DE3921652A1 - Erzeugung von polymerbeschichtungen auf duesenplatten fuer drucker und schreibgeraete - Google Patents
Erzeugung von polymerbeschichtungen auf duesenplatten fuer drucker und schreibgeraeteInfo
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- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/135—Nozzles
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Description
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Erzeugung einer Poly
merbeschichtung auf einer Seite einer Düsenplatte für mit Flüs
sigkeitströpfchen arbeitende Drucker und Schreibgeräte durch
Plasmapolymerisation gasförmiger Kohlenwasserstoffe.
Mit Flüssigkeitströpfchen arbeitende Drucker, sogenannte Tin
tendrucker, sind bekannt (siehe beispielsweise: "Siemens-Zeit
schrift", 51. Jahrg. (1977), Seiten 219 bis 221). Bei derarti
gen Druckern sind in einem Schreibkopf Düsenkanäle angeordnet,
durch welche die Schreibflüssigkeit tröpfchenförmig ausgestoßen
wird; dies erfolgt mittels Stoßwellen, die durch piezoelektri
sche Wandler erzeugt werden, welche die Düsenkanäle röhrchen
förmig umschließen. Zwischen dem Schreibkopf und der Schreib
walze, d.h. dem Papier, auf das die Schreibflüssigkeit aufge
bracht wird, ist eine sogenannte Düsenplatte angeordnet. Die
Düsenplatte weist eine Anzahl von Düsenöffnungen auf, die mit
den Öffnungen der strahlenförmig auseinanderlaufenden Düsen
kanäle des Schreibkopfes fluchten. Zur Verbesserung des Kontak
tes zwischen der Düsenplatte und dem Schreibkopf und zum Aus
gleich von Abstandsdifferenzen, die auch noch zu einem späteren
Zeitpunkt auftreten können, ist es zweckmäßig, die dem Schreib
kopf zugewandte Seite der Düsenplatte mit einer bis zu 50 µm
und mehr dicken elastischen Polymerbeschichtung zu versehen.
Aus der DE-OS 25 27 647 ist ein mit Flüssigkeitströpfchen ar
beitendes Schreibgerät bekannt, das ebenfalls nach dem piezo
elektrischen Prinzip arbeitet. Bei diesem Schreibgerät, einem
sogenannten Kammschreiber, dienen zur Erzeugung der piezoelek
trischen Bewegungen stabförmige piezoelektrische Wandler, die
parallel zueinander nach Art der Zinken eines Kammes angeordnet
sind, wobei das freie Ende der einzelnen Stäbe jeweils einer
der Öffnungen einer Düsenplatte, auch Düsenträger oder Loch
matrize genannt, zugeordnet ist. Durch die Bewegung der piezo
elektrischen Wandler wird dann aus den Öffnungen der Düsenplat
te die Schreibflüssigkeit ausgestoßen und auf den davor ange
ordneten Papier- bzw. Aufzeichnungsträger aufgebracht.
Zur einwandfreien Funktion benötigen Schreibgeräte der genann
ten Art Düsenträger bzw. -platten, welche auf der dem Aufzeich
nungsträger zugewandten Seite eine lyophobe Beschichtung auf
weisen, um eine Benetzung durch die Schreibflüssigkeit zu ver
meiden und auf diese Weise Schreibartefakte auszuschließen,
welche das Schriftbild stören könnten. Als Material für der
artige Beschichtungen, die etwa 1 µm dick sein sollen, eignen
sich insbesondere Polymerisate aus perfluorierten Kohlenwasser
stoffen, die - ähnlich wie Polytetrafluorethylen (PTFE) - eine
extrem niedrige Oberflächenenergie bzw. Benetzungsfähigkeit
aufweisen. Die Erzeugung der Polymerbeschichtungen kann in der
Weise erfolgen, daß auf die Düsenplatten PTFE-Teilchen aus ei
ner wäßrigen Suspension aufgetragen und dann durch einen Sin
terprozeß zu einer kompakten Schicht verbunden werden (soge
nannte Spin-off-Technik).
