DE4224445A1 - Entkeimungsverfahren sowie Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens - Google Patents
Entkeimungsverfahren sowie Vorrichtung zur Durchführung des VerfahrensInfo
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Description
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Entkeimen von mit
Krankheitskeimen durchsetzten Substanzen, insbesondere Ab
wässern von Sanitäreinrichtungen mit Siphonabfluß wie Wasch
becken, Bidets und dergleichen.
Aufgrund umfangreicher Untersuchungen über die Infektions
gefahr für Patienten und Pflegepersonal in Krankenhäusern
und Kliniken wurde festgestellt, daß sich jährlich mehrere
Tausend Todesfälle ereignen, die sich auf eine ungenügende
Keimfreiheit der in den Kliniken vorhandenen sanitären Ein
richtungen, insbesondere der üblicherweise in den Kranken
zimmern befindlichen Waschbecken zurückführen lassen.
Insbesondere Personen mit einem bereits vorgeschädigten
Immunsystem weisen für normalerweise harmlose Krankheits
keime eine erhöhte Anfälligkeit auf. Insbesondere bei
Krebspatienten, die beispielsweise mit einer Chemotherapie
behandelt werden, führten die unhygienischen Verhältnisse
der sanitären Einrichtungen zu Infektionen der Harnwege, der
Lungen, offener Wunden oder zu Blutvergiftungen, die bei den
betroffenen Patienten leicht tödlich ausgehen können.
Insbesondere wurde festgestellt, daß bei 70 bis 80% der
Abflüsse eine Verseuchung mit dem Bakterium Pseudomonas
Aeruginosa bestand, das bei Infektionen zu den oben be
schriebenen Symptomen führen kann. Derartige Krankheitskeime
werden z. B. auch bei Reinigungsarbeiten durch das Pflege
personal aufgrund der aus dem Abwasser des Abflusses auf
steigenden Aerosole auf die Hände bzw. die Kleidung des
Pflegepersonals übertragen, so daß beim Kontakt des Pflege
personals mit den Patienten eine Infektionsgefahr unvermeid
lich ist.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein Entkeimungs
verfahren für die Abflüsse von Sanitäreinrichtungen mit
Siphonabfluß zu schaffen, mit dem das im Einlaufbereich des
Siphons befindliche Wasser sicher keimfrei gehalten werden
kann. Darüber hinaus soll eine Vorrichtung zur Durchführung
des Verfahrens geschaffen werden.
Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß dadurch gelöst, daß das
im Siphon des Abflusses befindliche Abwasser vorzugsweise im
Einlaufbereich einer zumindest zeitweise andauernden UV-
Bestrahlung unterworfen wird, wobei mindestens eine UV-
Strahlenquelle in den Siphon integriert ist und Mittel zur
Abschirmung des UV-Lichtes bzw. zum Abschalten der UV-Strah
lenquelle vorgesehen sind, die einen UV-Strahlenaustritt
nach außen sicher verhindern.
Zur Durchführung dieses Verfahrens wird vorgeschlagen, daß
im Siphon-Rohrleitungsbereich, vorzugsweise im Abwasserein
laufbereich, mindestens ein UV-Strahler vorgesehen ist, daß
sich zwischen dem Strahler und dem Abwasser im Siphon eine
UV-strahlungsdurchlässige Trennwand befindet, die zumindest
mit ihrem unteren Bereich unterhalb des Abwasserspiegels im
Siphon angeordnet ist, daß für den Strahler eine den Strah
ler nach außen abdeckende Abschirmung vorgesehen ist und daß
im Siphon-Einlaufbereich ein lichtdichtes Absperrorgan vor
gesehen ist, bei dessen Entfernung aus der Absperrposition
der Strahler zwangsweise abgeschaltet wird.
Die keimtötende Wirkung von UV-Strahlen ist an sich bekannt.
