DE3913183A1 - Entwicklerzusammensetzung - Google Patents

Description

Die vorliegende Erfindung betrifft eine Entwicklerzusammen­ setzung, insbesondere eine Entwicklerzusammensetzung, die zur Entfernung von vorsensibilisierten Plattenbereichen, die Nichtbildteile von negativ arbeitenden und/oder positiv arbeitenden lithographischen Druckplatten sind, geeignet ist.

Die JP-PS 56-39 464 offenbart eine Entwicklerzusammen­ setzung zur Entfernung von unbelichteten Bereichen einer lichtempfindlichen Schicht, die aus einem schwach alkalischen, wasserlöslichen, organischen Polymer und einem lichtempfindlichen Diazoharz zusammengesetzt ist. Diese Entwicklerzusammensetzung zeigt jedoch kein zufrieden­ stellendes Verhalten bei der vollständigen Entfernung von unbelichteten Teilen einer lichtempfindlichen Schicht, die der Oberfläche eines Substrats benachbart ist. Wenn deshalb die Zusammensetzung als Entwickler für eine vorsensibilisierte Platte zur Herstellung einer lithographischen Druckplatte (nachstehend als "vorsensibilisierte Platte" bezeichnet) verwendet wird, wird eine Untergrundver­ schmutzung während des Druckvorgangs bewirkt. Es ist bekannt, daß ein solcher Nachteil behoben werden kann, indem ein Sulfit der vorstehenden Entwicklerlösung zugegeben wird, wie in der JP-PS 56-42 860 offenbart. Durch die Zugabe eines solchen reduzierenden, anorganischen Sulfits ist es möglich, das Problem der Untergrundverschmutzung der Nichtbildbereiche während des Druckens zu lösen; wenn der Entwickler jedoch über einen langen Zeitraum gelagert wird, wird ein Teil des Sulfits oxidiert und dadurch die Wirkung zur Verhinderung einer Untergrundverschmutzung beeinträchtigt. Wenn sich andererseits der Entwickler, in dem hartes Wasser verwendet wird, verschlechtert, fallen Bindemittel aus dem Entwickler aus zur Bildung einer Aufschlämmung. Wenn jedoch ein chelatbildendes Mittel (Weichmacher für hartes Wasser) zugegeben wird zur Ver­ hinderung der Bildung einer solchen Aufschlämmung, wird die Oxidation des Sulfits beschleunigt und wiederum die Verschlechterung des Entwicklers gefördert.

Vorsensibilisierte Platten mit einer positiv arbeitenden lichtempfindlichen Schicht sind ebenfalls in großem Umfang wie die negativ arbeitenden vorsensibilisierten Platten verwendet worden. Ein Entwickler für solche positiv arbeitenden, vorsensibilisierten Platten ist im allgemeinen jedoch von dem für die negativ arbeitenden Platten verschieden. Deshalb ist eine Mehrzahl von Entwickler­ zusammensetzungen und eine Mehrzahl von Behandlungs­ vorrichtungen erforderlich zur Behandlung dieser zwei Arten von vorsensibilisierten Platten. Dies ist vom wirt­ schaftlichen Standpunkt her ungünstig. Weiterhin ist viel Raum erforderlich zum Aufbau der Vorrichtungen, und die Bearbeitbarkeit ist deshalb beeinträchtigt.

Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es deshalb, eine Entwicklerzusammensetzung zur Verfügung zu stellen, die es ermöglicht, die vorstehenden, bei den bekannten Entwickler­ zusammensetzungen auftretenden Nachteile zu vermeiden. Die Entwicklerzusammensetzung besitzt ausgezeichnete Entwicklungs­ eigenschaften und ergibt lithographische Druckplatten, die keine Untergrundverschmutzung während des Druckens verursachen, wenn sie zur Entwicklung von vor­ sensibilisierten Platten verwendet wird, und sie kann auch über einen langen Zeitraum gelagert werden.

Weitere Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es, eine Entwicklerzusammensetzung zur Verfügung zu stellen, die sowohl negativ arbeitende als auch positiv arbeitende vorsensibilisierte Platten entwickeln kann.

Es wurden verschiedene Untersuchungen durchgeführt und dabei gefunden, daß die vorstehenden Aufgaben auf wirksame Weise gelöst werden können durch Ersatz von alkalilöslichen organischen Verbindungen mit spezifischen funktionellen Gruppen für anorganische Sulfite.

Es wurde gefunden, daß eine solche Entwicklerzusammen­ setzung lichtempfindliche Materialien mit positiv arbeitenden lichtempfindlichen Schichten, zusammengesetzt aus o-Chinondiazidverbindungen und organischen Polymer­ verbindungen, entwickeln kann, wenn der pH der Entwickler­ zusammensetzung auf nicht weniger als 12 eingestellt wird.

