DE3927732C2 - Mustererzeugungsgerät - Google Patents
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Description
Die Erfindung bezieht sich auf ein Mustererzeugungsgerät
nach dem Oberbegriff des Anspruchs 1.
Derartige Mustererzeugungsgeräte sind beschrieben bei
spielsweise in der DE 36 24 163 A1 und DE 36 33 454 A1 und sind
unter der Bezeichnung CORE-2000 im Handel erhältlich.
Aus der US-PS 4 318 594 (Hanada) ist ein optisches Sy
stem zur Formgebung von Strahlbündeln bekannt, das auf di
vergierende Strahlbündel aus einem Halbleiterlaser einwirkt;
ferner sind bekannt: US 4 203 652 (Hanada), die sich
ebenfalls auf die Behandlung divergierender Strahlbündel von
einem Halbleiterlaser bezieht, und die US 3 974 507
(Chemelli et al.), die eine kompakte, einstellbare Anordnung
optischer Komponenten beschreibt, die in Bezug auf die
Strahlführung und Filamentierungswirkungen (filamentation
effects) des Lasers relativ unempfindlich sind. Das von die
sem Laser ausgesandte optische Strahlenbündel hat einen
Astigmatismus und einen elliptischen Querschnitt. Weiterhin
ist aus der US 3 396 344 (Broom) eine Halbleiterlaseran
ordnung mit einem Festkörperlaser bekannt, der aus einem
Block aus Halbleitermaterial gebildet ist. Letzteres enthält
eine P-N-Übergangsschicht mit zwei sich gegenüberliegenden
Stirnflächen, die optisch eben poliert und als Resonatoren
parallel zueinander ausgerichtet sind, wobei eine der
Stirnflächen eine strahlungsemittierende Oberfläche ist,
wenn der Laser angeregt ist. Der Festkörperlaser ist
kombiniert mit einer Kollimatorlinse und einer
planzylindrischen Linse.
Aufgabe der Erfindung ist es, bei einem Mustererzeu
gungsgerät der gattungsgemäßen Art optische Verzerrungen zu
korrigieren.
Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß durch ein Musterer
zeugungsgerät mit den Merkmalen des Anspruchs 1 gelöst.
Das erfindungsgemäße Gerät umfaßt eine optische
Einrichtung zum Kompensieren der Astigmatismus- und
Elliptizitätsprobleme des Mustererzeugungsgeräts. Die
optische Einrichtung enthält vier Linsen, die zwischen der
Strahlungsquelle und dem Werkstück angeordnet sind.
Bei einem speziellen Ausführungsbeispiel sind die vier
Linsen zwischen der Strahlungsquelle und einem Strahlteiler
angeordnet. Der Strahlteiler wird verwendet, um das
Strahlbündel in mehrere Strahlen aufzuteilen.
Vorteilhafte Weiterbildungen der Erfindung sind in den
Unteransprüchen gekennzeichnet.
Die Erfindung wird im folgenden anhand von in der Zeichnung
dargestellten Ausführungsbeispielen näher erläutert. In der
Zeichnung zeigen:
Fig. 1 eine schematische Darstellung des optischen
Strahlengangs in einem bekannten Mustererzeu
gungsgerät, das in Zusammenhang mit der Erfin
dung verwendet werden kann;
Fig. 2 ein Blockschaltbild eines bekannten Systems zum
Anlegen von akusto-optischen Modulationsdaten
an ein Mustererzeugungssystem, das bei der
Erfindung verwendbar ist;
Fig. 3 ein Blockdiagramm eines optischen Linsensy
stems, das bei der Erfindung verwendbar ist;
Fig. 4 eine Explosionsansicht einer optischen Linsen
anordnung, die bei der Erfindung verwendbar
ist;
Fig. 5 ein Schaltschema gemäß einem Ausführungsbei
spiel der Erfindung; und
Fig. 6 eine schematische Darstellung eines Ausschnitts
der Schaltung nach Fig. 5.
Im folgenden wird eine optische Einrichtung zur Korrektur von Astigmatismus und eine Schaltung
für die Steuerung der Aktivierung von Strahlen beschrieben. In der
nachfolgenden Beschreibung sind zahlreiche spezielle Details
ausgeführt, wie z. B. Linsencharakteristiken, die Anzahl von
Bits in einem Datenfeld, usw., um ein besseres Verständnis der
vorliegenden Erfindung zu ermöglichen. Dabei ist jedoch dem
Fachmann bewußt, daß die vorliegende Erfindung ohne diese
speziellen Details ausgeführt werden könnte. Auf der anderen
Seite sind bekannte Schaltungen, Strukturen und Techniken
nicht im Detail aufgeführt worden, um die Darstellung der
Erfindung nicht unnötig zu belasten.