UV-Strahlen weisen eine kürzere Wellenlänge als das übliche
sichtbare Licht auf. Die somit härtere Strahlung zerstört
bei hinreichender Strahlungsdosis bzw. Einwirkungsdauer die
empfindlichen organischen Molekülketten von Bakterien oder
sonstigen Krankheitskeimen.
Beispielsweise wird das bereits erwähnte Bakterium Pseudomo
nas Aerugniosa von UV-Strahlen mit einer Wellenlänge von
253 nm und einer Strahlungsintensität von 16,5 mWsec/cm2
abgetötet.
Die bekannten Quecksilber-Dampflampen, bei deren die Strah
lung durch die Gasentladung erzeugt wird, wurden bisher
jedoch nicht in Sanitäreinrichtungen bzw. deren Siphonab
flüsse eingebaut, da sie aufgrund der beengten Verhältnisse
und der nur schwer einzuhaltenden Sicherheitsvorschriften
hinsichtlich des Strahlenschutzes bzw. der technischen Funk
tionsweise ungeeignet erschienen und ihr Einbau zu kompli
ziert und teuer war.
Zur Entkeimung von Abflüssen beispielsweise in Kliniken,
wurden daher ausschließlich Heißsterilisationsverfahren bzw.
chemische Sterilisationsverfahren eingesetzt.
Die bekannten Entkeimungsverfahren sind jedoch wenig zuver
lässig, da eine vollständige Vernichtung der Krankheitskeime
nicht garantiert werden kann. Insbesondere bei höheren Tem
peraturen, wie sie z. B. im Abflußbereich eines Waschbeckens
zumindest zeitweise herrschen, konnten sich nämlich nur
wenige lebensfähige Krankheitskeime explosionsartig vermeh
ren und so die vorherige Sterilisation mittels der bekannten
Verfahren zunichte machen.
Durch die zumindest zeitweise andauernde UV-Bestrahlung im
Einlaufbereich eines Siphons kann dagegen garantiert werden,
das Krankheitserreger vollständig abgetötet werden und keine
Infektionsgefahr durch austretende Aerosole oder Tröpfchen
besteht. Die UV-Strahlenquelle ist in den Siphonrohrbogen
integriert, so daß lediglich das entsprechende Siphonteil
ausgetauscht werden muß und ein elektrischer Anschluß der
Strahlenquelle vorgenommen werden muß. Durch die Abschir
mungsmittel des UV-Strahlers nach außen bzw. durch Zwangs
mittel zum Abschalten der UV-Strahlenquelle bei einer Öff
nung des Abflußstopfens kann ein UV-Strahlenaustritt nach
außen sicher verhindert werden.
Die UV-Strahlenquelle, die auch aus mehreren einzelnen Lam
pen bestehen kann, ist vorzugsweise im Abwassereinlaufbe
reich der Siphonrohrleitung integriert. Zwischen der Strah
lenquelle und dem im Siphon stehenden Abwasser befindet sich
eine UV-strahlungsdurchlässige Trennwand, die zumindest mit
ihrem unteren Bereich unterhalb des Abwasserspiegels ange
ordnet ist. Auf diese Weise werden die durch Aerosolbildung
oder Spritzwasser für eine Infektion in Frage kommenden
Wasserbereiche im Siphon vollständig von der Strahlung
durchflutet und etwa vorhandene Keime abgetötet. Der Strah
ler weist eine nach außen die Strahlenquelle abdeckende
Abschirmung aus, so daß keine Gefahr besteht, daß eine Per
son durch Lichteinwirkung des UV-Strahlers geschädigt werden
kann.
Um zu verhindern, daß bei eingeschaltetem Strahler UV-Strah
len aus dem Ablaufstutzen des Waschbeckens austreten können,
ist im Siphon-Einlaufbereich ein lichtdichtes Absperrorgan
vorgesehen, bei dessen Entfernung aus der Absperrposition
der oder die Strahler zwangsweise abgeschaltet werden.
