DE3930632A1 - Verfahren zur direkten phasenmessung von strahlung, insbesondere lichtstrahlung, und vorrichtung zur durchfuehrung dieses verfahrens - Google Patents
Verfahren zur direkten phasenmessung von strahlung, insbesondere lichtstrahlung, und vorrichtung zur durchfuehrung dieses verfahrensInfo
- Publication number
- DE3930632A1 DE3930632A1 DE3930632A DE3930632A DE3930632A1 DE 3930632 A1 DE3930632 A1 DE 3930632A1 DE 3930632 A DE3930632 A DE 3930632A DE 3930632 A DE3930632 A DE 3930632A DE 3930632 A1 DE3930632 A1 DE 3930632A1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- radiation
- sensor elements
- sensor
- imaging optics
- reflected
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Ceased
Links
- 230000005855 radiation Effects 0.000 title claims abstract description 101
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 48
- 238000005259 measurement Methods 0.000 title claims abstract description 14
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 claims abstract description 41
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims abstract description 22
- 230000001427 coherent effect Effects 0.000 claims abstract description 9
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims description 3
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 4
- 230000010363 phase shift Effects 0.000 description 4
- 238000011161 development Methods 0.000 description 2
- 230000018109 developmental process Effects 0.000 description 2
- 238000010008 shearing Methods 0.000 description 2
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000149 argon plasma sintering Methods 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 230000001066 destructive effect Effects 0.000 description 1
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 1
- 238000005305 interferometry Methods 0.000 description 1
- 238000011835 investigation Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 1
- 230000005693 optoelectronics Effects 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
- 238000004154 testing of material Methods 0.000 description 1
- 230000004304 visual acuity Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
- G01J9/00—Measuring optical phase difference; Determining degree of coherence; Measuring optical wavelength
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B9/00—Measuring instruments characterised by the use of optical techniques
- G01B9/02—Interferometers
- G01B9/02041—Interferometers characterised by particular imaging or detection techniques
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B9/00—Measuring instruments characterised by the use of optical techniques
- G01B9/02—Interferometers
- G01B9/02094—Speckle interferometers, i.e. for detecting changes in speckle pattern
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
- G01J9/00—Measuring optical phase difference; Determining degree of coherence; Measuring optical wavelength
- G01J9/02—Measuring optical phase difference; Determining degree of coherence; Measuring optical wavelength by interferometric methods
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
- G01J9/00—Measuring optical phase difference; Determining degree of coherence; Measuring optical wavelength
- G01J9/02—Measuring optical phase difference; Determining degree of coherence; Measuring optical wavelength by interferometric methods
- G01J9/0215—Measuring optical phase difference; Determining degree of coherence; Measuring optical wavelength by interferometric methods by shearing interferometric methods
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01S—RADIO DIRECTION-FINDING; RADIO NAVIGATION; DETERMINING DISTANCE OR VELOCITY BY USE OF RADIO WAVES; LOCATING OR PRESENCE-DETECTING BY USE OF THE REFLECTION OR RERADIATION OF RADIO WAVES; ANALOGOUS ARRANGEMENTS USING OTHER WAVES
- G01S17/00—Systems using the reflection or reradiation of electromagnetic waves other than radio waves, e.g. lidar systems
- G01S17/88—Lidar systems specially adapted for specific applications
- G01S17/89—Lidar systems specially adapted for specific applications for mapping or imaging
- G01S17/894—3D imaging with simultaneous measurement of time-of-flight at a 2D array of receiver pixels, e.g. time-of-flight cameras or flash lidar
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
- Measurement Of Mechanical Vibrations Or Ultrasonic Waves (AREA)
- Measurement Of Radiation (AREA)
Description
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur direkten Phasenmessung
von Strahlung, insbesondere Lichtstrahlung, die von einem Körper
mit diffus reflektierender Oberfläche reflektiert wird. Weiter
hin betrifft die Erfindung eine Vorrichtung zur Durchführung
eines derartigen Verfahrens.
Das Verfahren der direkten Phasenmessung kann dazu benutzt
werden, um Linienbilder quantitativ auszuwerten, wie sie bei
interferometrischen Methoden oder bei der Projektion von Linien
mustern auf Objektive oder bei Moir´-Methoden entstehen. Die
genannten Methoden dienen zur Messung des optischen Weges oder
zur Messung der Änderungen des optischen Weges, hervorgerufen
durch Verschiebungen oder Verformungen lichtstreuender Objekte
oder Brechzahländerungen transparenter Objekte. Projektions-
oder Moir´-Methoden dienen u.a. der Bestimmung von drei
dimensionalen Formen von Objekten oder deren Änderung.
Es ist bereits bekannt, Linienbilder auf der Oberfläche eines
räumlichen Körpers mit der Phasenshift-Technik auszuwerten. Ein
derartiges Verfahren ist in der DE-OS 37 23 555 beschrieben, das
sich allerdings nur auf Projektions- und Moir´-Verfahren be
zieht. Auf den Inhalt dieser Vorveröffentlichung wird Bezug
genommen. Bei dem vorbekannten Verfahren werden mindestens drei
phasenverschobene Bilder in einen Rechner eingelesen und
ausgewertet. Zur vollständigen, automatischen Bestimmung des
räumlichen Verlaufs der Oberfläche des Körpers, also zur
Bestimmung aller drei Raumkoordinaten für jeden Punkt der
Oberfläche des Körpers, ist es erforderlich, mindestens drei
phasenverschobene Bilder in den Rechner einzulesen und
auszuwerten, da in der Gleichung für die gemessene Intensität
eines jeweiligen Bildpunktes drei Unbekannte vorliegen:
I = a (x) (1 + m (x) cos Φ)
Hierin bedeuten
I = Intensität (gemessen)
a = Untergrundhelligkeit
m = Kontrast
Φ = Phasenverschiebung (gesuchte Größe)
a = Untergrundhelligkeit
m = Kontrast
Φ = Phasenverschiebung (gesuchte Größe)
Da lediglich die Intensität gemessen werden kann, befinden sich
in der obengenannten Gleichung drei Unbekannte. Zur Ermittlung
der gesuchten Phasenverschiebung ist es also erforderlich, drei
Gleichungen zu erhalten, was dadurch erfolgt, daß drei phasenver
schobene Bilder aufgenommen werden. Die Einzelheiten sind in der
DE-OS 37 23 555 beschrieben, auf deren Inhalt Bezug genommen
wird.
Bei dem vorbekannten Verfahren kann der räumliche Verlauf der
Oberfläche eines Körpers auch mit nur einer einzigen Aufnahme
berechnet werden, wenn zusätzliche weitere Informationen einge
geben werden. In der Praxis ist es jedoch oft wünschenswert oder
sogar erforderlich, den räumlichen Verlauf der Oberfläche eines
Körpers automatisch ohne zusätzlich einzugebende Informationen
zu ermitteln. In diesem Fall müssen bei dem vorbekannten Verfah
ren drei Aufnahmen gemacht werden. Während der Zeitspanne zwi
schen diesen Aufnahmen kann sich die Oberfläche des Körpers ver
ändern. Hierdurch können dann zu ungenaue oder gar unbrauchbare
Ergebnisse entstehen. Insbesondere bei der Schwingungsanalyse
muß der Oberflächenverlauf durch eine einzige Aufnahme festge
stellt werden können.
