DE4224445A1

DE4224445A1 - Entkeimungsverfahren sowie Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens

Info

Publication number: DE4224445A1
Application number: DE4224445A
Authority: DE
Inventors: Gernot K Brueck
Original assignee: Individual
Current assignee: Individual
Priority date: 1992-07-24
Filing date: 1992-07-24
Publication date: 1994-01-27

Description

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Entkeimen von mit Krankheitskeimen durchsetzten Substanzen, insbesondere Ab wässern von Sanitäreinrichtungen mit Siphonabfluß wie Wasch becken, Bidets und dergleichen.

Aufgrund umfangreicher Untersuchungen über die Infektions gefahr für Patienten und Pflegepersonal in Krankenhäusern und Kliniken wurde festgestellt, daß sich jährlich mehrere Tausend Todesfälle ereignen, die sich auf eine ungenügende Keimfreiheit der in den Kliniken vorhandenen sanitären Ein richtungen, insbesondere der üblicherweise in den Kranken zimmern befindlichen Waschbecken zurückführen lassen.

Insbesondere Personen mit einem bereits vorgeschädigten Immunsystem weisen für normalerweise harmlose Krankheits keime eine erhöhte Anfälligkeit auf. Insbesondere bei Krebspatienten, die beispielsweise mit einer Chemotherapie behandelt werden, führten die unhygienischen Verhältnisse der sanitären Einrichtungen zu Infektionen der Harnwege, der Lungen, offener Wunden oder zu Blutvergiftungen, die bei den betroffenen Patienten leicht tödlich ausgehen können.

Insbesondere wurde festgestellt, daß bei 70 bis 80% der Abflüsse eine Verseuchung mit dem Bakterium Pseudomonas Aeruginosa bestand, das bei Infektionen zu den oben be schriebenen Symptomen führen kann. Derartige Krankheitskeime werden z. B. auch bei Reinigungsarbeiten durch das Pflege personal aufgrund der aus dem Abwasser des Abflusses auf steigenden Aerosole auf die Hände bzw. die Kleidung des Pflegepersonals übertragen, so daß beim Kontakt des Pflege personals mit den Patienten eine Infektionsgefahr unvermeid lich ist.

Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein Entkeimungs verfahren für die Abflüsse von Sanitäreinrichtungen mit Siphonabfluß zu schaffen, mit dem das im Einlaufbereich des Siphons befindliche Wasser sicher keimfrei gehalten werden kann. Darüber hinaus soll eine Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens geschaffen werden.

Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß dadurch gelöst, daß das im Siphon des Abflusses befindliche Abwasser vorzugsweise im Einlaufbereich einer zumindest zeitweise andauernden UV- Bestrahlung unterworfen wird, wobei mindestens eine UV- Strahlenquelle in den Siphon integriert ist und Mittel zur Abschirmung des UV-Lichtes bzw. zum Abschalten der UV-Strah lenquelle vorgesehen sind, die einen UV-Strahlenaustritt nach außen sicher verhindern.

Zur Durchführung dieses Verfahrens wird vorgeschlagen, daß im Siphon-Rohrleitungsbereich, vorzugsweise im Abwasserein laufbereich, mindestens ein UV-Strahler vorgesehen ist, daß sich zwischen dem Strahler und dem Abwasser im Siphon eine UV-strahlungsdurchlässige Trennwand befindet, die zumindest mit ihrem unteren Bereich unterhalb des Abwasserspiegels im Siphon angeordnet ist, daß für den Strahler eine den Strah ler nach außen abdeckende Abschirmung vorgesehen ist und daß im Siphon-Einlaufbereich ein lichtdichtes Absperrorgan vor gesehen ist, bei dessen Entfernung aus der Absperrposition der Strahler zwangsweise abgeschaltet wird.

Die keimtötende Wirkung von UV-Strahlen ist an sich bekannt. UV-Strahlen weisen eine kürzere Wellenlänge als das übliche sichtbare Licht auf. Die somit härtere Strahlung zerstört bei hinreichender Strahlungsdosis bzw. Einwirkungsdauer die empfindlichen organischen Molekülketten von Bakterien oder sonstigen Krankheitskeimen.