Um eine gleichmäßige Lichtdurchflutung im Abwassereinlauf
stutzen des Siphons zu gewährleisten, ist die Siphon-Rohr
leitung zweckmäßigerweise auf ihrer Innenwandung verspie
gelt. Derartige Verspiegelungen lassen sich beispielsweise
preiswert und dauerhaft durch eine Hochglanzverchromung
mittels eines galvanischen Veredelungsverfahrens aufbringen.
In gleicher Weise ist es vorteilhaft, wenn das Absperrorgan,
das lichtdicht am oberen Ende des Abflußstutzens angeordnet
ist, eine innere Verspiegelung aufweist. Dadurch wird in den
oberen Bereich des Einlaufstutzens einfallendes UV-Licht
reflektiert und der gesamte Aerosolbereich oberhalb des
Abwasserspiegels bestrahlt. Dadurch wird zuverlässig die
Bildung von Bakteriennestern verhindert.
Die UV-lichtdurchlässige Trennwand ist vorzugsweise aus
Quarzglas oder lichtdurchlässigen Teflon-Kunststoffen herge
stellt, die einerseits die nötige Dauerhaftigkeit aufweisen
und andererseits einen ungestörten Durchtritt der UV-Strah
lung ermöglichen. Daneben können auch Spezialgläser verwen
det werden, die im Gegensatz zu normalem Fensterglas UV-
Strahlen ungehindert durchtreten lassen.
Je nach den örtlichen Verhältnissen kann es zweckmäßig sein,
wenn die wirksame Strahlendurchtrittsfläche der UV-licht
durchlässigen Trennwand veränderbar ist, um die wirksame
Strahlendosis in den erforderlichen Grenzen variieren zu
können. Vorzugsweise erfolgt die Änderung der Strahlendurch
trittsfläche durch von außen betätigbare Blenden, die z. B.
in Form eines Schiebers zwischen die Strahlenquelle und
Trennwand eingeschoben werden können.
Um eine vollständige Ausnutzung des erzeugten UV-Lichtes zu
gewährleisten, ist es zweckmäßig, wenn auf der der Trennwand
gegenüberliegenden Seite des UV-Strahlers ein Reflektor
vorgesehen ist. Dieser kann z. B. als gewelltes, mit einer
Verspiegelungsschicht versehenes dünnwandiges Blech ausge
bildet sein, das auf der Innenseite des Lampengehäuses hin
ter den strahlungsaktiven Flächen der UV-Lampe liegt. Durch
die gewellte Oberfläche werden die auf den Reflektor auf
treffenden UV-Strahlen in unterschiedlichen Richtungen re
flektiert und ermöglichen so eine homogene Lichtdurchflutung
des vor der UV-lichtdurchlässigen Trennwand liegenden Rau
mes.
Um zu verhindern, daß bei eingeschalteter Strahlenquelle das
Absperrorgan am oberen Ende des Einlaufstutzens geöffnet
ist, kann dieses beispielsweise mit Hilfe eines Kipphebelge
stelles aus seiner Absperrposition gegen die Kraft einer
Rückstellfeder entfernbar sein. Anstelle eines manuell zu
betätigenden Kipphebelgestelles kann das Absperrorgan
selbstverständlich auch elektrisch oder elektromagnetisch
anhebbar sein, wobei es sinnvoll ist, mechanische, elektri
sche oder magnetische Mittel vorzusehen, die eine Abschal
tung des Strahlers bewirken, wenn das Absperrorgan geöffnet
ist oder wird.
Die Abschirmung der Strahlenquelle erfolgt vorzugsweise mit
Hilfe eines lichtdichten und stabilen Gehäuses, das eine
obere Überwurfmutter aufweisen kann. In der Überwurfmutter
können die Fassungen für die Quecksilber-Dampflampen ange
ordnet sein, so daß durch das Abnehmen der Überwurfmutter
verbrauchte Lampen in einfacher Weise ausgewechselt werden
können.
