DE4004511A1 - Vorrichtung zum einbrennen von lichtempfindlichen schichten waehrend der herstellung von druckformen - Google Patents
Vorrichtung zum einbrennen von lichtempfindlichen schichten waehrend der herstellung von druckformenInfo
- Publication number
- DE4004511A1 DE4004511A1 DE4004511A DE4004511A DE4004511A1 DE 4004511 A1 DE4004511 A1 DE 4004511A1 DE 4004511 A DE4004511 A DE 4004511A DE 4004511 A DE4004511 A DE 4004511A DE 4004511 A1 DE4004511 A1 DE 4004511A1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- reflector
- radiation absorber
- wire mesh
- radiation
- printing
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
- G03F7/40—Treatment after imagewise removal, e.g. baking
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Description
Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zum Einbrennen
von lichtempfindlichen Schichten während der Herstel
lung von Offsetdruckformen, durch Erhitzen der Druck
form, mit einem Strahler, der einen Infrarot-Anteil von
50 bis 87%, einen im Sichtbaren liegenden Anteil von
10 bis 30% und einen Ultraviolett-Anteil von 3 bis
20% in der elektromagnetischen Strahlung aufweist.
Bei positiv arbeitenden lichtempfindlichen Schichten
werden die während der bildmäßigen Belichtung der Druck
platte vom Licht getroffenen Teile der lichtempfindli
chen Schicht relativ löslicher als die nicht vom Licht
getroffenen Teile. Durch das Herauslösen der erstgenann
ten Teile im Entwicklungsschritt entstehen auf der
Druckplattenoberfläche nach dem Entwickeln der belich
teten Schicht die beim Drucken wasserführenden Nicht
bildstellen der späteren Druckform und aus den letzt
genannten Teilen die beim Drucken farbführenden Bild
stellen. In der Praxis hat es sich herausgestellt, daß
eine Erhitzung der belichteten und entwickelten Druck
platte - je nach Art des Trägermaterials auf Tempera
turen von etwa 180°C und mehr - von der Seite der
lichtempfindlichen Schicht oder auch von der Rückseite
her zu höheren Druckauflagen führen kann; dieser Vor
gang wird als "Einbrennen" bezeichnet. Dafür scheinen
zwei Faktoren ausschlaggebend zu sein: Einerseits fin
det eine mechanische Verfestigung der Bildstellen
statt, so daß diese beim Lagern und Drucken, etwa durch
Lichteinwirkung, weniger leicht beschädigt werden kön
nen; andererseits werden die Bildstellen auch gegenüber
chemischen oder physikalisch-chemischen Angriffen re
sistenter, was sich beispielsweise darin zeigt, daß sie
von organische Lösemittel enthaltenden Druckfarben oder
von Ätzmedien weniger leicht angegriffen werden als
nicht-eingebrannte Bildstellen.
Aus dem Stand der Technik sind beispielsweise die fol
genden Verfahren und/oder Vorrichtungen zum Einbrennen
von lichtempfindlchen Schichten bekannt geworden:
Aus der DE-PS (=EF-B-00 61 059) ist ein Verfahren
zum Einbrennen von belichteten und entwickelten, posi
tiv arbeitenden, Diazoverbindungen enthaltenden licht
empfindlichen Schichten während der Herstellung von
Offsetdruckplatten durch Erhitzen der Druckplatte be
kannt. Die elektromagnetische Strahlung des Strahlers
enthält einen Infrarot-Anteil von 50 bis 87%, einen im
Sichtbaren liegenden Anteil von 10 bis 30% und einen
Ultraviolett-Anteil von 3 bis 20%, wobei die Druck
platte auf mindestens 180°C erhitzt wird.
In der DE-PS 8 54 890 (=US-PS 30 46 121) wird die Nach
behandlung von positiv arbeitenden, Diazoverbindungen
enthaltenden lichtempfindlichen Schichten durch Erhit
zen der diese Schichten aufweisenden Druckplatten be
schrieben. Das Erhitzen wird vor oder nach der Entwick
lung der belichteten Druckplatte durch Behandlung mit
Flammen, mit einem heißen Bügeleisen, in einem elek
trisch auf höhere Temperaturen beheizten Kasten oder
zwischen beheizten Walzen bewirkt; die unbelichtete
Diazoverbindung soll durch das Erhitzen zersetzt, und
das Zersetzungsprodukt fest mit dem Trägermaterial ver
bunden werden.
Aus der DE-AS 14 47 963 (=GB-PS 11 54 749) ist ein
Verfahren zum Herstellen einer Offsetdruckform bekannt,
bei dem die Druckplatten mit positiv arbeitenden, o-
Naphthochinondiazidverbindungen enthaltenden licht
empfindlichen Schichten nach dem Entwickeln in Gegen
wart eines Novolaks und/oder eines Resols auf eine
Temperatur von mindestens 180°C erhitzt werden. Das
Harz ist entweder bereits in der lichtempfindlichen
Schicht vorhanden oder wird vor dem Erhitzen in Lösung
auf die lichtempfindliche Schicht aufgebracht. Die Höhe
der Erhitzungstemperatur und die Erhitzungsdauer werden
so gewählt, daß durch Zersetzen der farbführenden,
nicht vom Licht getroffenen Bildstellen ein Nieder
schlag auf den beim Drucken wasserführenden, d. h. durch
den Entwickler entfernten, vom Licht getroffenen Teilen
der Druckplatte entsteht. Durch eine Nachbehandlung wer
den dann diese beim Drucken wasserführenden Teile der
Druckplatte wieder gesäubert. Die Erhitzungstemperatur
liegt insbesondere bei 200° bis 250°C. Die zugehörige
Erhitzungsdauer beträgt 5 bis 60 min; wobei die Erhit
zung in einem Einbrennofen durchgeführt wird.
Die Vorrichtung zum Einbrennen von Druckplatten mit ei
ner belichteten und entwickelten Diazoschicht gemäß der
DE-PS 19 55 378 (= GB-PS 13 30 139) arbeitet bei einer
Erhitzungstemperatur von mindestens 180°C und enthält
als Erhitzungselement eine Quarz-Halogen-Lampe mit ei
nem im sichtbaren Spektralbereich liegenden Strahlungs
anteil von 10 bis 15%. Diese Quarz-Halogen-Lampen sol
len sich gegenüber Wärmeschränken oder Infrarot(IR)-
Heizstäben durch eine relativ kurze Aufheizzeit aus
zeichnen. Verglichen mit IR-Heizstäben haben sie einen
erheblich höheren Strahlungsanteil im sichtbaren Spek
tralbereich.
Beim Verfahren zur Herstellung von Flachdruckformen
nach der DE-OS 22 01 936 (= GB-PS 14 13 374) werden die
belichteten und entwickelten lichtempfindlichen Schich
ten von der Rückseite der Druckplatte her mit IR-Strah
lung erwärmt, wobei diese Rückseite eine IR-absorbie
rende Schicht trägt.