Die vorliegende Erfindung bezieht sich allgemein auf Systeme,
die Bündel von Strahlungsenergie auf eine Bildebene leiten.
Dabei ist es erwünscht, einheitliche und vorhersehbare
Resultate im Brennpunkt des Strahlenbündels in der Bildebene
zu erzielen. Bei bekannten Systemen jedoch leidet der Strahl
häufig unter einer oder mehreren unerwünschten Nebeneigen
schaften, einschließlich Astigmatismus, Strahlelliptizität und
isofokalem Bias (Verzerrung).
Eines dieser bekannten Systeme ist das durch die Anmelderin
hergestellte CORE-2000 Mustererzeugungssystem. Systeme wie das
CORE-2000 Mustererzeugungssystem haben bei der Herstellung von
Werkstücken Probleme mit Astigmatismus, insbesondere wenn die
Geometrien der auf die Werkstücke aufzuzeichnenden Objekte
kleiner und kleiner werden. Nach dem heutigen Verständnis der
Anmelderin über Astigmatismusprobleme in Systemen mit Strah
lungsenergie-Fokussierungseinrichtungen, wie dem CORE-2000
Mustererzeugungssystem, entstehen solche Probleme aus einer
Fehljustierung des Strahlbündelbrennpunkts.
Speziell bei dem bevorzugten Ausführungsbeispiel der vorlie
genden Erfindung scheint der Astigmatismus dadurch verursacht
zu sein, daß die optische Fokushöhe des Strahlbündels in Scan
richtung sich von derjenigen in Striperichtung (Streifenrich
tung) unterscheidet.
Die Begriffe "Scanrichtung" und "Striperichtung" beziehen sich
in diesem Zusammenhang auf die Richtungen entlang der Scan-
und Stripe-Achsen. Als Scanrichtung ist die Bewegungsrichtung
des Strahlbündels und als Striperichtung die Bewegungsrichtung
des Werkstücks während eines Schreibvorgangs anzusehen.
Weiterhin haben Systeme wie das CORE-2000 Mustererzeugungssy
stem Schwierigkeiten mit Strahlelliptizitätserscheinungen,
wodurch die Fleckgröße, die sich in dem gedruckten Muster
ergibt, in der Scanrichtung bei optimalem Scanrichtungsfokus
anders ist als die Fleckgröße in Striperichtung bei optimalem
Striperichtungsfokus. Die Elliptizität verursacht eine kriti
sche Dimensionsverzerrung (Bias) zwischen Stripe- und Scan
richtungen bei anderer als isofokaler Einstellung. Die isofo
kale Einstellung ist das Einstellungsniveau, bei dem weder die
kritischen Dimensionen (CD) der Scan- noch der Striperichtung sich mit dem Fokus
ändern.
Die Elliptizität kann durch die Strahlquelle, wie z. B. einen
Laser in dem CORE-2000 Mustererzeugungssystem, durch den aku
sto-optischen Modulator (AOM) oder durch eine andere Quelle
verursacht sein.
In dem derzeit im Handel erhältlichen CORE-2000 Mustererzeu
gungsgerät werden Daten entsprechend einem auf einem Werkstück zu
bildenden Mustern von einem Rastererzeuger erzeugt und einer
Schaltung zugeführt, die danach das Schreiben auf dem Werk
stück steuert. Diese Schaltung ist in der DE 36 33 454 A1
beschrieben. Die Strahlbündel des CORE-2000 Mustererzeugungs
systems umfassen acht überlappende Strahlbündel, die eine Art
Bürste bilden, um Scanlinien auf das Werkstück zu schreiben.