Beispielsweise wird das bereits erwähnte Bakterium Pseudomo nas Aerugniosa von UV-Strahlen mit einer Wellenlänge von 253 nm und einer Strahlungsintensität von 16,5 mWsec/cm² abgetötet.

Die bekannten Quecksilber-Dampflampen, bei deren die Strah lung durch die Gasentladung erzeugt wird, wurden bisher jedoch nicht in Sanitäreinrichtungen bzw. deren Siphonab flüsse eingebaut, da sie aufgrund der beengten Verhältnisse und der nur schwer einzuhaltenden Sicherheitsvorschriften hinsichtlich des Strahlenschutzes bzw. der technischen Funk tionsweise ungeeignet erschienen und ihr Einbau zu kompli ziert und teuer war.

Zur Entkeimung von Abflüssen beispielsweise in Kliniken, wurden daher ausschließlich Heißsterilisationsverfahren bzw. chemische Sterilisationsverfahren eingesetzt.

Die bekannten Entkeimungsverfahren sind jedoch wenig zuver lässig, da eine vollständige Vernichtung der Krankheitskeime nicht garantiert werden kann. Insbesondere bei höheren Tem peraturen, wie sie z. B. im Abflußbereich eines Waschbeckens zumindest zeitweise herrschen, konnten sich nämlich nur wenige lebensfähige Krankheitskeime explosionsartig vermeh ren und so die vorherige Sterilisation mittels der bekannten Verfahren zunichte machen.

Durch die zumindest zeitweise andauernde UV-Bestrahlung im Einlaufbereich eines Siphons kann dagegen garantiert werden, das Krankheitserreger vollständig abgetötet werden und keine Infektionsgefahr durch austretende Aerosole oder Tröpfchen besteht. Die UV-Strahlenquelle ist in den Siphonrohrbogen integriert, so daß lediglich das entsprechende Siphonteil ausgetauscht werden muß und ein elektrischer Anschluß der Strahlenquelle vorgenommen werden muß. Durch die Abschir mungsmittel des UV-Strahlers nach außen bzw. durch Zwangs mittel zum Abschalten der UV-Strahlenquelle bei einer Öff nung des Abflußstopfens kann ein UV-Strahlenaustritt nach außen sicher verhindert werden.

Die UV-Strahlenquelle, die auch aus mehreren einzelnen Lam pen bestehen kann, ist vorzugsweise im Abwassereinlaufbe reich der Siphonrohrleitung integriert. Zwischen der Strah lenquelle und dem im Siphon stehenden Abwasser befindet sich eine UV-strahlungsdurchlässige Trennwand, die zumindest mit ihrem unteren Bereich unterhalb des Abwasserspiegels ange ordnet ist. Auf diese Weise werden die durch Aerosolbildung oder Spritzwasser für eine Infektion in Frage kommenden Wasserbereiche im Siphon vollständig von der Strahlung durchflutet und etwa vorhandene Keime abgetötet. Der Strah ler weist eine nach außen die Strahlenquelle abdeckende Abschirmung aus, so daß keine Gefahr besteht, daß eine Per son durch Lichteinwirkung des UV-Strahlers geschädigt werden kann.

Um zu verhindern, daß bei eingeschaltetem Strahler UV-Strah len aus dem Ablaufstutzen des Waschbeckens austreten können, ist im Siphon-Einlaufbereich ein lichtdichtes Absperrorgan vorgesehen, bei dessen Entfernung aus der Absperrposition der oder die Strahler zwangsweise abgeschaltet werden.

Um eine gleichmäßige Lichtdurchflutung im Abwassereinlauf stutzen des Siphons zu gewährleisten, ist die Siphon-Rohr leitung zweckmäßigerweise auf ihrer Innenwandung verspie gelt. Derartige Verspiegelungen lassen sich beispielsweise preiswert und dauerhaft durch eine Hochglanzverchromung mittels eines galvanischen Veredelungsverfahrens aufbringen.

In gleicher Weise ist es vorteilhaft, wenn das Absperrorgan, das lichtdicht am oberen Ende des Abflußstutzens angeordnet ist, eine innere Verspiegelung aufweist. Dadurch wird in den oberen Bereich des Einlaufstutzens einfallendes UV-Licht reflektiert und der gesamte Aerosolbereich oberhalb des Abwasserspiegels bestrahlt. Dadurch wird zuverlässig die Bildung von Bakteriennestern verhindert.

