DE3928542A1 - Halbleiter-druckwandler - Google Patents
Halbleiter-druckwandlerInfo
- Publication number
- DE3928542A1 DE3928542A1 DE3928542A DE3928542A DE3928542A1 DE 3928542 A1 DE3928542 A1 DE 3928542A1 DE 3928542 A DE3928542 A DE 3928542A DE 3928542 A DE3928542 A DE 3928542A DE 3928542 A1 DE3928542 A1 DE 3928542A1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- pressure
- resistors
- static pressure
- semiconductor membrane
- section
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01L—MEASURING FORCE, STRESS, TORQUE, WORK, MECHANICAL POWER, MECHANICAL EFFICIENCY, OR FLUID PRESSURE
- G01L19/00—Details of, or accessories for, apparatus for measuring steady or quasi-steady pressure of a fluent medium insofar as such details or accessories are not special to particular types of pressure gauges
- G01L19/14—Housings
- G01L19/145—Housings with stress relieving means
- G01L19/146—Housings with stress relieving means using flexible element between the transducer and the support
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01L—MEASURING FORCE, STRESS, TORQUE, WORK, MECHANICAL POWER, MECHANICAL EFFICIENCY, OR FLUID PRESSURE
- G01L19/00—Details of, or accessories for, apparatus for measuring steady or quasi-steady pressure of a fluent medium insofar as such details or accessories are not special to particular types of pressure gauges
- G01L19/0061—Electrical connection means
- G01L19/0069—Electrical connection means from the sensor to its support
- G01L19/0076—Electrical connection means from the sensor to its support using buried connections
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01L—MEASURING FORCE, STRESS, TORQUE, WORK, MECHANICAL POWER, MECHANICAL EFFICIENCY, OR FLUID PRESSURE
- G01L19/00—Details of, or accessories for, apparatus for measuring steady or quasi-steady pressure of a fluent medium insofar as such details or accessories are not special to particular types of pressure gauges
- G01L19/14—Housings
- G01L19/147—Details about the mounting of the sensor to support or covering means
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01L—MEASURING FORCE, STRESS, TORQUE, WORK, MECHANICAL POWER, MECHANICAL EFFICIENCY, OR FLUID PRESSURE
- G01L9/00—Measuring steady of quasi-steady pressure of fluid or fluent solid material by electric or magnetic pressure-sensitive elements; Transmitting or indicating the displacement of mechanical pressure-sensitive elements, used to measure the steady or quasi-steady pressure of a fluid or fluent solid material, by electric or magnetic means
- G01L9/0041—Transmitting or indicating the displacement of flexible diaphragms
- G01L9/0051—Transmitting or indicating the displacement of flexible diaphragms using variations in ohmic resistance
- G01L9/0052—Transmitting or indicating the displacement of flexible diaphragms using variations in ohmic resistance of piezoresistive elements
- G01L9/0054—Transmitting or indicating the displacement of flexible diaphragms using variations in ohmic resistance of piezoresistive elements integral with a semiconducting diaphragm
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Child & Adolescent Psychology (AREA)
- Measuring Fluid Pressure (AREA)
- Pressure Sensors (AREA)
Description
Die Erfindung betrifft einen Halbleiter-Druckwandler, mit
dem gleichzeitig ein statisches Drucksignal und ein Druck
differenzsignal erhalten werden kann.
Ein Beispiel für einen Halbleiter-Druckwandler dieses Kom
binationstyps für die Aufnahme eines Druckdifferenzsignales
und eines statischen Drucksignales ist aus der JP-A-58
1 20 142 bekannt. Bei diesem Druckwandler ist ein Satz von
Halbleiterwiderständen, die auf eine Druckdifferenz anspre
chen, in einem dünneren Abschnitt einer Siliziummembran (ei
nem Abschnitt mit relativ geringer Dicke) ausgebildet, und
ein Satz von Halbleiterwiderständen, die auf den statischen
Druck ansprechen, ist in einem dickeren Abschnitt (einem
Abschnitt größerer Dicke) vorgesehen, der den äußeren Umfang
des dünneren Abschnittes bildet. Die Siliziummembran ist auf
einer Befestigungsplatte aus Glas befestigt.
Da bei einer Messung der Druckdifferenz der statische Druck
gleichförmig auf den Druckwandler wirkt, entsteht in dem
Satz von Widerständen zur Feststellung der Druckdifferenz,
der in dem dünneren Abschnitt ausgebildet ist, eine extrem
hohe Druckbeanspruchung. Da der statische Druck auch auf die
Befestigungsplatte wirkt, entsteht aufgrund des Unterschie
des in der Deformation der Siliziummembran und der Befesti
gungsplatte eine Biegespannung in der Siliziummembran, die
einen Fehler in der Nullpunktseinstellung für den statischen
Druck verursacht, verglichen mit dem Nullpunkt im Falle des
Atmosphärendruckes (im allgemeinen wird ein solcher Fehler
als Einfluß des statischen Druckes bezeichnet). Da dieser
Fehler bei der Druckdifferenzmessung dem Druckdifferenzsi
gnal überlagert ist, enthält das Druckdifferenzsignal diesen
Fehler. Aus diesem Grund wird der statische Druck durch Aus
bilden eines Satzes von Halbleiterwiderständen im dickeren
Abschnitt mit der Absicht festgestellt, Fehler aufgrund
dieses statischen Druckes korrigieren zu können.
Der Ausgangspegel dieses statischen Drucksignales hat bezüg
lich des Druckdifferenzsignales einen Wert von einigen Zehn
teln, er ist mit anderen Worten sehr klein. Im Prinzip wird
für das statische Drucksignal der bei Einwirken des stati
schen Druckes entstehende Spannungsunterschied zwischen der
in der Befestigungsplatte erzeugten Spannung und der in der
Siliziummembran erzeugten Spannung ausgenutzt, der auf den
Unterschieden im Material der Befestigungsplatte und der Si
liziummembran beruht. Um ein statisches Drucksignal mit ho
hem Ausgangspegel zu erhalten, ist es folglich erforderlich,
einen so großen Spannungsunterschied wie möglich zu haben.
Wenn jedoch der Spannungsunterschied groß ist, tritt auch an
der Verbindungsstelle zwischen der Siliziummembran und der
Befestigungsplatte ein großer Spannungsunterschied auf. Die
Festigkeit dieser Verbindungsstelle bestimmt daher den tole
rierbaren statischen Druck, das heißt mit anderen Worten
wird die statische Druckfestigkeit davon begrenzt. Da ein
Ansteigen des Spannungsunterschiedes naturgemäß einen großen
Einfluß auf den dünneren Abschnitt der Siliziummembran aus
übt, beeinflussen sich außerdem das Druckdifferenzsignal und
das Signal für den statischen Druck erheblich, und es ist
schwierig, ein genaues Druckdifferenzsignal zu erhalten, das
mit einem Signal für den statischen Druck mit einem hohen
Ausgangspegel korrigiert ist.