Es ist bekannt, daß die Strahlbündel in solchen Systemen so
gesteuert werden müssen, daß eine Zeitverzögerung zwischen der
Aktivierung jedes der acht Bündel besteht. Wenn eine solche
Steuerung nicht vorhanden ist, kann unkontrolliert Interferenz
zwischen den Strahlbündeln auftreten, die eine "saubere" Scan
linie verhindert. Das CORE-2000 Mustererzeugungsgerät verwen
det eine Schaltung mit einem AOM und einer zugehörigen Steuer
schaltung, die sicherstellt, daß sich die Strahlbündel auch
dann nicht überlappen, wenn sich die Projektionsflächen der
Strahlbündel überlappen. Das Verfahren, das bei dem CORE-2000
das Nichtüberlappen der Strahlbündel sicherstellt, basiert
darauf, für den AOM eine Zeitverzögerung zwischen der Aktivie
rung jedes der einzelnen Strahlen zu erzeugen. Dies ermög
licht, daß die durch die Strahlbündel gebildete Bürste eine
saubere Scanlinie bildet.
Weiterhin haben jedoch Systeme wie das CORE-2000 Mustererzeu
gungsgerät Probleme mit isofokalem Bias, bei dem die
kritische Dimension (CD) bei isofokaler Einstellung sich in
Scanrichtung leicht von der in Striperichtung unterscheidet.
Es ist anzunehmen, daß dieser CD-Bias zumindest teilweise auf
Nichtlinearitäten in den Ein/Ausschaltzykluszeiten der auf das
Werkstück gerichteten Strahlbündel beruht.
Im folgenden wird auf Fig. 1 Bezug genommen. Fig. 1 zeigt ein
optisches System wie es in der derzeit im Handel erhältlichen
Version des CORE-2000 verwendet wird. Ein cw-Laser 10 gibt 100
bis 200 Milliwatt Strahlung bei einer Frequenz von 363,8 nm
ab. Der Laserstrahl wird durch einen gewöhnlichen Strahlver
dichter 12 komprimiert, um ihn für die Strahlteilung vorzube
reiten. Der Strahlverdichter des derzeit erhältlichen
CORE-2000 Mustererzeugungsgeräts umfaßt zwei Linsen. Ein
Strahlteiler 13 teilt das vom Laser 10 kommende Strahlbündel
in acht Teilstrahlen. Diese acht vom Strahlteiler ausge
henden Strahlen (kollektiv als "Bürste" bezeichnet) pas
sieren eine Relaislinse 14. Die Relaislinse fokussiert die vom
Strahlteiler 13 kommenden Strahlen de facto und engt sie
ein. Die Strahlen werden im Durchmesser ungefähr um den Faktor 2 ver
kleinert.
Im Handel erhältliche akusto-optische Modulatoren (AOMs) 16
werden für die Modulation der Lichtstrahlen eingesetzt. Die
acht vom AOM kommenden Strahlen werden durch ein Dove-
Prisma 17 geleitet. Das Dove-Prisma wird verwendet, um die
Bürste zu drehen und die Strahlen im Endeffekt aus der Ebene
von Fig. 1 herauszuschwenken. Die letztendlich durch die
Strahlbündel gebildete Bürste enthält überlappende Projektio
nen jedes der Strahlen, ohne daß Interferenz zwischen den
Bündeln aufträte, da zusätzlich zur Drehung durch Prisma 17
eine Zeitverzögerung zwischen der Aktivierung jedes der
Strahlen verwendet wird. Diese Zeitverzögerung wird er
zeugt durch eine Schaltung auf einer AOM-Datenkarte, die zur
Steuerung des AOM verwendet wird.
Die aus dem Prisma 17 austretenden Strahlbündel laufen durch
eine einzelne Relaislinse 18 und laufen in einem Punkt
auf Steuerspiegel 20 zusammen. Der Steuerspiegel 20 ist elektrisch
derart steuerbar, daß die Strahlwinkel auf den Facetten eines
Spiegels 24 bewegt bzw. justiert werden können. Die vom Spie
gel 20 reflektierten Strahlbündel durchlaufen eine Zoomlinse
22, die eine Vergrößerung und ein Auseinanderbewegen oder eine
Verkleinerung und ein Zusammenbewegen der Strahlen auf dem
Werkstück ermöglicht.
Der rotierende Polygonspiegel 24 sorgt für die Scanfunktion
der Strahlen.