Aufgabe der Erfindung ist es, ein Verfahren der eingangs ange
gebenen Art zur direkten Phasenmessung von Strahlung und eine
Vorrichtung zur Durchführung eines derartigen Verfahrens vorzu
schlagen, mit denen mit einer einzigen Aufnahme eine vollstän
dige Phasenmessung möglich ist.
Bei einem Verfahren der eingangs angegebenen Art wird diese Auf
gabe durch die im kennzeichnenden Teil des Anspruchs 1 angege
benen Merkmale gelöst. Danach wird der Körper mit kohärenter
Strahlung (z.B. Laserstrahlung) einer vorbestimmten Frequenz
bestrahlt. Es wird die (diffus) reflektierte Strahlung von einer
Abbildungsoptik in eine Bildebene abgebildet, in der sich ein
Sensor mit einer Vielzahl von vorzugsweise regelmäßig angeord
neten Sensorelementen befindet. Bei einem analogen Sensor (z.B.
Röhrenkamera) entspricht das Sensorelement der Auflösung. Auf
den Sensor wird eine Referenzstrahlung mit gleicher Frequenz und
definierter Phasenlage überlagert, so daß ein Interferenzfeld
auf dem Sensor entsteht. Der Referenzstrahl wird dabei so ein
gestellt, daß eine Periode des Interferenzfeldes mindestens drei
Sensorelemente überdeckt. Die Abbildungsoptik wird derart aus
gebildet bzw. eingestellt, daß die Bilder der durch die Strah
lung auf dem Körper erzeugten speckles in der Bildebene eben
falls mindestens drei Sensorelemente überdecken. Aus den Intensi
tätssignalen der mindestens drei Sensorelemente wird die Phase
der Strahlung von dem Körper bestimmt.
Bei der Bestrahlung eines diffus reflektierenden Körpers oder
diffus streuenden Körpers (z.B. Mattscheibe) mit kohärenter
Strahlung, wie beispielsweise Laserlicht, werden sogenannte
speckles sichtbar. Der physikalische Mechanismus, der dieser
speckle-Bildung zugrundeliegt, ist bekannt.
Der durchschnittliche Durchmesser eines speckles errechnet sich
nach der Formel (Literatur: Charles Vest: Holografic
Interferometry, Seite 35; Verlag: John Wiley & Sons, New York)
d = 1,5×L×z/D
Hierin bedeuten:
d = durchschnittlicher speckle-Durchmesser
L = Wellenlänge der Strahlung
z = Bildweite (Abstand der Hauptebene der Abbildungsoptik von der Bildebene)
D = Durchmesser der Abbildungsoptik (bzw. des Objektivs der Abbildungsoptik)
L = Wellenlänge der Strahlung
z = Bildweite (Abstand der Hauptebene der Abbildungsoptik von der Bildebene)
D = Durchmesser der Abbildungsoptik (bzw. des Objektivs der Abbildungsoptik)
Den Bildern der speckles in der Bildebene wird eine Referenz
strahlung mit einer vorgegebenen Trägerfrequenz überlagert. Die
Referenzstrahlung besitzt eine definierte Phasenlage. Durch die
Überlagerung der Referenzstrahlung mit der vom Körper reflektier
ten Strahlung entsteht ein Interferenzmuster. Dieses
Interferenzmuster, das der Trägerfrequenz entspricht, wird so
eingestellt, daß eine Periode auf mindestens drei Sensorelemente
(Pixel) entfällt. Das für jedes speckle entstehende Interferenz
muster wird von mindestens drei Sensorelementen (pixel = picture
element) empfangen. Man erhält also pro speckle mindestens drei
Stützstellen für die Bestimmung der Phasenlage. Für eine Gruppe
von drei Sensorelementen kann damit die Phasenlage eindeutig
berechnet werden. Im Endergebnis wird durch diese Verfahrens
weise das Auflösungsvermögen des Sensors auf ein Drittel
reduziert, da für die Phasenbestimmung eines Punktes drei
Sensorelemente erforderlich sind. Hierfür erhält man jedoch den
großen Vorteil, daß man die Phasenlage mit einer einzigen Auf
nahme eindeutig bestimmen und berechnen kann. Aus der Phasenlage
kann auf die Koordinaten der Oberfläche des Körpers geschlossen
werden beispielsweise nach dem Verfahren der DE-OS 37 23 555.
Bei gerichteten Strahlen, wie sie bei spiegelnden oder trans
parenten Objekten auftreten, treten keine speckles auf. Das
Interferenzfeld auf dem Sensor zwischen der von dem Objekt
kommenden Strahlung und der Referenzstrahlung ist dann so
einzustellen, daß eine Periode dieses Interferenzfeldes
mindestens drei Sensorelemente überdeckt.
Das erfindungsgemäße Verfahren eignet sich besonders für die
Schwingungsanalyse (Analyse von dynamischen Verformungen), für
die zerstörungsfreie Werkstoffprüfung, für die Konturprüfung
(beispielsweise von Zähnen), für die Verformungsmessung (Analyse
statischer Verformungen), für interferometrische und projizieren
de Verfahren, für Moir´ und auch für die Spannungsoptik.
Vorteilhafte Weiterbildungen des Verfahrens sind in den Unter
ansprüchen beschrieben.
Die Sensorelemente (pixel) können zeilenweise längs paralleler
Linien vorzugsweise gleichbeabstandet angeordnet sein. Vorzugs
weise wird die Abbildungsoptik derart ausgebildet bzw. einge
stellt, daß die Bilder der durch die Strahlung auf dem Körper
erzeugten speckles in der Bildebene mindestens drei nebenein
ander liegende Sensorelemente einer Zeile überdecken. Es werden
dann drei in einer Zeile nebeneinander liegende Stützstellen für
die Bestimmung der Phasenlage verwendet.
Vorzugsweise wird die Referenzstrahlung durch einen Lichtwellen
leiter in die Abbildungsoptik eingeleitet. Eine andere Möglich
keit besteht darin, die Referenzstrahlung durch eine vor oder in
der Abbildungsoptik angeordnete Blende mit mehreren, vorzugswei
se zwei, Aperturen zu erzeugen. Die Referenzstrahlung kann auch
durch einen vor oder in der Abbildungsoptik angeordneten opti
schen Keil (Prisma) erzeugt werden, der einen Teil, vorzugsweise
eine Hälfte, der Apertur der Abbildungsoptik überdeckt. Dieses
Verfahren ist als "Shearing-Verfahren" bereits bekannt, das zur
Verformungsmessung verwendet wird. Es wurde in der Literatur
stelle Applied Optics, Vol. 18, No. 7, April 1, 1979, S. 1046-
1051, beschrieben (Y.Y. Hung and C.Y. Liang, Image-Shearing
camera for direct measurement of surface strains). Die Abbildung
erfolgte hier nicht auf einen optoelektronischen Sensor mit der
Besonderheit, daß die Periode der Trägerfrequenz auf mindestens
drei pixel abgestimmt ist, sondern auf normales Silberschicht
fotomaterial.