Wenn bei dem bekannten Druckwandler versucht wird, das Si
gnal für den statischen Druck zu erhöhen, besteht daher das
Problem darin, daß dabei die Druckfestigkeit herabgesetzt
wird und die gegenseitige Beeinflussung des Signales für den
statischen Druck und des Druckdifferenzsignales groß wird,
wodurch es schwierig ist, ein korrigiertes Druckdifferenz
signal hoher Genauigkeit zu erhalten.
Aufgabe der Erfindung ist es, einen Halbleiter-Druckwandler
zu schaffen, mit dem ein Signal für den statischen Druck mit
hohem Pegel erhalten werden kann, ohne daß die statische
Druckfestigkeit herabgesetzt und ohne daß die gegenseitige
Beeinflussung des statischen Drucksignals und des Druck
differenzsignales erhöht ist.
Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß dadurch gelöst, daß die
Befestigungsplatte, die mit der Siliziummembran verbunden
ist, aus zwei aufeinandergelegten Elementen aus verschie
denen Materialien besteht, daß mit anderen Worten eine erste
und eine zweite Befestigungsplatte vorgesehen ist, wobei die
erste Befestigungsplatte an der Siliziummembran aus einem
Material mit einem longitudinalen Elastizitätsmodul besteht,
der sich wesentlich von dem der Siliziummembran unterschei
det, und wobei die erste Befestigungsplatte ein gutes Isola
tionsvermögen und einen linearen Ausdehnungskoeffizienten
hat, der annähernd gleich dem der Siliziummembran ist, und
wobei die zweite Befestigungsplatte, die von der Silizium
membran weiter weg ist, aus einem anderen Material mit einem
longitudinalen Elastizitätsmodul und einem linearen Ausdeh
nungskoeffizienten ist, der jeweils im wesentlichen gleich
dem der Siliziummembran ist.
Wenn das Ausmaß der Deformation (bei Einwirken des stati
schen Druckes) der ersten Befestigungsplatte mit dem der
Siliziummembran verglichen wird, sollte bei diesem Aufbau
der longitudinale Elastiziätsmodul der ersten Befestigungs
platte kleiner sein als der der Siliziummembran, so daß das
Ausmaß der Beanspruchung (das Ausmaß des Zusammendrückens)
bei der ersten Befestigungsplatte größer ist als bei der
Silizummembran. Die erste Befestigungsplatte verursacht da
her einen großen Spannungsunterschied an der Verbindungs
stelle mit der Siliziummembran. Dieser Spannungsunterschied
wirkt als Biegespannung auf die obere Oberfläche des dicke
ren und die des dünneren Abschnittes der Siliziummembran mit
den jeweiligen Widerstandssätzen für den statischen Druck
bzw. die Druckdifferenz. Dieser Spannungsunterschied beein
flußt auch die Festigkeit der Verbindung zwischen der Sili
ziummembran und der ersten Befestigungsplatte und diese
Biegespannung beeinflußt die Ausgangssignale des Satzes von
Widerständen für den statischen Druck und des Satzes von
Druckdifferenzwiderständen. Die Entstehung dieses Spannungs
unterschiedes wird nun erfindungsgemäß durch die zweite Be
festigungsplatte unterdrückt, wodurch der Spannungsunter
schied verringert wird. Auf diese Weise wird die Festigkeit
gegenüber statischem Druck erhöht. Des weiteren wird der
Einfluß der Biegespannungskomponente auf das Druckdifferenz
signal und das Ausmaß der gegenseitigen Beeinflussung der
Signale für den statischen Druck und die Druckdifferenz
verringert.
Diese Erniedrigung des Spannungsunterschiedes und der Biege
spannung verringert andererseits jedoch nicht das Signal für
den statischen Druck, da die Verteilung der Biegespannung
nicht gleichförmig ist und der Ausgangspegel des Signales
für den statischen Druck erfindungsgemäß durch eine Anord
nung des Satzes von Widerständen für den statischen Druck an
der Stelle erhöht wird, an der die größte Differenz der Bie
gespannungskomponenten erhalten wird. Diese Stelle für den
Satz von Widerständen für den statischen Druck wird durch
die Länge des dickeren Abschnittes, auf dem dieser Satz von
Widerständen ausgebildet ist, und die Dicke der ersten Be
festigungsplatte bestimmt.
Ausführungsbeispiele eines Halbleiter-Druckwandlers werden
im folgenden anhand der Zeichnung näher erläutert. Es
zeigen:
Fig. 1 einen Querschnitt durch eine erste Ausführungsform
des Halbleiter-Druckwandlers;
Fig. 2 eine Aufsicht zur Darstellung der Anordnung der
Sätze von Widerständen auf der Siliziummembran bei
dem Druckwandler der Fig. 1;
Fig. 3 eine Schaltungsanordnung zur Abnahme der Drucksigna
le von den Widerstandssätzen der Fig. 2;
Fig. 4 den Aufbau eines bekannten Halbleiter-Druckwandlers
im Umriß;
Fig. 5 den Aufbau der vorliegenden Ausführungsform des
Druckwandlers im Umriß;
Fig. 6A die Spannungsverteilung im dünneren Abschnitt der
Siliziummembran bei dem bekannten Druckwandler;
Fig. 6B die Spannungsverteilung im dünneren Abschnitt der
Siliziummembran bei der vorliegenden Ausführungsform
des Druckwandlers;
Fig. 7 die Spannungsverteilung in der Siliziummembran bei
der vorliegenden Ausführungsform des Druckwandlers;
Fig. 8A die Beziehung zwischen dem Drucksignal und der
Dicke des dickeren Abschnittes der Siliziummembran
bei der vorliegenden Ausführungsform des Druckwand
lers;
Fig. 8B die Beziehung zwischen dem Drucksignal und der
Dicke der ersten Befestigungsplatte bei der vorlie
genden Ausführungsform des Druckwandlers;
Fig. 8C die Beziehung zwischen dem Drucksignal und dem Ver
hältnis des Durchmessers der zweiten Befestigungs
platte zu dem Durchmesser der ersten Befestigungs
platte bei der vorliegenden Ausführungsform des
Druckwandlers;
Fig. 9 ein Beispiel für die Verarbeitung der Signale aus
dem Druckwandler der vorliegenden Ausführungsform;
und
Fig. 10 den Aufbau einer zweiten Ausführungsform des Halb
leiter-Druckwandlers im Umriß.
In der Fig. 1 bezeichnet das Bezugszeichen 1 eine dünne
kreisförmige Siliziummembran, deren Orientierung die der
(110)-Ebene ist. Der Hauptteil der Siliziummembran besteht
aus einem dünneren Abschnitt 11, einem mittleren starren
Abschnitt 13 und einem dickeren Abschnitt 12. Im dünneren
Abschnitt 11 ist ein Satz von Widerständen 111 bis 114 ange
ordnet, die durch Diffusion ausgebildet wurden. Im dickeren
Abschnitt 12 befindet sich ein ähnlicher Satz von Widerstän
den 121 bis 124 (vgl. auch Fig. 2). Diejenige Oberfläche der
Siliziummembran 1, die der Oberfläche gegenüberliegt, auf
der die Sätze von Widerständen ausgebildet sind, ist durch
eine Anodenverbindung an einer ersten Befestigungsplatte 2
befestigt. Diese erste Befestigungsplatte 2 besteht aus
Pyrex-Glas oder einem ähnlichen Material, das den gleichen
linearen Ausdehnungskoeffizienten wie die Siliziummembran 1
und einen extrem kleinen linearen Elastizitätsmodul hat. Die
erste Befestigungsplatte 2 weist in der Mitte ein Loch 21
zur Einführung eines Druckes P L auf. Die andere Oberfläche
der ersten Befestigungsplatte 2 ist mittels einer Anodenver
bindung an einer zweiten Befestigungsplatte 3 befestigt.