Eine F-Theta-Linse 26 wird verwendet um eine post-scan Zwi
schenbildebene zu erzeugen und leitet die Strahlen an eine
Reduktionslinse 32 weiter, um die endgültigen Strahlen für
die Belichtung des Werkstücks 34 zur Verfügung zu stellen. In
der Zwischenbildebene ist ein Strahlteiler 28 angeordnet. Der
Strahlteiler 28 wird verwendet, um einen der vom Strahlteiler
28 abgeteilten Strahlen zu einer Facettenpositionsbestim
mungsschaltung abzuzweigen, die einen Puls für die Anzeige der
Fassettenposition auf dem rotierenden Polygonspiegel 24 er
zeugt. Dies ermöglicht es, die Musterdaten vom AOM 16 mit der
Spiegelrotation zu synchronisieren. Ferner ist ein Verschluß
30 in der Zwischenbildebene angeordnet, um eine Belichtung des
Werkstücks auf das Scannen des Werkstücks oder andere ausge
wählte Zeiten, wie während der Kalibrierung des Systems, zu
bschränken.
Die vorliegende Erfindung führt ein verbessertes optisches
System ein, das die derzeitige Ausführungsform des Strahlver
dichters 12 ersetzt. Das verbesserte optische System korri
giert Astigmatismus- und Elliptizitäts-Probleme, die durch den
Laser 10, AOM 16 und Dove-Prisma 17 verursacht sein können.
Die vorliegende Erfindung ist ferner auf eine Schaltung für
die AOM-Datenkarte gerichtet, die den isofokalen Bias kompen
siert und korrigiert.
Wie in Fig. 2 gezeigt, erzeugt das CORE-2000 Mustererzeugungs
system Daten in einem Rastererzeuger. Eine bevorzugte Form des
Rastererzeugers ist in der DE 36 33 454 A1 beschrieben. Acht
AOM-Datenkarten 201 erhalten acht Datenbits, ein Bit pro Kar
te. In der derzeitig erhältlichen Version des CORE-2000 Mu
stererzeugungssystems bewirkt die AOM-Datenkarte 201 eine
Verzögerung der Weitergabe der vom Rastererzeuger erhaltenen
Daten an den AOM-Modulator 202. Zweck dieser Verzögerung ist
es, die Nichtparallelität der acht Strahlen beim Scannen eines
Werkstücks auszugleichen. Der AOM-Modulator 202 gibt dann ein
Signal an acht Wandler ab, die auf der Oberfläche eines Ein
kristalls gebildet sind. Das Vorhandensein eines Signals be
stimmt, ob der Strahl durch den Kristall auf das Werkstück
gebrochen wird, und weiter bestimmt die Amplitude des Signals
die Intensität des Strahls.
Die Erfindung offenbart einen neuen Strahlverdichter mit einem
optischen System, das die zwei Linsen in Strahlverdichter 12
von Fig. 1 ersetzt. Das optische System nach der vorliegenden
Erfindung bewirkt die Einführung einer dem Betrag nach variab
len Kompensation von Astigmatismus und Elliptizität, um den
Astigmatismus und die Elliptizität, die durch Laser, AOM und
Dove-Prisma verursacht werden, zu korrigieren.
Fig. 3 zeigt ein optisches System 300,
das vier Linsen, Linse 302, 303, 304 und
305 umfaßt.
In einer speziellen Einstellung des Strahlverdichters wird am
Strahlverdichterfokus 310 ein Astigmatismus von 15,24 cm ein
geführt, der Strahlbündeldurchmesser am Fokus beträgt in der
Achse der Zylinderlinsenbrechung 0,023 cm und in der Achse
ohne Zylinderlinsenbrechung 0,0387 cm.
Die Linse 302 ist annähernd 225 cm von der virtuellen Strahltaille
der Laserstrahlquelle 301 angeordnet. Die Laserwel
lenlänge beträgt 364 nm; der Einschnürungsdurchmesser beträgt
0,105 cm. Die Linse 302 weist eine konvexe Oberfläche als
Eintrittsfläche und eine planare Oberfläche als Austrittsflä
che für das Strahlbündel 310 auf. Die Linse 302 hat einen
Brechungsindex von annähernd 1,475 und die konvexe Oberfläche
hat einen Radius von annähernd 5,08 cm. An ihrer dicksten
Stelle ist die Linse annähernd 0,508 cm dick.
Die zweite Linse 303 ist im Abstand von 12,24 cm von der pla
naren Oberfläche der Linse 302 angeordnet. Die Linse 303 hat
eine planare Oberfläche als Eintrittsfläche und eine zy
lindrisch-konvexe Oberfläche als Austrittsfläche für das
Strahlbündel 310. Die Linse 303 hat einen Brechungsindex von
annähernd 1,475 und ihre konvexe Oberfläche hat einen Radius
von annähernd 3,447 cm. Die Linse 303 ist annähernd 0,508 cm
dick.