Die UV-lichtdurchlässige Trennwand ist vorzugsweise aus Quarzglas oder lichtdurchlässigen Teflon-Kunststoffen herge stellt, die einerseits die nötige Dauerhaftigkeit aufweisen und andererseits einen ungestörten Durchtritt der UV-Strah lung ermöglichen. Daneben können auch Spezialgläser verwen det werden, die im Gegensatz zu normalem Fensterglas UV- Strahlen ungehindert durchtreten lassen.

Je nach den örtlichen Verhältnissen kann es zweckmäßig sein, wenn die wirksame Strahlendurchtrittsfläche der UV-licht durchlässigen Trennwand veränderbar ist, um die wirksame Strahlendosis in den erforderlichen Grenzen variieren zu können. Vorzugsweise erfolgt die Änderung der Strahlendurch trittsfläche durch von außen betätigbare Blenden, die z. B. in Form eines Schiebers zwischen die Strahlenquelle und Trennwand eingeschoben werden können.

Um eine vollständige Ausnutzung des erzeugten UV-Lichtes zu gewährleisten, ist es zweckmäßig, wenn auf der der Trennwand gegenüberliegenden Seite des UV-Strahlers ein Reflektor vorgesehen ist. Dieser kann z. B. als gewelltes, mit einer Verspiegelungsschicht versehenes dünnwandiges Blech ausge bildet sein, das auf der Innenseite des Lampengehäuses hin ter den strahlungsaktiven Flächen der UV-Lampe liegt. Durch die gewellte Oberfläche werden die auf den Reflektor auf treffenden UV-Strahlen in unterschiedlichen Richtungen re flektiert und ermöglichen so eine homogene Lichtdurchflutung des vor der UV-lichtdurchlässigen Trennwand liegenden Rau mes.

Um zu verhindern, daß bei eingeschalteter Strahlenquelle das Absperrorgan am oberen Ende des Einlaufstutzens geöffnet ist, kann dieses beispielsweise mit Hilfe eines Kipphebelge stelles aus seiner Absperrposition gegen die Kraft einer Rückstellfeder entfernbar sein. Anstelle eines manuell zu betätigenden Kipphebelgestelles kann das Absperrorgan selbstverständlich auch elektrisch oder elektromagnetisch anhebbar sein, wobei es sinnvoll ist, mechanische, elektri sche oder magnetische Mittel vorzusehen, die eine Abschal tung des Strahlers bewirken, wenn das Absperrorgan geöffnet ist oder wird.

Die Abschirmung der Strahlenquelle erfolgt vorzugsweise mit Hilfe eines lichtdichten und stabilen Gehäuses, das eine obere Überwurfmutter aufweisen kann. In der Überwurfmutter können die Fassungen für die Quecksilber-Dampflampen ange ordnet sein, so daß durch das Abnehmen der Überwurfmutter verbrauchte Lampen in einfacher Weise ausgewechselt werden können.

Wie bereits erwähnt, ist das lichtdichte Gehäuse zweckmäßi gerweise in die Siphon-Rohrleitung integriert, so daß zur Anwendung und Durchführung des Verfahrens lediglich das entsprechende Siphon-Rohrleitungsteil ausgewechselt werden muß.

Die Siphon-Rohrleitung im Strahlerbereich ist vorzugsweise U-förmig ausgebildet, wobei in den seitlichen Schenkeln des U-Profiles längs verlaufende Nuten vorgesehen sein können, die zur Aufnahme der UV-lichtdurchlässigen Trennwand bzw. der bewegbaren Blende dienen können. Die Trennwand kann dabei mit entsprechenden Dichtungen in den Nuten bzw. Auf nahmen abgedichtet und befestigt sein.

Um eine absolut keimfreie Zone unterhalb des Beckenablaufes zu erreichen, ist es in den meisten Fällen nicht erforder lich, daß der UV-Strahler ständig eingeschaltet ist. Viel mehr reicht eine zeitweise Bestrahlung aus, die auch von der Nutzungsdauer und der Infektionsgefährdung abhängt. Dazu kann für den UV-Strahler ein Zeitschaltglied vorgesehen sein, der vorzugsweise einstellbar ist und eine automatische An- und Abschaltung der UV-Lampe bewirkt.

