DE4133897A1 - Verfahren zum verbinden von zwei platten - Google Patents
Verfahren zum verbinden von zwei plattenInfo
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Description
Die Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren zum Verbinden von
zwei Platten durch anodisches Bonden, von denen die eine auf
der Verbindungsseite eine Schichtschaltung mit einer Passivie
rungsschicht und die andere auf ihrer Verbindungsseite eine
Glasschicht aufweist. Dabei muß es sich bei der Glasschicht
selbstverständlich um eine Schicht aus einem Glas handeln, das
anodisch bondfähig ist, d. h. Alkali-Ionen enthält.
Ein bekanntes Verfahren dieser Art ist der US 33 97 278 zu
entnehmen. Insbesondere die Fig. 3 und 4 dieser Druck
schrift lassen erkennen, daß ein Chip mit einer Leiterbahnen
enthaltenden Schichtschaltung auf der Verbindungsseite einer
von zwei miteinander zu verbindenden Platten mit einer wei
teren Platte mit einer Glasschicht dadurch verbunden werden
kann, daß die beiden Platten durch anodisches Bonden mitein
ander verbunden werden, indem an die eine Platte einerseits
und an die andere Platte andererseits eine Stromquelle
angeschlossen wird.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, einen Weg aufzuzei
gen, mit dem eine Platte mit der Schichtschaltung durch ano
disches Bonden mit einer weiteren Platte mit einer Glasschicht
verbunden werden kann, ohne daß die Schichtschaltung beim
Bonden Schaden nimmt.
Zur Lösung dieser Aufgabe wird bei einem Verfahren der ein
gangs angegebenen Art erfindungsgemäß vor dem Verbinden auf
die Passivierungsschicht eine elektrische leitende Schicht
aufgebracht; und es wird zum Verbinden unter anodischem Bonden
eine Stromquelle einerseits an die elektrisch leitende Schicht
und andererseits an die Glasschicht angeschlossen.
Ein besonderer Vorteil des erfindungsgemäßen Verfahrens be
steht darin, daß infolge der aufgebrachten elektrisch lei
tenden Schicht die Schichtschaltung auf der einen Platte beim
anodischen Bonden vor hohen elektrischen Feldstärken geschützt
ist. Derartige Feldstärken sind erforderlich, um das anodische
Bonden durchzuführen. Die elektrisch leitende Schicht kann
zusätzlich Funktionen des Bausteines übernehmen, zu dem die
Platten zusammengesetzt sind.
Als vorteilhaft hat es sich erwiesen, wenn bei dem erfindungs
gemäßen Verfahren für die elektrisch leitende Schicht als
Stoff Metalle oder Halbleiter-Werkstoffe verwendet werden, die
Sauerstoffverbindungen eingehen. In Frage kommen dafür u. a.
Tantal, Titan, Aluminium bzw. Silizium oder Germanium.
Bei einer vorteilhaften Ausgestaltung des erfindungsgemäßen
Verfahrens wird zum Verbinden der einen Leiterplatte mit einer
anderen Platte, bei der die Glasschicht von einem elektrisch
leitenden Substrat getragen ist, vor dem Aufbringen der Glas
schicht eine Isolationsschicht auf dem Substrat aufgebracht.
Dies ermöglicht es, die elektrische Durchschlagfestigkeit zu
erhöhen, wodurch der Bondvorgang aufgrund höherer elektrischer
Feldstärke optimiert werden kann. Die Isolationsschicht kann
beispielsweise aus Siliziumoxid bestehen.
Das erfindungsgemäße Verfahren ist ferner dann vorteilhaft,
wenn vor dem Verbinden der einen Platte mit einer anderen
Platte, die auf ihrer Verbindungsseite mit einer Schicht
schaltung versehen ist, die Schichtschaltung dieser Platte mit
einem Passivierungsüberzug versehen wird, auf dem anschließend
eine elektrisch leitende Beschichtung aufgebracht wird; danach
wird auf die elektrisch leitende Beschichtung die Glasschicht
aufgetragen, und es wird zum Verbinden unter anodischem Bonden
die Stromquelle an die elektrisch leitende Schicht und die
elektrisch leitende Beschichtung angeschlossen.
Selbstverständlich können auch mehr als zwei Platten
entsprechender Ausgestaltung mit dem erfindungsgemäßen Verfah
ren miteinander verbunden werden.