Eine dritte Linse 304 ist um annähernd 1,017 cm von der kon
vexen Oberfläche der zweiten Linse beabstandet. Die dritte
Linse 304 hat eine planare Oberfläche, durch welche das
Strahlbündel 310 eintritt, und eine konvexe Oberfläche, durch
welche das Strahlbündel 310 austritt. Die dritte Linse 304 hat
einen Brechungsindex von annähernd 1,475 und einen Radius von
annähernd 1,53 cm. Die dritte Linse 304 ist annähernd 0,508 cm
dick.
Eine vierte Linse 305 ist um annähernd 5,77 cm von der kon
vexen Oberfläche der dritten Linse 304 beabstandet. Die vierte
Linse hat eine planare Oberfläche, durch welche das Strahlbün
del 310 eintritt, und eine zylindrisch konkave Oberfläche,
durch welche das Strahlbündel 310 austritt. Die vierte Linse
305 hat einen Brechungsindex von annähernd 1,475 und ist annä
hernd 0,508 cm dick. Die vierte Linse 305 hat einen Radius von
annähernd 4,135 cm. Die vierte Linse 305 ist um annähernd
11,85 cm vom Strahlteiler 13 aus Fig. 1 beabstandet.
Unter Verwendung des vorstehend beschriebenen optischen Sy
stems können bei dem bevorzugten Ausführungsbeispiel der Er
findung Probleme mit dem Astigmatismus und der Elliptizität
des Strahlbündels 310 ausgeglichen werden, die durch die La
serquelle 10, AOM 16 und Dove-Prisma 17 aus Fig. 1 verursacht
sind. Durch Veränderung des Abstandes zwischen den Linsenele
menten 303 und 304 und zwischen den Elementen 304 und 305
können Astigmatismus und Elliptizität in unterschiedlichen
Größen am Fokus 310 eingeführt werden. Der eingeführte Astig
matismus und die eingeführte Elliptizität werden in die End
bildebene des Mustererzeugungsgeräts übertragen.
Fig. 4 zeigt eine Explosionsansicht des optischen Systems des
bevorzugten Ausführungsbeispiels der vorliegenden Erfindung.
Das optische System 400 ist im Lasermustererzeugungssystem
nach Fig. 1 zwischen dem Laser 10 und dem Strahlteiler 13
angeordnet, und zwar an der Stelle, die in Fig. 1 als Strahl
verdichter 12 bezeichnet ist. Das optische System 400 umfaßt
eine Basis 420 mit einer Vielzahl von Stellen 411 zum Anbrin
gen von Linsenhaltern, die die Linsen 402, 403, 404 und 405
halten. Die Linsen 402, 403, 404 und 405 entsprechen den Lin
sen 302, 303, 304 bzw. 305 in Fig. 3. In dem bevorzugten Aus
führungsbeispiel ist jede der Linsen 402, 403, 404 und 405 an
der Basis 420 mit Befestigungsmitteln 412, 413, 414 und 415
befestigt.
Die Erfindung offenbart ferner eine Schaltung zur Steuerung
des AOM 16 in Fig. 1. Das bevorzugte Ausführungsbeispiel der
Erfindung sieht eine Schaltung zur Verzögerung der Datenwei
tergabe vom Rastererzeuger zum AOM vor, die die Nichtparalle
lität der acht Strahlen des Mustererzeugungsgeräts wäh
rend des Scannens eines Werkstücks ausgleicht. Eine zusätzli
che Schaltung findet Anwendung, die den CD-Bias ausgleicht,
der durch Nichtlinearitäten im Ein/Ausschaltzyklus der Strahl
bündel verursacht wird.
In Fig. 5 ist ein Blockschaltbild gezeigt, das die Schaltung
zur Korrektur des CD-Bias in dem bevorzugten Ausführungsbei
spiel darstellt. Über Leitung 501 werden zwei Datenbits in die
Zustandsmaschine (Schaltung) 502 eingegeben. Die zwei Datenbits, die über
Leitung 501 eingegeben werden, geben einen Wert für die gewünschte Strahlin
tensität an. Entsprechend Tabelle I wird in einer Ausführungs
form der vorliegenden Erfindung eines der beiden über Leitung
501 eingegebenen Datenbits effektiv von der Verzögerungsschal
tung ignoriert. Wenn in diesem Fall das verbleibende Bit eine
0 ist, wird die Strahlintensität als "aus" interpretiert. Wenn
der Bitwert 1 beträgt, wird die Strahlintensität als "voll
ein" interpretiert.