Die Referenzstrahlung kann auch durch ein vor oder in der Abbil
dungsoptik angeordnetes optisches Gitter erzeugt werden.
Vorzugsweise werden auf den Sensor mehrere Referenzstrahlungen
mit jeweils einer vorbestimmten, vorzugsweise konstanten Träger
frequenz mit definierter Phasenlage überlagert. Es können zwei
Referenzstrahlungen überlagert werden. Die Referenzstrahlungen
können jeweils verschiedene Frequenzen aufweisen.
Die oben angegebene Aufgabe wird auch durch eine Vorrichtung
nach dem Anspruch 12 gelöst. Vorteilhafte Weiterbildungen dieser
Vorrichtung sind in den weiteren Unteransprüchen beschrieben.
Die Erfindung betrifft weiterhin ein Verfahren zur direkten
Phasenmessung von Strahlung, insbesondere Lichtstrahlung oder
Infrarotstrahlung, die ein transparentes Medium durchläuft oder
die von einer spiegelnden Oberfläche reflektiert wird. Die oben
angegebene Aufgabe wird bei einem derartigen Verfahren durch die
kennzeichnenden Merkmale des Anspruchs 11 gelöst. Weiterhin
betrifft die Erfindung eine Vorrichtung zur Durchführung des
Verfahrens nach Anspruch 11, die aus den Merkmalen des Anspruchs
22 besteht.
Ausführungsbeispiele der Erfindung werden nachstehend anhand der
beigefügten Zeichnungen im einzelnen beschrieben. In den Zeich
nungen zeigt
Fig. 1 eine Darstellung des Verfahrens in einer schema
tischen Ansicht,
Fig. 2 einen Sensor mit Sensorelementen (pixel) in einer
schematischen Darstellung,
Fig. 3 eine Abbildungsoptik in einer schematischen Dar
stellung,
Fig. 4 den Verlauf der Intensität der Strahlung im Ver
hältnis zu einer Zeile des Sensors in einer
schematischen Darstellung,
Fig. 5 eine Abbildungsoptik mit einem Lichtwellenleiter,
Fig. 6 eine Abbildungsoptik mit einer Blende mit
mehreren Aperturen,
Fig. 7 eine Abbildungsoptik mit einem Gitter,
Fig. 8 eine Abbildungsoptik mit einem Keil (Prisma) und
Fig. 9 eine Darstellung des Verfahrens für Phasen
objekte.
Die Fig. 1 zeigt eine Schemadarstellung des erfindungsgemäßen
Verfahrens sowie einer Vorrichtung zur Durchführung dieses Ver
fahrens. Von der Strahlungsquelle 1 wird kohärente Strahlung
(Laserstrahlung) 2 einer vorbestimmten Frequenz auf den Körper 3
mit diffus reflektierender Oberfläche 4 gestrahlt.
Die von der Oberfläche 4 des Körpers 3 reflektierte Strahlung 5
wird von einer Abbildungsoptik 6 in eine Bildebene 7 abgebildet.
In der Bildebene 7 ist ein Sensor 8 mit einer Vielzahl von regel
mäßig angeordneten Sensorelementen 9 (Fig. 2) angeordnet. Der
Sensor kann ein CCD-Sensor bzw. eine CCD-Matrix sein. Bei den
zur Zeit erreichbaren Sensorelement-Dichten befinden sich etwa
100 Sensorelemente (pixel) pro mm auf dem Sensor.
Der Sensor 8 wird weiterhin von einer Referenzstrahlungquelle 10
mit einer Referenzstrahlung 11 mit einer vorbestimmten, vorzugs
weise konstanten Trägerfrequenz mit definierter Phasenlage be
strahlt. Die Frequenz der Referenzstrahlung ist vorzugsweise
genauso groß wie die Frequenz der Strahlung 2.
Die Abbildungsoptik 6 ist derart ausgebildet bzw. eingestellt,
daß die Bilder der durch die Strahlung 2 auf der Oberfläche 4
des Körpers 3 erzeugten speckles in der Bildebene 8 mindestens
drei Sensorelemente 9 überdecken. Dies wird anhand der Fig. 2
deutlich: Das dort angedeutete speckle 12 überdeckt mindestens
drei Sensorelemente 13, 14, 15. Aus den Intensitätssignalen der
mindestens drei Sensorelemente wird die Phase der Strahlung 5
von der Oberfläche 4 des Körpers 3 durch eine in der Zeichnung
nicht dargestellte Recheneinheit bestimmt.
Wie aus Fig. 2 ersichtlich, sind die Sensorelemente zeilenweise
längs paralleler Linien gleichbeabstandet angeordnet. Die Abbil
dungsoptik 6 ist derart ausgebildet bzw. eingestellt, daß die
Bilder der durch die Strahlung 2 auf der Oberfläche 4 des Kör
pers 3 erzeugten speckles 12 in der Bildebene mindestens drei
nebeneinanderliegende Sensorelemente 13, 14, 15 einer Zeile
überdecken.
In der Fig. 4 ist schematisch die Intensität I dargestellt.
Durch die Interferenz der Strahlung 5 von der Oberfläche 4 des
Körpers 3 mit der Referenzstrahlung 11 wird der in der Fig. 4
gezeigte Intensitätsverlauf I erzeugt. Über drei Sensorelemente
21, 22, 23 verläuft mindestens eine volle Schwingung der Inten
sität I, wie aus Fig. 4 ersichtlich. Die drei Sensorelemente 21,
22, 23 können also als Stützstellen für die Bestimmung der
Phasenlage herangezogen werden. Aus den Intensitäten der drei
Sensorelemente 21, 22, 23 wird die Phasenlage bestimmt bzw.
errechnet. Drei nebeneinander liegende Sensorelemente ergeben
also einen Wert für die Phasenlage. Anschließend wird das
Verfahren mit den Sensorelementen 22, 23, 24 als Stützstellen
für die Bestimmung der nächsten Phasenlage wiederholt. Auf diese
Weise wird innerhalb einer Zeile fortgeschritten und anschlie
ßend auch zeilenweise fortgeschritten.
Die Fig. 3 zeigt die Abbildungsoptik 6 in einer ausführlicheren
Darstellung. Die von der Oberfläche 4 des Körpers kommende
Strahlung wird von der Abbildungsoptik 6 in die Bildebene 7
abgebildet. Der Durchmesser D des Objektivs 6 und die Bildweite
z sind derart gewählt, daß zusammen mit der Wellenlänge L der
Strahlung der entstehende speckle-Durchmesser d so groß wird,
daß er mindestens drei Sensorelemente überdeckt.