Aus der EP-PS 00 92 230 ist es bekannt, die lyophoben Schichten
auf den Düsenplatten direkt zu erzeugen, und zwar durch eine
Hochfrequenz-Niederdruck-Glimmentladung gasförmiger Kohlenwas
serstoffe, d.h. durch Plasmapolymerisation. Dieses Verfahren
zeichnet sich dadurch aus, daß es dichte und pinhole-freie
gleichmäßige Schichten liefert, deren Auftragsdicke leicht zu
steuern ist.
Bei der Erzeugung von Polymerbeschichtungen in der vorstehend
genannten Weise, d.h. durch Plasmapolymerisation, kann insbe
sondere dann, wenn Schichten mit größerer Dicke erforderlich
sind, nicht ausgeschlossen werden, daß unzulässige Mengen an
Plasmapolymerisat auch an die Innenwände der Düsenöffnungen ge
langen und diese Öffnungen sogar verengen, obwohl hierbei die
Gefahr eines Überdeckens der Düsenöffnungen weitaus geringer
ist als bei der Spin-off-Technik. Andererseits müssen die In
nenwände der Düsenöffnungen aber frei von Anteilen lyophober
Beschichtungen sein, um das Durchfließen der Schreibflüssigkeit
nicht zu beeinträchtigen und die Form der ausgestoßenen Flüs
sigkeitströpfchen nicht zu verändern. Die Düsenöffnungen müssen
außerdem einwandfreie Kanten besitzen, damit die Flüssigkeits
tröpfchen die richtige Flugrichtung aufweisen.
Aufgabe der Erfindung ist es, das Verfahren der eingangs ge
nannten Art in der Weise auszugestalten, daß nicht nur eine
pinhole-freie und gleichmäßige Beschichtung von Düsenplatten
möglich ist, sondern daß auch eine scharfe Strukturierung im
Bereich der Düsenöffnungen erfolgt, d.h. daß die Öffnungen der
Düsenplatten und deren Innenwände frei von Anteilen an Polymer
beschichtung sind.
Dies wird erfindungsgemäß dadurch erreicht, daß nach der Be
schichtung die beschichtete Seite der Düsenplatte ganzflächig
abgedeckt wird, und daß die unbeschichtete Seite der Düsenplat
te einem Sauerstoffplasma ausgesetzt wird, wodurch ein reakti
ves Ionenätzen erfolgt.
Das erfindungsgemäße Verfahren erlaubt die Beibehaltung der ur
sprünglichen Größe der Öffnungen der Düsenplatten in einer ra
tionellen Weise, ohne daß hierzu ein hoher technischer Aufwand
erforderlich ist. Dies wäre beispielsweise dann nicht der Fall,
wenn die Düsenöffnungen durch den Einsatz von Laserstrahlen
freigesetzt würden. Dies würde nämlich nicht nur einen hohen
Justieraufwand erfordern, sondern wäre, vor allem bei Düsen
platten mit vielen Öffnungen, auch sehr zeitraubend.
Beim erfindungsgemäßen Verfahren werden die bei der Beschich
tung der Düsenplatten teilweise zugewachsenen Öffnungen wieder
vollständig freigeätzt. Dies erfolgt durch eine Behandlung der
beschichteten Düsenplatten in einem Sauerstoffplasma (mit RF-
Anregung), wobei die organischen Polymeren quantitativ zu gas
förmigen Produkten abgebaut werden, während das Material der
Düsenplatten, die aus Metall bestehen, nicht abgetragen wird.
Eine derartige Vorgehensweise wäre aber sehr aufwendig, wenn
dabei zum Schutz der beschichteten Seite der Düsenplatten mit
einer Abdeckmaske gearbeitet werden müßte, weil hierbei eine
Deckungsgleichheit erforderlich wäre.
Es hat sich nun aber überraschenderweise gezeigt, daß die Dü
senöffnungen auch dann freigelegt werden können, und zwar voll
ständig und konturenscharf, wenn - entsprechend dem erfindungs
gemäßen Verfahren - die Behandlung der beschichteten Düsenplat
ten mit dem sauerstoffhaltigen Niederdruckplasma in der Weise
ausgeführt wird, daß die Düsenplatten dem Plasma auf der unbe
schichteten Seite ausgesetzt werden, während die beschichtete
Seite ganzflächig abgedeckt wird, beispielsweise durch eine
Elektrode. Das Ätzplasma gelangt in diesem Fall von der Rück
seite her in die Düsenöffnungen und setzt diese durch reakti
ves Ionenätzen frei, während es im übrigen Bereich von der Po
lymerbeschichtung ferngehalten wird.