In einem zweiten Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfin
dung werden beide über Leitung 501 eingegebenen Bits zur Be
stimmung des Werts für die Strahlintensität verwendet.
In diesem zweiten Ausführungsbeispiel haben die Bitwerte die
Bedeutungen nach Tabelle II. Das zweite Ausführungsbeispiel
ermöglicht drei Intensitätsniveaus: aus, 1/2 Intensität und
volle Intensität. Die 1/2 Intensität kann entweder als 01 oder
10 dargestellt werden.
Bei einem dritten Ausführungsbeispiel der Erfindung stehen
vier Intensitätswerte zur Verfügung: aus, 1/3 Intensität,
2/3 Intensität und volle Intensität. Die mit jedem dieser
Intensitätswerte verbundenen Bitwerte für das dritte Ausfüh
rungsbeispiel sind in Tabelle III angegeben.
Die Zustandsmaschine 502 aus Fig. 5 nimmt als Eingaben die
zwei Datenbits auf Leitung 501 und die zwei Datenbits auf, die
im davorliegenden Taktzyklus auf Leitung 501 angelegen haben.
Die zwei Datenbits vom vorigen Taktzyklus werden über Leitung
503 zurückgeführt. Diese vier Datenbits (d. h. zwei Bits vom
aktuellen Taktzyklus und zwei Bits vom vorausgegangenen Takt
zyklus) werden als Eingabe für die Verzögerungsnachschlageta
belle 508 verwendet. Die Zustandsmaschine 502 des bevorzugten
Ausführungsbeispiels umfaßt ein MC10H141 4-Bit Universal-
Schieberegister.
Tabelle IV beschreibt die Interpretationen für jeden der
Zustände, die von der Zustandsmaschine 502 für jedes der oben
genannten drei Ausführungsbeispiele der vorliegenden Erfindung
ausgegeben werden.
In Tabelle IV stellen B0 und A0 Daten aus dem laufenden Takt
zyklus und B1 und A1 Daten vom vorherigen Taktzyklus dar. Die
als "nur A0, A1" bezeichnete Spalte gibt die Zustände für das
erste Ausführungsbeispiel an. Die "10 & 01 = 1/2 Intensität"
überschriebene Spalte gibt die Zustände für das zweite Ausfüh
rungsbeispiel an und die "01 = 1/3 Intensität 10 = 2/3 Inten
sität" überschriebene Spalte gibt die Zustände für das dritte
Ausführungsbeispiel an.
Im ersten Ausführungsbeispiel werden die Bits B0 und B1 effek
tiv ignoriert, und nur die Bits A0 und A1 werden zur Bestim
mung des Zustands verwendet. Alle Hex-Werte 0, 2, 8 und A sind
beispielsweise stabile "aus"-Intensitätswerte. Im zweiten
Ausführungsbeispiel geben 10 und 01 dieselbe Stärke an. Daher
stellen beispielsweise die Hex-Werte 1 und 2 denselben Zustand
dar, einen Übergang von halber Intensität auf aus. Im dritten
Ausführungsbeispiel stellt jeder der Hex-Werte einen anderen
Zustand dar.
Der 4-Bit-Wert aus Zustandsmaschine 502 wird in die Verzöge
rungsnachschlagetabelle 508 als Adresse zum Auffinden eines
Verzögerungswerts eingegeben. Bei dem bevorzugten Ausführungs
beispiel enthält die Verzögerungsnachschlagetabelle 508 ein
16 × 8-Speicherfeld für die Speicherung von bis zu 16 8-Bit-
Verzögerungswerten. Das bevorzugte Ausführungsbeispiel der
Erfindung hat zwei MC10H145 Daten-RAMs. Der Wert in der Verzö
gerungsnachschlagetabelle, der durch die einem bestimmten
Zustand entsprechenden vier Bits adressiert wird, ist der
gewünschte Verzögerungswert für diesen Zustand. Der Verzöge
rungswert wird als 8-Bit-Wert auf Leitung 509 ausgegeben.