Eine besonders vorteilhafte Anwendung des erfindungsgemäßen
Verfahrens wird beim Herstellen eines Tintendruckkopfes ge
sehen, der auf einer von einem Substrat gebildeten Platte
Heizwiderstandsschichten mit angeschlossenen Leiterbahnen, auf
den Widerstandsschichten eine Isolierschicht und auf den Lei
terbahnen eine Passivierungsschicht sowie auf der Isolier
schicht eine Tantalschicht trägt und bei dem die eine Platte
auf der die Schichten tragenden Verbindungsseite mit einer
Tintenkanalplatte aus Silizium als anderer Platte verbunden
ist. Der Aufbau eines solchen Tintendruckkopfes geht aus der
EP 02 10 848 A2 als bekannt hervor. Zum Herstellen eines der
artigen Tintendruckkopfes wird erfindungsgemäß vor dem
Verbinden die Tantalschicht auch über die Passivierungsschicht
aufgebracht, die Tintenkanalplatte auf ihrer Verbindungsseite
mit einer Glasschicht versehen und zum Verbinden unter ano
dischem Bonden die Stromquelle an die Tantalschicht und an die
andere Platte angeschlossen. Damit ist ein Tintendruckkopf
gewonnen, dessen plattenförmige Bestandteile fest miteinander
verbunden sind, wobei die Verbindung nicht durch Alterung
sowie mangelnde Hitzebeständigkeit und Chemikalienbeständig
keit beeinträchtigt ist. Auch weist die Verbindung keine
Fügespalte für einen Kleber auf, wie dies zum Verbinden der
entsprechenden Teile eines Tintendruckkopfes nach der
EP 02 10 848 A2 der Fall ist.
Zur Erläuterung der Erfindung sind in
Fig. 1 schematisch zwei Platten dargestellt, die mit dem
erfindungsgemäßen Verfahren miteinander verbunden werden
können, und es ist in
Fig. 2 ein Ausführungsbeispiel eines Tintenstrahldruck
kopfes gezeigt, der unter Anwendung des erfindungsgemäßen
Verfahrens hergestellt ist.
Bei dem Ausführungsbeispiel nach Fig. 1 ist eine Platte 1 aus
einem Isolierstoff auf ihrer einen Seite 2 mit einer nur sche
matisch dargestellten Schichtschaltung 3 versehen, die sowohl
als Dickschicht- als auch als Dünnschichtschaltung ausgebil
det sein kann. Dabei werden unter diesen Schaltungen Schicht
schaltungen verstanden, wie sie beispielsweise in dem Buch von
G. Käs, W. Ackermann, H. Delfs und J. Wilhelm "Schichtelek
tronik Dickschicht- und Dünnschicht-Technik" 1978, Seiten 29
bis 53 beschrieben sind. Auf die Schichtschaltung 3 ist eine
Passivierungsschicht 4 aufgebracht. Auf der Passivierungs
schicht 4 ist eine elektrisch leitende Schicht 5 aufgebracht,
die vorzugsweise aus Tantal, Titan, Aluminium, Silizium oder
Germanium besteht.
Eine andere Platte 6 weist eine Glasschicht 7 auf, die im dar
gestellten Ausführungsbeispiel auf einem elektrisch leitendem
Substrat aufgebracht ist.
Zum Verbinden der beiden Platten 1 und 6 durch anodisches
Bonden wird an die elektrisch leitende Schicht 5 mit einem Pol
9 eine Stromquelle 10 angeschlossen, deren anderer Pol 11 an
das Substrat 8 gelegt ist. Beide Platten 1 und 6 sind
selbstverständlich zum Verbinden durch anodisches Bonden -
anders als in der Fig. 1 dargestellt - unmittelbar aneinander
geführt, so daß die elektrisch leitende Schicht 5 unmittelbar
an der Glasschicht 7 der anderen Platte 6 anliegt.
Nach dem anodischen Bonden wird die Verbindung zur Stromquelle
10 entfernt, und es ist eine Baueinheit gewonnen, die aus den
beiden fest miteinander verbundenen Platten 1 und 6 besteht.
Das Ausführungsbeispiel nach Fig. 2 zeigt einen Ausschnitt
aus einen Tintendruckkopf 20, der ein Substrat 21 als eine
Platte und ein weiteres Substrat 22 als weitere Platte
enthält, die miteinander zu verbinden sind.
Auf dem Substrat 21 ist über eine Zwischenschicht 23 eine
Heizwiderstandsschicht 24 für jeden mit dem Tintendruckkopf 20
zu erzeugenden Druckpunkt aufgebracht. Beiderseits jeder Heiz
widerstandsschicht 24 sind Leiterbahnen 25 und 26 vorhanden,
die durch eine durchgehende Passivierungsschicht 27 abgedeckt
sind. Als Kavitationsschutz liegt über der Passivierungs
schicht 27 eine Tantalschicht 29, die an einen Tintenkanal 31
angrenzt.