Diese zweite Befestigungsplatte 3 ist aus einem Fe-Ni-Mate
rial oder dergleichen, das den gleichen linearen Ausdeh
nungskoeffizienten wie die Siliziummembran 1 hat, ähnlich
wie die erste Befestigungsplatte 2, jedoch einen longitu
dinalen Elastizitätsmodul aufweist, der gleich dem der
Siliziummembran 1 ist. In der Mitte der zweiten Befesti
gungsplatte 3 ist wieder ein Loch 31 zur Einführung des
Druckes P L vorgesehen, ähnlich wie bei der ersten Befesti
gungsplatte 2. Die andere Oberfläche 30 der zweiten Befesti
gungsplatte 3 ist durch eine Verschweißung entlang des
äußeren Umfanges an einem zylindrischen Körper 4 befestigt.
Der zylindrische Körper 4 weist eine Dickfilm-Leiterplatte 5
für die elektrische Verbindung mit der Siliziummembran 1
auf, wobei Anschlußflächen auf der Dickfilm-Leiterplatte 5
mit elektrischen Verdrahtungsflächen 14 auf der Silizium
membran 1 durch Bonddrähte 15 verbunden sind. Am zylindri
schen Körper 4 sind auch ein Dichtungsabschnitt 41 zur her
metischen Abdichtung und Anschlüsse 42 zur Übertragung der
elektrischen Signale von der Siliziummembran 1 nach außen
vorgesehen.
Die Fig. 2 ist eine Aufsicht auf die Siliziummembran der
Fig. 1. Die vier Widerstände 111 bis 114 sind auf dem dün
neren Abschnitt 11 in radialer Richtung (deren kristallo
graphische Orientierung gleich <111< ist) angeordnet. Der
Widerstand dieses Satzes von Widerständen 111 bis 114 (Satz
von Druckdifferenzwiderständen) ändert sich aufgrund des
Piezo-Widerstandseffektes proportional zur Differenz (P H -
P L ) zwischen den auf die beiden Oberflächen des dünneren Ab
schnittes 11 wirkenden Drücken. Wenn beispielsweise bei der
Anordnung der Fig. 1 P H < P L ist, ändert sich der Widerstand
der Widerstände 112 und 114 positiv, da diese Widerstände
einer Zugbelastung unterworfen sind. Da die Druckdifferenz
widerstände 111 und 113 dabei einer Druckbelastung unterlie
gen, ändert sich andererseits deren Widerstand negativ. Die
se Widerstände sind in einer Brückenschaltung 1 a miteinander
verbunden, wie es in der Fig. 3 gezeigt ist, um ein elektri
sches Signal abnehmen zu können, das durch die Druckdiffe
renz bestimmt ist, wobei das Signal über die Ausgangsan
schlüsse 1 a 1 und 1 a 2 übermittelt wird.
Auch wenn die Druckdifferenz gleich Null ist (P H = P L ), än
dert sich der Widerstand des Satzes dieser Widerstände 111
bis 114, da diese einer Spannung unterliegen, die durch den
Unterschied im longitudinalen Elastizitätsmodul der Sili
ziummembran 1 und dem der ersten Befestigungsplatte 2 er
zeugt wird. Das Ausmaß dieser Änderung ist proportional zum
statischen Druck P H (= P L ) und wird allgemein der Einfluß
des statischen Drucks genannt. Bei der Messung einer Druck
differenz wird das Ausmaß dieser Änderung dem Ausgangssignal
über die Druckdifferenz überlagert. Aus diesem Grund ist es,
um ein genaues Druckdifferenzsignal zu erhalten, zur Besei
tigung dieses überlagerten Fehlers erforderlich, unter Ver
wendung des Signales über den statischen Druck eine Korrek
tur auszuführen. Dieses Signal über den statischen Druck
wird mittels des Satzes von Widerständen 121 bis 124 (Satz
von Widerständen für den statischen Druck) festgestellt, die
im dickeren Abschnitt 12 der Siliziummembran 1 angeordnet
sind, und das entsprechende Signal wird über eine Brücken
schaltung 1 b (Fig. 3) herausgeführt, ähnlich wie das Druck
differenzsignal. Durch Subtrahieren dieser überlagerten
Komponente ist es möglich, einen genaues Druckdifferenzsi
gnal zu erhalten, wenn von dem Druckdifferenzsignal ausge
gangen wird, dem das Signal über den statischen Druck über
lagert ist. Wird das Druckdifferenzsignal, dem der statische
Druck überlagert ist, mit Δ P′ bezeichnet, das genaue Druck
differenzsignal mit Δ P und das Signal über den statischen
Druck mit P S , so gilt die folgende Gleichung:
Δ P=Δ P′-P S .
Δ P=Δ P′-P S .
Um zur Korrektur den genauen statischen Druck zu erhalten,
ist es erforderlich, den Ausgangspegel des Signales über den
statischen Druck zu erhöhen, wie es oben erwähnt ist. Da das
Anheben des Signales über den statischen Druck jedoch auch
einen Einfluß auf den dünneren Abschnitt 11 ausübt, ist die
se Erhöhung bezüglich der Eigenschaften des Druckwandlers
und dessen Zuverlässigkeit nicht günstig, da zur Erzeugung
des Signales über den statischen Druck die Biegespannungen
im dickeren Abschnitt 12 ausgenutzt werden, die durch den
Unterschied im Ausmaß der Deformation bei der Einwirkung des
statischen Druckes auf die erste Befestigungsplatte 2 und
die Siliziummembran 1 erzeugt werden, wobei diese Biege
spannungen im dickeren Abschnitt 12 auch einen Einfluß auf
die Biegespannungen im dünneren Abschnitt 11 ausüben.
Um diese sich widersprechenden Forderungen zu erfüllen, ist
erfindungsgemäß die zweite Befestigungsplatte 3 derart ange
ordnet, daß die Biegespannungen so wenig wie möglich zu dem
dünneren Abschnitt 11 der Siliziummembran 1 übertragen
werden.
Die Fig. 4 zeigt den Aufbau eines bekannten Halbleiter-
Druckwandlers im Umriß. Der deformierte Zustand bei ange
legtem statischen Druck ist gestrichelt dargestellt. Die
Fig. 5 zeigt demgegenüber den Aufbau des erfindungsgemäßen
Halbleiter-Druckwandlers mit der zusätzlichen zweiten
Befestigungsplatte 3 im Umriß.
