DE4143135A1 - Kathode zum beschichten eines substrats - Google Patents
Kathode zum beschichten eines substratsInfo
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Description
Die Erfindung betrifft eine Kathode zum Beschichten
eines Substrats, die an eine Gleichstrom- und/oder
Wechselstromquelle (Hochfrequenzquelle) angeschlossen
und in einer evakuierbaren Beschichtungskammer angeord
net ist, die elektrisch mit einem Target in Verbindung
steht, das zerstäubt wird und dessen zerstäubte Teil
chen sich auf dem Substrat niederschlagen, wobei in die
Beschichtungskammer ein Prozeßgas einbringbar ist und
die Kathode aus einem im wesentlichen topfförmigen
Gehäuse gebildet ist, dessen geschlossenes Bodenteil
mit seiner Außenfläche mit dem Target fest verbunden,
vorzugsweise verschraubt ist und dessen dem Target ab
gewandtes, offenes Ende in einer Öffnung in der Augen
wand der Beschichtungskammer abgedichtet so gehalten
ist, daß der Innenraum des Gehäuses stets dem Atmosphä
rendruck ausgesetzt ist, während das Target und die
Außenfläche des mit diesem verbundenen, in die
Beschichtungskammer hineinragenden, hülsenförmigen
Teils des Gehäuses von in der Beschichtungskammer je
weils herrschenden Druck beaufschlagt sind (Zusatz zu
P 41 37 483.5).
Der vorliegenden Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde,
eine Sputterkathode zu schaffen, die so in bzw. an der
Beschichtungskammer angeordnet werden kann, daß ihre
Magnetanordnung auch dann zugänglich ist, also bei
spielsweise austauschbar ist, wenn die Beschichtungs
kammer evakuiert ist, deren Platzbedarf im Vergleich zu
herkömmlichen Kathoden besonders gering ist und die
auch für einen Ultra-Hochvakuumprozeß bei Temperaturen
von etwa 200 bis 400°C betrieben werden kann.
Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß durch einen den
Innenraum des Gehäuses zumindest teilweise ausfüllenden
Einsatz gelöst, der mit der Gehäuseinnenwand so verrie
gelbar ist, daß er mit dem Bodenteil einen etwa kreiszylindrischen
Raum bildet, in den ein einen Elektroma
gneten einschließender Magnetsatz mit Joch einsetzbar
ist.
Weitere Merkmale und Einzelheiten sind in den Patentan
sprüchen näher beschrieben und gekennzeichnet.
Die Erfindung läßt die verschiedensten Ausführungsmög
lichkeiten zu; eine davon ist in der anhängenden Zeich
nung schematisch näher dargestellt, die den Längs
schnitt durch die Sputterkathode mit angeschraubtem
Target und durch eine Ebene, die die Kühlkanäle und die
Kühlmittelanschlüsse aufweist, zeigt.
Die dem Substrat 46 gegenüberliegend angeordnete Katho
de besteht im wesentlichen aus einem topfförmigen, aus
mehreren Teilen gebildeten Gehäuse 3, zwei im Boden des
topfförmigen Gehäuses 3 gehaltenen Permanentmagneten 4,
5, von denen der eine eine kreisringzylindrische und
der andere eine kreiszylindrische Konfiguration auf
weist, mit einem etwa kreiszylindrischen Magnetjoch 6,
mit der in dieses eingesetzten kreisringzylindrisch
ausgeformten Spule bzw. Elektromagneten 61, einem topf
förmigen Einsatz 8, der die Anschlußstutzen 9, 10 für
die Kühlkanäle 11, 12 und die Bohrung 56 für das An
schlußkabel 60 für den Elektromagneten 61 enthält und
der mit Hilfe nicht näher dargestellter, radial ver
stellbarer Bolzen am Gehäuse 3 verriegelbar ist.
Das topfförmige Gehäuse 3 besteht aus einem Flansch 23
zur Halterung der Kathode an der Wand 30 der Prozeßkam
mer, den beiden Profilringen 24, 25, den zwischen den
beiden Profilringen 24, 25 angeordneten Keramikring 26,
dem wassergekühlten äußeren Hülsenteil 27, der auf ge
löteten Bodenplatte 58, dem Target 29 und der einge
löteten Gewindehülse 59.
Wie aus Fig. 1 ersichtlich, durchdringen die Bohrungen
31, 31′, . . . den zylindrischen Körper und verbinden im
Hohlraum 32 den Kühlkreislauf zwischen Vor- und Rück
lauf. Diese Bohrungen bzw. Hohlräume 31, 31′, . . . bzw.