Wie bereits erwähnt, ist das lichtdichte Gehäuse zweckmäßi
gerweise in die Siphon-Rohrleitung integriert, so daß zur
Anwendung und Durchführung des Verfahrens lediglich das
entsprechende Siphon-Rohrleitungsteil ausgewechselt werden
muß.
Die Siphon-Rohrleitung im Strahlerbereich ist vorzugsweise
U-förmig ausgebildet, wobei in den seitlichen Schenkeln des
U-Profiles längs verlaufende Nuten vorgesehen sein können,
die zur Aufnahme der UV-lichtdurchlässigen Trennwand bzw.
der bewegbaren Blende dienen können. Die Trennwand kann
dabei mit entsprechenden Dichtungen in den Nuten bzw. Auf
nahmen abgedichtet und befestigt sein.
Um eine absolut keimfreie Zone unterhalb des Beckenablaufes
zu erreichen, ist es in den meisten Fällen nicht erforder
lich, daß der UV-Strahler ständig eingeschaltet ist. Viel
mehr reicht eine zeitweise Bestrahlung aus, die auch von der
Nutzungsdauer und der Infektionsgefährdung abhängt. Dazu
kann für den UV-Strahler ein Zeitschaltglied vorgesehen
sein, der vorzugsweise einstellbar ist und eine automatische
An- und Abschaltung der UV-Lampe bewirkt.
Die vorzugsweise verwendeten UV-Strahler weisen eine Strah
lungsleistung von wenigen Watt auf, so daß nur ein relativ
geringer Anteil der Energie in Wärme umgesetzt wird. Aus
diesem Grunde ist die Abführung der entstehenden Wärme pro
blemlos. Es reicht beispielsweise aus, wenn das lichtdichte
Gehäuse beispielsweise Kühllamellen aufweist, die durch die
Vergrößerung der Oberfläche die entstehende Wärmemenge ab
führen können.
Als Beispiel für eine vorzugsweise verwendete Strahlenquelle
wird eine Quecksilber-Dampflampe eingesetzt, die ein UV-
Licht mit einer Wellenlänge von 253 nm bei einer Strahlungs
leistung von 2,5 W erzeugt.
Um den Wasserstand im Strahlungsbereich der UV-Quelle und
damit die insgesamt auf das Abwasser wirkende Strahlungs
dosis einstellen zu können, kann der den Wasserstand im
Siphon einstellende Rohrleitungsbogen in Muffenverbindungen
hinsichtlich seiner Höhe verstellbar angeordnet sein. Auf
diese Weise läßt sich die Strahlungsdosis durch einfaches
Anheben bzw. Eindrücken des entsprechenden Rohrleitungsbo
gens regulieren.
Um eine einfache Montage und schnelle Auswechselbarkeit des
den Strahler bzw. das Gehäuse tragenden Siphonteiles zu
gewährleisten, ist dieser vorzugsweise über dichtende An
schlußkupplungen mit der restlichen Abflußrohrleitung des
Siphons verbunden.
Die Erfindung ist in der Zeichnung beispielsweise veran
schaulicht und wird im nachfolgenden anhand der Zeichnung im
einzelnen beschrieben. Es zeigt
Fig. 1 einen Schnitt durch einen unterhalb eines Wasch
beckens angeordneten Siphon mit einer UV-Entkei
mung und
Fig. 2 einen Schnitt aus Richtung AB aus Fig. 1.
Mit Hilfe des in Fig. 1 dargestellten Siphons 1 wird Abwas
ser 2 aus einem Waschbecken 3 geruchsdicht in eine Abfluß
leitung 4 geführt. Am oberen Ende 5 des Einlaufstutzens 6
ist ein lichtdicht und ggf. auch wasserdicht angeordnetes
Absperrorgan 7 vorhanden, das die Ablauföffnung 8 des Wasch
beckens 3 glockenförmig dichtend übergreift.