In der Fig. 5 ist eine Abbildungsoptik gezeigt, in die ein
Lichtwellenleiter 31 eingeleitet wird. Durch diesen Licht
wellenleiter wird die Referenzstrahlung erzeugt.
In der in Fig. 6 dargestellten Abbildungsoptik befindet sich
eine Blende 32 mit mehreren Aperturen 33 vor dem Objektiv 6.
Durch diese Blende mit den beiden Aperturen wird die Referenz
strahlung erzeugt.
In der Fig. 7 ist ein anderes Ausführungsbeispiel für die
Erzeugung der Referenzstrahlung gezeigt. Vor dem Objektiv 6
befindet sich eine optisches Gitter 34 zur Erzeugung der
Referenzstrahlung.
In der Ausführungsform der Fig. 8 ist vor dem Objektiv 6 ein
optischer Keil 35 bzw. ein Prisma angeordnet, welches die obere
Hälfte der Abbildungsoptik 6 überdeckt. Es wird also das soge
nannte Shearing-Verfahren durchgeführt.
In der Fig. 9 ist ein Aufbau zur Phasenmessung mit transparenten
Objekten dargestellt. Dieser Aufbau eignet sich grundsätzlich
auch für die Phasenmessung bei Objekten mit spiegelnder Ober
fläche. Eine kohärente Strahlung, ausgehend von einer Laserdiode
36, wird nach der Strahlteilung für den Referenzstrahl 37 im
Strahlteiler 38 aufgeweitet mit einer teleskopischen Linsen
anordnung 39. Der aufgeweitete Strahl durchläuft die Probe 40,
wo er in Abhängigkeit einer Brechzahländerung, hervorgerufen
durch Temperatur-, Druck- oder Konzentrationsänderung, eine
Phasenverschiebung erfährt. Die Probe 40 wird dann mit einem
Objektiv 41 auf den Sensor 42 abgebildet. Auf den Sensor 42 wird
das Objektlicht 43 mit dem Referenzstrahl 37 überlagert, der
z.B. über einen Spiegel 44 in einen Lichtwellenleiter 45 ein
gekoppelt wird.
Falls wahlweise im Objektstrahl eine Mattscheibe angeordnet
wird, entsteht diffuse Strahlung, die dann wieder so abgebildet
wird, daß die speckles mindestens drei Sensorelemente über
decken.
Claims (22)
1. Verfahren zur direkten Phasenmessung von Strahlung, insbe
sondere Lichtstrahlung und Infrarotstrahlung, die von einem
Körper (3) mit diffus reflektierender Oberfläche (4)
reflektiert wird,
dadurch gekennzeichnet,
daß der Körper (3) mit kohärenter Strahlung (2) einer bestimmten Frequenz bestrahlt wird,
daß die reflektierte Strahlung (5) von einer Abbildungsoptik (6) in eine Bildebene (7) abgebildet wird, in der sich ein Sensor (8) mit einer Vielzahl von vorzugsweise regelmäßig angeordneten Sensorelementen (9) befindet,
daß auf den Sensor (8) eine Referenzstrahlung (11) mit gleicher Frequenz und definierter Phasenlage überlagert wird, so daß durch die Überlagerung eine vorzugsweise konstante Trägerfrequenz entsteht,
daß die Abbildungsoptik (6) derart ausgebildet bzw. einge stellt wird, daß die Bilder der durch die Strahlung (5) auf dem Körper (3) erzeugten speckles (12) in der Bildebene (7) mindestens drei Sensorelemente (13, 14, 15) überdecken,
daß der Referenzstrahl so eingekoppelt wird, daß die Periode der Trägerfrequenz mindestens drei Sensorelemente (13, 14, 15) überdeckt
und daß aus den Intensitätssignalen der mindestens drei Sensorelemente die Phase der Strahlung (5) von dem Körper (3) bestimmt wird.
daß der Körper (3) mit kohärenter Strahlung (2) einer bestimmten Frequenz bestrahlt wird,
daß die reflektierte Strahlung (5) von einer Abbildungsoptik (6) in eine Bildebene (7) abgebildet wird, in der sich ein Sensor (8) mit einer Vielzahl von vorzugsweise regelmäßig angeordneten Sensorelementen (9) befindet,
daß auf den Sensor (8) eine Referenzstrahlung (11) mit gleicher Frequenz und definierter Phasenlage überlagert wird, so daß durch die Überlagerung eine vorzugsweise konstante Trägerfrequenz entsteht,
daß die Abbildungsoptik (6) derart ausgebildet bzw. einge stellt wird, daß die Bilder der durch die Strahlung (5) auf dem Körper (3) erzeugten speckles (12) in der Bildebene (7) mindestens drei Sensorelemente (13, 14, 15) überdecken,
daß der Referenzstrahl so eingekoppelt wird, daß die Periode der Trägerfrequenz mindestens drei Sensorelemente (13, 14, 15) überdeckt
und daß aus den Intensitätssignalen der mindestens drei Sensorelemente die Phase der Strahlung (5) von dem Körper (3) bestimmt wird.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die
Sensorelemente (9) zeilenweise längs paralleler Linien vor
zugsweise gleichbeabstandet angeordnet sind.
3. Verfahren nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß die
Abbildungsoptik (6) derart ausgebildet bzw. eingestellt
wird, daß die Bilder der durch die Strahlung (2) auf dem
Körper (3) erzeugten speckles in der Bildebene (7) min
destens drei nebeneinander liegende Sensorelemente (13, 14,
15) einer Zeile überdecken.
4. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch
gekennzeichnet, daß die Referenzstrahlung (11) durch einen
Lichtwellenleiter (31) in die Abbildungsoptik (6) einge
leitet wird (Fig. 5).
5. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekenn
zeichnet, daß die Referenzstrahlung (11) durch eine vor oder
in der Abbildungsoptik (6) angeordnete Blende (32) mit meh
reren, vorzugsweise zwei, Aperturen (33) erzeugt wird (Fig.
6).
6. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekenn
zeichnet, daß die Referenzstrahlung (11) durch einen vor
oder in der Abbildungsoptik (6) angeordneten optischen Keil
(35) (Prisma) erzeugt wird, der einen Teil, vorzugsweise
eine Hälfte, der Apertur der Abbildungsoptik (6) überdeckt
(Fig. 8).
7. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekenn
zeichnet, daß die Referenzstrahlung (11) durch ein vor oder
in der Abbildungsoptik (6) angeordnetes optisches Gitter
(34) erzeugt wird (Fig. 7).
8. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch
gekennzeichnet, daß auf den Sensor (8) mehrere Referenz
strahlungen mit jeweils einer vorbestimmten, vorzugsweise
konstanten Trägerfrequenz mit definierter Phasenlage über
lagert werden.
9. Verfahren nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, daß zwei
Referenzstrahlungen überlagert werden.
10. Verfahren nach Anspruch 8 oder 9, dadurch gekennzeichnet,
daß die Referenzstrahlungen jeweils verschiedene Frequenz
aufweisen.