Wenn auf die Halbleiter-Druckwandler mit dem in den Fig. 4
bzw. 5 gezeigten Aufbau ein statischer Druck P ausgeübt
wird, entstehen Spannungsverteilungen im dünneren Abschnitt
11 der Siliziummembran, wie sie in der Fig. 6A bzw. der Fig.
6B gezeigt sind. In den Fig. 6A und 6B stellt σ r die Span
nung in radialer Richtung, σ t die Spannung in Umfangsrich
tung und σ z die Spannung in axialer Richtung dar. Bei dem
bekannten Druckwandler mit dem in der Fig. 4 gezeigten Auf
bau zieht sich die Befestigungsplatte 2 aufgrund des Unter
schiedes im longitudinalen Elastizitätsmodul zwischen der
Siliziummembran und der Befestigungsplatte 2 erheblich zu
sammen. Das Ausmaß dieses Zusammenziehens wird auf den dün
nen Abschnitt 11 übertragen, der eine Spannungsverteilung
zeigt, wie sie in der Fig. 6A dargestellt ist. Da im Gegen
satz zu dem erfindungsgemäßen Aufbau keine zweite Befesti
gungsplatte vorhanden ist, wird die durch das Zusammenziehen
der Befestigungsplatte 2 erzeugte Spannung auf die Silizium
membran 1 übertragen, und der Satz von Druckdifferenzwider
ständen 111 bis 112 wird einer übermäßigen Spannung unter
worfen. Im Ergebnis treten nicht nur Fehler in der Null
punktseinstellung auf, sondern es verschlechtert sich auch
die Linearität der Widerstandsänderung. Da die untere Ober
fläche der Befestigungsplatte 2 im wesentlichen frei ist,
tritt weiter zwischen der Siliziummembran 1 und der oberen
Oberfläche der Befestigungsplatte 2 eine große Verbindungs
spannung auf, aufgrund der der tolerierbare statische Druck
ziemlich gering ist.
Erfindungemäß wird die an der Verbindungsstelle zwischen dem
dünnen Abschnitt 11 und der ersten Befestigungsplatte 2 auf
tretende Spannung dadurch verringert, daß das Zusammenziehen
der ersten Befestigungsplatte 2 durch die zweite Befesti
gungsplatte 3 verringert wird, wodurch gleichzeitig die auf
den Satz von Druckdifferenzwiderständen 111 bis 114 einwir
kende Spannung verringert wird, wie die Fig. 6B zeigt.
Wenn das Ausmaß dieser Unterdrückung jedoch zu groß ist,
sind die Spannungskomponenten im dünnen Abschnitt 11 und im
dicken Abschnitt 12 nahezu konstant, wie es durch die Kurve
(a) in der Fig. 7 gezeigt ist, und das Druckdifferenzsignal
und das Signal über den statischen Druck beeinflussen ein
ander. Es ist jedoch dann nicht möglich, ein Signal über den
statischen Druck mit hohem Ausgangspegel zu erhalten, da
keine gegenseitige Beeinflussung andererseits bedeutet, daß
im dicken Abschnitt keine Änderungen in der Spannungsvertei
lungskomponente auftreten.
Um ein Signal über den statischen Druck mit hohem Ausgangs
pegel zu erhalten, wobei das Signal über den statischen
Druck und das Druckdifferenzsignal einander nicht beeinflus
sen, kann der Druckwandler so aufgebaut werden, daß im
dicken Abschnitt 12 eine Biegespannung erzeugt wird und
diese Spannung so wenig wie möglich auf den dünnen Abschnitt
11 übertragen wird, wie es in der Fig. 7 (b) gezeigt ist.
Dieser Aufbau wird durch die Form und die Eigenschaften des
Materiales der Siliziummembran 1, der ersten Befestigungs
platte 2 und der zweiten Befestigungsplatte 3 festgelegt,
wie es weiter unten noch genauer beschrieben wird. In der
Fig. 7 stellt r a in den inneren Radius des dünneren Abschnit
tes, r α out den äußeren Radius des dünneren Abschnittes (den
inneren Radius des dickeren Abschnittes), r out den äußeren
Radius des dickeren Abschnittes und r l die Differenz zwi
schen r out und r α out dar.
Die Fig. 8A bis 8C zeigen drei Beispiele für die Ausgangs
signale aus dem Satz von Druckdifferenzwiderständen und dem
Satz von Widerständen für den statischen Druck für den Fall,
daß verschiedene Eigenschaften (Größen) davon geändert wer
den. Mit abnehmender Dicke T 1 des dickeren Abschnittes 12
(nur T 1 wird geändert, alles andere bleibt fest) steigt bei
spielsweise das Ausgangssignal des Satzes von Widerständen
für den statischen Druck an, so daß ein höherer Ausgangs
pegel erhalten wird, wobei jedoch die Änderungen im Aus
gangssignal des Satzes von Druckdifferenzwiderständen eben
falls ansteigen und die gegenseitige Beeinflussung größer
wird, wie es in der Fig. 8A dargestellt ist. In der Fig. 8B,
bei der nur die Dicke T 2 der ersten Befestigungsplatte 2
geändert wird und alles andere fest bleibt, sind diese Ände
rungen kleiner als im Falle der Fig. 8A. Anhand der Fig. 8C,
bei der nur das Verhältnis d 3/d 1 des äußeren Durchmessers
2 d 3 der zweiten Befestigungsplatte 3 zum äußeren Durchmesser
2 d 1 der ersten Befestigungsplatte geändert wird und alles
andere fest bleibt, ist ersichtlich, daß die Änderungen we
sentlich zum Ausgangssignal des Satzes von Druckdifferenz
widerständen beitragen, ähnlich wie im Falle der Fig. 8A.
Um die in der Kurve (b) der Fig. 7 gezeigte Spannungsver
teilung zu erhalten, das heißt um ein Signal über den stati
schen Druck mit hohem Ausgangspegel zu erhalten, wobei das
Signal über den statischen Druck und das Druckdifferenzsi
gnal einander nicht beeinflussen, kann es ausreichen, die
Dicke T 1 des dickeren Abschnittes bzw. der Siliziummembran
1, die Dicke T 2 der ersten Befestigungsplatte 2 und das Ver
hältnis d 3/d 1 des Außendurchmessers der zweiten Befesti
gungsplatte 3 zum Außendurchmesser der ersten Befestigungs
platte 2 festzulegen sowie die Position r g (vgl. Fig. 5) des
Satzes von Widerständen für den statischen Druck zu bestim
men, die auf dem dickeren Abschnitt 12 angeordnet sind. Wie
in den Fig. 8A bis 8C gezeigt, ist es somit erforderlich,
die Dicke T 1 der Siliziummembran 1 bezüglich der Dicke T 2 der
ersten Befestigungsplatte 2 zu verringern, um das Ausmaß des
Zusammenziehens der ersten Befestigungsplatte 2 nur auf den
dickeren Abschnitt 12 zu übertragen und ein Signal über den
statischen Druck mit hohem Ausgangspegel zu erhalten, wobei
das Signal über den statischen Druck und das Druckdifferenz
signal einander nicht beeinflussen. Es ist des weiteren er
forderlich, den Satz von Widerständen 121 bis 124 für den
statischen Druck an einer Stelle anzubringen, an der die
Unterschiede in den Biegespannungskomponenten groß sind.