Mittels des erfindungsgemäßen Verfahrens können alle Öffnungen
einer Düsenplatte gleichzeitig und ohne zusätzliche Hilfsmittel
konturenscharf freigelegt werden; dieses Verfahren kann somit
leicht in einen Fertigungsprozeß eingebaut werden. Das Ergebnis
des erfindungsgemäßen Verfahrens läßt sich durch rasterelektro
nenmikroskopische Aufnahmen gut veranschaulichen. Derartige
Aufnahmen zeigen, daß nach dem reaktiven Ionenätzen, d.h. nach
der Behandlung der Düsenplatten im Sauerstoffplasma, einerseits
die Innenwände der Düsenöffnungen völlig frei von Plasmapolyme
risat sind und die Öffnungen einwandfreie Kanten aufweisen,
während andererseits eine gleichmäßige und pinhole-freie Be
schichtung der Düsenplatten gegeben ist.
Durch die Wahl der Plasmabedingungen, d.h. DC-Vorspannung
("self bias"), Druck und Leistungsdichte, kann beim erfin
dungsgemäßen Verfahren die Diffusion der ätzwirksamen Spezies
beeinflußt werden, insbesondere in der Weise, daß Düsenöffnun
gen mit beliebiger Ausformung, beispielsweise konische Düsen
öffnungen, an allen Stellen freigelegt werden. So erfolgt das
reaktive Ionenätzen vorteilhaft bei einer DC-Vorspannung zwi
schen 0 und -1,2 kV; im Sauerstoffplasma wird vorzugsweise ein
Druck zwischen 0,01 und 2 mbar aufrechterhalten und die Lei
stungsdichte im Sauerstoffplasma beträgt vorzugsweise 0,1 bis
10 W/cm2.
Durch die Wahl der Kohlenwasserstoffe, d.h. der Ausgangsmono
meren, lassen sich die chemischen und physikalischen Eigen
schaften der Polymerbeschichtungen beeinflussen, insbesondere
die Beständigkeit gegenüber der Schreibflüssigkeit und die Ela
stizität. Vorteilhaft finden beim erfindungsgemäßen Verfahren
Fluorkohlenstoffe Verwendung, d.h. perfluorierte Kohlenwasser
stoffe. Derartige Verbindungen sind beispielsweise Tetrafluor
ethylen, Hexafluorpropen, Perfluorbuten, Octafluorcyclobutan
und Perfluorcyclohexan.
Anhand von Ausführungsbeispielen soll die Erfindung noch näher
erläutert werden.
Zur Beschichtung der Düsenplatten bzw. für das reaktive Ionen
ätzen dient jeweils eine Apparatur mit folgendem Aufbau. Ein
Glaszylinder mit ca. 80 mm lichter Weite wird oben durch eine
Platte aus VA-Stahl abgeschlossen, die kreisförmige Öffnungen
zur Gaszufuhr aufweist und von der eine höhenverstellbare Mas
seelektrode in Form eines auf dem Kopf stehenden Tisches in den
Reaktionsraum hineinragt; durch den zentral angeordneten hohlen
Fuß des Tisches kann das Gas aus dem Reaktionsraum abgesaugt
werden. Zwischen Masseelektrode und Glaszylinder ist ein etwa
1 mm breiter Ringspalt vorhanden, wodurch eine gleichmäßige
Gasströmung erreicht wird. Den Boden des Glaszylinders bildet
eine Platte aus Polytetrafluorethylen, in welche in der Mitte
eine HF-Elektrode aus VA-Stahl eingelassen ist. Diese Elektro
de, die kühlbar ist, dient gleichzeitig zur Aufnahme der Sub
strate, d.h. der Düsenplatten.
Nach der Beschickung des Reaktionsraumes mit den Düsenplatten
wird zunächst bis zu einem Druck von ca. 10 -3 mbar evakuiert.
