. Das
erste System weist einen Verbinder mit einem metallischen
Träger aus Molybdän und eine Fügeoberfläche aus Silber so
wie einen Solarzellenkontakt aus Silber und eine Zwischen
schicht aus Zinn auf. Hingegen besteht das zweite System
aus einem Verbinder mit einem Silberträger mit einer Fü
geoberfläche aus Gold, einem Solarzellenkontakt aus Gold
sowie einer Zwischenschicht aus Indium. Die Herstellung
erfolgt nach den obengenannten Verfahrensschritten a bis
d, wobei der Verbinder, die Zwischenschicht und der Kon
takt auf eine der Löttemperatur entsprechende Schmelztem
peratur der jeweiligen Zwischenschicht in einem Bereich
von 160 bis 325°C für einen Zeitraum von 1 bis 10 min
erwärmt werden, und wobei für diesen Zeitraum die vorge
gebenen Anpreßdrücke zwischen Verbinder, Zwischenschicht
und Kontakt zwischen 10 und 100 Newton betragen.
Eine Ausgestaltung der Erfindung besteht darin, daß vor
der Zwischenschicht eine dünne Diffusionssperrschicht ab
geschieden wird, welche eine Reaktion zwischen Trägerme
tall und der Zwischenschicht während der Lagerung verhin
dert und somit eine Verbesserung der Lagerfähigkeit er
laubt.
Hierbei wird als erfinderische Weiterbildung die Verwen
dung einer 6 bis 10 µ dicken Silberkontaktschicht auf der
Solarzellenoberfläche sowie die Verwendung einer Schicht
dicke der Zinn-Zwischenschicht, die 1 bis 2 µ beträgt,
angesehen.
Eine besondere Ausgestaltung der Erfindung ist dadurch ge
kennzeichnet, daß die Zwischenschicht aus Zinn bzw. Indium
auf die Fügeoberfläche des Verbinders aus Silber oder aus
Gold (gemäß Unteranspruch 12) oder aber auf die Fügeober
fläche des Solarzellenkontaktes aus Silber oder aus Gold
(gemäß Unteranspruch 16) lokal aufgebracht wird. So ist
eine lokale Aufbringung der Zwischenschicht mittels Photo
lacktechnik (Photoresisttechnik) oder durch eine Bedampfung
oder durch Galvanik mittels Maskentechnik auf die Fügeober
fläche des Verbinders oder des Solarzellenkontaktes möglich.
Claims (21)
1. Verfahren zur Erzeugung einer formschlüssigen Verbin
dung zwischen metallischen Verbindern und metallischen
Kontakten von Halbleiteroberflächen, insbesondere von zur
Serien- und/oder Parallelschaltung von Solarzellen dienen
den Verbindern und Solarzellenkontakten, gekennzeichnet
durch folgende Verfahrensschritte:
- a) zwischen einem Verbinder und einem Kontakt wird eine Zwischenschicht aus einem gegenüber dem Verbinder und metallischen Kontakt niedrigschmelzendem Metall ange ordnet,
- b) der höherschmelzende Verbinder, die niedrigschmelzende Zwischenschicht und der höherschmelzende Kontakt werden miteinander in Berührung gebracht und unter einem vor gegebenen Temperatur- und Anpreßdruckverlauf auf bzw. über die Schmelztemperatur der Zwischenschicht derart erwärmt, daß die flüssige Zwischenschicht die Fügeober flächen von Verbinder und Kontakt benetzt,
- c) daß durch Diffusion der verschwindenden flüssigen Zwi schenschicht in den Verbinder und Kontakt eine interme tallische Phase von Material der Zwischenschicht und des zu fügenden Verbinders und Kontakts gebildet wird, und
- d) daß abschließend durch Abkühlung und Erstarrung während des vorgegebenen Temperatur- und Anpreßdruckverlaufes die formschlüssige Verbindung zwischen Verbinder und Kontakt hergestellt wird, deren Schmelztemperatur höher ist, als die der ursprünglichen Zwischenschicht.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß
als niedrigschmelzende Zwischenschicht Metalle mit einem
Schmelzpunkt unter 450°C verwendet werden, wie Bi, Cd, Ga,
In, Pb, Sn oder Zn.
3. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß
als höherschmelzende Verbinder und Kontakte Metalle wie Ag,
Au, Cu, Co, Fe, Mn, Ni, Pd, Pt, Ir, Os, Re, Rh oder Ru ver
wendet werden.
4. Verfahren nach Anspruch 1, 2 oder 3, dadurch gekenn
zeichnet, daß die Schmelztemperatur und der vorgegebene
Anpreßdruck mittels einer Druck-Heiz-Zeit-Vorrichtung auf
gebracht werden.
5. Verfahren nach Anspruch 4, gekennzeichnet durch die
Verwendung einer Druck-Heiz-Zeit-Vorrichtung mit einer An
preßfläche von 0,5 mm × 7 mm, deren Temperaturbereich von
100 bis 500°C um ± 3K regelbar ist.
6. Verfahren nach Anspruch 1, 2 oder 3, dadurch gekenn
zeichnet, daß die Schmelztemperatur in einem Ofen bei
gleichzeitiger Aufbringung des Anpreßdruckes mittels einer
mechanischen Druckvorrichtung aufgebracht wird.
7. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 6 zur Her
stellung einer formschlüssigen Verbindung zwischen einem
Verbinder und einem Solarzellenkontakt, dadurch gekenn
zeichnet, daß ein Verbinder aus einem metallischen Träger
mit einer Fügeoberfläche aus Silber bzw. Gold, ein Solar
zellenkontakt aus Silber bzw. Gold und eine Zwischenschicht
aus Zinn bzw. Indium verwendet werden.
8. Verfahren nach Anspruch 7, gekennzeichnet durch die
Verwendung von Molybdän als metallischen Träger für einen
Verbinder mit einer Fügeoberfläche aus Silber.
9. Verfahren nach Anspruch 7, gekennzeichnet durch die
Verwendung von Silber als metallischen Träger für einen
Verbinder mit einer Fügeoberfläche aus Gold.
10. Verfahren nach Anspruch 7, gekennzeichnet durch die
Verwendung einer 6 bis 10 µ dicken Silberkontaktschicht
auf der Solarzellenoberfläche.
11. Verfahren nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet,
daß die Schichtdicke der Zinn-Zwischenschicht 1 bis 2 µ
beträgt.
12. Verfahren nach Anspruch 7, 8, 9 , 10 oder 11, dadurch
gekennzeichnet, daß die Zwischenschicht aus Zinn bzw. In
dium auf die Fügeoberfläche des Verbinders aus Silber oder
Gold lokal aufgebracht wird.
13. Verfahren nach Anspruch 12, gekennzeichnet durch eine
lokale Aufbringung der Zwischenschicht auf die Fügeober
fläche des Verbinders mittels Photolacktechnik (Photore
sisttechnik.
14. Verfahren nach Anspruch 12, dadurch gekennzeichnet,
daß die Zwischenschicht durch eine lokale Bedampfung durch
Maskentechnik auf die Fügeoberfläche des Verbinders auf ge
bracht wird.
15. Verfahren nach Anspruch 12, gekennzeichnet durch eine
lokale galvanische Aufbringung der Zwischenschicht auf die
Fügeoberfläche des Verbinders mittels Maskentechnik.
16. Verfahren nach Anspruch 7, 8, 9, 10 oder 11, dadurch
gekennzeichnet, daß die Zwischenschicht aus Zinn bzw. In
dium auf die Fügeoberfläche des Solarzellenkontaktes aus
Silber bzw. Gold lokal aufgebracht wird.
17. Verfahren nach Anspruch 16, gekennzeichnet durch eine
lokale Aufbringung der Zwischenschicht auf die Fügeober
fläche des Solarzellenkontaktes mittels Photolacktechnik
(Photoresisttechnik).
18. Verfahren nach Anspruch 16, dadurch gekennzeichnet,
daß die Zwischenschicht durch eine lokale Bedampfung durch
Maskentechnik auf die Fügeoberfläche des Solarzellenkon
takts aufgebracht wird.
19. Verfahren nach Anspruch 16, gekennzeichnet durch eine
lokale galvanische Aufbringung der Zwischenschicht auf die
Fügeoberfläche des Solarzellenkontaktes mittels Maskentech
nik.
20. Verfahren nach einem der Ansprüche 8 bis 19, dadurch
gekennzeichnet, daß der Verbinder, die Zwischenschicht
und der Kontakt auf eine der Löttemperatur entsprechende
Schmelztemperatur der Zwischenschicht in einem Bereich von
160 bis 325°C für einen Zeitraum von 4 bis 10 min erwärmt
werden, daß für diesen Zeitraum die vorgegebenen Anpreß
drücke zwischen Verbinder, Zwischenschicht und Kontakt
zwischen 10 und 100 Newton betragen.
21. Verfahren nach einem der Ansprüche 8 bis 20, dadurch
gekennzeichnet, daß vor der Zwischenschicht eine dünne
Diffusionssperrschicht abgeschieden wird, welche eine Reak
tion zwischen Trägermetall und der Zwischenschicht während
der Lagerung verhindert und somit eine Verbesserung der
Lagerfähigkeit erlaubt.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE4241439A DE4241439A1 (de) | 1992-12-10 | 1992-12-10 | Verfahren zur Erzeugung einer formschlüssigen Verbindung zwischen metallischen Verbindern und metallischen Kontakten von Halbleiteroberflächen |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE4241439A DE4241439A1 (de) | 1992-12-10 | 1992-12-10 | Verfahren zur Erzeugung einer formschlüssigen Verbindung zwischen metallischen Verbindern und metallischen Kontakten von Halbleiteroberflächen |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE4241439A1 true DE4241439A1 (de) | 1994-06-16 |
Family
ID=6474770
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE4241439A Withdrawn DE4241439A1 (de) | 1992-12-10 | 1992-12-10 | Verfahren zur Erzeugung einer formschlüssigen Verbindung zwischen metallischen Verbindern und metallischen Kontakten von Halbleiteroberflächen |
Country Status (1)
Country | Link |
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DE (1) | DE4241439A1 (de) |
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