Die vorzugsweise verwendeten UV-Strahler weisen eine Strah lungsleistung von wenigen Watt auf, so daß nur ein relativ geringer Anteil der Energie in Wärme umgesetzt wird. Aus diesem Grunde ist die Abführung der entstehenden Wärme pro blemlos. Es reicht beispielsweise aus, wenn das lichtdichte Gehäuse beispielsweise Kühllamellen aufweist, die durch die Vergrößerung der Oberfläche die entstehende Wärmemenge ab führen können.

Als Beispiel für eine vorzugsweise verwendete Strahlenquelle wird eine Quecksilber-Dampflampe eingesetzt, die ein UV- Licht mit einer Wellenlänge von 253 nm bei einer Strahlungs leistung von 2,5 W erzeugt.

Um den Wasserstand im Strahlungsbereich der UV-Quelle und damit die insgesamt auf das Abwasser wirkende Strahlungs dosis einstellen zu können, kann der den Wasserstand im Siphon einstellende Rohrleitungsbogen in Muffenverbindungen hinsichtlich seiner Höhe verstellbar angeordnet sein. Auf diese Weise läßt sich die Strahlungsdosis durch einfaches Anheben bzw. Eindrücken des entsprechenden Rohrleitungsbo gens regulieren.

Um eine einfache Montage und schnelle Auswechselbarkeit des den Strahler bzw. das Gehäuse tragenden Siphonteiles zu gewährleisten, ist dieser vorzugsweise über dichtende An schlußkupplungen mit der restlichen Abflußrohrleitung des Siphons verbunden.

Die Erfindung ist in der Zeichnung beispielsweise veran schaulicht und wird im nachfolgenden anhand der Zeichnung im einzelnen beschrieben. Es zeigt

Fig. 1 einen Schnitt durch einen unterhalb eines Wasch beckens angeordneten Siphon mit einer UV-Entkei mung und

Fig. 2 einen Schnitt aus Richtung AB aus Fig. 1.

Mit Hilfe des in Fig. 1 dargestellten Siphons 1 wird Abwas ser 2 aus einem Waschbecken 3 geruchsdicht in eine Abfluß leitung 4 geführt. Am oberen Ende 5 des Einlaufstutzens 6 ist ein lichtdicht und ggf. auch wasserdicht angeordnetes Absperrorgan 7 vorhanden, das die Ablauföffnung 8 des Wasch beckens 3 glockenförmig dichtend übergreift.

Aus der Absperrstellung kann das Absperrorgan 7 durch Ein drücken eines mechanischen Kipphebelgestelles 9 angehoben werden. Das Kipphebelgestell weist eine Druckfeder 10 auf, die das Absperrorgan 7 automatisch in ihrer Absperrposition hält, wenn auf das Kipphebelgestell 9 keine Kraft einwirkt.

Die Kraft zum Öffnen des Absperrorgans 7 kann mechanisch durch Eindrücken eines oberen Knopfes 11 oder durch die Betätigung eines Elektromagneten 12 erfolgen, der seitlich am Einlaufstutzen 6 angeordnet ist. Über eine magnetisier bare Führungsstange 13 ist ein Öffnen des Absperrorgans 7 mit Hilfe des Elektromagneten 12 möglich.

Am vorderen Ende des Kipphebels 14 befindet sich ein Micro schalter 15, der über eine nicht dargestellte elektrische Leitung die UV-Strahlungsquelle 16 bei Betätigung des Kipp hebelgestelles 9 abschaltet.

Die UV-Strahlungsquelle 16 besteht aus zwei nebeneinander angeordneten UV-Lampen 17, die in einem Gehäuse 18 angeord net sind, das nach außen abgedichtet ist und in das untere Ende des Einlaufstutzens 6 integriert ist.

Unterhalb des Wasserspiegels 19, der sich durch die vertika le Höhe des Siphonknies 20 ergibt, befindet sich zwischen den UV-Lampen 17 und dem Abwasser 2 eine UV-lichtdurchlässi ge Trennwand 21. Die Trennwand 21 ist dicht in Nuten 22 des U-förmigen Einlaufrohrleitungsteiles 23 angeordnet (vergl. Fig. 2).