Aus der Absperrstellung kann das Absperrorgan 7 durch Ein
drücken eines mechanischen Kipphebelgestelles 9 angehoben
werden. Das Kipphebelgestell weist eine Druckfeder 10 auf,
die das Absperrorgan 7 automatisch in ihrer Absperrposition
hält, wenn auf das Kipphebelgestell 9 keine Kraft einwirkt.
Die Kraft zum Öffnen des Absperrorgans 7 kann mechanisch
durch Eindrücken eines oberen Knopfes 11 oder durch die
Betätigung eines Elektromagneten 12 erfolgen, der seitlich
am Einlaufstutzen 6 angeordnet ist. Über eine magnetisier
bare Führungsstange 13 ist ein Öffnen des Absperrorgans 7
mit Hilfe des Elektromagneten 12 möglich.
Am vorderen Ende des Kipphebels 14 befindet sich ein Micro
schalter 15, der über eine nicht dargestellte elektrische
Leitung die UV-Strahlungsquelle 16 bei Betätigung des Kipp
hebelgestelles 9 abschaltet.
Die UV-Strahlungsquelle 16 besteht aus zwei nebeneinander
angeordneten UV-Lampen 17, die in einem Gehäuse 18 angeord
net sind, das nach außen abgedichtet ist und in das untere
Ende des Einlaufstutzens 6 integriert ist.
Unterhalb des Wasserspiegels 19, der sich durch die vertika
le Höhe des Siphonknies 20 ergibt, befindet sich zwischen
den UV-Lampen 17 und dem Abwasser 2 eine UV-lichtdurchlässi
ge Trennwand 21. Die Trennwand 21 ist dicht in Nuten 22 des
U-förmigen Einlaufrohrleitungsteiles 23 angeordnet (vergl.
Fig. 2).
Am oberen Ende des Gehäuses 18 befindet sich auf der Gehäus
einnenwand eine einschiebbare Blende 24, durch deren Stel
lung im Gehäuse 18 die wirksame Fläche der UV-lichtdurch
lässigen Trennwand 21 verändert werden kann.
Das obere Ende des Gehäuses 18 ist durch eine Überwurfmutter
25 nach oben lichtdicht verschlossen, wobei in der Überwurf
mutter 25 die Fassungen 26 für die UV-Lampen 17 angeordnet
sind. Im Bereich der hinteren Wandung 27 des Gehäuses 18
befindet sich ein gewellter Reflektor 28, durch dessen Wir
kung nach hinten fallendes UV-Licht in verschiedenen Rich
tungen nach vorne abgestrahlt wird.
Die Innenwandung des U-förmigen Einlaufrohrleitungsteiles 23
bzw. des Einlaufstutzens 6 sind durch eine Hochglanzverchro
mung verspiegelt, ebenso die Innenfläche der Absperrglocke
29.
Das Siphonknie 20 ist an der restlichen Rohrleitung mit
Hilfe von abgedichteten Muffen 30 in vertikaler Höhe ver
schiebbar, so daß die vertikale Höhe des Wasserspiegels 19
im Einlaufstutzen 6 ebenfalls einstellbar ist.
Bei dem in Fig. 2 dargestellten Schnitt ist die Lage der
Trennwand 21, der Blende 24, des Reflektors 28 sowie der
zwischen Reflektor 28 und Trennwand 21 befindlichen UV-Lam
pen 17 zu erkennen. Die Trennwand 21 befindet sich dicht in
Nuten 22, so daß keine Gefahr für einen Wassereintritt in
das Gehäuse 18 besteht. Die Rückwand 27 weist an ihrer Au
ßenseite Kühllamellen 31 auf, durch die die im Gehäuse 18
entstehende Wärme nach außen abgeführt werden kann.