32 korrespondieren mit Anschlußbohrungen 33 bzw. 34,
die im Einsatz 8 vorgesehen sind und die wiederum mit
den Kühlkanälen 11, 12 verbunden sind, die ihrerseits
über die Verschraubungen oder Stutzen 9, 10 an die
Kühlmittelleitung 35, 36 angeschlossen sind. Die Boh
rung bzw. Öffnung 56 ermöglicht den Einbau eines Elek
tromagneten 61 mit dem zugehörigen Magnetjoch 6.
Die vorstehend beschriebene Kathode hat den Vorteil,
daß sich der Kühlmantel bzw. die vom Kühlmittel durch
flossenen Hohlräume 31, 31′, . . . bzw. 32 außen befin
den, während die Kühlmittelanschlüsse 9, 10 innen sind,
so dar eine Leckage in der Kühlmittelzuleitung nicht zu
einem Kühlmitteleinbruch in die Prozeßkammer 2 führen
kann. Die Kühlmittelanschlüsse können auch ohne weite
res von den Verschraubungen bzw. den Anschlußstutzen 9,
10 gelöst werden, ohne daß die Prozeßkammer 2 belüftet
werden muß.
Darüber hinaus kann der Magneteinsatz bei evakuierter
Prozeßkammer 2 ausgetauscht werden, und es kann der Ab
stand zwischen den Magneten 4, 5 und dem Target 29 ver
ändert werden, ohne daß die Prozeßkammer 2 geöffnet
bzw. geflutet werden muß. Zum Aufheizen der Kathode
läßt sich auch der Einsatz 8 und der an diesem befe
stigte Magnetsatz 4, 5, 6, 61 einfach nach hinten bzw.
oben zu aus der Kathode entfernen.
Es sei noch erwähnt, dar die Stromzuführung 52 zum
Hülsenteil 27 bzw. zum Target 29 über die oben erwähn
ten Verriegelungsbolzen erfolgt, die unter Vorspannung
gehalten und radial nach außen gedrückt werden (nicht
näher dargestellt), so daß ein sicherer Stromübergang
zwischen den Verriegelungsbolzen und der Hülse 27
gewährleistet ist.
Der HF-beständige Einsatz 8 ist schließlich mit Hilfe
von Rundschnurringen (Dichtringen) 50, 51 so gegenüber
der Innenwand des Gehäuses 3 abgedichtet, daß das Kühl
mittel nur von den Anschlußbohrungen 33, 34 aus in den
Hohlraum bzw. Zwischenraum 32 bzw. die Bohrungen 31,
31′ eintreten kann.
Die Bodenplatte 58 ist mit dem zylindrischen Teil 27 an
allen Kontaktstellen vakuumgelötet. Zu der Bodenplatte
58 ist eine Gewindehülse 59 zwecks mittiger Targetbefe
stigung eingelötet.
Schließlich sei noch erwähnt, daß das Gehäuse 3 der
Kathode von einer rohrförmigen Dunkelraumabschirmung 47
umschlossen ist, die mit Hilfe einer Renkverbindung 57
am Flansch 23 befestigt ist, und daß die Teile 23 und
24 bzw. die Teile 25 und 27 durch Schweifen und die
Teile 24 und 26 bzw. 26 und 25 durch Hartlöten mitein
ander verbunden sind und daß der Flansch 23 des Gehäu
ses 3 mit dem sich radial nach außen zu erstreckenden
Kragen des Einsatzes 8 verschraubt ist.
Bezugszeichenliste
2 Beschichtungskammer
3 Gehäuse
4 Permanentmagnet
5 Permanentmagnet
6 Magnetjoch
8 Einsatz
9 Anschlußstutzen
10 Anschlußstutzen
11 Kühlkanal
12 Kühlkanal
23 Flansch
24 Profilring
25 Profilring
26 ringförmiges Zwischenstück, Isolierring
27 Hülsenteil (außen)
29 Target
30 Wand der Prozeßkammer
31, 31′, . . . Bohrung
32 Hohlraum
33 Anschlußbohrung
34 Anschlußbohrung
35 Kühlmittelleitung
36 Kühlmittelleitung
46 Substrat
47 Dunkelraumabschirmung
48 Öffnung
49 Innenraum des Gehäuses
50 Ringdichtung
51 Ringdichtung
52 elektrischer Leiter
53 elektrischer Leiter
56 Gewindebohrung
57 Renkverbindung
58 Bodenplatte
59 Gewindehülse
60 Anschlußkabel
61 Elektromagnet, Spule
62 Gehäuseaußenfläche
3 Gehäuse
4 Permanentmagnet
5 Permanentmagnet
6 Magnetjoch
8 Einsatz
9 Anschlußstutzen
10 Anschlußstutzen
11 Kühlkanal
12 Kühlkanal
23 Flansch
24 Profilring
25 Profilring
26 ringförmiges Zwischenstück, Isolierring
27 Hülsenteil (außen)
29 Target
30 Wand der Prozeßkammer
31, 31′, . . . Bohrung
32 Hohlraum
33 Anschlußbohrung
34 Anschlußbohrung
35 Kühlmittelleitung
36 Kühlmittelleitung
46 Substrat
47 Dunkelraumabschirmung
48 Öffnung
49 Innenraum des Gehäuses
50 Ringdichtung