Der Tintenkanal 31 verläuft in der Fig. 2 waagerecht inner
halb der anderen Platte 22, die aus Silizium hergestellt ist
und in der durch Atzen der Kanal 31 gebildet ist. Die Platte
22 aus Silizium ist an ihrer in der Fig. 2 unteren Seite mit
einer Glasschicht 32 vor dem Herstellen der Verbindung der
beiden Platten versehen. Zum Verbinden der Platten 21 und 22
durch anodisches Bonden werden die beiden Platten so zusam
mengefügt, wie es die Fig. 2 zeigt und mit einer Stromquelle
33 in der Weise verbunden, daß deren einer Pol 34 an die Plat
te 22 geführt und der andere Pol 35 an die nach außen gezogene
Tantalschicht 29 geführt ist. Nach erfolgtem Bonden wird auch
hier die Stromquelle abgetrennt, und es ist ein Tintendruck
kopf gewonnen, der beständig gegen Hitze und Chemikalien ist
und in seiner Genauigkeit nicht durch Fügespalte beeinflußt
ist. Außerdem ist bei seiner Herstellung eine Gefährdung der
aus den Widerstandsschichten 24 und den Leiterbahnen 25 und 26
bestehenden Schichtschaltung durch das elektrische Feld beim
Bonden durch die durchgezogene Tantalschicht ausgeschlossen
worden.
Claims (5)
1. Verfahren zum Verbinden von zwei Platten durch anodi
sches Bonden, von denen die eine auf der Verbindungsseite eine
Schichtschaltung mit einer Passivierungsschicht und die andere
auf ihrer Verbindungsseite eine Glasschicht aufweist,
dadurch gekennzeichnet, daß
vor dem Verbinden auf die Passivierungsschicht (4) eine elek
trisch leitende Schicht (5) aufgebracht wird, und daß zum
Verbinden unter anodischem Bonden eine Stromquelle (10)
einerseits an die elektrisch leitende Schicht (5) und
andererseits an die Glasschicht (7) angeschlossen wird.
2. Verfahren nach Anspruch 1,
dadurch gekennzeichnet, daß
für die elektrisch leitende Schicht (5) als Werkstoff Metalle
oder Halbleiter-Werkstoffe verwendet werden, die Sauerstoff
verbindungen eingehen.
3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2,
dadurch gekennzeichnet, daß
zum Verbinden der einen Platte mit einer anderen Platte, bei
der die Glasschicht von einem elektrisch leitendem Substrat
getragen ist, vor dem Aufbringen der Glasschicht eine Isola
tionsschicht auf dem Substrat aufgebracht wird.
4. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2,
dadurch gekennzeichnet, daß
vor dem Verbinden der einen Platte mit einer anderen Platte,
die auf ihrer Verbindungsseite mit einer Schichtschaltung
versehen ist, die Schichtschaltung dieser Platte mit einem
Passivierungsüberzug versehen wird, auf dem anschließend eine
elektrisch leitende Beschichtung aufgebracht wird,
daß danach auf die elektrisch leitende Beschichtung die
Glasschicht aufgetragen wird und
daß zum Verbinden unter anodischem Bonden die Stromquelle
an die elektrisch leitende Schicht und die elektrisch leitende
Beschichtung angeschlossen wird.
5. Anwendung des Verfahrens nach einem der Ansprüche 1 bis 3
zum Herstellen eines Tintendruckkopfes, der auf einer von
einem Substrat gebildeten Platte Heizwiderstandsschichten
mit angeschlosenen Leiterbahnen, auf den Heizwiderstandsschich
ten eine Isolierschicht und auf den Leiterbahnen eine Passi
vierungsschicht sowie auf der Isolierschicht eine Tantal
schicht trägt und bei dem die eine Platte auf der die Schich
ten tragenden Verbindungsseite mit einer Tintenkanalplatte aus
Silizium als anderer Platte verbunden ist,
dadurch gekennzeichnet, daß
vor dem Verbinden die Tantalschicht (29) auch über der Passi
vierungsschicht (28) aufgebracht wird, daß die Tintenkanal
platte (22) auf ihrer Verbindungsseite mit einer Glasschicht
(34) versehen wird und daß zum Verbinden unter anodischem
Bonden die Stromquelle an die Tantalschicht (29) und an die
andere Platte (22) angeschlossen wird.
Priority Applications (1)
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Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
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DE4133897A1 true DE4133897A1 (de) | 1993-04-15 |
DE4133897C2 DE4133897C2 (de) | 2002-08-29 |
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ID=6442602
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