Tabelle V gibt die Verzögerungszeiten an, die einer Anzahl von
Verzögerungswerten entsprechen, wie sie an den Adreßplätzen in
der Verzögerungsnachschlagetabelle gespeichert sind. Bei
spielsweise würde ein Hex-Wert von 0 bei einer Adresse in der
Verzögerungsnachschlagetabelle eine Verzögerung von 0 Pikose
kunden in der Weiterleitung des Ausgabesignals aus der Schal
tung nach Fig. 5 erzeugen. Ein Hex-Wert von 1 erzeugt eine
Verzögerung von 58,8 Pikosekunden und ein Hexwert von FF er
zeugt eine Verzögerung von 15,0 Nanosekunden. Es ist jedoch
für den Fachmann ohne weiteres ersichtlich, daß alternativ
andere Verzögerungswerte verwendet werden können, ohne daß vom
Wesen der Erfindung abgewichen würde.
Die über Leitung 509 ausgegebenen acht Bits werden in einen im
weiteren als Verzögerer bezeichneten Verzögerungsgenerator 511
eingegeben, der die Verzögerungen gemäß Tabelle V erzeugt. Der
Verzögerer des bevorzugten Ausführungsbeispiels weist einen
Brooktree 601 (Bt601) Pulserzeuger mit Feineinstellung der Verzögerungszeit der Pulsflanke (Zeitflankenfeineinsteller) auf. Der Ver
zögerer 511 liefert als Ausgabe einen Puls zum Takten eines
Ausgaberegisters 515 der Schaltung nach Fig. 5. Dieser Puls
wird auf Leitung 512 gegeben.
Im folgenden wird auf Fig. 6 Bezug genommen. Das bevorzugte
Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung umfaßt zwei
Bt601 Zeitflankenfeineinsteller-Schaltungen 640 und 641. Die
Verwendung von zwei Bt601 Zeitflankenfeineinstellern in dem
bevorzugten Ausführungsbeispiel kompensiert die Erholungszeit
dieser Schaltungen. In dem bevorzugten Ausführungsbeispiel
werden die Bt601-Schaltungen von Signalen getaktet, die aus
einem D-Flipflop 650 ausgegeben werden. Die Bt601-Schaltung 640
wird vom Q-Ausgang des Flipflops 650 und die Bt601-Schaltung 641
vom Q-Ausgang des Flipflops 650 getaktet. Der D-Flipflop 650 wird
durch den Drucktakt getaktet. Die verzögerte Taktleitung 652,
die der Leitung 512 aus Fig. 5 entspricht, erhält alternativ Pulse
von Bt601-Schaltung 640 und Bt601-Schaltung 641.
Im folgenden wird wieder Bezug genommen auf Fig. 5. In einer In
tensitätsnachschlagetabelle 520 sind die Ausgangs-
Intensitätswerte gespeichert, die zu jedem von der Zustandsmaschine aus
gegebenen Zustand gehören. Bezogen auf Tabellen I, II
und III erlaubt die Erfindung gegenwärtig drei Ausführungsbei
spiele. Bei dem ersten Ausführungsbeispiel, wie in Tabelle I
gezeigt, werden die Werte an jedem Platz der Intensitätsnach
schlagetabelle nominell auf entweder Hexadezimal 00 gesetzt,
was anzeigt, daß der Strahl aus ist, oder auf Hexadezimal FF
gesetzt, was anzeigt, daß der Strahl mit voller Intensität
eingeschaltet ist. In einem zweiten Ausführungsbeispiel gibt
es drei Intensitätswerte, wie in Tabelle II gezeigt. Die
Adreßplätze der Intensitätsnachschlagetabelle werden nominell
auf entweder Hexadezimal 00 gesetzt, was anzeigt, daß der
Strahl aus ist, auf Hexadezimal 7F, was halbe Intensität an
zeigt, oder auf Hexadezimal FF, was volle Intensität anzeigt.