In dem DE-GM 69 01 603 (=US-PS 35 89 261) wird eine
Vorrichtung zum Entwickeln von negativ-arbeitenden, fo
topolymerisierbare Verbindungen enthaltenden lichtemp
findlichen Schichten auf flexiblen Trägermaterialien
beschrieben, die auch (Seite 3, Absatz 4; Seite 5, Ab
satz 1; Seite 9, Absatz 4 und Seite 10) eine Nachbe
lichtungsstufe umfaßt, wobei UV(Ultraviolett)- und IR-
Licht abstrahlende Lampen zum Einsatz kommen. In dieser
Stufe soll einerseits das Material nach der Hauptent
wicklungsstufe getrocknet werden und andererseits eine
Nachbelichtung der verbliebenen fotopolymerisierbaren
Anteile in den Bildstellen stattfinden.
Aus den DE-GM 72 02 150 und 78 05 619 ist es bekannt,
daß in der Praxis im wesentlichen drei Arten von Ein
brennschränken für Druckplatten eingesetzt werden, näm
lich horizontal oder vertikal arbeitende Umluft-
Einbrennschränke oder vertikal arbeitende Einbrennöfen
mit Erhitzungseinrichtungen auf der Basis elektromagne
tischer Strahlung; auch eine Erhitzung der lichtempfind
lichen Schicht über das Auflegen der Druckplatten auf
einen beheizten Zylinder ist möglich.
Die aus dem Stand der Technik bekanntgewordenen Ein
brennverfahren weisen aber folgende Nachteile auf:
- - Die Vorrichtungen, die mit offener Flamme arbeiten, oder bei denen beheizte Walzen verwendet werden, liefern hinsichtlich der erzeugten Temperatur nur ungenügend reproduzierbare Wärmeverteilungen, es können Beschädigungen von Teilen der Druckplatten auftreten, und es kommt kein gleichmäßiges Einbren nen der Schicht zustande.
- - Die Vorrichtungen, bei denen in einem Wärmeschrank beispielsweise mit erwärmter Umluft gearbeitet wird, führen zwar zu einer besser reproduzierbaren Tempe ratureinstellung und zu einer Vergleichmäßigung des Einbrennens, es müssen jedoch lange Aufheizzeiten vor und während des Einbrennens in Kauf genommen werden, und es kann, insbesondere bei Druckplatten- Trägermaterialien auf der Basis organischer Polyme rer oder aus Aluminium, zu einer negativen Beein flussung der mechanischen Festigkeit (z. B. der Zug festigkeit) der Trägermaterialien kommen.
- - Die Vorrichtungen, bei denen elektromagnetische Strahlung mit einem ausschließlichen oder sehr hohen IR-Anteil eingesetzt wird, können zwar, insbesondere bei einer Reduzierung des Abstands zwischen licht empfindlicher Schicht und Wärmequelle, zu einer Re duktion der Behandlungszeit von mindestens 5 bis 6 min in sogenannten Einbrennschränken auf beispiels weise etwa 1 min führen, sie haben dann jedoch die unerwünschte Nebenwirkung einer sehr starken negati ven Beeinflussung der mechanischen Festigkeit der Druckplatten-Trägermaterialien.
Es war zwar bereits von der Aufarbeitung von belichte
ten und entwickelten, negativ arbeitenden Druckplatten
mit fotopolymerisierbaren Verbindungen in der licht
empfindlichen Schicht her bekannt, diese mit UV- und
IR-Licht abstrahlenden Lampen in einer "Nachbelichtungs
stufe" zu bestrahlen, aber eine solche Maßnahme ver
folgt andere Zwecke. Diese Lampen sollen nämlich einer
seits zur Materialtrocknung und andererseits zur Nach
belichtung von noch in den Bildstellen verbliebenen
fotopolymerisierbaren Anteilen dienen. Da bei negativ
arbeitenden lichtempfindlichen Schichten die von Licht
getroffenen Teile der Schicht weniger löslich werden,
soll die Bestrahlung mit den, einen UV-Anteil aufwei
senden Lampen zu einem vollständigen Unlöslichmachen
solcher Bildstellen oder Teilen von Bildstellen führen,
die sich z. B. in den der Oberfläche des Trägermaterials
benachbarten Bereichen befinden, die weiter von der
Lichtquelle in der eigentlichen Belichtungsstufe ent
fernt sind, soweit diese noch nicht oder nur ungenügend
unlöslich waren. Dies bedeutet aber, daß eine nicht-er
finderische Übertragung dieser Lehre auf das Einbrennen
von positiv arbeitenden lichtempfindlichen Schichten
nicht vorliegt, da bei diesen genau entgegengesetzte
Voraussetzungen herrschen. Es mußte zunächst davon aus
gegangen werden, daß eine Bestrahlung mit UV-Licht zu
einer größeren Löslichkeit der von Licht getroffenen
Schichtteile führen müßte.
Die Erfindung geht aus von einer Vorrichtung zum Ein
brennen von belichteten und entwickelten, positiv ar
beitenden, Diazoverbindungen enthaltenden lichtempfind
lichen Schichten während der Herstellung von Druckfor
men durch Erhitzen der Druckplatte mit einer einen In
frarot-Anteil, einen im Sichtbaren liegenden Anteil und
einen Ultraviolett-Anteil aufweisenden elektromagneti
schen Strahlung.
Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es, eine Vor
richtung zum Einbrennen von positiv arbeitenden licht
empfindlichen Schichten auf Druckplatten der eingangs
beschriebenen Art so zu verbessern, daß sich eine
gleichmäßige Wärmeverteilung auf der gesamten Rückseite
der Druckform, die von dem Strahler abgewandt ist, ein
stellt und die mechanischen und thermischen Eigenschaf
ten des Trägermaterials der Druckform, insbesondere von
Trägermaterialien auf der Basis von Aluminium, nicht
beeinflußt werden.
Diese Aufgabe wird dadurch gelöst, daß ein Strahlungs
absorber vorhanden ist, über den die Druckform mit ih
rer Rückseite plangeführt ist, während ihre Schichtsei
te im konstanten Abstand unter dem Strahler vorbeige
führt wird, und daß der Strahlungsabsorber ein Wärme
reservoir abdeckt, das die Wärmeverteilung gleichmäßig
und die Temperatur in dem Strahlungsabsorber weitgehend
konstant hält.
Die weiter Ausgestaltung der Erfindung ergibt sich aus
den Patentansprüchen 2 bis 15.
Die Vorrichtung läßt sich grundsätzlich für jede Off
setdruckplatte anwenden, die in der positiv arbeitenden
lichtempfindlichen Schicht mindestens eine Diazoverbin
dung als lichtempfindliche Komponente enthält, insbe
sondere sind diese Verbindungen Ester oder Amide von
o-Naphthochinondiazidsulfonsäuren oder o-Naphthochinon
diazidcarbonsäuren (siehe beispielsweise die bereits
eingangs erwähnte DE-AS 14 47 963). Neben der Diazover
bindungs-Komponente enthalten die lichtempfindlichen
Schichten normalerweise auch ein Harz, insbesondere ei
nen Novolak und/oder ein Resol, es können aber auch
verschiedene weitere Komponenten, wie Farbstoffe oder
Haftvermittler, vorhanden sein.