Im folgenden werden einige Formeln für diese Beziehungen ab
geleitet. Wie in der Fig. 5 gezeigt, stellt E 1 den longitu
dinalen Elastizitätsmodul der Siliziummembran 1 dar, T 1 die
Dicke des dickeren Abschnittes 12, r l die Breite des dicke
ren Abschnittes 12 in radialer Richtung, r g die Position des
Satzes von Widerständen für den statischen Druck (gemessen
vom äußeren Umfang des dünneren Abschnittes), E 2 den longi
tudinalen Elastizitätsmodul der ersten Befestigungsplatte 2,
T 2 deren Dicke, 2 d 1 deren Außendurchmesser, 2 d 3 den Außen
durchmesser der zweiten Befestigungsplatte 3 und P den ein
wirkenden Druck. Die Funktion f stellt dann die Beziehung
zwischen der Verschiebung f (einem Vektor), die in der Si
liziummembran entsteht, wenn die zweite Befestigungsplatte 3
hinzugefügt wird, in Abhängigkeit von den entsprechenden Va
riablen auf der Basis der Kontinuität der ersten Befesti
gungsplatte 2 und des dickeren Abschnittes 12 der Silizium
membran 1 bei Anlegen des Druckes P wie folgt dar:
Die Konstruktionsbedingungen können durch einen solchen Satz
dieser Parameter erhalten werden, bei dem diese Funktion am
kleinsten ist. Wenn die Konstruktionsbedingungen unter Be
rücksichtigung der Beziehung zwischen T 1 und T 2 geändert
werden, kann folgende Gleichung abgeleitet werden:
wobei α und β Materialkonstanten sind, die insbesondere
durch die Poisson′sche Konstante und die Form der ersten
Befestigungsplatte 2 bzw. der Siliziummembran 1 festgelegt
werden. Mittels der Gleichung (1) ist es möglich, die Form
der verschiedenen Elemente festzulegen, von denen die Druck
signale abgeleitet werden können, ohne daß sich das Druck
differenzsignal und das Signal über den statischen Druck
gegenseitig beeinflussen.
Um den Ausgangspegel des Signales über den statischen Druck
zu erhöhen, ist es erforderlich, die Position feststellen,
an der die Spannung im dickeren Abschnitt 12 der Silizium
membran 1 maximal ist. Wenn die Biegemomentverteilung, die
durch die oben beschriebene Verschiebung erhalten wird, mit
M x bezeichnet wird, gilt
M x = f(P, r l, T₂, d₁).
Umschreiben dieser Formel ergibt
wobei x den Abstand vom Umfang des dickeren Abschnittes 12
angibt. Die Position bzw. Stelle r g , an der die Spannung
maximal ist, wird gegeben durch
wobei ξ und η Konstanten sind, die durch die Form festgelegt
sind.
Aus der Gleichung (2) ist ersichtlich, daß die Position r g
des Satzes von Widerständen für den statischen Druck fast
ausschließlich durch die Breite r l des dickeren Abschnittes
der Siliziummembran 1 und die Dicke T 2 der ersten Befesti
gungsplatte 2 bestimmt wird. An dieser Stelle ist die Diffe
renz der Biegespannungen am größten.
Im folgenden wird ein konkretes Beispiel für die Größe der
verschiedenen Elemente, wie sie aus den Gleichungen (1) und
(2) erhalten werden, angegeben:
(1) T₂ = 4,0 mm, d₁ = 7,0, d₃ = 3,5 mm,
für
r l = 2,0 mm
T₁ = 0,82 mm (α = 0,5, β = 1,5)
r g = 1,4 mm (ξ = 0,10, η = 0,01)
r l = 2,0 mm
T₁ = 0,82 mm (α = 0,5, β = 1,5)
r g = 1,4 mm (ξ = 0,10, η = 0,01)
(2) T₂ = 3,0 mm, d₁ = 7,0 mm, d₃ = 5,0 mm,
r l = 2,0 mm
T₁ = 0,57 mm (α = 0,5, β = 1,5)
r g = 1,3 mm (ξ = 0,10, η = 0,01)
T₁ = 0,57 mm (α = 0,5, β = 1,5)
r g = 1,3 mm (ξ = 0,10, η = 0,01)
Die in der Fig. 7 gezeigte Kurve (b) stellt die Spannungs
verteilung an der Oberfläche der Siliziummebran 1 dar, in
der der Satz von Widerständen für den statischen Druck und
der Satz von Druckdifferenzwiderständen so angeordnet sind,
wie sie durch das oben beschriebene Verfahren mittels einer
numerischen Analyse erhalten werden. Es war auf diese Weise
möglich, zu bestätigen, daß das Augangssignal des Satzes von
Widerständen für den statischen Druck erhalten werden kann,
ohne daß die Spannungsverteilung im dünneren Abschnitt be
einträchtigt wird (so daß die Spannungsverteilung nicht zu
der in der Fig. 6A gezeigten Verteilung wird) und ohne daß
irgendwelche Einflüsse auf das Ausgangssignal des Satzes von
Druckdifferenzwiderständen auftreten.
Die Fig. 9 zeigt schematisch ein Beispiel für die Verarbei
tung der Signale aus dem Halbleiter-Druckwandler. Wenn die
Drücke P+Δ P und P auf die vorderen und hinteren Oberflä
chen der Siliziummembran 1 einwirken, ändern sich die Wider
stände in dem Satz von Druckdifferenzwiderständen auf dem
dünneren Abschnitt, und es wird ein elektrisches Signal zwi
schen den Anschlüssen 1 a 1 und 1a 2 (Fig. 3) erzeugt, das der
Druckdifferenz Δ P proportional ist. Dieses elektrische Si
gnal wird über die Anschlüsse 42 im Dichtungsabschnitt 41
und Leitungen 6 a zu einem A/D-Konverter 60 geführt. Gleich
zeitig wird der statische Druck P durch den Satz von Wider
ständen 121 bis 124 im dickeren Abschnitt 12 der Silizium
membran 1 festgestellt, wodurch ein Signal für den stati
schen Druck zwischen den Anschlüssen 1 b 1 und 1 b 2 (Fig. 3)
erzeugt wird. Dieses elektrische Signal wird wie das Druck
differenzsignal in den A/D-Konverter 60 eingegeben. Der
A/D-Konverter digitalisiert diese Signale und gibt sie zu
einer Zentraleinheit (CPU) 61, die vorgegebene Operationen
ausführt. Die Zentraleinheit 61 übermittelt ein Druckdiffe
renzsignal, das zur Druckdifferenz Δ P genau proportional ist
und von dem Einflüsse durch den statischen Druck beseitigt
sind. Außerdem gibt sie ein Signal über den statischen Druck
nach außen ab. Das Bezugszeichen 62 bezeichnet einen Spei
cher, in dem die für die Operationen der Zentraleinheit 61
erforderlichen Daten und die entsprechenden Programme ge
speichert sind. Die Druckdifferenz oder der statische Druck
wird an einer Anzeigevorrichtung 63 angezeigt und/oder nach
einer Umwandlung in ein Analogsignal in einem D/A-Konverter
64 abgegeben.
