DE4212854C2 - Sensoranordnung zur Bestimmung eines Sauerstoffpartialdruckes in einem Gasgemisch - Google Patents
Sensoranordnung zur Bestimmung eines Sauerstoffpartialdruckes in einem GasgemischInfo
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Description
Die steigenden Umweltbelastungen (z. B. Treibhauseffekt)
durch Verbrennungsprodukte (z. B. CO, CO2, CHx oder NOx)
haben in den letzten Jahren zu einer immer stärker werden
den Forderung nach einer Reduzierung der Schadstoffemis
sionen bei Verbrennungsprozessen aller Art geführt.
Aus der Notwendigkeit heraus, die Verbrennungsprozesse zu
optimieren, erwächst die Forderung nach Sensoren, die die
Verbrennungsprodukte dieser Prozesse mit hinreichender
Schnelligkeit und Genauigkeit detektieren können. Im beson
deren Maße besteht die Notwendigkeit, Sauerstoffpartial
drücke in Gasgemischen zu detektieren, um so bei Verbren
nungsprozessen stöchiometrische Gemische einstellen oder
einhalten zu können. Besonders schadstoffintensive, häufige
Verbrennungsprozesse treten beim Betrieb von Verbrennungs
motoren auf. In Kraftfahrzeugen z. B. werden zur Detektion
von Sauerstoffpartialdrücken Yttrium-stabilisierte Zirkon
oxid-ZrO2-Sensoren verwendet. Diese benötigen für ihren
Betrieb ein Sauerstoff-Referenzvolumen, welches die
Miniaturisierung der Sonden begrenzt/1/.
Im Unterschied zu diesen potentiometrischen Sonden können
auch resistive Sauerstoffsensoren eingesetzt werden. Bei
diesen Sonden ändert sich die Leitfähigkeit des sensiti
ven Materials entsprechend dem Sauerstoffpartialdruck der
Umgebung des Sensors/2/. Bei genügend hohen Temperaturen
stellt sich ein Gleichgewicht zwischen den im Metalloxid
gitter, das für die Sensoren Verwendung findet, vorhande
nen Sauerstoffleerstellen und den Gasmolekülen der Umgebung
ein. Wird z. B. das Angebot von Sauerstoffmolekülen an der
Oberfläche des sensitiven Materials verringert, so diffun
dieren Sauerstoffionen aus dem Metalloxidgitter an die Ober
fläche, verbinden sich zu Sauerstoffmolekülen und verlas
sen schließlich das Gitter.
Dieser Vorgang dauert so lange, bis sich ein chemisches
Gleichgewicht zwischen den Konzentrationen der Sauerstoff
ionen im Gitter und den Sauerstoffmolekülen der Umgebung
einstellt. Beim Verlassen der Gitterplätze bleiben Gitter
elektronen zurück, die zu einem Anstieg der Elektronenlei
tung führen. Bei einem Anwachsen der Konzentration von
Sauerstoffmolekülen in der Sensorumgebung nimmt das sensi
tive Material Sauerstoffionen auf. In diesem Fall verrin
gert sich die zur elektrischen Leitfähigkeit beitragende
Anzahl von Elektronen. Da die geschilderten Vorgänge re
versibel sind, kann jedem Sauerstoffpartialdruck der Sen
sorumgebung eine bestimmte Leitfähigkeit des sensitiven
Materials zugeordnet werden/3/. Resistive Sauerstoffsen
soren benötigen im Gegensatz zu potentiometrischen Sau
erstoffsensoren keine Referenzatmosphäre. Es steht einer
Miniaturisierung dieser Sensoren also nichts im Wege/4/.