Als Trägermaterialien für die lichtempfindlichen Schich
ten können die in der Offsetdrucktechnik üblichen ver
wendet werden, dazu zählen, neben denen für Einbrenn
verfahren wegen ihrer im allgemeinen ungenügend tempe
raturstabilen Zusammensetzung weniger geeigneten Folien
aus organischen Polymeren, wie Polyestern, insbesondere
Metallfolien auf der Basis von Aluminium, Zink oder
Stahl; bevorzugt werden Aluminiumplatten eingesetzt,
die chemisch, mechanisch oder elektrochemisch aufge
rauht sind und gegebenenfalls noch eine Aluminiumoxid
schicht tragen. Oftmals wird das Druckplattenträgerma
terial auch noch auf der Oberfläche vor dem Aufbringen
der lichtempfindlichen Schicht modifiziert, beispiels
weise mit wäßrigen Polyvinylphosphonsäure- oder Natri
umsilikatlösungen.
In der Praxis des Einbrennens können vor und/oder nach
dem thermischen Behandlungsschritt auch noch verschie
denste Hilfsmittel zum Einsatz kommen, dazu zählen bei
spielsweise:
- - wäßrige Fluorwasserstoffsäure, wäßrige Trinatrium phosphatlösung, wäßrige Phosphorsäure oder wäßrige Borfluorwasserstoffsäure zur Entfernung der beim Einbrennen entstehenden Verunreinigungen an den Nichtbildstellen der Druckplatte bzw. wäßrige Phos phorsäure zur Hydrophilierung der Nichtbildstellen vor dem Einbrennen gemäß der DE-AS 14 47 963 (=GB- PS 11 54 749),
- - wäßrige Lösungen von wasserlöslichen organischen Sub stanzen wie Gummi arabicum Celluloseether, Poly acrylsäure, Salze organischer Säuren oder anionogene Tenside, wie Alkylarylsulfonate und/oder von wasser löslichen anorganischen Salzen, wie Halogenide, Bor ate, Phosphate oder Sulfate zur Modifizierung der gesamten Plattenoberfläche (mit besonderer hydrophi lierender Wirkung auf die Nichtbildstellen) vor dem Einbrennen gemäß der DE-OS 26 26 473 (=GB-PS 15 55 233),
- - eine wäßrige Lösung von Polyvinylphosphonsäure zur Entfernung der beim Einbrennen entstehenden Verun reinigungen an den Nichtbildstellen der Druckplatte gemäß der DE-OS 28 55 393.
Die Erfindung wird im folgenden anhand der Zeichnungen
näher erläutert. Es zeigen:
Fig. 1 einen schematischen Querschnitt durch eine erste
Ausführungsform der Vorrichtung nach der Erfin
dung;
Fig. 2 einen schematischen Längsschnitt durch eine
zweite Ausführungsform der Vorrichtung nach der
Erfindung; und
Fig. 3 eine Draufsicht auf ein Drahtgitterband, das in
der Vorrichtung nach Fig. 1 oder 2 verwendet
wird.
Fig. 1 zeigt einen Querschnitt durch eine erste Ausfüh
rungsform einer Vorrichtung 1 zum Einbrennen von licht
empfindlichen Schichten auf den Oberflächen von Druck
platten. Die Vorrichtung 1 weist ein Gehäuse 7 auf, das
den oberhalb eines Drahtgitterbandes 6 befindlichen Teil
der Vorrichtung 1 umschließt. Bei dem Drahtgitterband 6
handelt es sich um ein endlos umlaufendes Drahtgitter
band, auf dem das beschichtete Trägermaterial, nämlich
eine Druckform 3, aufliegt und unter einem Strahler 4,
den das Gehäuse 1 umschließt, hindurchgeführt wird. Der
Strahler 4, beispielsweise eine Quecksilberdampflampe,
wie sie als UV-Strahler verwendet werden, ist so ange
ordnet, daß seine gesamte Emission an UV-, IR- und
sichtbarer Strahlung ungeschützt auf die darunter durch
laufende Druckform 3 einwirken kann. Der Strahler 4 hat
eine variable elektrische Leistungsaufnahme von bis zu
maximal 15 kW und ist von einem Reflektor 10 umgeben.
Unterhalb des Drahtgitterbandes 6 befindet sich ein
Strahlungsabsorber 2, der ein Wärmereservoir 5 abdeckt.
Bei dem Transport durch die Vorrichtung 1 liegt die
Druckform 3 auf dem Drahtgitterband 6 auf, das plan über
den Strahlungsabsorber 2 geführt ist. Die Schichtseite
der Druckform 3 wird im konstanten Abstand unter dem
Strahler 4 vorbeibewegt.
Für den Strahlungsabsorber 2, bei dem es sich um eine
Platte aus einer hitzebeständigen Glaskeramik, die ei
nen thermischen Wärmeausdehnungskoeffizienten α von
-0,15×10-6×K-1 bis 0,10-6×K-1 für einen Tempera
turbereich von 20 bis 700°C besitzt, können im allge
meinen auf dem Markt befindliche Glaskeramiken, bei
spielsweise der Firma Schott, Mainz, Bundesrepublik
Deutschland, oder sonstige technische Keramiken verwen
det werden.
Mit dem Strahlungsabsorber 2, der das Wärmereservoir 5
abdeckt, wird eine gleichmäßige Wärmeverteilung im
Strahlungsabsorber erzielt und die Temperatur im Strah
lungsabsorber konstant gehalten. Wie schon zuvor er
wähnt, ermöglicht es der Strahlungsabsorber darüber
hinaus, das Drahtgitterband 6 mit der darauf liegenden
Druckform 3 plan unter dem Strahler 4 vorbeizuführen. In
den Belichtungspausen, d. h. wenn keine Druckform 3 auf
dem Drahtgitterband 6 aufliegt, fängt der Strahlungsab
sorber 2 die Emission des Strahlers 4 auf und verhindert
u. a. Streulicht innerhalb des Gehäuses 7 und somit die
unerwünschte Aufheizung von Teilen innerhalb des Gehäu
ses 7.
Das Drahtgitterband 6 ist um das Wärmereservoir 5 in
einer Weise geführt, daß das Obertrum des Drahtgitter
bandes oberhalb des Strahlungsabsorbers 2 und das Un
tertrum des Drahtgitterbandes entlang der Unterseite
des Wärmereservoirs 5 verlaufen.
Der Strahlungsabsorber 2 kann beispielsweise dunkel
gefärbt sein und eine Oberfläche mit einer leichten
Strukturierung besitzen. Die Dicke des Strahlungsabsor
bers 2 beträgt 3 bis 5 mm.
Das Wörmereservoir 5 besteht beispielsweise aus einer
Blechwanne, die eine Höhe von 5 bis 7 cm hat. Das Wär
mereservoir 5 ist mit einem Material gefüllt, hierfür
kommen Gase, wie Luft, oder feste Materialien, wie
Quarzsand oder Schamottsteine in Frage. Durch die Fül
lung des Wärmereservoirs 5 wird die der Strahlung abge
wandte Rückseite der Druckform 3 thermisch isoliert.
Ist in dem Wärmereservoir 5 ein ruhendes Luftpolster
als Füllung vorhanden, so wird dadurch die Wärmevertei
lung im Strahlungsabsorber 2 in besonders großem Maße
vergleichmäßigt. Um einen großen Grad von Vergleichmä
ßigung der Wärmeverteilung im Strahlungsabsorber zu er
halten, kann auch die Rückseite des Strahlungsabsorbers
2, die auf dem Drahtgitterband 6 aufliegt, beispiels
weise elektrisch beheizt sein.