Dann wird die Gaszufuhr geöffnet und die Durchflußrate des Ga
ses, d.h. Monomer bzw. Sauerstoff, mittels eines Dosierventils
eingestellt; der gewünschte Arbeitsdruck wird mittels eines
Drosselventils festgelegt. Der Beschichtungs- bzw. der Ätzvor
gang wird durch Zünden einer Glimmentladung eingeleitet, bei
spielsweise bei einer Frequenz von 13,56 MHz; hierzu dient ein
HF-Generator mit einer (maximalen) Leistung von 500 W. Da die
beiden Elektroden verschieden groß sind (Masseelektrode: ca.
45 cm2; HF-Elektrode: ca. 12,5 cm2), bildet sich während der
Entladung eine Gleichspannung, die sogenannte "self bias"-
Spannung aus, die sich der HF-Spannung überlagert. Dies bedeu
tet, daß die kleinere Elektrode - bezogen auf die positive
Plasmasäule - stärker negativ wird als die größere Elektrode,
d.h. die HF-Elektrode wird zur Kathode und die Masseelektrode
zur Anode.
Zur Beschichtung gelangen beispielsweise aus Nickel bestehende
Düsenplatten für Tintendrucker mit einer Dicke von 0,2 mm und
einer Größe von 18 mm · 16 mm. Die Düsenplatten weisen konische
Öffnungen mit einer Weite von 55 µm auf der Vorderseite und
70 µm auf der zu beschichtenden Rückseite auf. Unter Verwendung
von Octafluorcyclobutan (C4F8) als gasförmiges Monomer werden
auf derartigen Düsenplatten Glimmpolymerisatschichten mit einer
Dicke zwischen 20 und 60 µm abgeschieden.
Um eine ausreichende Haftfestigkeit dicker Schichten zu gewähr
leisten, hat es sich als zweckmäßig erwiesen, die Substratober
flächen - zur Reinigung - unmittelbar vor der Beschichtung ei
nem Sputterprozeß mit Argon zu unterwerfen. Dies geschieht bei
spielsweise bei folgenden Bedingungen:
Arbeitsdruck: 0,2 mbar; Durchflußrate: 250 mbar · cm3 · s-1; einge koppelte HF-Leistung (bei 13,56 MHz): 10 W · cm-2; DC-Vorspan nung: -700 V; Dauer: 5 bis 10 min.
Arbeitsdruck: 0,2 mbar; Durchflußrate: 250 mbar · cm3 · s-1; einge koppelte HF-Leistung (bei 13,56 MHz): 10 W · cm-2; DC-Vorspan nung: -700 V; Dauer: 5 bis 10 min.
Für die Beschichtung der Düsenplatten (mittels C4F8) werden
beispielsweise folgende Bedingungen gewählt:
Arbeitsdruck: 0,5 mbar; Durchflußrate: 156 mbar · cm3 · s-1; einge koppelte HF-Leistung (bei 13,56 MHz): 0,86 W · cm-2; DC-Vorspan nung: <-50 V; Abscheidedauer (für eine Schichtdicke von 30 µm): 45 min; oder
Arbeitsdruck: 0,5 mbar; Durchflußrate: 156 mbar · cm3 · s-1; einge koppelte HF-Leistung (bei 13,56 MHz): 1,43 W · cm-2; DC-Vorspan nung: <-50 V; Abscheidedauer (für eine Schichtdicke von 30 µm): 30 min.
Arbeitsdruck: 0,5 mbar; Durchflußrate: 156 mbar · cm3 · s-1; einge koppelte HF-Leistung (bei 13,56 MHz): 0,86 W · cm-2; DC-Vorspan nung: <-50 V; Abscheidedauer (für eine Schichtdicke von 30 µm): 45 min; oder
Arbeitsdruck: 0,5 mbar; Durchflußrate: 156 mbar · cm3 · s-1; einge koppelte HF-Leistung (bei 13,56 MHz): 1,43 W · cm-2; DC-Vorspan nung: <-50 V; Abscheidedauer (für eine Schichtdicke von 30 µm): 30 min.