Bisher werden vor allem Titanoxid TiO2 und Zinnoxid SnO2
als Sensormaterialien für resistive Sauerstoffsensoren
verwendet /5,6/. Beide Materialien weisen aber eine Reihe
von Nachteilen auf, die den gewünschten Einsatz im Abgas
trakt eines Kraftfahrzeuges nicht erlauben. So sind Sen
soren aus SnO2 nur bis Temperaturen von maximal 500°C
sinnvoll einsetzbar und besitzen in diesem Temperaturbe
reich zusätzlich in erhöhtem Maße Querempfindlichkeiten
gegenüber CO, HC und H2. TiO2-Sensoren sind für den
gewünschten Anwendungsfall ebenfalls nicht geeignet, da
dieses Material nur bis maximal 950°C einsetzbar ist.
Wie aus der älteren europäischen Anmeldung 9116728.6
"Abgassensor in Planartechnologie zur Regelung der Kfz-
Motoren" hervorgeht, kann man zur Kompensation von Tem
peratureffekten mehrere solcher Gassensoren, die dort als
Metalloxid-Meßwiderstände bezeichnet werden, in Form von
Widerstands-Meßbrücken zusammenschalten, um ein dem Par
tialdruck eines Gasgemisches proportionales Auswertesignal
zu erhalten. Dort wird ein Teil dieser Gassensoren mit
Siliziumnitrid passiviert, d. h. ihre Leitfähigkeit ändert
sich unabhängig von im Gasgemisch vorhandenen Sauerstoff
partialdruck nur noch in Abhängigkeit der Temperatur. Im
allgemeinen werden diese Sensoren beheizt und auf einem
Temperaturniveau gehalten, das über der Temperatur des
Gasgemisches liegt, in welchen der Gaspartialdruck be
stimmt werden soll.
Die dieser Erfindung zugrundeliegende Aufgabe besteht
darin, eine weitere, schneller reagierende Sensoranordnung
anzugeben, mit der Sauerstoff-Partialdrücke in Gasgemischen
bestimmt werden können.
Diese Aufgabe wird gemäß den Merkmalen des Patentanspruchs
1 gelöst.
Weiterbildungen der Erfindung ergeben sich aus den Unter
ansprüchen.
Besonders vorteilhaft an der erfindungsgemäßen Sensoranord
nung ist die Aufbringung der artverwandten Schicht auf die
Oberfläche eines bekannten Sensormaterials der Summenfor
mel ABO3. Diese Schicht bewirkt, daß es dem Sensormaterial
leichter möglich ist, Sauerstoffionen aufzunehmen und ab
zugeben, da sie als Katalysator bei der Aufspaltung der
Sauerstoffmoleküle aus der Luft fungiert.
Besonders vorteilhaft in der erfindungsgemäßen Sensoranord
nung ist die Anwendung von solchen ABO3-Verbindungen, wie
z. B. SrTiO3 oder BaTiO3, weil dies Verbindungen sind, die
in bekannter Weise ein gutes Ansprechverhalten auf Sauer
stoffpartialdrücke in Gasgemischen zeigen und da diese
Materialien auch im Kfz-Bau für Lambda-Sonden Verwendung
finden.
Es ist bei der erfindungsgemäßen Sensoranordnung besonders
günstig, solche Materialien der Form DO anzuwenden, wobei
O Sauerstoff ist und D ein Kation des Sensorgrundmaterials
oder ein Substitent desselben sein kann. Solche Substitut
atome sollten einen ähnlichen Gitterradius einnehmen, wie
das entsprechende Element, welches das Gitter aufbaut.
Als besonders günstig in der erfindungsgemäßen Sensoran
ordnung erweist sich die Beschichtung mit Materialien, wie
BaO oder SrO, da mit diesem Material eine signifikant
schnelle Ansprechzeit der Sensoranordnung bewirkt wird.
Besonders günstig bei der erfindungsgemäßen Sensoranord
nung ist es, daß die Struktur des Sensormaterials, wie
z. B. ein Einkristall, polykristalline Keramik, oder ein
Dickschichtelement, oder ein Dünnschichtelement keine
nachteiligen Auswirkungen auf das verbesserte Sensorver
halten hat. So kann ein geeignetes kostengünstiges Ferti
gungsverfahren verwendet werden.