Mit der beschriebenen Ausführungsform ist es somit möglich,
(1) ein Signal mit einem hohen Ausgangspegel über den stati schen Druck zu erhalten;
(2) ein Druckdifferenzsignal mit hoher Genauigkeit zu erhal ten, das bezüglich des Fehlers aufgrund des statischen Drucks durch das Anheben des Ausgangspegels des Signales über den statischen Druck vollständig korrigiert ist; und
(3) ein Signal abzunehmen, das nur zum statischen Druck P proportional ist und das bis in den Bereich hoher Drücke erhalten werden kann.
(1) ein Signal mit einem hohen Ausgangspegel über den stati schen Druck zu erhalten;
(2) ein Druckdifferenzsignal mit hoher Genauigkeit zu erhal ten, das bezüglich des Fehlers aufgrund des statischen Drucks durch das Anheben des Ausgangspegels des Signales über den statischen Druck vollständig korrigiert ist; und
(3) ein Signal abzunehmen, das nur zum statischen Druck P proportional ist und das bis in den Bereich hoher Drücke erhalten werden kann.
Obwohl bei der beschriebenen Ausführungsform der Satz von
Widerständen für den statischen Druck und der Satz von
Druckdifferenzwiderständen in der (110)-Ebene bzw. der
<111<-Richtung der Siliziummembran ausgebildet sind, kann
die kristallographische Achse und die kristallographische
Ebene beliebig gewählt werden. Beispielsweise kann der Satz
von Widerständen für den statischen Druck in der <110<-Rich
tung angeordnet werden, wenn ein Substrat in der (100)-Ebene
verwendet wird.
Des weiteren kann, obwohl bei der vorliegenden Ausführungs
form der dünnere Abschnitt der Siliziummembran als Körper
mit starrer Mitte gezeigt wurde, der gleiche Effekt auch mit
einem dünnen Abschnitt ohne starrer Mitte, sondern gleichmä
ßiger Dicke erhalten werden.
Auch kann die Membran anstelle von Silizium beispielsweise
aus einem anderen Halbleiter wie Galliumarsenid usw.
bestehen.
Darüberhinaus werden die beschriebenen, vorteilhaften Aus
wirkungen auch dann erhalten, wenn eine Siliziummembran
verwendet wird, bei der ein Trägerabschnitt 130 zur Ver
meidung einer gegenseitigen Beeinflussung des dickeren Ab
schnittes mit dem Satz von Widerständen 121 bis 124 für den
statischen Druck und des dünneren Abschnittes mit dem Satz
von Druckdifferenzwiderständen 111 bis 114 zwischen dem
dickeren Abschnitt und dem dünneren Abschnitt vorgesehen ist
(Fig. 10). In diesem Fall kann im Vergleich zu der oben be
schriebenen Ausführungsform das Signal über den statischen
Druck mit einem hohen Ausgangspegel ohne Beeinflussung des
Druckdifferenzsignales erhalten werden, da der Trägerab
schnitt 130 den Satz von Widerständen für den statischen
Druck und den Satz von Druckdifferenzwiderständen vollstän
dig trennt.
Mit dem beschriebenen, erfindungsgemäßen Halbleiter-Druck
wandler kann, da es möglich ist, das Signal über den stati
schen Druck mit einem hohen Ausgangspegel zu erhalten, ohne
daß das Druckdifferenzsignal beeinflußt wird, die Druckdif
ferenzmessung und die Messung des statischen Durckes gleich
zeitig mit großer Genauigkeit ausgeführt werden, so daß die
Effektivität erhöht und der Aufwand bei entsprechenden
Messungen verringert ist.
Claims (8)
1. Halbleiter-Druckwandler mit
- - einer Halbleitermembran (1) mit einem dünneren Abschnitt (11) und einem dickeren Abschnitt (12) an ihrem Umfang;
- - einem Satz von Widerständen (111 bis 114) in dem dünneren Abschnitt (11) zur Feststellung einer Druckdifferenz;
- - einem Satz von Widerständen (121 bis 124) in dem dickeren Abschnitt (12) zur Feststellung eines statischen Druckes; und mit
- - einer ersten Befestigungsplatte (2), die mit derjenigen Oberfläche des dickeren Abschnittes (12) verbunden ist, die der Oberfläche gegenüberliegt, auf der die Widerstände zur Feststellung des statischen Druckes ausgebildet sind, wobei der longitudinale Elastizitätsmodul (E 2) der ersten Befestigungsplatte (2) sich vom longitudinalen Elastizi tätsmodul (E 1) der Halbleitermembran (1) wesentlich unter scheidet, die erste Befestigungsplatte (2) hoch isolierend ist und der lineare Ausdehnungskoeffizient davon annähernd gleich dem linearen Ausdehnungskoeffizienten der Halblei termembran (1) ist;
dadurch gekennzeichnet, daß mit derjenigen
Oberfläche der ersten Befestigungsplatte (2), die der Ober
fläche gegenüberliegt, an der der dickere Abschnitt (12) der
Halbleitermembran (1) angebracht ist, eine zweite Befesti
gungsplatte (3) verbunden ist, wobei der longitudinale Ela
stizitätsmodul und der lineare Ausdehnungskoeffizient der
zweiten Befestigungsplatte (3) annähernd gleich dem longitu
dinalen Elastizitätsmodul bzw. dem linearen Ausdehnungskoef
fizienten der Halbleitermembran (1) ist.
2. Druckwandler nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß
die Halbleitermembran (1) aus Silizium besteht.
3. Druckwandler nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß
die erste Befestigungsplatte (2) und die zweite Befesti
gungsplatte (3) jeweils zylindrisch und zueinander koaxial
angeordnet sind.
4. Druckwandler nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß
die Dicke (T 1) des dickeren Abschnittes (12) der Halbleiter
membran (1) in axialer Richtung durch die Dicke (T 2) der er
sten Befestigungsplatte (2) in axialer Richtung, dem Ver
hältnis (E 2/E 1) des longitudinalen Elastizitätsmoduls (E 2)
der ersten Befestigungsplatte (2) zu dem logitudinalen Ela
stizitätsmodul (E 1) der Halbleitermembran (1), dem Verhält
nis (d 3/d 1) des Außendurchmessers (2 d 3) der zweiten Befesti
gungsplatte (3) zum Außendurchmesser (2 d 1) der ersten Befe
stigungsplatte (2) und der Breite (r l ) des dickeren Ab
schnittes (12) der Halbleitermembran in radialer Richtung
festgelegt ist.