Der Strahlungsabsorber 2 in Form einer hitzebeständigen
Glaskeramik oder einer sonstigen Industriekeramik ge
währleistet automatisch eine ideale plane Führung des
Drahtgitterbandes 6 und somit der Druckform 3, darüber
hinaus wird ein Material angewandt, das sich weder ver
wirft noch zu hoch aufheizt und gleichzeitig eine nahe
zu ideal gleichmäßige Wärmeverteilung auf die Druckform
3 bringt.
Der Strahler 4 ist in einem fest vorgegebenen Abstand
von dem Drahtgitterband 6 innerhalb des Gehäuses 7 an
geordnet. Dieser fest vorgegebene Abstand richtet sich
nach dem jeweiligen Druckplattentyp, d. h. in erster Li
nie nach der lichtempfindlichen Schicht der Druckform 3.
Ausgehend von dem fest vorgegebenen Abstand des Strah
lers 4 von der Druckform 3 kann der Strahler 4 in einem
Bereich von 0 bis 25 cm in der Höhe bzw. in seinem Ab
stand von der Druckform 3 verstellt werden. Hierzu ist
eine Spindel 8 vorgesehen, die durch das Gehäuse 7 hin
durchgeführt ist und die außerhalb des Gehäuses mit
einem Griff 9 ausgestattet ist. Innerhalb des Gehäuses
befindet sich die Spindel mit einer Halterung 11 des
Reflektors 10 des Strahlers 4 im Eingriff. Die Halterung
11 besitzt die Gestalt eines Bügels, dessen beide Enden
fest mit dem Reflektor 10 verbunden sind. In der Mitte
der Halterung 11 ist eine Gewindebohrung 12 vorhanden,
durch die die Spindel 8 hindurchgeführt ist. Das Gewinde
der Gewindebohrung 12 ist mit der Spindel im Eingriff.
Durch das Drehen der Spindel 8 im oder gegen den Uhr
zeigersinn wird die Halterung 11 abgesenkt bzw. angeho
ben und damit der Abstand des Strahlers 4 von der Druck
form 3 eingestellt. Der Reflektor 10 kann aus Metall,
einer Glaskeramik oder einer sonstigen Keramik gefertigt
sein. Im Falle eines Reflektors 10 aus Glas ist ein Ge
bläse 13 zum Kühlen des Reflektors 10 mit diesem direkt
verbunden. Wird nämlich der Reflektor 10 nicht gekühlt,
so kann es zu Verformungen des Metalls kommen, wodurch
die Abstrahlungscharakteristik der reflektierten Strah
lung des Strahlers 4 erheblich beeinflußt wird, was für
die Vergleichmäßigung der Strahlungsverteilung nachtei
lig ist. Besteht der Reflektor 10 aus einer Glaskeramik
oder einer sonstigen technischen Keramik (vgl. Fig. 2) ,
wie sie auch für den Strahlungsabsorber 2 angewandt
wird, kann ein derartiges Gebläse weggelassen werden, da
diese Keramiken wesentlich höher hitzebeständig als Me
talle sind und sich daher unter Wärmeeinwirkung kaum
verformen.
Auf der Oberseite des Gehäuses 7 ist ein Absaugstutzen
14 angeordnet, der mit einem nicht dargestellten Absaug
gebläse verbunden ist, um die beim Einbrennen der licht
empfindlichen Schicht der Druckform 3 freigesetzten
Bestandteile sowie das durch den UV-Anteil der Strah
lung gebildete Ozon in der Vorrichtung 1 abzusaugen.
Fig. 2 zeigt eine zweite Ausführungsform der Vorrich
tung 1 nach der Erfindung, die sich gegenüber der er
sten Ausführungsform der Vorrichtung nach Fig. 1 nur
durch die Vertikalverstellung des Strahlers 4 zusammen
mit dem Reflektor 10 unterscheidet. In Fig. 2 sind der
Strahler 4 und der Reflektor 10 im Längsschnitt darge
stellt. Der Reflektor 10 besteht aus einer Glaskeramik
oder einer sontigen technischen Keramik, wie dies schon
voranstehend im Zusammenhang mit der ersten Ausführungs
form der Vorrichtung 1 erwähnt wurde. Die Oberfläche
der Glaskeramik bzw. sonstigen Keramik des Reflektors
10 ist mit einer dünnen Metallschicht aus Gold, Platin,
Silber, Aluminium, Kupfer oder einem sonstigen reflek
tierenden Metall beschichtet. Durch diese Ausgestaltung
des Reflektors 10 für den Strahler 4 entfällt die Not
wendigkeit einer Kühlung des Reflektors mittels eines
Gebläses. Die Verstellung des Strahlers 4 zusammen mit
dem Reflektor 10 erfolgt mittels zweier Spindeln 15,
die durch das Gehäuse 7 der Vorrichtung 1 hindurchge
führt sind und jeweils mit einem Griff 16 ausgestattet
sind. Die Spindeln 16 sind parallel zu den Breitseiten
19, 20 des Reflektors 10 angeordnet und stehen mit Ge
winden in Klötzchen 17, 17 in Eingriff, die mit den
Breitseiten 19, 20 fest verbunden sind. Durch die sym
metrische Anordnung der Spindeln 15 ist es möglich, jede
Breitseite des Reflektors 10 für sich höhenmäßig zu ver
stellen, d. h. den Abstand von der Druckform 3 indivi
duell zu regeln. Es ist dadurch möglich, Ungleichmäßig
keiten in der Abstrahlungscharakteristik des Strahlers
4, die sich nach längerer Betriebszeit einstellen kön
nen, durch unterschiedliche Abstandseinstellungen der
Breitseiten 19, 20 des Reflektors 10 zu der Druckform 3,
oder mit anderen Worten, durch eine geringe Neigung des
Strahlers 4 gegenüber der Durchlaufebene der Druckform
3, bis zu einem bestimmten Maße auszugleichen. Das Ge
häuse 7 der zweiten Ausführungsform ist ebenso wie die
erste Ausführungsform mit einem Absaugstutzen 14 ausge
stattet. Die übrigen Bauteile der zweiten Ausführungs
form stimmen weitgehend mit den entsprechenden Teilen
der ersten Ausführungsform überein und werden daher
nicht nochmals beschrieben.
Fig. 3 zeigt eine Draufsicht auf das Drahtgitterband
6, wie es in beiden Ausführungsformen der erfindungs
gemäßen Vorrichtung 1 zum Einsatz kommt. Dieses Draht
gitterband 6 besteht aus zwei Gruppen von zueinander
parallelen Drähten 21, 22, 23 bzw. 24, 25, 26. Jeder
dieser Drähte hat eine Form, die aus gleichgroßen Recht
eck- oder Quadratteilen 21′, 22′, 23′, 24′, 25′, 26′
besteht, die nach unten offen sind. Diese Rechteck- oder
Quadratteile sind durch gleichgroße, gerade Drahtab
schnitte 21′′, 22′′, 23′′, 24′′, 25′′, 26′′ miteinander ver
bunden. Die Form des einzelnen Drahtes ist am ehesten
mit einer elektromagnetischen Welle aus Rechteck- oder
quadratischen Impulsen vergleichbar. Die Drähte 21, 22,
23, 24, 25, 26 sind ineinander verflochten und bilden
das Geflecht des Drahtgitterbandes 6. Die Verflechtung
wird anhand dreier benachbarter Drähte 21, 24 und 22
näher erläutert. Der horizontale Schenkel des linken,
ersten Rechteckteils 24′ des Drahtes 24 umschließt die
beiden vertikalen Schenkel des ersten Rechteckteils 21′
des Drahtes 21 im Bereich ihrer horizontalen Knicke von
vorne. Die nach unten gerichteten vertikalen Schenkel
des ersten Rechteckteils 24′ sind hinter den horizonta
len Abschnitten 21′′ des Drahtes 21 nach unten geführt.