Erfindungsgemäß wird eine Entwicklerzusammensetzung zur Verfügung gestellt, die wenigstens eine alkalilösliche Mercaptoverbindung und/oder Thioetherverbindung, wenigstens ein alkalisches Mittel und Wasser umfaßt.

Die erfindungsgemäße Entwicklerzusammensetzung wird nach­ stehend näher erläutert.

Die vorstehenden alkalilöslichen Mercaptoverbindungen und/oder Thioetherverbindungen sind vorzugsweise solche mit wenigstens einer Mercaptogruppe und/oder Thioethergruppe und wenigstens einem Säurerest. Besonders bevorzugt sind alkalilösliche Mercaptoverbindungen und/oder Thioether­ verbindungen mit wenigstens einer Mercaptogruppe und/oder Thioethergruppe und wenigstens einer Carboxylgruppe.

Beispiele für solche alkalilöslichen Mercaptoverbindungen und/oder Thioetherverbindungen, die verwendet werden können, schließen Mercaptoessigsäure, 2-Mercaptopropionsäure, 3-Mercaptopropionsäure, 4-Mercaptobutansäure, 2,4-Dimer­ captobutansäure, 2-Mercaptotetradecansäure, Mercapto­ succinsäure, 2,3-Dimercaptosuccinsäure, Cystein, N-Acetyl­ cystein, N-(2-Mercaptopropionyl)glycin, N-(2-Mercapto-2- methylpropionyl)glycin, N-(3-Mercaptopropionyl)glycin, N-(2-Mercapto-2-methylpropionyl)cystein, Penicillamin, N-Acetylpenicillamin, Glycin-Cystein-Glutaminkondensat, N-(2,3-Dimercaptopropionyl)glycin, 2-Mercaptonicotin­ säure, Thiosalicylsäure, 3-Mercaptobenzoesäure, 4-Mercap­ tobenzoesäure, 3-Carboxy-2-mercaptopyridin, 2-Mercapto­ benzothiazol-5-carbonsäure, 2-Mercapto-3-phenylpropen­ säure, 2-Mercapto-5-carboxyethylimidazol, 5-Mercapto-1- (4-carboxyphenyl)tetrazol, N-(3,5-Dicarboxyphenyl)-2- mercaptotetrazol, 2-(1,2-Dicarboxyethylthio)-5-mercapto- 1,3,4-thiadiazol, 2-(5-Mercapto-1,3,4-thiadiazolylthio)- hexansäure, 2-Mercaptoethansulfonsäure, 2,3-Dimercapto-1-propansulfonsäure, 2-Mercaptobenzolsulfonsäure, 4-Mercaptobenzolsulfonsäure, 3-Mercapto-4-(2-sulfophenyl)-1,2,4- triazol, 2-Mercaptobenzothiazol-5-sulfonsäure, 2-Mer­ captobenzimidazol-6-sulfonsäure, Mercaptosuccinimid, 4-Mercaptobenzolsulfonamid, 2-Mercaptobenzimidazol-5- sulfonamid, 3-Mercapto-4-(2-methylaminosulfonyl)ethoxy)- toluol, 3-Mercapto-4-(2-(methylsulfonylamino)ethoxy)- toluol, 4-Mercapto-N-(p-methylphenylsulfonyl)benzamid, 4-Mercaptophenol, 3-Mercaptophenol, 2-Mercaptophenol, 3,4-Dimercaptotoluol, 2-Mercaptohydrochinon, 2-Thio­ uracil, 3-Hydroxy-2-mercaptopyridin, 4-Hydroxythiophenol, 4-Hydroxy-2-mercaptopyrimidin, 4,6-Dihydroxy-2-mercapto­ pyrimidin, 2,3-Dihydroxypropylmercaptan, 2-Mercapto-4- octylphenylmethylether, 2-Mercapto-4-octylphenylmethan- sulfonylaminoethylether, 2-Mercapto-4-octylphenylmethyl- aminosulfonylbutylether, Thiodiglycolsäure, Thiodiphenol, 6,8-Dithiooctansäure oder Alkalimetallsalze, Erdalkali­ metallsalze oder organische Aminsalze davon ein. Besonders bevorzugt sind Thiosalicylsäure, N-(2,3-Dimercapto­ propionyl)glycin, 2-(1,2-Dicarboxyethylthio)-5-mercapto- 1,3,4-thiadiazol, N-(2-Mercapto-2-methylpropionyl)- cystein und Cystein.