Am oberen Ende des Gehäuses 18 befindet sich auf der Gehäus einnenwand eine einschiebbare Blende 24, durch deren Stel lung im Gehäuse 18 die wirksame Fläche der UV-lichtdurch lässigen Trennwand 21 verändert werden kann.

Das obere Ende des Gehäuses 18 ist durch eine Überwurfmutter 25 nach oben lichtdicht verschlossen, wobei in der Überwurf mutter 25 die Fassungen 26 für die UV-Lampen 17 angeordnet sind. Im Bereich der hinteren Wandung 27 des Gehäuses 18 befindet sich ein gewellter Reflektor 28, durch dessen Wir kung nach hinten fallendes UV-Licht in verschiedenen Rich tungen nach vorne abgestrahlt wird.

Die Innenwandung des U-förmigen Einlaufrohrleitungsteiles 23 bzw. des Einlaufstutzens 6 sind durch eine Hochglanzverchro mung verspiegelt, ebenso die Innenfläche der Absperrglocke 29.

Das Siphonknie 20 ist an der restlichen Rohrleitung mit Hilfe von abgedichteten Muffen 30 in vertikaler Höhe ver schiebbar, so daß die vertikale Höhe des Wasserspiegels 19 im Einlaufstutzen 6 ebenfalls einstellbar ist.

Bei dem in Fig. 2 dargestellten Schnitt ist die Lage der Trennwand 21, der Blende 24, des Reflektors 28 sowie der zwischen Reflektor 28 und Trennwand 21 befindlichen UV-Lam pen 17 zu erkennen. Die Trennwand 21 befindet sich dicht in Nuten 22, so daß keine Gefahr für einen Wassereintritt in das Gehäuse 18 besteht. Die Rückwand 27 weist an ihrer Au ßenseite Kühllamellen 31 auf, durch die die im Gehäuse 18 entstehende Wärme nach außen abgeführt werden kann.

Bezugszeichenliste

1 Siphon
2 Abwasser
3 Waschbecken
4 Abflußleitung
5 oberes Ende
6 Einlaufstutzen
7 Absperrorgan
8 Ablauföffnung
9 Kipphebelgestell
10 Druckfeder
11 oberer Knopf
12 Elektromagnet
13 magnetisierbare Führungsstange
14 Kipphebel
15 Microschalter
16 UV-Strahlungsquelle
17 UV-Lampe
18 Gehäuse
19 Wasserspiegel
20 Siphonknie
21 Trennwand
22 Nuten
23 U-förmiges Einlaufrohrleitungsteil
24 einschiebbare Blende
25 Überwurfmutter
26 Fassung
27 hintere Wandung
28 gewellter Reflektor
29 Absperrglocke
30 Muffe
31 Kühllamelle

Claims

1. Verfahren zum Entkeimen von mit Krankheitskeimen durch setzten Substanzen, insbesondere Abwässern von Sani täreinrichtungen mit Siphonabfluß wie Waschbecken, Bidets und dergleichen, dadurch gekenn zeichnet, daß das im Siphon (1) des Abflusses befindliche Abwasser (2) vorzugsweise im Einlaufbereich einer zumindest zeitweise andauernden UV-Bestrahlung unterworfen wird, wobei mindestens eine UV-Strahlen quelle (16) in den Siphon (1) integriert ist und Mittel (18, 15) zur Abschirmung des UV-Lichtes bzw. zum Ab schalten der UV-Strahlenquelle (16) vorgesehen sind, die einen UV-Strahlenaustritt nach außen sicher verhin dern.

2. Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens nach An spruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß im Siphon-Rohrleitungsbereich (23), vorzugsweise im Abwassereinlaufbereich (6), mindestens ein UV-Strahler (16) vorgesehen ist, daß sich zwischen dem Strahler (16) und dem Abwasser (2) im Siphon (1) eine UV-strah lungsdurchlässige Trennwand (21) befindet, die zumin dest mit ihrem unteren Bereich unterhalb des Abwasser spiegels (19) im Siphon (1) angeordnet ist, daß für den Strahler (16) eine den Strahler (16) nach außen abdek kende Abschirmung (18) vorgesehen ist und daß im Si phon-Einlaufbereich (5) ein lichtdichtes Absperrorgan (7) vorgesehen ist, bei dessen Entfernung aus der Ab sperrposition der Strahler (16) zwangsweise abgeschal tet wird.