Bezugszeichenliste
1 Siphon
2 Abwasser
3 Waschbecken
4 Abflußleitung
5 oberes Ende
6 Einlaufstutzen
7 Absperrorgan
8 Ablauföffnung
9 Kipphebelgestell
10 Druckfeder
11 oberer Knopf
12 Elektromagnet
13 magnetisierbare Führungsstange
14 Kipphebel
15 Microschalter
16 UV-Strahlungsquelle
17 UV-Lampe
18 Gehäuse
19 Wasserspiegel
20 Siphonknie
21 Trennwand
22 Nuten
23 U-förmiges Einlaufrohrleitungsteil
24 einschiebbare Blende
25 Überwurfmutter
26 Fassung
27 hintere Wandung
28 gewellter Reflektor
29 Absperrglocke
30 Muffe
31 Kühllamelle
2 Abwasser
3 Waschbecken
4 Abflußleitung
5 oberes Ende
6 Einlaufstutzen
7 Absperrorgan
8 Ablauföffnung
9 Kipphebelgestell
10 Druckfeder
11 oberer Knopf
12 Elektromagnet
13 magnetisierbare Führungsstange
14 Kipphebel
15 Microschalter
16 UV-Strahlungsquelle
17 UV-Lampe
18 Gehäuse
19 Wasserspiegel
20 Siphonknie
21 Trennwand
22 Nuten
23 U-förmiges Einlaufrohrleitungsteil
24 einschiebbare Blende
25 Überwurfmutter
26 Fassung
27 hintere Wandung
28 gewellter Reflektor
29 Absperrglocke
30 Muffe
31 Kühllamelle
Claims (20)
1. Verfahren zum Entkeimen von mit Krankheitskeimen durch
setzten Substanzen, insbesondere Abwässern von Sani
täreinrichtungen mit Siphonabfluß wie Waschbecken,
Bidets und dergleichen, dadurch gekenn
zeichnet, daß das im Siphon (1) des Abflusses
befindliche Abwasser (2) vorzugsweise im Einlaufbereich
einer zumindest zeitweise andauernden UV-Bestrahlung
unterworfen wird, wobei mindestens eine UV-Strahlen
quelle (16) in den Siphon (1) integriert ist und Mittel
(18, 15) zur Abschirmung des UV-Lichtes bzw. zum Ab
schalten der UV-Strahlenquelle (16) vorgesehen sind,
die einen UV-Strahlenaustritt nach außen sicher verhin
dern.
2. Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens nach An
spruch 1, dadurch gekennzeichnet,
daß im Siphon-Rohrleitungsbereich (23), vorzugsweise im
Abwassereinlaufbereich (6), mindestens ein UV-Strahler
(16) vorgesehen ist, daß sich zwischen dem Strahler
(16) und dem Abwasser (2) im Siphon (1) eine UV-strah
lungsdurchlässige Trennwand (21) befindet, die zumin
dest mit ihrem unteren Bereich unterhalb des Abwasser
spiegels (19) im Siphon (1) angeordnet ist, daß für den
Strahler (16) eine den Strahler (16) nach außen abdek
kende Abschirmung (18) vorgesehen ist und daß im Si
phon-Einlaufbereich (5) ein lichtdichtes Absperrorgan
(7) vorgesehen ist, bei dessen Entfernung aus der Ab
sperrposition der Strahler (16) zwangsweise abgeschal
tet wird.
3. Vorrichtung nach Anspruch 2, dadurch ge
kennzeichnet, daß die Siphon-Rohrleitung
zumindest im Abwassereinlaufbereich (6) auf ihrer In
nenwandung verspiegelt ist.
4. Vorrichtung nach Anspruch 3, dadurch ge
kennzeichnet, daß die Verspiegelung aus
einer Hochglanzverchromung besteht.
5. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 2 bis 4, da
durch gekennzeichnet, daß das Ab
sperrorgan (7, 29) eine innere Verspiegelung aufweist,
die vorzugsweise als Hochglanzverchromung ausgebildet
ist.
6. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 2 bis 5, da
durch gekennzeichnet, daß die UV-
lichtdurchlässige Trennwand (21) aus Quarzglas, Teflon
oder einem UV-lichtdurchlässigen Spezialglas besteht.
7. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 2 bis 6, da
durch gekennzeichnet, daß die wirk
same Strahlendurchtrittsfläche der UV-lichtdurchlässi
gen Trennwand (21) veränderbar ist, vorzugsweise durch
eine von außen betätigbare Blende (24).
8. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 2 bis 7, da
durch gekennzeichnet, daß auf der
der Trennwand (21) gegenüberliegenden Seite des UV-
Strahlers (16) ein Reflektor (28) vorgesehen ist.
9. Vorrichtung nach Anspruch 8, dadurch ge
kennzeichnet, daß der Reflektor (28) gewellt
ist.
10. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 2 bis 9, da
durch gekennzeichnet, daß das Ab
sperrorgan (7) über ein Kipphebelgestell (9) aus seiner
Absperrposition gegen die Kraft einer Rückstellfeder
(10) entfernbar ist.
11. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 2 bis 9, da
durch gekennzeichnet, daß das Ab
sperrorgan (7) elektromagnetisch oder elektrisch aus
seiner Absperrposition gegen die Kraft einer Rückstell
feder (10) entfernbar ist.
12. Vorrichtung nach Anspruch 10 oder 11, dadurch
gekennzeichnet, daß mechanische, elektri
sche oder magnetische Mittel (15) zur Abschaltung des
Strahlers (16) vorgesehen sind, die durch ein Öffnen
des Absperrorgans (7) aktivierbar sind.
13. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 2 bis 12, da
durch gekennzeichnet, daß der oder
die Strahler (16) in einem lichtdichten, stabilen Ge
häuse (18) mit einer oberen Überwurfmutter (25) ange
ordnet sind, das in die Siphon-Rohrleitung (23) inte
griert ist.
14. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 2 bis 13, da
durch gekennzeichnet, daß die Si
phonrohrleitung (23) zumindest im Strahlerbereich U-
förmig ausgebildet ist, wobei in den seitlichen Schenkeln
des U-Profiles gegenüberliegende Aufnahmen (22)
zur dichten Aufnahme der UV-lichtdurchlässigen Trenn
wand (21) und/oder der bewegbaren Blende (24) vorgese
hen sind.
15. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 2 bis 14, da
durch gekennzeichnet, daß für die
UV-Strahler (16) ein Zeitschaltglied vorgesehen ist.
16. Vorrichtung nach Anspruch 15, dadurch ge
kennzeichnet, daß das Zeitschaltglied ein
stellbar ist.
17. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 2 bis 16, da
durch gekennzeichnet, daß das licht
dichte, stabile Gehäuse (18) Kühllamellen (31) auf
weist.
18. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 2 bis 17, da
durch gekennzeichnet, daß zur Erzeu
gung von UV-Licht Quecksilber-Dampflampen mit einer
Wellenlänge von ca. 253 nm bei einer Strahlungsleistung
von ca. 2,5 W verwendet werden.
19. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 2 bis 18, da
durch gekennzeichnet, daß das den
Wasserstand im Siphon (1) einstellende Siphonknie (20)
in Muffenverbindungen (30) hinsichtlich seiner vertika
len Höhe verstellbar angeordnet ist.
20. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 2 bis 19, da
durch gekennzeichnet, daß das den
Strahler (16) bzw. das Gehäuse (18) tragende Siphonteil
(23) über Anschlußkupplungen mit der Abflußrohrleitung
(4) des Siphons dicht verbindbar ist.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE4224445A DE4224445A1 (de) | 1992-07-24 | 1992-07-24 | Entkeimungsverfahren sowie Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE4224445A DE4224445A1 (de) | 1992-07-24 | 1992-07-24 | Entkeimungsverfahren sowie Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE4224445A1 true DE4224445A1 (de) | 1994-01-27 |
Family
ID=6463987
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE4224445A Withdrawn DE4224445A1 (de) | 1992-07-24 | 1992-07-24 | Entkeimungsverfahren sowie Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
DE (1) | DE4224445A1 (de) |
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