Mikroskopische Untersuchungen ergaben, daß die Abscheidung
dicker Schichten der vorstehend genannten Art auch zu einer Be
legung der Innenwände der Düsenöffnungen und zu einem teilwei
sen Zuwachsen, d.h. zu einer Verengung, führt. So beträgt bei
spielsweise bei einer Dicke der Polymerbeschichtung von 20 µm
die Weite der Düsenöffnungen - anstatt 70 µm - nur noch ca.
55 µm und bei einer Schichtdicke von 70 µm nur noch ca. 35 µm,
d.h. 50% des ursprünglichen Wertes.
Um die ursprüngliche Weite der Düsenöffnungen wieder herzustel
len, wird deshalb - im Anschluß an die Beschichtung - ein reak
tives Ionenätzen mit Sauerstoff durchgeführt. Die Düsenplatten
werden dazu mit der beschichteten Seite auf die HF-Elektrode
der Ätzvorrichtung gelegt, so daß diese Seite geschützt ist und
die unbeschichtete Seite dem Ätzplasma ausgesetzt wird. Der
Ätzvorgang (mit Sauerstoff) erfolgt beispielsweise bei folgen
den Bedingungen:
Arbeitsdruck: 0,3 mbar; Durchflußrate: 308 mbar · cm3 · s-1; einge koppelte HF-Leistung (bei 13,56 MHz): 2,03 W · cm-2; DC-Vorspan nung: -200 V; Ätzdauer (bei einer Schichtdicke von 30 µm): 4,5 h.
Arbeitsdruck: 0,3 mbar; Durchflußrate: 308 mbar · cm3 · s-1; einge koppelte HF-Leistung (bei 13,56 MHz): 2,03 W · cm-2; DC-Vorspan nung: -200 V; Ätzdauer (bei einer Schichtdicke von 30 µm): 4,5 h.
Nach dem Ätzvorgang weisen die Innenwände der Düsenöffnungen
keinen Belag mehr auf, d.h. sie sind frei von Plasmapolymeri
sat, und zwar auf der gesamten Länge. Dies ist deshalb von Be
deutung, weil das Plasma von der engeren Seite her in die koni
schen Düsenöffnungen eindringen muß. Die Ränder der Düsenöff
nungen auf der beschichteten Seite der Düsenplatten sind glatt
und scharfkantig, d.h. die nach der Beschichtung ursprünglich
vorhandenen wulstförmigen Abrundungen sind verschwunden.
Das erfindungsgemäße Verfahren kann ebenso vorteilhaft bei der
Erzeugung dünner Polymerbeschichtungen eingesetzt werden, wie
dies beispielsweise bei Düsenplatten für Kammschreiber der Fall
ist. Hierbei ist wesentlich, daß die Innenwände der Düsenöff
nungen lyophil, d.h. frei von lyophobem Plasmapolymerisat sind;
außerdem müssen die Ränder der Öffnungen einwandfreie Kanten
aufweisen. Bei dünnen Beschichtungen ergibt sich außerdem der
Vorteil einer kürzeren Dauer des Atzvorganges und damit eine
erhöhte Wirtschaftlichkeit.
Claims (5)
1. Verfahren zur Erzeugung einer Polymerbeschichtung auf einer
Seite einer Düsenplatte für mit Flüssigkeitströpfchen arbeiten
de Drucker und Schreibgeräte durch Plasmapolymerisation gasför
miger Kohlenwasserstoffe, dadurch gekenn
zeichnet, daß nach der Beschichtung die beschichtete
Seite der Düsenplatte ganzflächig abgedeckt wird, und daß die
unbeschichtete Seite der Düsenplatte einem Sauerstoffplasma
ausgesetzt wird, wodurch ein reaktives Ionenätzen erfolgt.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekenn
zeichnet, daß das reaktive Ionenätzen bei einer DC-
Vorspannung zwischen 0 und -1,2 kV erfolgt.
3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch ge
kennzeichnet, daß im Sauerstoffplasma ein Druck
zwischen 0,01 und 2 mbar aufrechterhalten wird.
4. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch
gekennzeichnet, daß die Leistungsdichte im
Sauerstoffplasma 0,1 bis 10 W/cm2 beträgt.