3. Vorrichtung nach Anspruch 2, dadurch ge kennzeichnet, daß die Siphon-Rohrleitung zumindest im Abwassereinlaufbereich (6) auf ihrer In nenwandung verspiegelt ist.

4. Vorrichtung nach Anspruch 3, dadurch ge kennzeichnet, daß die Verspiegelung aus einer Hochglanzverchromung besteht.

5. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 2 bis 4, da durch gekennzeichnet, daß das Ab sperrorgan (7, 29) eine innere Verspiegelung aufweist, die vorzugsweise als Hochglanzverchromung ausgebildet ist.

6. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 2 bis 5, da durch gekennzeichnet, daß die UV- lichtdurchlässige Trennwand (21) aus Quarzglas, Teflon oder einem UV-lichtdurchlässigen Spezialglas besteht.

7. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 2 bis 6, da durch gekennzeichnet, daß die wirk same Strahlendurchtrittsfläche der UV-lichtdurchlässi gen Trennwand (21) veränderbar ist, vorzugsweise durch eine von außen betätigbare Blende (24).

8. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 2 bis 7, da durch gekennzeichnet, daß auf der der Trennwand (21) gegenüberliegenden Seite des UV- Strahlers (16) ein Reflektor (28) vorgesehen ist.

9. Vorrichtung nach Anspruch 8, dadurch ge kennzeichnet, daß der Reflektor (28) gewellt ist.

10. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 2 bis 9, da durch gekennzeichnet, daß das Ab sperrorgan (7) über ein Kipphebelgestell (9) aus seiner Absperrposition gegen die Kraft einer Rückstellfeder (10) entfernbar ist.

11. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 2 bis 9, da durch gekennzeichnet, daß das Ab sperrorgan (7) elektromagnetisch oder elektrisch aus seiner Absperrposition gegen die Kraft einer Rückstell feder (10) entfernbar ist.

12. Vorrichtung nach Anspruch 10 oder 11, dadurch gekennzeichnet, daß mechanische, elektri sche oder magnetische Mittel (15) zur Abschaltung des Strahlers (16) vorgesehen sind, die durch ein Öffnen des Absperrorgans (7) aktivierbar sind.

13. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 2 bis 12, da durch gekennzeichnet, daß der oder die Strahler (16) in einem lichtdichten, stabilen Ge häuse (18) mit einer oberen Überwurfmutter (25) ange ordnet sind, das in die Siphon-Rohrleitung (23) inte griert ist.

14. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 2 bis 13, da durch gekennzeichnet, daß die Si phonrohrleitung (23) zumindest im Strahlerbereich U- förmig ausgebildet ist, wobei in den seitlichen Schenkeln des U-Profiles gegenüberliegende Aufnahmen (22) zur dichten Aufnahme der UV-lichtdurchlässigen Trenn wand (21) und/oder der bewegbaren Blende (24) vorgese hen sind.

15. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 2 bis 14, da durch gekennzeichnet, daß für die UV-Strahler (16) ein Zeitschaltglied vorgesehen ist.

16. Vorrichtung nach Anspruch 15, dadurch ge kennzeichnet, daß das Zeitschaltglied ein stellbar ist.

17. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 2 bis 16, da durch gekennzeichnet, daß das licht dichte, stabile Gehäuse (18) Kühllamellen (31) auf weist.

18. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 2 bis 17, da durch gekennzeichnet, daß zur Erzeu gung von UV-Licht Quecksilber-Dampflampen mit einer Wellenlänge von ca. 253 nm bei einer Strahlungsleistung von ca. 2,5 W verwendet werden.

19. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 2 bis 18, da durch gekennzeichnet, daß das den Wasserstand im Siphon (1) einstellende Siphonknie (20) in Muffenverbindungen (30) hinsichtlich seiner vertika len Höhe verstellbar angeordnet ist.

20. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 2 bis 19, da durch gekennzeichnet, daß das den Strahler (16) bzw. das Gehäuse (18) tragende Siphonteil (23) über Anschlußkupplungen mit der Abflußrohrleitung (4) des Siphons dicht verbindbar ist.