Die Verflechtung des zweiten Rechteckteils 24′ des Drah
tes 24 mit dem zweiten Rechteckteil 21′ des Drahtes 21
erfolgt in der gleichen Weise.
Die Verflechtung des Drahtes 24 mit dem darunter ange
ordneten Draht 22 geschieht in derselben Reihenfolge wie
sie zuvor beschrieben wurde, d. h. der horizontale Schen
kel des linken, ersten Rechteckteils 22′ des Drahtes 22
liegt vor den beiden vertikalen Schenkeln des ersten
Rechteckteils 24′ im Bereich ihrer horizontalen Knicke.
Die nach unten gerichteten vertikalen Schenkel des er
sten Rechteckteils 22′ verlaufen hinter den vertikalen
Schenkeln des ersten Rechteckteils 24′. Die horizontalen
Drahtabschnitte 24′′ des Drahtes 24 liegen vor den verti
kalen Schenkeln 22′.
Diese Verflechtung setzt sich über das gesamte Draht
gitterband 6 hinweg fort.
Die elektromagnetische Strahlung mit einem IR-Anteil,
einem im Sichtbaren liegenden und einem UV-Anteil kann
mit herkömmlichen Lampen, die UV-Strahlung abgeben, wie
sie sonst zur Belichtung von lichtempfindlichen Schich
ten auf Druckplatten oder von Fotoresists verwendet wer
den. Ähnliche Lampen finden auch in Einrichtungen zur
künstlichen Hautbräunung, z. B. in Bräunungsstudios oder
in "Heimsonnen", Verwendung. Bevorzugt werden Lampen
eingesetzt, deren elektromagnetische Strahlung einen
Infrarot-Anteil von 50 bis 87%, einen im Sichtbaren
liegenden Anteil von 10 bis 30% und einen Ultraviolett-
Anteil von 3 bis 20% aufweist.
Zum UV-Bereich sollen dabei Wellenlängen von etwa
100 nm bis etwa 380 nm und zum IR-Bereich Wellenlängen
von etwa 780 nm bis etwa 1 mm gezählt werden. Dafür ge
eignete Lampen sind insbesondere Quecksilberdampflampen,
die auch noch einen gewissen Anteil an Metallhalogeni
den, wie Eisenjodid oder Galliumjodid, enthalten können.
Der angegebene Bereich für den IR-Anteil bezieht sich
auf luftgekühlte Lampen, bei beispielsweise wasserge
kühlten Lampen sinkt der IR-Anteil signifikant.
Die Vorrichtung kann kontinuierlich oder auch diskon
tinuierlich betrieben werden, wobei die belichtete und
entwickelte Schicht während des Einbrennens zweckmäßig
äquidistant zur elektromagnetischen Strahlungsquelle
angeordnet wird oder äquidistant an dieser vorbeibe
wegt wird und die Druckplatte von der Schichtseite her
bestrahlt wird, um die thermische Belastung des Schicht
trägers möglichst gering zu halten. Die Plattenrücksei
te wird über ein Metallband mit einem Wärmereservoir
bzw. einem Strahlungsabsorber in Kontakt gebracht.
In der Vorrichtung nach der Erfindung wirkt die elek
tromagnetische Strahlung gleichzeitig und gleichmäßig
auf die gesamte Fläche der belichteten und entwickelten
Schicht ein, wodurch ein besonders gleichmäßiges Ein
brennen aller Bildstellen der Druckplatte und ein mög
lichst hohen thermischen Wirkungsgrad erzielt werden.
Eine verbesserte Ausnutzung der eingestrahlten Wärme
energie läßt sich erreichen, wenn die Absorptionsfähig
keit der belichteten und entwickelten Schicht für IR-
Strahlung durch Zusatz eines Absorptionshilfsmittels
erhöht wird.
Mit der Vorrichtung lassen sich positiv arbeitende
lichtempfindliche Schichten in verhältnismäßig kurzer
Zeit sehr gleichmäßig einbrennen, ohne dabei die mecha
nischen Eigenschaften der Trägermaterialien dieser
Schichten in größerem Maße negativ zu beeinflussen,
dies gelingt bereits bei Einwirkungszeiten der Strah
lung - je nach Abstand von der Strahlungsquelle, und
der Art der Beschichtung und des Trägermaterials - von
etwa 15 bis 90 sec.
In den folgenden Beispielen verhalten sich Gew.-Teile
zu Vol.-Teilen wie g zu cm3, die Prozentangaben sind
solche in Gew.-%. Es werden bekannte Druckplatten des
folgenden Aufbaus eingesetzt:
Eine mechanisch aufgerauhte Aluminiumfolie wird unter
Verwendung einer rotierenden Unterlage zum Abschleudern
der überschüssigen Menge der aufgebrachten Lösung mit
einer Lösung aus
1,5 Gew.-Teilen des Kondensationsproduktes aus 2,3,4-
Trihydroxy-benzophenon und Naphtho
chinon-(1,2) -diazid-(2)-5-sulfo
chlorid,
0,8 Gew.-Teilen des Kondensationsproduktes aus 1 Mol 2,2′-Dihydroxy-1,1′-dinaphthylmethan und 2 Mol Naphthochinon-(1,2)-diazid- (2)-5-sulfochlorid,
0,6 Gew.-Teilen eines durch Kondensation eines tech nischen Kresolgemischs mit Form aldehyd hergestellten Novolaks vom Erweichungspunkt 108° bis 118°C (nach DIN 53 181), und
120 Vol.-Teilen Ethlyenglykolmonomethylether
0,8 Gew.-Teilen des Kondensationsproduktes aus 1 Mol 2,2′-Dihydroxy-1,1′-dinaphthylmethan und 2 Mol Naphthochinon-(1,2)-diazid- (2)-5-sulfochlorid,
0,6 Gew.-Teilen eines durch Kondensation eines tech nischen Kresolgemischs mit Form aldehyd hergestellten Novolaks vom Erweichungspunkt 108° bis 118°C (nach DIN 53 181), und
120 Vol.-Teilen Ethlyenglykolmonomethylether
beschichtet.