Diese Verbindungen können allein oder in Kombination ver­ wendet werden. Eine bevorzugte Menge davon in der Entwick­ lerzusammensetzung liegt bei 0,001 bis 10 Gew.-%, bezogen auf das Gesamtgewicht der Zusammensetzung. Wenn die Menge weniger als 0,001 Gew.-% beträgt, wird die gewünschte Wirkung zur Verhinderung einer Untergrundverschmutzung von Nichtbildbereichen nicht erreicht. Wenn die Menge anderer­ seits mehr als 10 Gew.-% beträgt, wird die mechanische Festigkeit der lichtgehärteten Teile der lichtempfindlichen Schicht beeinträchtigt. Dies wiederum führt zu einer Ver­ ringerung der Druckhaltbarkeit der erhaltenen lithographischen Druckplatten, wenn die Entwicklerzusammensetzung zur Entwicklung von vorsensibilisierten Platten verwendet wird.

Beispiele für alkalische Mittel zur Einstellung des pHs der erfindungsgemäßen Entwicklerzusammensetzung auf einen gewünschten Bereich schließen anorganische alkalische Mittel, wie Natriumsilikat, Kaliumsilikat, Kaliumhydroxid, Natriumhydroxid, Lithiumhydroxid, Natrium-tert.-phosphat, Natrium-sec.-phosphat, Ammonium-tert.-phosphat, Ammonium- sec.-phosphat, Natriummetasilikat, Natriumbicarbonat, Natriumborat, Ammoniumborat oder Ammoniak, und organische Aminverbindungen, wie Monomethylamin, Dimethylamin, Tri­ methylamin, Monoethylamin, Diethylamin, Triethylamin, Monoisopropylamin, Diisopropylamin, n-Butylamin, Monoethanolamin, Diethanolamin, Triethanolamin, Monoisopropanolamin, Diiso­ propanolamin, Ethylenimin, Ethylendiamin oder Pyridin, ein. Diese alkalischen Mittel können allein oder in Kombination verwendet werden.

Unter diesen sind Natriumsilikat, Kaliumsilikat, Kalium­ hydroxid, Natriumhydroxid, Monoethanolamin, Diethanolamin und Triethanolamin besonders bevorzugt, und diese Verbindungen können allein oder in Kombination verwendet werden.

Die Menge dieser alkalischen Mittel, die in der erfindungs­ gemäß Entwicklerzusammensetzung verwendet wird, liegt bei 0,05 bis 10 Gew.-%, vorzugsweise bei 0,1 bis 7 Gew.-%, bezogen auf das Gesamtgewicht der Zusammensetzung.

Die erfindungsgemäße Entwicklerlösung kann weiterhin anionische oberflächenaktive Mittel und/oder organische Lösungs­ mittel, je nach Bedarf, umfassen. Beispiele für solche anionischen oberflächenaktiven Mittel schließen höhere Alkohol- (8 bis 22 Kohlenstoffatome)schwefelsäureestersalze, wie das Natriumsalz von Laurylalkoholsulfat, das Natriumsalz von Octylalkoholsulfat und das Ammoniumsalz von Lauryl­ alkoholsulfat; aliphatische Alkoholphosphorsäureestersalze, wie das Natriumsalz von Cetylalkoholphosphorsäureester; Alkylarylsulfonsäuresalze, wie Natriumdodecylbenzol­ sulfonsäure, Natriumisopropylnaphthalinsulfonsäure und Natriummetanitrobenzolsulfonsäure; Sulfonsäuresalze von Alkylamiden, wie C₁₇H₃₃CON(CH₃)CH₂CH₂SO₃Na; und Sulfon­ säuresalze von zweibasischen Fettsäureestern, wie Natrium­ dioctylsulfosuccinat und Natriumdihexylsulfosuccinat, ein. Diese oberflächenaktiven Mittel können allein oder in Kombination verwendet werden.

Diese oberflächenaktiven Mittel werden der Entwickler­ lösung vorzugsweise so zugegeben, daß die Menge in dem Entwickler, der in der Praxis verwendet wird, bei 0,1 bis 5 Gew.-% liegt, bezogen auf das Gesamtgewicht des Entwicklers. Wenn die Menge des oberflächenaktiven Mittels weniger als 0,1 Gew.-% beträgt, können die gewünschten Wirkungen nicht erreicht werden, und wenn sie mehr als 5 Gew.-% beträgt, werden nachteilige Wirkungen erzielt, wie eine übermäßige Auflösung aus den Farbstoffen (sogenannte Farb­ trennung), die in einer lichthärtbaren, lichtempfindlichen Lösung eingeschlossen sind, aus dem lichtgehärteten Teil und eine Erniedrigung der mechanischen und chemischen Festigkeit der lichtgehärteten Bilder, wie der Abriebsbeständigkeit.