Im dritten Ausführungsbeispiel hat die Intensitätsnachschlage
tabelle vier Nominalwerte, wie in Tabelle III gezeigt. Hexade
zimal 00 zeigt an, daß der Strahl aus ist. Hexadezimal 55
zeigt einen 1/3 Intensitätswert an, Hexadezimal AA zeigt einen
2/3 Intensitätswert an und Hexidezimal FF zeigt volle Inten
sität an. Der Ausgangspegel dieser Schaltung des bevorzugten
Ausführungsbeispiels kann mittels folgender Gleichung berech
net werden:
Ausgangspegel = 0,8 V × (TTLDAC/22510) × (OUTLEVEL/25510)
In vorstehender Gleichung ist 0,8 Volt der maximale Ausgangs
spannungspegel, der für die Schaltung des bevorzugten Ausfüh
rungsbeispiels zur Verfügung steht. OUTLEVEL gibt den aus der
Intensitätsnachschlagetabelle 520 in Fig. 5 erhaltenen Wert
an, und der TTLDAC-Wert wird aus einem Register erhalten, das
in der Schaltung nach der vorliegenden Erfindung eingestellt
wird. Mit dem Wert dieses Registers wird der 0,8 V-Pegel der
Schaltung multipliziert, um den Maximalwert der
Ausgabe festzusetzen. Das Register hat einen Wert zwischen 0
und 255. Infolgedessen ist die mit dem TTLDAC-Register erziel
te Ausgangsauflösung 3,14 mV (d. h. 0,8 Volt geteilt durch 255).
Die 8-Bit-Wert-Ausgabe aus der Intensitätsnachschlagetabelle
520 wird als Eingabe an ein Pufferregister 530 gelegt, das den
Ausgang der Intensitätsnachschlagetabelle von Fig. 5 während
des Nachschlagezugriffs stabil hält.
Claims (4)
1. Mustererzeugungsgerät mit einer Strahlungsquelle
(301), die ein Strahlbündel zur Erzeugung eines Musters auf
einem Werkstück (34) aussendet,
dadurch gekennzeichnet,
daß das optische Mustererzeugungsgerät eine optische Einrichtung (300) zur Korrektur des Astigmatismus und der Elliptizität des Strahlbündels (310) aufweist, wobei die Einrichtung (300) folgende Linsen enthält:
eine erste Linse (302) mit einer konvexen, der Strah lungsquelle (301) zugewandten Oberfläche und einer planaren, der Strahlungsquelle abgewandten Oberfläche;
eine zweite Linse (303) mit einer planaren, der Strahlungsquelle (301) zugewandten Oberfläche und einer zylindrisch-konvexen, der Strahlungsquelle abgewandten Oberfläche;
eine dritte Linse (304) mit einer planaren, der Strahlungsquelle (301) zugewandten Oberfläche und einer konvexen, der Strahlungsquelle abgewandten Oberfläche;
eine vierte Linse (305) mit einer planaren, der Strahlungsquelle (301) zugewandten Oberfläche und einer zylindrisch-konkaven, der Strahlungsquelle abgewandten Oberfläche.
daß das optische Mustererzeugungsgerät eine optische Einrichtung (300) zur Korrektur des Astigmatismus und der Elliptizität des Strahlbündels (310) aufweist, wobei die Einrichtung (300) folgende Linsen enthält:
eine erste Linse (302) mit einer konvexen, der Strah lungsquelle (301) zugewandten Oberfläche und einer planaren, der Strahlungsquelle abgewandten Oberfläche;
eine zweite Linse (303) mit einer planaren, der Strahlungsquelle (301) zugewandten Oberfläche und einer zylindrisch-konvexen, der Strahlungsquelle abgewandten Oberfläche;
eine dritte Linse (304) mit einer planaren, der Strahlungsquelle (301) zugewandten Oberfläche und einer konvexen, der Strahlungsquelle abgewandten Oberfläche;
eine vierte Linse (305) mit einer planaren, der Strahlungsquelle (301) zugewandten Oberfläche und einer zylindrisch-konkaven, der Strahlungsquelle abgewandten Oberfläche.
2. Mustererzeugungsgerät nach Anspruch 1, dadurch ge
kennzeichnet, daß das Strahlbündel mehrere einzelne Strahlen
enthält.
3. Mustererzeugungsgerät nach Anspruch 1 oder 2, dadurch
gekennzeichnet, daß die erste (302), die zweite (303) und
die dritte (304) Linse je einen Brechungsindex von annähernd
1,475 haben.
4. Mustererzeugungsgerät nach einem der Ansprüche 1 bis
3, dadurch gekennzeichnet, daß die erste (302), die zweite
(303) und die dritte (304) Linse jeweils annähernd 0,508 cm
dick sind.
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
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8110 | Request for examination paragraph 44 | ||
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Ipc: G02B 26/10 |
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Owner name: APPLIED MATERIALS, INC., SANTA CLARA, CALIF., US |
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8364 | No opposition during term of opposition |