Vorteilhaft ist es, die Sensorgeometrie auf ein Substrat,
wie z. B. Al2O3 aufzubringen. Dieses Substrat ist thermi
schen Belastungen gewachsen und die Aufbringung auf ein
Substrat trägt der Verkleinerung des Sensors bei.
Vorteilhaft beim Einsatz in der erfindungsgemäßen Sen
soranordnung ist es, die Schicht auf dem Sensor, mit der
Summenformel DO durch Sputtern oder Aufdampfen aufzubrin
gen. Diese Prozesse sind bekannt und die Schichtdicke
sowie das Schichtverhalten können hinreichend genau vor
bestimmt werden.
Besonders günstig ist der Einsatz der erfindungsgemäßen
Sensoranordnung auch für die Verwendung in einem Verfah
ren, das die Atemfunktion von Lebewesen überwacht, da die
Ansprechzeiten der Sensoren besonders kurz sind und sie
mit hoher Genauigkeit arbeiten.
Im folgenden wird die Erfindung anhand von Ausführungs
beispielen und Figuren weiter erläutert.
Fig. 1 zeigt ein Beispiel der erfindungsgemäßen Sensoran
ordnung.
Fig. 2 zeigt den Partialdruck-Leitfähigkeitsverlauf einer
erfindungsgemäßen Sensoranordnung.
In Fig. 1 ist ein Beispiel der erfindungsgemäßen Sensor
anordnung dargestellt. Sie besteht aus einem Gassensor
herkömmlicher Art, der z. B. aus BaTiO3 oder SrTiO3 bestehen
kann und einer aufgebrachten Schicht T, die dem Gasgemisch
U zugewendet ist, welche beispielsweise aus BaO oder SrO
bestehen kann. Falls der Gassensor die Form ABO3 aufweist,
so weist diese Deckschicht T die Summenformel DO auf. Wei
terhin sind in Fig. 1 die Elektroden E1 und E2 erkennbar,
an denen die Leitfähigkeitsmessung der Sensoranordnung
durchgeführt wird. Beispielsweise wird an die Elektroden
E1 und E2 eine Konstantstromquelle I angeschlossen und der
Spannungsabfall an der Sensoranordnung mit einem Voltmeter
U bestimmt. Die gesamte Sensoranordnung mit den Elektroden
ist auf einem Substrat S aufgebracht. Dieses Substrat kann
beispielsweise Al2O3 sein, das besonders temperaturbestän
dig ist.
Im Falle einer Sauerstoffpartialdruck-Änderung des Gas
gemisches U ändert sich das Leitfähigkeitsverhalten der
Sensoranordnung. Angenommen, es findet eine Sauerstoffpar
tialdruckerhöhung statt, so werden an der Grenzfläche der
Deckschicht T Sauerstoffmoleküle zu Sauerstoffionen aufge
spalten. Das Konzentrationsgefälle zwischen dem Umgebungs
partialdruck des Gasgemisches U und dem in der Sensoran
ordnung interstitiell gelösten Sauerstoff bewirkt, daß
Sauerstoffionen in das Gitter eindringen. Diese Sauerstoff
ionen binden Elektronen an sich und die Sensoranordnung
verarmt an Elektronen, d. h. die Leitfähigkeit nimmt ab. Mit
zunehmendem Sauerstoffpartialdruck sind dann keine freien
Ladungsträger in Form von Elektronen mehr in der Sensoran
ordnung vorhanden und die Leitung durch Defektelektronen,
sog. Gitterfehlstellen wird dominierend. Weiter wird dies
in Verbindung mit Fig. 2 erläutert.