51 Ringdichtung
52 elektrischer Leiter
53 elektrischer Leiter
56 Gewindebohrung
57 Renkverbindung
58 Bodenplatte
59 Gewindehülse
60 Anschlußkabel
61 Elektromagnet, Spule
62 Gehäuseaußenfläche
Claims (2)
1. Kathode zum Beschichten eines Substrats (46), die
an eine Gleichstrom- und/oder Wechselstromquelle
(Hochfrequenzquelle) angeschlossen und in einer
evakuierbaren Beschichtungskammer (2) angeordnet
ist und die elektrisch mit einem Target (29) in
Verbindung steht, das zerstäubt wird und dessen
zerstäubte Teilchen sich auf dem Substrat (46)
niederschlagen, wobei in die Beschichtungskammer
(2) ein Prozeßgas einbringbar ist und die Kathode
aus einem im wesentlichen topfförmigen Gehäuse (3)
gebildet ist, dessen geschlossenes Bodenteil (58)
mit seiner Außenfläche mit dem Target (29) fest
verbunden, vorzugsweise verschraubt ist und dessen
dem Target (29) abgewandtes, offenes Ende in einer
Öffnung (48) in der Außenwand (30) der Beschich
tungskammer (2) abgedichtet so gehalten ist, daß
der Innenraum (49) des Gehäuses (3) stets dem
Atmosphärendruck ausgesetzt ist, während das Tar
get (29) und die Außenfläche (62) des mit diesem
verbundenen, in die Beschichtungskammer (2) hin
einragenden, hülsenförmigen Teils des Gehäuses (3)
vom in der Beschichtungskammer (2) jeweils herr
schenden Druck beaufschlagt sind (Zusatz zu P 41 37 483.5),
gekennzeichnet durch einen den Innen
raum (49) des Gehäuses (3) zumindest teilweise
ausfüllenden Einsatz (8), der mit der Gehäuse
innenwand so verriegelbar ist, dar er mit dem
Bodenteil (58) einen etwa kreiszylindrischen Raum
bildet, in den ein einen Elektromagneten (61)
einschließender Magnetsatz (5, 4, 61) mit Joch (6)
einsetzbar ist.
2. Kathode nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
daß die Permanentmagnete (4, 5) des Magnetsatzes
aus einem kreisringzylindrischen und einem von
diesem ringförmig umschlossenen kreiszylindrischen
Magneten gebildet sind, wobei die kreisringzylin
drische Spule des Elektromagneten (61) mit einem
dem Bodenteil (58) des Gehäuses (3) zugekehrten
Ende in einen von den beiden Magneten (4, 5) ge
bildeten Ringraum hineinragt, wobei das dem Boden
teil (58) abgekehrte Ende der Spule des Elektro
magneten (61) in eine diesem Endteil angepaßte
Ausnehmung des im übrigen kreiszylindrischen Jochs
(6) einfaßt bzw. in dieser kreisringzylindrischen
Ausnehmung gehalten ist.
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19914143135 DE4143135A1 (de) | 1991-11-14 | 1991-12-28 | Kathode zum beschichten eines substrats |
DE59205763T DE59205763D1 (de) | 1991-12-28 | 1992-07-10 | Kathode zum Beschichten eines Substrats |
ES92111759T ES2084886T3 (es) | 1991-12-28 | 1992-07-10 | Catodo para recubrir un substrato. |
EP92111759A EP0549854B1 (de) | 1991-12-28 | 1992-07-10 | Kathode zum Beschichten eines Substrats |
US08/020,361 US5482610A (en) | 1991-11-14 | 1993-02-22 | Cathode for coating a substrate |
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE4137483A DE4137483A1 (de) | 1991-11-14 | 1991-11-14 | Kathode zum beschichten eines substrats |
DE19914143135 DE4143135A1 (de) | 1991-11-14 | 1991-12-28 | Kathode zum beschichten eines substrats |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE4143135A1 true DE4143135A1 (de) | 1993-07-29 |
Family
ID=25909149
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19914143135 Ceased DE4143135A1 (de) | 1991-11-14 | 1991-12-28 | Kathode zum beschichten eines substrats |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
DE (1) | DE4143135A1 (de) |
Cited By (1)
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- 1991-12-28 DE DE19914143135 patent/DE4143135A1/de not_active Ceased
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Legal Events
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