11. Verfahren zur direkten Phasenmessung von Strahlung, insbeson
dere Lichtstrahlung oder Infrarotstrahlung, die ein transpa
rentes Medium durchläuft oder die von einer spiegelnden Ober
fläche reflektiert wird,
dadurch gekennzeichnet,
daß die durch das transparente Medium (40) getretene oder von der spiegelnden Oberfläche reflektierte, kohärente Strahlung (43) auf einen Sensor (42) mit einer Vielzahl von vorzugsweise regelmäßig angeordneten Sensorelementen mit einer Referenzstrahlung (37) mit gleicher Frequenz und definierter Phasenlage so überlagert wird, daß eine Periode des durch die Überlagerung entstehenden Interferenzfeldes mindestens drei Sensorelemente überdeckt
und daß aus den Intensitätssignalen der mindestens drei Sensorelemente die Phase der durch das transparente Medium getretenen oder von der spiegelnden Oberfläche reflektierten Strahlung (43) bestimmt wird.
daß die durch das transparente Medium (40) getretene oder von der spiegelnden Oberfläche reflektierte, kohärente Strahlung (43) auf einen Sensor (42) mit einer Vielzahl von vorzugsweise regelmäßig angeordneten Sensorelementen mit einer Referenzstrahlung (37) mit gleicher Frequenz und definierter Phasenlage so überlagert wird, daß eine Periode des durch die Überlagerung entstehenden Interferenzfeldes mindestens drei Sensorelemente überdeckt
und daß aus den Intensitätssignalen der mindestens drei Sensorelemente die Phase der durch das transparente Medium getretenen oder von der spiegelnden Oberfläche reflektierten Strahlung (43) bestimmt wird.
12. Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens nach einem der
Ansprüche 1 bis 10, bestehend aus
einer Strahlungsquelle (1), insbesondere einer Lichtquelle, zur Abgabe von kohärenter Strahlung (2) einer vorbestimmten Frequenz auf einen Körper (3) mit diffus reflektierender Oberfläche (4),
einer Abbildungsoptik (6) zum Abbilden der von dem Körper (3) reflektierten Strahlung (5) in eine Bildebene (7),
einem in der Bildebene (7) angeordneten Sensor (8) mit einer Vielzahl von vorzugsweise regelmäßig angeordneten Sensor elementen (9),
einer Referenzstrahlungsquelle (10) zur Überlagerung des Sensors (8) mit einer Referenzstrahlung (11) mit gleicher Frequenz und definierter Phasenlage, so daß durch die Über lagerung eine vorzugsweise konstante Trägerfrequenz ent steht,
wobei die Abbildungsoptik (6) derart ausgebildet bzw. ein gestellt ist, daß die Bilder der durch die Strahlung (2) auf dem Körper (3) erzeugten speckles in der Bildebene (7) min destens drei Sensorelemente (13, 14, 15) überdecken,
wobei der Referenzstrahl so eingekoppelt wird, daß die Periode der Trägerfrequenz mindestens drei Sensorelemente (13, 14, 15) überdeckt
und wobei ein Rechner vorgesehen ist, der aus den Intensi tätssignalen der mindestens drei Sensorelemente (13, 14, 15) die Phase der Strahlung (5) von dem Körper (3) bestimmt.
einer Strahlungsquelle (1), insbesondere einer Lichtquelle, zur Abgabe von kohärenter Strahlung (2) einer vorbestimmten Frequenz auf einen Körper (3) mit diffus reflektierender Oberfläche (4),
einer Abbildungsoptik (6) zum Abbilden der von dem Körper (3) reflektierten Strahlung (5) in eine Bildebene (7),
einem in der Bildebene (7) angeordneten Sensor (8) mit einer Vielzahl von vorzugsweise regelmäßig angeordneten Sensor elementen (9),
einer Referenzstrahlungsquelle (10) zur Überlagerung des Sensors (8) mit einer Referenzstrahlung (11) mit gleicher Frequenz und definierter Phasenlage, so daß durch die Über lagerung eine vorzugsweise konstante Trägerfrequenz ent steht,
wobei die Abbildungsoptik (6) derart ausgebildet bzw. ein gestellt ist, daß die Bilder der durch die Strahlung (2) auf dem Körper (3) erzeugten speckles in der Bildebene (7) min destens drei Sensorelemente (13, 14, 15) überdecken,
wobei der Referenzstrahl so eingekoppelt wird, daß die Periode der Trägerfrequenz mindestens drei Sensorelemente (13, 14, 15) überdeckt
und wobei ein Rechner vorgesehen ist, der aus den Intensi tätssignalen der mindestens drei Sensorelemente (13, 14, 15) die Phase der Strahlung (5) von dem Körper (3) bestimmt.
13. Vorrichtung nach Anspruch 12, dadurch gekennzeichnet, daß
die Sensorelemente (9) zeilenweise längs paralleler Linien
vorzugsweise gleichbeabstandet angeordnet sind (Fig. 2).
14. Vorrichtung nach Anspruch 13, dadurch gekennzeichnet, daß
die Abbildungsoptik (6) derart ausgebildet bzw. eingestellt
ist, daß die Bilder der durch die Strahlung (2) auf dem
Körper (3) erzeugten speckles in der Bildebene (7) min
destens drei nebeneinander liegende Sensorelemente (13, 14,
15) in einer Zeile überdecken.
15. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 11 bis 13, dadurch
gekennzeichnet, daß die Referenzstrahlungsquelle aus einem
in die Abbildungsoptik (6) führenden Lichtwellenleiter (31)
besteht (Fig. 5).
16. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 11 bis 14, dadurch
gekennzeichnet, daß die Referenzstrahlungsquelle aus einer
vor oder in der Abbildungsoptik (6) angeordneten Blende (32)
mit mehreren, vorzugsweise zwei, Aperturen (33) besteht
(Fig. 6).
17. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 11 bis 14, dadurch
gekennzeichnet, daß die Referenzstrahlungsquelle aus einem
vor oder in der Abbildungsoptik (6) angeordneten optischen
Keil (35) (Prisma) besteht, der einen Teil, vorzugsweise
eine Hälfte, der Apertur der Abbildungsoptik (6) überdeckt
(Fig. 8) .
18. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 11 bis 14, dadurch
gekennzeichnet, daß die Referenzstrahlungquelle aus einem
vor oder in der Abbildungsoptik (6) angeordneten optischen
Gitter (34) besteht (Fig. 7).
19. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 11 bis 18, gekenn
zeichnet durch mehrere Referenzstrahlungsquellen zur
Bestrahlung des Sensors (8) mit jeweils einer Referenz
strahlung mit einer vorbestimmten, vorzugsweise konstanten
Trägerfrequenz mit definierter Phasenlage.
20. Vorrichtung nach Anspruch 19, gekennzeichnet durch zwei
Referenzstrahlungquellen.
21. Vorrichtung nach Anspruch 19 oder 20, dadurch gekenn
zeichnet, daß die Referenzstrahlungen jeweils verschiedene
Frequenz aufweisen.
22. Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens nach Anspruch
11, bestehend aus
einer Strahlungsquelle (36), insbesondere einer Lichtquelle, zur Abgabe von kohärenter Strahlung einer vorbestimmten Frequenz auf ein transparentes Medium (40) oder einen Körper mit einer spiegelnden Oberfläche,
einem Sensor (42) mit einer Vielzahl von vorzugsweise regel mäßig angeordneten Sensorelementen,
einer Referenzstrahlungsquelle zur Bestrahlung des Sensors (42) mit gleicher Frequenz wie die durch das transparente Medium getretene oder von dem Körper mit spiegelnder Ober fläche reflektierte Strahlung,
wobei eine Periode des durch die Überlagerung entstehenden Interferenzfeldes mindestens drei Sensorelemente überdeckt,
und einem Rechner, der aus den Intensitätssignalen der mindestens drei Sensorelemente die Phase der durch das transparente Medium (40) getretenen oder von der spiegelnden Oberfläche reflektierten Strahlung bestimmt.
einer Strahlungsquelle (36), insbesondere einer Lichtquelle, zur Abgabe von kohärenter Strahlung einer vorbestimmten Frequenz auf ein transparentes Medium (40) oder einen Körper mit einer spiegelnden Oberfläche,
einem Sensor (42) mit einer Vielzahl von vorzugsweise regel mäßig angeordneten Sensorelementen,
einer Referenzstrahlungsquelle zur Bestrahlung des Sensors (42) mit gleicher Frequenz wie die durch das transparente Medium getretene oder von dem Körper mit spiegelnder Ober fläche reflektierte Strahlung,
wobei eine Periode des durch die Überlagerung entstehenden Interferenzfeldes mindestens drei Sensorelemente überdeckt,
und einem Rechner, der aus den Intensitätssignalen der mindestens drei Sensorelemente die Phase der durch das transparente Medium (40) getretenen oder von der spiegelnden Oberfläche reflektierten Strahlung bestimmt.
Priority Applications (7)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE3930632A DE3930632A1 (de) | 1989-09-13 | 1989-09-13 | Verfahren zur direkten phasenmessung von strahlung, insbesondere lichtstrahlung, und vorrichtung zur durchfuehrung dieses verfahrens |
EP90117490A EP0419936B1 (de) | 1989-09-13 | 1990-09-11 | Verfahren und Vorrichtung zur Phasenmessung von Strahlung, insbesondere Lichtstrahlung |
AT90117490T ATE106557T1 (de) | 1989-09-13 | 1990-09-11 | Verfahren und vorrichtung zur phasenmessung von strahlung, insbesondere lichtstrahlung. |
DE9017720U DE9017720U1 (de) | 1989-09-13 | 1990-09-11 | |
DE59005914T DE59005914D1 (de) | 1989-09-13 | 1990-09-11 | Verfahren und Vorrichtung zur Phasenmessung von Strahlung, insbesondere Lichtstrahlung. |
JP02243665A JP3133315B2 (ja) | 1989-09-13 | 1990-09-13 | 電磁線、特に光線を直接位相測定するための方法及びその方法を行なうための装置 |
US07/581,865 US5155363A (en) | 1989-09-13 | 1990-09-13 | Method for direct phase measurement of radiation, particularly light radiation, and apparatus for performing the method |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE3930632A DE3930632A1 (de) | 1989-09-13 | 1989-09-13 | Verfahren zur direkten phasenmessung von strahlung, insbesondere lichtstrahlung, und vorrichtung zur durchfuehrung dieses verfahrens |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE3930632A1 true DE3930632A1 (de) | 1991-03-14 |
Family
ID=6389373
Family Applications (3)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE3930632A Ceased DE3930632A1 (de) | 1989-09-13 | 1989-09-13 | Verfahren zur direkten phasenmessung von strahlung, insbesondere lichtstrahlung, und vorrichtung zur durchfuehrung dieses verfahrens |
DE9017720U Expired - Lifetime DE9017720U1 (de) | 1989-09-13 | 1990-09-11 | |
DE59005914T Expired - Lifetime DE59005914D1 (de) | 1989-09-13 | 1990-09-11 | Verfahren und Vorrichtung zur Phasenmessung von Strahlung, insbesondere Lichtstrahlung. |
Family Applications After (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE9017720U Expired - Lifetime DE9017720U1 (de) | 1989-09-13 | 1990-09-11 | |
DE59005914T Expired - Lifetime DE59005914D1 (de) | 1989-09-13 | 1990-09-11 | Verfahren und Vorrichtung zur Phasenmessung von Strahlung, insbesondere Lichtstrahlung. |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5155363A (de) |
EP (1) | EP0419936B1 (de) |
JP (1) | JP3133315B2 (de) |
AT (1) | ATE106557T1 (de) |
DE (3) | DE3930632A1 (de) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE10245085A1 (de) * | 2002-09-27 | 2004-04-01 | Automotive Distance Control Systems Gmbh | Optisches System für eine Kamera |
DE102007031774A1 (de) | 2007-07-07 | 2009-01-15 | Mähner, Bernward | Verfahren und Vorrichtung zur Vermessung von Objekten mittels hochdynamischer Bildaufnahmen |
DE19856400B4 (de) * | 1998-12-07 | 2009-04-09 | Steinbichler Optotechnik Gmbh | Verfahren und Vorrichtung zur direkten Phasenmessung von Strahlung |
DE102013109020A1 (de) * | 2013-08-21 | 2015-02-26 | Pmdtechnologies Gmbh | Streulichtreferenzpixel |
WO2023062096A1 (de) | 2021-10-12 | 2023-04-20 | Dengler, Stefan | Verfahren zum prüfen von reifen |
DE102022126613A1 (de) | 2022-10-12 | 2024-04-18 | Stefan Dengler | Verfahren zum Prüfen von Reifen |
Families Citing this family (27)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN1034766C (zh) * | 1992-02-01 | 1997-04-30 | 中国科学院物理研究所 | 用时间延迟激光感生双光栅测定两独立相干光相对相位变化的方法及装置 |
FR2701563B1 (fr) * | 1993-02-16 | 1995-05-19 | Alfred Farcy Rene | Détecteur à fibres optiques des fluctuations de fréquence d'une raie spectrale fine. |
US5570182A (en) * | 1994-05-27 | 1996-10-29 | Regents Of The University Of California | Method for detection of dental caries and periodontal disease using optical imaging |
DE19513234C2 (de) * | 1995-04-07 | 2001-02-22 | Ettemeyer Andreas | Verfahren und Vorrichtung zur Bestimmung von Phasen und Phasendifferenzen |
DE19513233C2 (de) * | 1995-04-07 | 2001-01-04 | Andreas Ettemeyer | Verfahren und Vorrichtung zur Bestimmung von Phasen und Phasendifferenzen |