Fig. 2 zeigt den δ-Sauerstoffpartialdruck-Verlauf der
erfindungsgemäßen Sensoranordnung. Auf der horizontalen
Achse ist der Logarithmus des Sauerstoffpartialdruckes
aufgetragen und auf der vertikalen Achse der Logarithmus
der Leitfähigkeit δ. Die dargestellte Kurve K1 wird durch
den Druck PÜ in zwei Teile, die Bereiche B1 und B2 ge
teilt. Im Bereich B1 findet Elektronenleitung statt und im
Bereich B2 findet Defektelektronen, d. h. Löcherleitung im
Gitter statt. Deutlich kann man am Verlauf der Kurve K1
erkennen, daß im Bereich B1 mit zunehmendem Partialdruck
die Leitfähigkeit der Sensoranordnung abnimmt. Das liegt
daran, daß durch ein Konzentrationsgefälle zwischen dem
Gasgemisch U und dem Kristallgitter der Sensoranordnung
ein Bestreben von Sauerstoffmolekülen besteht, in das
Gitter einzudringen. An der Stelle der Sensoranordnung, an
der sich das aufgebrachte Schichtmaterial T befindet, wirkt
dieses Material als Katalysator, der den Sauerstoffmole
külen den Aufspaltungsvorgang zu Sauerstoffionen erleich
tert. Diese Sauerstoffionen diffundieren in das Sensorma
terial durch diese Trennschicht T ein. Im Gitter binden
diese Sauerstoffionen Elektronen an sich. Dadurch verarmt
das Gitter mit zunehmendem Sauerstoffpartialdruck an
Elektronen, d. h. die Leitfähigkeit der Sensoranordnung
nimmt ab. Dieser Vorgang dauert solange, bis das Minimum
der Kurve K1 beim Druck PÜ erreicht ist. Mit weiter
zunehmendem Sauerstoffpartialdruck wächst die Zahl der
Defektelektronen, d. h. der Löcher im Gitter und dies wird
der dominierende Effekt für die Leitung. Die Leitfähigkeit
steigt wieder an, wie man das aus K1 erkennen kann.
Mit K2 im Bereich B2 von Fig. 2 ist die Kurve bezeichnet,
die den Leitfähigkeitsverlauf der erfindungsgemäßen An
ordnung darstellt. Sie zeigt die Wirkung der Material
schicht T. Deutlich ist der Unterschied im Verlauf von K1
zu K2 erkennen. Man ersieht aus dem Unterschied, daß K2
sich in Abhängigkeit des Sauerstoffpartialdruckes stärker
verändert. Das bedeutet, die Sensoren, die mit dieser
Schicht ausgestattet sind - eben diese erfindungsgemäße
Sensoranordnung -, reagieren empfindlicher auf Sauerstoff
partialdruckänderungen. Darüberhinaus ist die Ansprechzeit
besonders im Temperaturbereich unterhalb 900°C deutlich
kürzer (ca. Faktor 100), so daß diese Sensoren dann auch
für zylinderselektive Messungen im Kfz eingesetzt werden
können.
[1] Velacso, G. und Pribat, D.: Microionic
Gas Sensors for Pollution and Energy
Controllin the Consumer Market,
Proc. 2. Int. Meeting on Chemical Sensors,
Bordeaux (1986), S. 79-94,
[2] Kofstad, P.: Nonstoichiometry, Diffusion and Electrical Conductivity in Binary Metal Oxides Wiley & Sons, New York, Reprint Edition (1983),
[3] Härdtl, K.H.: Ceramic Sensors Sci. Ceram, 14 (1988), S. 73-88,
[4] Schönauer, U.: Dickschicht-Sauerstoffsensoren auf der Basis keramischer Halbleiter Tech-Mess., 56,6 (1989), S. 260-263,
[5] Hoshino, K., Peterson, N. L. u. Wiley, C. I.: Diffusion and Point Defects in TiO2 J. Phys. Chem. Solids, 46, 12 (1985), S. 1397-1411,
[6] Göpel, W.: Solid-State Chemical Sensors: Atomistic Models and Research Trends Sensors and Actuators, 16 (1989) S. 167-193.