Eine elektrolytisch aufgerauhte und anodisch oxidierte
Aluminiumfolie wird mit einer Lösung aus
2,17 Gew.-Teilen des 4-(2-Phenyl-prop-2-yl)phenolesters
der Naphthochinon-(1,2)-diazid-(2)-4-
sulfonsäure,
1,02 Gew.-Teilen des Kondensationsproduktes aus 1 Mol 2,2′-Dihydroxy-1,1′-dinaphthylmethan und 2 Mol Naphthochinon-(1,2)-diazid- (2)-5-sulfochlorid,
0,37 Gew.-Teilen Naphthochinon-(1,2)-diazid-(2)-4-sulfo chlorid,
0,12 Gew.-Teilen Kristallviolett-Base,
9,90 Gew.-Teilen eines Kresol-Formaldehyd-Novolaks vom Erweichungsbereich 112° bis 118°C (nach DIN 53 181),
43 Vol.-Teilen Tetrahydrofuran,
35 Vol.-Teilen Ethylenglykolmonomethylether, und
9 Vol.-Teilen Butylacetat
1,02 Gew.-Teilen des Kondensationsproduktes aus 1 Mol 2,2′-Dihydroxy-1,1′-dinaphthylmethan und 2 Mol Naphthochinon-(1,2)-diazid- (2)-5-sulfochlorid,
0,37 Gew.-Teilen Naphthochinon-(1,2)-diazid-(2)-4-sulfo chlorid,
0,12 Gew.-Teilen Kristallviolett-Base,
9,90 Gew.-Teilen eines Kresol-Formaldehyd-Novolaks vom Erweichungsbereich 112° bis 118°C (nach DIN 53 181),
43 Vol.-Teilen Tetrahydrofuran,
35 Vol.-Teilen Ethylenglykolmonomethylether, und
9 Vol.-Teilen Butylacetat
beschichtet.
Je eine Druckplatte der Typen 1 und 2 von der Größe
1030×800 mm und einer Dicke von 300 µm wird belich
tet, entwickelt und während 5 bis 6 min in einem han
delsüblichen Einbrennschrank mit heißer Umluft einer
Temperatur von 240°C ausgesetzt. Die Beständigkeit der
eingebrannten Bildstellen der Druckform wird durch Ein
wirkenlassen eines Gemisches verschiedener organisches
Lösemittel (auf der Basis von Acetanhydrid, Xylol und
Dimethylformamid) geprüft. Bei der kürzeren Einbrenn
zeit sind die Bildstellen beider Druckplattentypen noch
löslich, während von den während 6 min eingebrannten
Proben die Bildstellen auch nach 5 min Einwirkzeit des
Lösemittelgemisches nicht angelöst werden. Die Zug
festigkeit des Trägermaterials geht bei dieser Einbrenn
zeit von 165 N/mm2 auf 140 N/mm2 (Verlust von etwa 15%)
zurück.
Je eine Druckplatte der Typen 1 und 2 von der Größe
1030×820 mm und der Dicke von 0,3 mm wird wie im Ver
gleichsbeispiel V1 vorbehandelt, mit einer Durchlauf
geschwindigkeit von 1 m/min im Abstand von 8 cm unter
einem handelsüblichen stabförmigen IR-Brenner durchge
führt und einer Temperatur von 230°C ausgesetzt. Bei
der Überprüfung der Beständigkeit der Bildstellen gemäß
den Angaben im Vergleichsbeispiel V1 werden diese ge
rade noch, d. h. nach 5 min Einwirkzeit, leicht angelöst.
Das Trägermaterial zeigt starke Verspannungen. Seine
Zugfestigkeit geht bei dieser Einbrennung von 165 N/
mm2 auf 82 N/mm2 (Verlust von 50%) zurück.
Die Druckform ist aufgrund der gestörten Planlage und
der unzureichenden Einbrennung nicht gebrauchsfähig.
Je eine Druckplatte der Typen 1 und 2 von der Größe
1030×820 mm und der Dicke von 0,3 mm wird, wie im
Vergleichsbeispiel V1 vorbehandelt, mit einer Durch
laufgeschwindigkeit von 1 m/min im Abstand von 8 cm der
gesamten Emission einer stabförmigen Quecksilberdampf
lampe, wie sie zur Härtung von UV-Druckfarben einge
setzt wird, ausgesetzt.
Die Bildstellen sind bei der Beständigkeitsprüfung ge
mäß den Angaben im Vergleichsbeispiel V1 nicht mehr
löslich.
Die Zugfestigkeit des Trägermaterials geht bei dieser
Einbrennung von 168 N/mm2 nur auf 158 N/mm2 (Verlust
von etwa 6%) zurück, und die Planlage wird nur unwe
sentlich beeinflußt.
Eine Druckplatte des Typs 2 wird wie im Vergleichsbei
spiel V1 vorbehandelt und die eine Hälfte während 8 min
in einem handelsüblichen Einbrennschrank einer Tempera
tur von 230°C ausgesetzt und die andere Hälfte gemäß
Beispiel 1 mit einer Durchlaufgeschwindigkeit von 1,0 m/min
der Emission einer Quecksilberdampfbrenners.
Auf beiden Teilen zeigen die auf den Rückseiten aufge
klebten Temperaturmeßstreifen an, daß eine Temperatur
von 230°C erreicht wurde.
Von beiden Druckformen können auf einer handelsüblichen
Offset-Druckmaschine mit einem Feuchtwerk, das mit ei
nem Isopropanol/Wasser-Gemisch betrieben wird, etwa
80 000 gute Drucke erstellt werden, d. h. ein Einbrennen
von positiv arbeitenden, lichtempfindlichen Schichten
nach dem erfindungsgemäßen Verfahren liefert mit signi
fikant kürzerer und das Trägermaterial schonender Ein
brennzeit bei gleicher Schichtzusammensetzung vergleich
bare Ergebnisse beim Drucken von diesen Schichten.
Claims (15)
1. Vorrichtung zum Einbrennen von lichtempfindlichen
Schichten während der Herstellung von Druckformen,
durch Erhitzen der Druckform, mit einem Strahler, der
einen Infrarot-Anteil von 50 bis 87%, einen im Sicht
baren liegenden Anteil von 10 bis 30% und einen Ultra
violett-Anteil von 3 bis 20% in der elektromagneti
schen Strahlung aufweist, dadurch gekennzeichnet, daß
ein Strahlungsabsorber (2) vorhanden ist, über den die
Druckform (3) mit ihrer Rückseite plan geführt ist,
während ihre Schichtseite im konstanten Abstand unter
dem Strahler (4) vorbeigeführt wird, und daß der Strah
lungsabsorber (2) ein Wärmereservoir (5) abdeckt, das
die Wärmeverteilung gleichmäßig und die Temperatur in
dem Strahlungsabsorber (2) weitgehend konstant hält.
2. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeich
net, daß ein endlos umlaufendes Drahtgitterband (6)
vorhanden ist, auf dem die Druckform (3) während des
Durchlaufs durch die Vorrichtung (1) aufliegt, und daß
das Obertrum des Drahtgitterbandes (6) oberhalb des
Strahlungsabsorbers (2) und das Untertrum des Drahtgit
terbandes entlang der Unterseite des Wärmereservoirs
(5) geführt sind.
3. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekenn
zeichnet, daß der Strahlungsabsorber (2) eine Platte
aus einer hitzebeständigen Glaskeramik mit einem ther
mischen Wärmeausdehnungskoeffizienten α von -0,15×
10-6 K-1 bis 0,10-6 K-1 für einen Temperaturbereich
von 20 bis 700°C ist.
4. Vorrichtung nach Anspruch 3, dadurch gekennzeich
net, daß die Dicke des Strahlungsabsorbers (2) im Be
reich von 3,0 bis 5,0 mm liegt.
5. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeich
net, daß das Wärmereservoir (5) aus einer Wanne be
steht, deren Füllung die der Strahlung abgewandte Rück
seite der Druckform (3) thermisch isoliert.
6. Vorrichtung nach Anspruch 5, dadurch gekennzeich
net, daß in dem Wärmereservoir ein ruhendes Luftpolster
vorhanden ist, das die Wärmeverteilung im Strahlungsab
sorber (2) vergleichmäßigt.
7. Vorrichtung nach Anspruch 5, dadurch gekennzeich
net, daß das Wärmereservoir (5) mit Quarzsand gefüllt
ist.
8. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeich
net, daß der Strahler (4) eine variable elektrische
Leistung bis zu 10 kW aufnimmt und in der Höhe, ausge
hend von einem fest vorgegebenen Abstand von dem Draht
gitterband (6), in einem Bereich von 0 bis 25 cm ver
stellbar ist.
9. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeich
net, daß ein Gehäuse (7) den oberhalb des Drahtgitter
bandes (6) befindlichen Teil der Vorrichtung (1) um
schließt und daß durch das Gehäuse (7) eine Spindel (8)
hindurchgeführt ist, die außerhalb des Gehäuses mit ei
nem Griff (9) ausgerüstet ist und innerhalb des Gehäu
ses mit einer Halterung (11) eines Reflektors (10) des
Strahlers (4) im Eingriff steht.
10. Vorrichtung nach Anspruch 9, dadurch gekennzeich
net, daß die Halterung (11) die Gestalt eines Bügels
hat, der mit dem Reflektor (10) fest verbunden ist und
der in der Mitte eine Gewindebohrung (12) aufweist,
durch die die Spindel (8) hindurchgeführt ist und mit
deren Gewinde die Spindel im Eingriff steht.
11. Vorrichtung nach Anspruch 9, dadurch gekennzeich
net, daß der Reflektor (10) aus Metall besteht und daß
ein Gebläse (13) zum Kühlen des Reflektors (10) vorhan
den ist.
12. Vorrichtung nach Anspruch 9, dadurch gekennzeich
net, daß der Reflektor (10) aus einer Glas- oder sonsti
gen Keramik besteht.
13. Vorrichtung nach Anspuch 1, dadurch gekennzeich
net, daß die Rückseite des Strahlungsabsorbers (2), die
auf dem Drahtgitterband (6) aufliegt, beheizt ist.
14. Vorrichtung nach Anspruch 12, dadurch gekenn
zeichnet, daß der Reflektor (10) mit einem Metall aus
der Gruppe Gold, Platin, Silber, Aluminium, Kupfer be
schichtet ist.
15. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeich
net, daß zwei Spindeln (15, 15) durch das Gehäuse (7)
der Vorrichtung (1) hindurchgeführt sind, daß jede
Spindel (15; 15) mit einem Griff (16) ausgestattet ist
und daß die Spindeln (15, 15) parallel zu Breitseiten
(19, 20) des Reflektors (10) angeordnet sind und mit
Gewindebohrungen von Klötzchen (17, 17) im Eingriff
sind, die mit den Breitseiten (19, 20) fest verbunden
sind.
Priority Applications (6)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE4004511A DE4004511A1 (de) | 1990-02-14 | 1990-02-14 | Vorrichtung zum einbrennen von lichtempfindlichen schichten waehrend der herstellung von druckformen |
DK91101837.2T DK0442403T3 (da) | 1990-02-14 | 1991-02-09 | Indretning til indbrænding af lysfølsomme lag under fremstilling af trykforme |
EP91101837A EP0442403B1 (de) | 1990-02-14 | 1991-02-09 | Vorrichtung zum Einbrennen von lichtempfindlichen Schichten während der Herstellung von Druckformen |
DE59107908T DE59107908D1 (de) | 1990-02-14 | 1991-02-09 | Vorrichtung zum Einbrennen von lichtempfindlichen Schichten während der Herstellung von Druckformen |
US07/654,582 US5166523A (en) | 1990-02-14 | 1991-02-13 | Device for burning in light-sensitive layers in the production of printing forms |
JP3042524A JPH04214565A (ja) | 1990-02-14 | 1991-02-14 | 印刷物の作製における光感知層を焼付ける装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE4004511A DE4004511A1 (de) | 1990-02-14 | 1990-02-14 | Vorrichtung zum einbrennen von lichtempfindlichen schichten waehrend der herstellung von druckformen |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE4004511A1 true DE4004511A1 (de) | 1991-08-22 |
Family
ID=6400110
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE4004511A Withdrawn DE4004511A1 (de) | 1990-02-14 | 1990-02-14 | Vorrichtung zum einbrennen von lichtempfindlichen schichten waehrend der herstellung von druckformen |
DE59107908T Expired - Fee Related DE59107908D1 (de) | 1990-02-14 | 1991-02-09 | Vorrichtung zum Einbrennen von lichtempfindlichen Schichten während der Herstellung von Druckformen |
Family Applications After (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE59107908T Expired - Fee Related DE59107908D1 (de) | 1990-02-14 | 1991-02-09 | Vorrichtung zum Einbrennen von lichtempfindlichen Schichten während der Herstellung von Druckformen |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5166523A (de) |
EP (1) | EP0442403B1 (de) |
JP (1) | JPH04214565A (de) |
DE (2) | DE4004511A1 (de) |
DK (1) | DK0442403T3 (de) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE4318735A1 (de) * | 1993-06-05 | 1994-12-08 | Kammann Maschf Werner | UV-Strahler zum Bestrahlen von Druckfarben auf Objekten und Verfahren zum Trocknen von mit Druckfarbe versehenen Objekten |
DE10051641A1 (de) * | 2000-10-18 | 2002-05-02 | Advanced Photonics Tech Ag | Bestrahlungsanordnung |
DE10035430B4 (de) * | 2000-07-20 | 2005-06-16 | Advanced Photonics Technologies Ag | Verfahren und Vorrichtung zur thermischen Behandlung einer Fotolackschicht auf einem Schaltungssubstrat, insbesondere Halbleiterwafer |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE19821237C1 (de) * | 1998-05-12 | 2000-03-02 | Fraunhofer Ges Forschung | Verfahren und Vorrichtung zur Trocknung von Photoresistschichten |
DE102004057293A1 (de) * | 2004-11-26 | 2006-06-01 | Basf Drucksysteme Gmbh | Verfahren zur Herstellung von Flexodruckformen sowie dazu geeignetes Flexodruckelement |
US7490449B1 (en) * | 2007-08-13 | 2009-02-17 | Ralph Eibert | Method and apparatus for making dunnage |
US9126434B2 (en) * | 2014-01-22 | 2015-09-08 | Ricoh Company, Ltd. | Radiant heat control with adjustable reflective element |
Family Cites Families (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE7805619U1 (de) * | 1978-08-24 | Wilhelm Staub Gmbh, 6078 Neu-Isenburg | Gerät zur Wärmebehandlung von Druckplatten, insbesondere Offsetdruckplatten | |
US3046121A (en) * | 1949-07-23 | 1962-07-24 | Azoplate Corp | Process for the manufacture of printing plates and light-sensitive material suttablefor use therein |