5. Verfahren nach einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 4,
dadurch gekennzeichnet, daß als gasför
mige Kohlenwasserstoffe Fluorkohlenstoffe eingesetzt werden.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19893921652 DE3921652A1 (de) | 1989-06-30 | 1989-06-30 | Erzeugung von polymerbeschichtungen auf duesenplatten fuer drucker und schreibgeraete |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19893921652 DE3921652A1 (de) | 1989-06-30 | 1989-06-30 | Erzeugung von polymerbeschichtungen auf duesenplatten fuer drucker und schreibgeraete |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE3921652A1 true DE3921652A1 (de) | 1991-01-17 |
Family
ID=6384085
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19893921652 Withdrawn DE3921652A1 (de) | 1989-06-30 | 1989-06-30 | Erzeugung von polymerbeschichtungen auf duesenplatten fuer drucker und schreibgeraete |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
DE (1) | DE3921652A1 (de) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE4216999A1 (de) * | 1992-05-22 | 1993-11-25 | Fraunhofer Ges Forschung | Verfahren zur Oberflächenbeschichtung von Silbergegenständen |
EP0664343A2 (de) * | 1994-01-03 | 1995-07-26 | Xerox Corporation | Verfahren zur Verbesserung der Adhäsion im Fluorpolymerbeschichtungsverfahren |
EP1205302A1 (de) * | 2000-05-22 | 2002-05-15 | Seiko Epson Corporation | Kopfelement, verfahren und vorrichtung zur tintenabweisenden behandlung |
DE102005034764A1 (de) * | 2005-07-26 | 2007-02-01 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Verfahren zur Herstellung von funktionalen Fluor-Kohlenstoff-Polymerschichten mittels Plasmapolymerisation von Perfluorocycloalkanen |
US8852693B2 (en) | 2011-05-19 | 2014-10-07 | Liquipel Ip Llc | Coated electronic devices and associated methods |
-
1989
- 1989-06-30 DE DE19893921652 patent/DE3921652A1/de not_active Withdrawn
Cited By (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE4216999A1 (de) * | 1992-05-22 | 1993-11-25 | Fraunhofer Ges Forschung | Verfahren zur Oberflächenbeschichtung von Silbergegenständen |
EP0664343A2 (de) * | 1994-01-03 | 1995-07-26 | Xerox Corporation | Verfahren zur Verbesserung der Adhäsion im Fluorpolymerbeschichtungsverfahren |
EP0664343A3 (de) * | 1994-01-03 | 1997-01-15 | Xerox Corp | Verfahren zur Verbesserung der Adhäsion im Fluorpolymerbeschichtungsverfahren. |
US5900288A (en) * | 1994-01-03 | 1999-05-04 | Xerox Corporation | Method for improving substrate adhesion in fluoropolymer deposition processes |
EP1205302A1 (de) * | 2000-05-22 | 2002-05-15 | Seiko Epson Corporation | Kopfelement, verfahren und vorrichtung zur tintenabweisenden behandlung |
EP1205302A4 (de) * | 2000-05-22 | 2007-08-01 | Seiko Epson Corp | Kopfelement, verfahren und vorrichtung zur tintenabweisenden behandlung |
US7291281B2 (en) | 2000-05-22 | 2007-11-06 | Seiko Epson Corporation | Head member, method for ink-repellent treatment and apparatus for the same |
US7344221B2 (en) | 2000-05-22 | 2008-03-18 | Seiko Epson Corporation | Head member, method for ink-repellent treatment and apparatus for the same |
DE102005034764A1 (de) * | 2005-07-26 | 2007-02-01 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Verfahren zur Herstellung von funktionalen Fluor-Kohlenstoff-Polymerschichten mittels Plasmapolymerisation von Perfluorocycloalkanen |
DE102005034764B4 (de) * | 2005-07-26 | 2012-08-02 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Verfahren zur Herstellung von funktionalen Fluor-Kohlenstoff-Polymerschichten mittels Plasmapolymerisation von Perfluorocycloalkanen und damit beschichtete Substrate |
US8852693B2 (en) | 2011-05-19 | 2014-10-07 | Liquipel Ip Llc | Coated electronic devices and associated methods |
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