[2] Kofstad, P.: Nonstoichiometry, Diffusion and Electrical Conductivity in Binary Metal Oxides Wiley & Sons, New York, Reprint Edition (1983),
[3] Härdtl, K.H.: Ceramic Sensors Sci. Ceram, 14 (1988), S. 73-88,
[4] Schönauer, U.: Dickschicht-Sauerstoffsensoren auf der Basis keramischer Halbleiter Tech-Mess., 56,6 (1989), S. 260-263,
[5] Hoshino, K., Peterson, N. L. u. Wiley, C. I.: Diffusion and Point Defects in TiO2 J. Phys. Chem. Solids, 46, 12 (1985), S. 1397-1411,
[6] Göpel, W.: Solid-State Chemical Sensors: Atomistic Models and Research Trends Sensors and Actuators, 16 (1989) S. 167-193.
Claims (7)
1. Sensoranordnung zur Bestimmung eines Sauerstoffpar
tialdruckes in einem Gasgemisch, bei der
- a) wenigstens ein Gassensor (G) vorgesehen ist, wobei der Gassensor aus einem die Summenformel ABO3 aufweisenden Metalloxid besteht, dessen Leitfähigkeit oder Ohm′scher Widerstand sich in Abhängigkeit vom Sauerstoffpartial druck ändert,
- b) eine Schicht (T) auf der dem Gasgemisch zugewandten Seite des Gassensors (G) aufgebracht ist, wobei die Schicht (T) aus einem die Summenformel AO, BO oder DO aufweisenden Material besteht und D ein bezüglich der Gitterstruktur möglicher Substituent der Elemente A oder B ist und O Sauerstoff bedeutet,
- c) die am Gassensor (G) gemessene Leitfähigkeitsänderung bzw. Änderung des Ohm′schen Widerstandes zur Bestimmung des Sauerstoffpartialdruckes Verwendung findet.
2. Sensoranordnung nach Anspruch 1, bei der die ABO3-Ver
bindungen SrTiO3 oder BaTiO3 sind.
3. Sensoranordnung nach einem der Ansprüche 1 oder 2, bei
der die DO-Verbindungen BaO oder SrO sind.
4. Sensoranordnung nach einem der Ansprüche 1 bis 3, bei
der die Struktur des Gassensors (G) einkristallin, poly
kristallin, dickschichtig oder dünnschichtig ist.
5. Sensoranordnung nach einem der Ansprüche 1 bis 4, bei
der der Gassensor (G) auf einem Substrat aufgebracht ist.
6. Sensoranordnung nach einem der Ansprüche 1 bis 5, bei
der die Schicht (T) durch Sputtern oder Aufdampfen auf den
Gassensor aufgebracht ist.
7. Verwendung der Sensoranordnung nach einem der Ansprüche
1 bis 6, zur Überwachung der Atemfunktion eines
Lebewesens.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19924212854 DE4212854C2 (de) | 1992-04-16 | 1992-04-16 | Sensoranordnung zur Bestimmung eines Sauerstoffpartialdruckes in einem Gasgemisch |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19924212854 DE4212854C2 (de) | 1992-04-16 | 1992-04-16 | Sensoranordnung zur Bestimmung eines Sauerstoffpartialdruckes in einem Gasgemisch |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE4212854A1 DE4212854A1 (de) | 1993-10-21 |
DE4212854C2 true DE4212854C2 (de) | 1994-02-17 |
Family
ID=6457006
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19924212854 Expired - Fee Related DE4212854C2 (de) | 1992-04-16 | 1992-04-16 | Sensoranordnung zur Bestimmung eines Sauerstoffpartialdruckes in einem Gasgemisch |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
DE (1) | DE4212854C2 (de) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP1452862A1 (de) * | 2003-02-28 | 2004-09-01 | Siemens Aktiengesellschaft | Gassensitiver Feldeffekttransistor mit einer gassensitiven Schicht und Verfahren zu deren Herstellung |
-
1992
- 1992-04-16 DE DE19924212854 patent/DE4212854C2/de not_active Expired - Fee Related
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Publication number | Publication date |
---|---|
DE4212854A1 (de) | 1993-10-21 |
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