GB2309777B (en) * | 1996-02-05 | 2000-09-06 | Secretary Trade Ind Brit | Interferometer |
DE19704496C2 (de) * | 1996-09-05 | 2001-02-15 | Rudolf Schwarte | Verfahren und Vorrichtung zur Bestimmung der Phasen- und/oder Amplitudeninformation einer elektromagnetischen Welle |
US6825455B1 (en) | 1996-09-05 | 2004-11-30 | Rudolf Schwarte | Method and apparatus for photomixing |
DE19758466B4 (de) * | 1997-03-11 | 2007-10-04 | Betriebsforschungsinstitut VDEh - Institut für angewandte Forschung GmbH | Planheits-Regelungssystem für Metallband |
DE19749435B4 (de) * | 1997-11-09 | 2005-06-02 | Mähner, Bernward | Verfahren und Vorrichtung zur dreidimensionalen, flächenhaften, optischen Vermessung von Objekten |
DE19919020C1 (de) * | 1999-04-27 | 2001-01-25 | Karsten Buse | Verfahren und Vorrichtung zur Analyse und Aufzeichnung von Lichtwellen |
EP1224434B1 (de) | 1999-10-09 | 2004-07-14 | Robert Bosch Gmbh | Interferometrische messvorrichtung zur formvermessung |
EP1215465A1 (de) * | 2000-11-29 | 2002-06-19 | Steinbichler Optotechnik Gmbh | Verfahren und Vorrichtung zur Erfassung der Verformung von Objekten |
DE10137719B4 (de) * | 2001-08-01 | 2004-02-26 | Kemper, Björn, Dr. | Vorrichtung und Verfahren zur Einstellung der Phasenbeziehung zwischen kohärenten Lichtwellen in einem endoskopischen Speckle-Interferometer |
FR2848683B1 (fr) * | 2002-12-13 | 2005-02-18 | Thales Sa | Procede d'imagerie coherente avec correction des effets de turbulences |
US7230717B2 (en) * | 2003-08-28 | 2007-06-12 | 4D Technology Corporation | Pixelated phase-mask interferometer |
GB2411001B (en) * | 2004-02-10 | 2007-03-28 | Statoil Asa | Seismic exploration |
JP2008500557A (ja) * | 2004-05-21 | 2008-01-10 | シリコン・ライト・マシーンズ・コーポレイション | 光学式位置決め装置におけるスペックルサイジング及びセンサ寸法 |
DE102004047531B4 (de) * | 2004-09-30 | 2006-07-13 | Kemper, Björn, Dr.rer.nat. | Interferometrisches Verfahren und interferometrische Vorrichtung zum Ermitteln einer Topographie und einer Brechungsindexverteilung eines Objekts |
WO2007008265A2 (en) * | 2005-04-11 | 2007-01-18 | Zetetic Institute | Apparatus and method for in situ and ex situ measurement of spatial impulse response of an optical system using phase-shifting point-diffraction interferometry |
EP1883783A2 (de) * | 2005-05-18 | 2008-02-06 | Zetetic Institute | Vorrichtung und verfahren für in-situ- und ex-situ-messungen eines optischen systemreflexes |
TW200706831A (en) * | 2005-08-08 | 2007-02-16 | Zetetic Inst | Apparatus and methods for reduction and compensation of effects of vibrations and of environmental effects in wavefront interferometry |
US7460245B2 (en) * | 2005-08-26 | 2008-12-02 | Zetetic Institute | Apparatus and method for measurement and compensation of atmospheric turbulence effects in wavefront interferometry |
DE102005049607A1 (de) * | 2005-10-17 | 2007-04-19 | Steinbichler Optotechnik Gmbh | Verfahren und Vorrichtung zur Erfassung der Verformung von Objekten |
TW200728685A (en) * | 2005-11-15 | 2007-08-01 | Zetetic Inst | Apparatus and method for reducing effects of coherent artifacts and compensation of effects of vibrations and environmental changes in interferometry |
DE102008017585B4 (de) * | 2008-04-07 | 2010-03-04 | Diehl Bgt Defence Gmbh & Co. Kg | Bildsensorsystem |
WO2018198115A1 (en) * | 2017-04-23 | 2018-11-01 | Oryx Vision Ltd. | An optical arrangement and method for use in continuously scanning an optical sensor |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE2312229A1 (de) * | 1973-02-14 | 1974-08-22 | Bbc Brown Boveri & Cie | Einrichtung zur auswertung von interferogrammen fuer oberflaechendeformationen |
US4352565A (en) * | 1981-01-12 | 1982-10-05 | Rowe James M | Speckle pattern interferometer |
DD229208A1 (de) * | 1984-11-22 | 1985-10-30 | Ilmenau Tech Hochschule | Interferometer, insbesondere zur inkrementalen abtastung veraenderlicher interferenzstrukturen |
DE3430820A1 (de) * | 1984-08-22 | 1986-03-13 | Adolf Friedrich Prof. Dr.-Phys. Fercher | Verfahren und vorrichtung zur messung der geradlinigkeit einer bewegung |
DE3541891A1 (de) * | 1985-11-27 | 1987-06-04 | Kambiz Kachanian | Verfahren zur erfassung, speicherung und wiedergabe von geometrischen daten von objekten, insbesondere von kiefermodellen und eine vorrichtung zur durchfuehrung des verfahrens |
DE3632922A1 (de) * | 1986-09-27 | 1988-04-07 | Zeiss Carl Fa | Interferometer fuer geradheitsmessungen |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4352965A (en) * | 1980-09-29 | 1982-10-05 | Carlingswitch, Inc. | Toggle switch assembly |
FR2525103B1 (fr) * | 1982-04-14 | 1985-09-27 | Duret Francois | Dispositif de prise d'empreinte par des moyens optiques, notamment en vue de la realisation automatique de protheses |
US4583855A (en) * | 1984-02-17 | 1986-04-22 | Lockheed Missiles & Space Company, Inc. | Optical phase measuring apparatus |
SE460874B (sv) * | 1986-05-20 | 1989-11-27 | Ingegerd Dirtoft | Foerfaringssaett foer kontroll av eventuellt upptraedande, ej oenskvaerda formfoeraendringar hos en tillverkad produkt |
DE3633922C1 (de) * | 1986-10-04 | 1987-07-16 | Fritsche Moellmann Gmbh Co Kg | Verfahren und Vorrichtung zum Herstellen von mit hinterschaeumten Bezuegen versehenen Polstern,insbesondere Automobilsitzpolstern |
JP2645718B2 (ja) * | 1988-02-17 | 1997-08-25 | 住友電気工業株式会社 | 光ct装置 |
DE3723555C2 (de) * | 1987-07-16 | 1994-08-11 | Steinbichler Hans | Verfahren zur Herstellung von Zahnersatz |
-
1989
- 1989-09-13 DE DE3930632A patent/DE3930632A1/de not_active Ceased
-
1990
- 1990-09-11 AT AT90117490T patent/ATE106557T1/de not_active IP Right Cessation
- 1990-09-11 DE DE9017720U patent/DE9017720U1/de not_active Expired - Lifetime
- 1990-09-11 EP EP90117490A patent/EP0419936B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1990-09-11 DE DE59005914T patent/DE59005914D1/de not_active Expired - Lifetime