5. Druckwandler nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß
der Satz von Widerständen (121 bis 124) zur Feststellung des
statischen Druckes an einer Stelle (r g ) angeordnet ist, an
der die Differenz zwischen der Biegespannung (σ r) in radia
ler Richtung und der Biegespannung (σ t) in Umfangsrichtung
im dickeren Abschnitt (12) der Halbleitermembran (1) am
größten ist, wenn darauf ein statischer Druck (P H ) einwirkt.
6. Druckwandler nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß
die Stelle (r g ), an der sich der Satz von Widerständen (121
bis 124) zur Feststellung des statischen Druckes befindet,
vom inneren Umfang des dickeren Abschnittes in radialer
Richtung gemessen, durch die Dicke (T 2) der ersten Befesti
gungsplatte (2) in axialer Richtung und die Breite (r l ) des
dickeren Abschnittes (12) der Halbleitermembran (1) in
radialer Richtung festgelegt ist.
7. Druckwandler nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß
der longitudinale Elastizitätsmodul (E 2) der ersten Befesti
gungsplatte (2) kleiner ist als der longitudinale Elastizi
tätsmodul (E 1) der Halbleitermembran (1).
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63214985A JP2656566B2 (ja) | 1988-08-31 | 1988-08-31 | 半導体圧力変換装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE3928542A1 true DE3928542A1 (de) | 1990-03-08 |
DE3928542C2 DE3928542C2 (de) | 1996-01-25 |
Family
ID=16664795
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE3928542A Expired - Fee Related DE3928542C2 (de) | 1988-08-31 | 1989-08-29 | Halbleiter-Druckwandler |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4972716A (de) |
JP (1) | JP2656566B2 (de) |
CN (1) | CN1012217B (de) |
DE (1) | DE3928542C2 (de) |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE4108989A1 (de) * | 1990-03-19 | 1991-09-26 | Hitachi Ltd | Integrierter multisensor und uebertrager eines statischen und differentiellen drucks und ein anlagensystem, die den integrierten multisensor verwenden |
DE4111148A1 (de) * | 1991-04-06 | 1992-10-08 | Bosch Gmbh Robert | Sensor |
DE4111149A1 (de) * | 1991-04-06 | 1992-10-08 | Bosch Gmbh Robert | Drucksensor |
EP0762097A1 (de) * | 1995-08-28 | 1997-03-12 | Societe Europeenne De Propulsion | Vorrichtung zum Integrieren eines Messelementes in einem Druckwandler |
DE102006062222A1 (de) * | 2006-12-22 | 2008-06-26 | Endress + Hauser Gmbh + Co. Kg | Differenzdrucksensor mit Kompensation des statischen Drucks |
US7418871B2 (en) | 2005-09-30 | 2008-09-02 | Robert Bosch Gmbh | Method for detecting a pressure of a medium and pressure measuring device |
DE102005004793B4 (de) * | 2004-02-05 | 2011-02-10 | Yokogawa Electric Corporation | Drucksensor und Verfahren zum Herstellen eines Drucksensors |
Families Citing this family (21)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5178016A (en) * | 1989-11-15 | 1993-01-12 | Sensym, Incorporated | Silicon pressure sensor chip with a shear element on a sculptured diaphragm |
US5179956A (en) * | 1990-07-06 | 1993-01-19 | Colin Electronics Co., Ltd. | Contact pressure sensor |
JPH0451642U (de) * | 1990-09-10 | 1992-04-30 | ||
JP2595829B2 (ja) * | 1991-04-22 | 1997-04-02 | 株式会社日立製作所 | 差圧センサ、及び複合機能形差圧センサ |
US5186055A (en) * | 1991-06-03 | 1993-02-16 | Eaton Corporation | Hermetic mounting system for a pressure transducer |
US5303593A (en) * | 1991-06-07 | 1994-04-19 | Maclean-Fogg Company | Strain gauge distribution for resistive strain gauge pressure sensor |
US5285690A (en) * | 1992-01-24 | 1994-02-15 | The Foxboro Company | Pressure sensor having a laminated substrate |
US5264820A (en) * | 1992-03-31 | 1993-11-23 | Eaton Corporation | Diaphragm mounting system for a pressure transducer |
JPH1130559A (ja) * | 1997-07-10 | 1999-02-02 | Fuji Koki Corp | 圧力センサ |
JPH11351990A (ja) * | 1998-04-09 | 1999-12-24 | Fujikoki Corp | 圧力センサ |
US20020003274A1 (en) * | 1998-08-27 | 2002-01-10 | Janusz Bryzek | Piezoresistive sensor with epi-pocket isolation |
US6006607A (en) * | 1998-08-31 | 1999-12-28 | Maxim Integrated Products, Inc. | Piezoresistive pressure sensor with sculpted diaphragm |
US6351996B1 (en) | 1998-11-12 | 2002-03-05 | Maxim Integrated Products, Inc. | Hermetic packaging for semiconductor pressure sensors |
US6346742B1 (en) | 1998-11-12 | 2002-02-12 | Maxim Integrated Products, Inc. | Chip-scale packaged pressure sensor |
US6229190B1 (en) | 1998-12-18 | 2001-05-08 | Maxim Integrated Products, Inc. | Compensated semiconductor pressure sensor |
US6255728B1 (en) | 1999-01-15 | 2001-07-03 | Maxim Integrated Products, Inc. | Rigid encapsulation package for semiconductor devices |
JP2001133345A (ja) * | 1999-11-02 | 2001-05-18 | Fuji Koki Corp | 圧力センサ |
JP5069682B2 (ja) * | 2005-07-22 | 2012-11-07 | エスティーマイクロエレクトロニクス エス.アール.エル. | 二重測定スケールおよび高フルスケール値を有する集積化圧力センサ |
EP2418503B1 (de) * | 2010-07-14 | 2013-07-03 | Sensirion AG | Nadelkopf |
FR3037140B1 (fr) | 2015-06-03 | 2017-06-02 | Sagem Defense Securite | Dispositif de detection de pression |
CN107941387A (zh) * | 2017-11-23 | 2018-04-20 | 蚌埠市勇创机械电子有限公司 | 一种压敏薄膜 |
Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3335381A (en) * | 1965-07-06 | 1967-08-08 | Stratham Instr Inc | Duplex flexure for force transducer |
DE2429894B2 (de) * | 1973-06-21 | 1977-02-24 | Motorola, Inc., Schaumburg, 111. (V.St.A.) | Polykristalliner monolithischer druckfuehler und verfahren zu seiner herstellung |
SU802821A1 (ru) * | 1978-04-04 | 1981-02-07 | Государственный Научно-Исследовательскийинститут Теплоэнергетического Приборостроения"Ниитеплоприбор" | Устройство дл измерени давлени |
US4364276A (en) * | 1979-12-19 | 1982-12-21 | Hitachi, Ltd. | Differential pressure measuring transducer assembly |
DE3211968A1 (de) * | 1982-03-31 | 1983-10-13 | Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München | Drucksensor |