US2651702A (en) * | 1949-12-13 | 1953-09-08 | Mcbee Co | Burning-in machine |
DE1447963B2 (de) * | 1965-11-24 | 1972-09-07 | KaIIe AG, 6202 Wiesbaden Biebnch | Verfahren zur herstellung einer offsetdruckform aus einem vorsensibilisierten druckplattenmaterial |
US3694245A (en) * | 1967-10-10 | 1972-09-26 | Bror E Anderson | Thermographic stencil sheet,manufacture thereof,and method of making an imaged stencil sheet |
US3589261A (en) * | 1968-01-16 | 1971-06-29 | Du Pont | Photographic developing apparatus |
BE758409A (fr) * | 1969-11-04 | 1971-05-03 | Kalle Ag | Procede et dispositif pour la cuisson de couches sur des plaques d'impression |
BE793979A (fr) * | 1972-01-15 | 1973-07-12 | Kalle Ag | Procede pour produire des cliches pour l'impression a plat et matiere pour de tels cliches |
DE7202150U (de) * | 1972-01-21 | 1972-05-04 | W Staub Gmbh | Auflagevorrichtung fuer offsetdruckplatten beim einbrennen derselben |
CH613059A5 (en) * | 1975-06-30 | 1979-08-31 | Hoechst Ag | Method for producing a flat-bed printing forme |
DE2855393A1 (de) * | 1978-12-21 | 1980-07-03 | Hoechst Ag | Verfahren zum herstellen von flachdruckformen |
US4334755A (en) * | 1980-03-31 | 1982-06-15 | Western Litho Plate & Supply Co. | Apparatus and method for processing lithographic plates |
DE3110632A1 (de) * | 1981-03-19 | 1982-09-30 | Hoechst Ag, 6000 Frankfurt | Verfahren zum einbrennen von lichtempflindlichen schichten bei der herstellung von druckformen |
US4698504A (en) * | 1986-04-28 | 1987-10-06 | Thermo-O-Type Corporation | Inserts attachable to a wire mesh belt for supporting sheets in a thermography apparatus |
DE8810445U1 (de) * | 1988-08-18 | 1988-11-17 | Könings Elektronische Antriebstechnik und Industrieanlagenbau GmbH & Co. KG, 4060 Viersen | Einbrenn-Tunnelofen |
DE3917844C1 (de) * | 1989-06-01 | 1990-10-31 | Man Roland Druckmaschinen Ag, 6050 Offenbach, De |
-
1990
- 1990-02-14 DE DE4004511A patent/DE4004511A1/de not_active Withdrawn
-
1991
- 1991-02-09 DE DE59107908T patent/DE59107908D1/de not_active Expired - Fee Related
- 1991-02-09 DK DK91101837.2T patent/DK0442403T3/da active
- 1991-02-09 EP EP91101837A patent/EP0442403B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1991-02-13 US US07/654,582 patent/US5166523A/en not_active Expired - Fee Related
- 1991-02-14 JP JP3042524A patent/JPH04214565A/ja active Pending
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE4318735A1 (de) * | 1993-06-05 | 1994-12-08 | Kammann Maschf Werner | UV-Strahler zum Bestrahlen von Druckfarben auf Objekten und Verfahren zum Trocknen von mit Druckfarbe versehenen Objekten |
US5502310A (en) * | 1993-06-05 | 1996-03-26 | Werner Kammann Maschinenfabrik Gmbh | UV-radiating apparatus for irradiating printing ink on items and methods of drying items with printing ink thereon |
DE10035430B4 (de) * | 2000-07-20 | 2005-06-16 | Advanced Photonics Technologies Ag | Verfahren und Vorrichtung zur thermischen Behandlung einer Fotolackschicht auf einem Schaltungssubstrat, insbesondere Halbleiterwafer |
DE10051641A1 (de) * | 2000-10-18 | 2002-05-02 | Advanced Photonics Tech Ag | Bestrahlungsanordnung |
DE10051641B4 (de) * | 2000-10-18 | 2009-10-15 | Advanced Photonics Technologies Ag | Bestrahlungsanordnung |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP0442403A3 (en) | 1991-12-27 |
DE59107908D1 (de) | 1996-07-18 |
EP0442403A2 (de) | 1991-08-21 |
DK0442403T3 (da) | 1996-10-21 |
EP0442403B1 (de) | 1996-06-12 |
JPH04214565A (ja) | 1992-08-05 |
US5166523A (en) | 1992-11-24 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
EP0120834B1 (de) | Optisch strukturiertes Filter und Verfahren zu dessen Herstellung | |
DE2302116C3 (de) | Vorrichtung zur Herstellung einer maskierenden Schicht auf einem Träger mit Hilfe von weichen Röntgenstrahlen | |
EP0195106B1 (de) | Herstellung einer Abhebemaske und ihre Anwendung | |
EP0000702A1 (de) | Verfahren zur Herstellung einer fliessbeständigen Resistmaske aus strahlungsempfindlichem Resistmaterial | |
DE2420589B2 (de) | ||
DE2808300C2 (de) | Beschichtungsflüssigkeit zum photolithographischen Herstellen einer ätzmittelfesten Schablone | |
EP0143437A2 (de) | Verfahren zur Herstellung von Resistmustern und für dieses Verfahren geeigneter Trockenresist | |
EP0442403B1 (de) | Vorrichtung zum Einbrennen von lichtempfindlichen Schichten während der Herstellung von Druckformen | |
DE3036555C2 (de) | Verfahren zum Herstellen gefärbter Fotomasken aus Glas mittels fotografischer Emulsionen | |
EP0061059B1 (de) | Verfahren zum Einbrennen von lichtempfindlichen Schichten bei der Herstellung von Druckformen | |
DE69125653T2 (de) | Verfahren zum Herstellen einer Halbleitervorrichtung einschliesslich eines Herstellungsschrittes für ein Muster eines Fotoresistfilms | |
DE3687902T2 (de) | Verfahren und Vorrichtung für Photolackverarbeitung. | |
DE2931293C2 (de) | Verfahren zur Herstellung einer Flüssigkristallanzeige | |
EP0391200A2 (de) | Herstellung hochwärmebeständiger Reliefstrukturen | |
DE3627136A1 (de) | Belichtungsvorrichtung mit sich bewegendem parallellicht | |
DE102011081837A1 (de) | Verfahren zum Herstellen einer Druckschablone für den technischen Druck zum Aufbringen eines Druckmusters auf ein Substrat und Druckschablone für den technischen Druck | |
DE2001535A1 (de) | Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung metallischer Muster | |
EP1060504A2 (de) | Vorrichtung für eine thermische behandlung von substraten | |
DE2855723C2 (de) | Verfahren zum Herstellen eines Negativmusters einer Vorlage aus einem Positivlack | |
DE3621527A1 (de) | Verfahren zum belichten von halbleiterplaettchen | |
US20030211426A1 (en) | Method of treating photoresists using electrodeless UV lamps | |
DE60200281T2 (de) | Verfahren zur Bildung von Abstandshalter in einer flachen Anzeigevorrichtung | |
DE102011016453A1 (de) | Verfahren zur Herstellung einer Siebdruckform und damit hergestellte Solarzelle | |
DE4332108C1 (de) | Verfahren zur Herstellung von Mikrostrukturkörpern | |
DE2236918C3 (de) | Photokathodenmaske |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
8139 | Disposal/non-payment of the annual fee |