- 1990-09-13 US US07/581,865 patent/US5155363A/en not_active Expired - Lifetime
- 1990-09-13 JP JP02243665A patent/JP3133315B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE2312229A1 (de) * | 1973-02-14 | 1974-08-22 | Bbc Brown Boveri & Cie | Einrichtung zur auswertung von interferogrammen fuer oberflaechendeformationen |
US4352565A (en) * | 1981-01-12 | 1982-10-05 | Rowe James M | Speckle pattern interferometer |
DE3430820A1 (de) * | 1984-08-22 | 1986-03-13 | Adolf Friedrich Prof. Dr.-Phys. Fercher | Verfahren und vorrichtung zur messung der geradlinigkeit einer bewegung |
DD229208A1 (de) * | 1984-11-22 | 1985-10-30 | Ilmenau Tech Hochschule | Interferometer, insbesondere zur inkrementalen abtastung veraenderlicher interferenzstrukturen |
DE3541891A1 (de) * | 1985-11-27 | 1987-06-04 | Kambiz Kachanian | Verfahren zur erfassung, speicherung und wiedergabe von geometrischen daten von objekten, insbesondere von kiefermodellen und eine vorrichtung zur durchfuehrung des verfahrens |
DE3632922A1 (de) * | 1986-09-27 | 1988-04-07 | Zeiss Carl Fa | Interferometer fuer geradheitsmessungen |
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
Applied Optics, Vol. 18, No. 7, 1979, S. 1046-1051 * |
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE19856400B4 (de) * | 1998-12-07 | 2009-04-09 | Steinbichler Optotechnik Gmbh | Verfahren und Vorrichtung zur direkten Phasenmessung von Strahlung |
DE10245085A1 (de) * | 2002-09-27 | 2004-04-01 | Automotive Distance Control Systems Gmbh | Optisches System für eine Kamera |
DE102007031774A1 (de) | 2007-07-07 | 2009-01-15 | Mähner, Bernward | Verfahren und Vorrichtung zur Vermessung von Objekten mittels hochdynamischer Bildaufnahmen |
DE102013109020A1 (de) * | 2013-08-21 | 2015-02-26 | Pmdtechnologies Gmbh | Streulichtreferenzpixel |
DE102013109020B4 (de) * | 2013-08-21 | 2016-06-09 | Pmdtechnologies Gmbh | Streulichtreferenzpixel |
US9678200B2 (en) | 2013-08-21 | 2017-06-13 | Pmdtechnologies Gmbh | Scattered light reference pixel |
WO2023062096A1 (de) | 2021-10-12 | 2023-04-20 | Dengler, Stefan | Verfahren zum prüfen von reifen |
DE102022126613A1 (de) | 2022-10-12 | 2024-04-18 | Stefan Dengler | Verfahren zum Prüfen von Reifen |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE59005914D1 (de) | 1994-07-07 |
DE9017720U1 (de) | 1991-11-14 |
US5155363A (en) | 1992-10-13 |
JPH03175327A (ja) | 1991-07-30 |
EP0419936B1 (de) | 1994-06-01 |
JP3133315B2 (ja) | 2001-02-05 |
ATE106557T1 (de) | 1994-06-15 |
EP0419936A1 (de) | 1991-04-03 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
EP0419936B1 (de) | Verfahren und Vorrichtung zur Phasenmessung von Strahlung, insbesondere Lichtstrahlung | |
EP0451474B1 (de) | Verfahren und Vorrichtung zur berührungslosen Vermessung von Objektoberflächen | |
DE4231578C2 (de) | Verfahren zur Ermittlung von Verformungen an einem Prüfobjekt mit diffus streuender Oberfläche, insbesondere an Reifen, sowie Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens | |
EP0534284B1 (de) | Verfahren und Vorrichtung zur Bestimmung der Absolut-Koordinaten eines Objektes | |
EP1805480B1 (de) | Verfahren und vorrichtung zur erfassung von konturdaten und/oder optischen eigenschaften eines dreidimensionalen semitransparenten objekts | |
DE60125025T2 (de) | System für simultanprojektionen von mehrfach phasenverschobenen mustern für die dreidimensionale inspektion eines objektes | |
DE3642051A1 (de) | Verfahren zur dreidimensionalen informationsverarbeitung und vorrichtung zum erhalten einer dreidimensionalen information ueber ein objekt | |
EP0449859B1 (de) | Verfahren und vorrichtung zur beobachtung von moiremustern von zu untersuchenden oberflächen unter anwendung des moireverfahrens mit phasenshiften | |
DE2260090B2 (de) | Photoelektrische Einrichtung zur Bestimmung der Rauhigkeit bzw. Glätte diffusstreuender Oberflächen | |
DE2620091A1 (de) | Messystem zum bestimmen der kontur der oberflaeche eines gegenstands | |
DE2337219A1 (de) | Optischer messkopf zur abstandsanzeige | |
EP3811025B1 (de) | Vorrichtung zur chromatisch konfokalen optischen vermessung und konfokalen abbildung eines messobjekts sowie verfahren | |
DE4036120C2 (de) | Verfahren zur Bestimmung der Wegänderung von Strahlen, insbesondere von Lichtstrahlen, und Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens | |
EP0878702A2 (de) | Verfahren und Vorrichtung zur Messung von Spannungen in Glasscheiben mit Hilfe von Streulicht | |
WO2016071078A2 (de) | Vermessen der topographie und/oder des gradienten und/oder der krümmung einer das licht reflektierenden fläche eines brillenglases | |
CH675299A5 (de) | ||
DE19513233C2 (de) | Verfahren und Vorrichtung zur Bestimmung von Phasen und Phasendifferenzen | |
DE19856400B4 (de) | Verfahren und Vorrichtung zur direkten Phasenmessung von Strahlung | |
DE3048558A1 (de) | Verfahren und vorrichtung zur beruehrungslosen vermessung von kontaktlinsen | |
DE2133803C3 (de) | Holographisch-interferometrisches oder moiremetrisches Verfahren zur Feststellung von Deformationen oder Ortsveränderungen eines Objekts sowie von Brechungsindexänderungen | |
DE2101689A1 (de) | Anordnung zur Durchführung eines Verfahrens zum berühungslosen optischen Prüfen und Messen von Oberflächen | |
EP0066030B1 (de) | Verfahren und Vorrichtung zur interferometrischen Ebenheitsmessung | |
DE3934423C1 (en) | Camera photographing topography of test piece surface - produces Moire image using CCD sensors recording phase shift between object grating and camera reference grating | |
DE3532690A1 (de) | Verfahren zur messung der oberflaechenrauheit von werkstuecken sowie geraet zu seiner durchfuehrung | |
DE1920928A1 (de) | Vorrichtung zur Oberflaechenpruefung durch Interferenzmessung |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
8110 | Request for examination paragraph 44 | ||
8131 | Rejection |