US4499774A (en) * | 1980-07-18 | 1985-02-19 | Hitachi, Ltd. | Semiconductor pressure transducer |
US4530244A (en) * | 1982-01-04 | 1985-07-23 | Honeywell Inc. | Semiconductor pressure transducer |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS54143275U (de) * | 1978-03-29 | 1979-10-04 | ||
JPS54162984A (en) * | 1978-06-15 | 1979-12-25 | Toshiba Corp | Semiconductor pressure converter |
JPS5550131A (en) * | 1978-10-06 | 1980-04-11 | Hitachi Ltd | Electronic transmitter |
JPS55120172A (en) * | 1979-03-12 | 1980-09-16 | Toshiba Corp | Semiconductor pressure transducer |
JPS6156465A (ja) * | 1984-08-28 | 1986-03-22 | Toshiba Corp | 半導体圧力変換器 |
US4574640A (en) * | 1984-11-29 | 1986-03-11 | Bourns Instruments, Inc. | Integrated dual-range pressure transducer |
JPH0676938B2 (ja) * | 1986-12-11 | 1994-09-28 | 株式会社フジクラ | 半導体圧力センサの製造方法 |
US4852408A (en) * | 1987-09-03 | 1989-08-01 | Scott Fetzer Company | Stop for integrated circuit diaphragm |
-
1988
- 1988-08-31 JP JP63214985A patent/JP2656566B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1989
- 1989-08-11 US US07/392,298 patent/US4972716A/en not_active Expired - Lifetime
- 1989-08-29 DE DE3928542A patent/DE3928542C2/de not_active Expired - Fee Related
- 1989-08-30 CN CN89106647A patent/CN1012217B/zh not_active Expired
Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3335381A (en) * | 1965-07-06 | 1967-08-08 | Stratham Instr Inc | Duplex flexure for force transducer |
DE2429894B2 (de) * | 1973-06-21 | 1977-02-24 | Motorola, Inc., Schaumburg, 111. (V.St.A.) | Polykristalliner monolithischer druckfuehler und verfahren zu seiner herstellung |
SU802821A1 (ru) * | 1978-04-04 | 1981-02-07 | Государственный Научно-Исследовательскийинститут Теплоэнергетического Приборостроения"Ниитеплоприбор" | Устройство дл измерени давлени |
US4364276A (en) * | 1979-12-19 | 1982-12-21 | Hitachi, Ltd. | Differential pressure measuring transducer assembly |
US4499774A (en) * | 1980-07-18 | 1985-02-19 | Hitachi, Ltd. | Semiconductor pressure transducer |
US4530244A (en) * | 1982-01-04 | 1985-07-23 | Honeywell Inc. | Semiconductor pressure transducer |
DE3211968A1 (de) * | 1982-03-31 | 1983-10-13 | Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München | Drucksensor |
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
Sov. Inv. Ill. SU-S, p.48, Week D45, & SU 802821 A1 * |
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE4108989A1 (de) * | 1990-03-19 | 1991-09-26 | Hitachi Ltd | Integrierter multisensor und uebertrager eines statischen und differentiellen drucks und ein anlagensystem, die den integrierten multisensor verwenden |
US5259248A (en) * | 1990-03-19 | 1993-11-09 | Hitachi Ltd. | Integrated multisensor and static and differential pressure transmitter and plant system using the integrated multisensor |
DE4111148A1 (de) * | 1991-04-06 | 1992-10-08 | Bosch Gmbh Robert | Sensor |
DE4111149A1 (de) * | 1991-04-06 | 1992-10-08 | Bosch Gmbh Robert | Drucksensor |
EP0762097A1 (de) * | 1995-08-28 | 1997-03-12 | Societe Europeenne De Propulsion | Vorrichtung zum Integrieren eines Messelementes in einem Druckwandler |
DE102005004793B4 (de) * | 2004-02-05 | 2011-02-10 | Yokogawa Electric Corporation | Drucksensor und Verfahren zum Herstellen eines Drucksensors |
US7418871B2 (en) | 2005-09-30 | 2008-09-02 | Robert Bosch Gmbh | Method for detecting a pressure of a medium and pressure measuring device |
DE102006062222A1 (de) * | 2006-12-22 | 2008-06-26 | Endress + Hauser Gmbh + Co. Kg | Differenzdrucksensor mit Kompensation des statischen Drucks |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN1012217B (zh) | 1991-03-27 |
DE3928542C2 (de) | 1996-01-25 |
US4972716A (en) | 1990-11-27 |
JPH0264430A (ja) | 1990-03-05 |
CN1040681A (zh) | 1990-03-21 |
JP2656566B2 (ja) | 1997-09-24 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE3928542C2 (de) | Halbleiter-Druckwandler | |
DE69225122T2 (de) | Wägezelle und entsprechende Wägevorrichtung | |
DE2919418C2 (de) | ||
DE19701055B4 (de) | Halbleiter-Drucksensor | |
DE69718467T2 (de) | Kompensation von nichtlinearitäten zweiter ordnung in sensoren mit doppelend-stimmgabeln | |
DE69021325T2 (de) | Halbleiter-Druck-Messfühler verbunden mit einem Trägerelement. | |
DE102004041388A1 (de) | Drucksensorzelle und diese verwendende Drucksensorvorrichtung | |
DE3703697A1 (de) | Drucksensor | |
CH660917A5 (de) | Biegefeder. | |
DE4133008C2 (de) | Kapazitive Drucksensoren und Herstellungsverfahren hierzu | |
DE3702412C2 (de) | ||
DE69005370T2 (de) | Membranmessfühler mit Konzentration von Deformationen. | |
DE3824224A1 (de) | Dehnungsmessgeraet | |
EP0419611B1 (de) | Verfahren zum herstellen eines sensors zum bestimmen von druckkräften | |
DE3538453A1 (de) | Druckfuehleinrichtung | |
DE102004023063A1 (de) | Mikromechanische piezoresistive Drucksensorenvorrichtung | |
DE3148403A1 (de) | "differenzdruckmesser" | |
DE10036495C2 (de) | Kraftmessvorrichtung in Form eines Biegebalkensensors | |
CH391326A (de) | Geber zum Messen von durch mechanische Kräfte verursachten Spannungen | |
DE4125398C2 (de) | Drucksensor und Kraftsensor | |
DD276150A5 (de) | Druckmesswertwandler unter verwendung eines dickfilmwiderstands | |
DE2842474A1 (de) | Differenzdruck/strom-umformer | |
DE2303465A1 (de) | Messwertwandler | |
DE8915981U1 (de) | Plattenförmiges Sensorelement sowie damit versehener Druck-, Kraft- oder Beschleunigungsaufnehmer | |
DE102018222719A1 (de) | Mikromechanisches Bauteil für eine kapazitive Drucksensorvorrichtung |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
OP8 | Request for examination as to paragraph 44 patent law | ||
8128 | New person/name/address of the agent |
Representative=s name: STREHL, P., DIPL.-ING. DIPL.-WIRTSCH.-ING. SCHUEBE |
|
D2 | Grant after examination | ||
8364 | No opposition during term of opposition | ||
8339 | Ceased/non-payment of the annual fee |