Geeignete organische Lösungsmittel sind solche mit einer Löslichkeit in Wasser von nicht mehr als etwa 10 Gew.-%, vorzugsweise nicht mehr als 5 Gew.-%. Spezifische Beispiele dafür schließen 1-Phenylethanol, 2-Phenylethanol, 3-Phenylpropanol-1; 4-Phenylbutanol-1; 4-Phenylbutanol-2; 2-Phenylbutanol-1; 2-Phenoxyethanol, 2-Benzyloxyethanol, o-Methoxybenzylalkohol, m-Methoxybenzylalkohol, p-Methoxy­ benzylalkohol, Benzylalkohol, Cyclohexanol, 2-Methylcyclo­ hexanol, 4-Methylcyclohexanol und 3-Methylcyclohexanol, ein. Diese organischen Lösungsmittel können allein oder in Kombination verwendet werden.

Das organische Lösungsmittel wird der Entwicklerlösung zweckmäßigerweise so zugegeben, daß seine Menge in dem verwendeten Entwickler bei 1 bis 5 Gew.-% liegt, bezogen auf das Gesamtgewicht des Entwicklers. Die Menge der organischen Lösungsmittel korreliert sehr stark mit der der oberflächenaktiven Mittel. Mit anderen Worten ist es bevorzugt, die Menge der oberflächenaktiven Mittel zu erhöhen, wenn die Menge der organischen Lösungsmittel steigt. Wenn die Menge der anionischen oberflächenaktiven Mittels gering und die des organischen Lösungsmittels groß ist, kann das organische Lösungsmittel in der Entwickler­ zusammensetzung nicht aufgelöst werden, und deshalb werden gute Entwicklungseigenschaften der Entwicklerzusammen­ setzung nicht erreicht.

Die erfindungsgemäße Entwicklerzusammensetzung kann weiterhin andere Additive, wie Antischäumungsmittel und Weichmacher für hartes Wasser, je nach Bedarf, umfassen. Spezifische Beispiele für solche Weichmacher für hartes Wasser schließen Polyphosphorsäuresalze, wie Na₂P₂O₇, Na₅P₃O₃, Na₃P₃O₉, Na₂O₄P(NaO₃P)PO₃Na₂, Calgon (Handelsname für Natriumpolymetaphosphat); und Aminopolycarbonsäuren und Salze davon, wie Ethylendiamintetraessigsäure und Kalium- und Natriumsalze davon, Diethylentriaminpenta­ essigsäure und Kalium- und Natriumsalze davon, Triethylen­ tetraminhexaessigsäure und Kalium- und Natriumsalze davon, Hydroxyethylethylendiamintriessigsäure und Kalium- und Natriumsalze davon, Nitrilotriessigsäure und Kalium- und Natriumsalze davon, 1,2-Diaminocyclohexantetraessigsäure und Kalium- und Natriumsalze davon und 1,3-Diamino-2- propanoltetraessigsäure und Kalium- und Natriumsalze davon, ein. Diese Weichmacher können allein oder in Kombination verwendet werden.

Die optimale Menge dieser Weichmacher variiert in Abhängig­ keit von der Härte und der Menge des verwendeten harten Wassers, liegt im allgemeinen jedoch bei einer Menge von 0,01 bis 5 Gew.-%, vorzugsweise 0,01 bis 0,5 Gew.-%, bezogen auf das Gesamtgewicht des Entwicklers.

Die lichtempfindlichen Materialien, die mit der erfindungs­ gemäßen Entwicklerzusammensetzung entwickelt werden, können gegebenenfalls einer Desensibilisierungsbehandlung direkt oder nach dem Waschen mit Wasser oder einer Behandlung mit einer wäßrigen Lösung, enthaltend eine Säure, oder einer Desensibilisierungsbehandlung nach der Behandlung mit einer wäßrigen Lösung, enthaltend eine Säure, ausgesetzt werden. Weiterhin wird die Durchsatzkapazität des Entwicklers für solch eine vorsensibilisierte Platte erniedrigt, da die alkalische wäßrige Lösung proportional zu der Menge der behandelten, vorsensibilisierten Platten verbraucht wird, oder die Konzentration des Alkalis wird verringert aufgrund der Absorption von Luft, wenn eine automatische Entwicklungsvorrichtung über einen langen Zeitraum betrieben wird. In solchen Fällen kann die Durch­ satzkapazität des Entwicklers regeneriert werden durch Zugabe eines Regenerierungsmitetls, wie in der JP-OS 54-62 004 (US-PS 42 59 434) offenbart.

Beispiele für lichtempfindliche Diazoharze, die in den lichtempfindlichen Schichten, die mit der erfindungsgemäßen Zusammensetzung entwickelt werden, enthalten sind, sind solche, die erhalten werden, indem die Harze, die in den US-PSen 26 79 498, 30 50 502, 31 63 633 und 34 06 159 und den JP-PSen 49-48 001 (GB-PS 13 12 925) und 49-45 322 (US-PS 36 79 419) offenbart sind, im wesentlichen wasser­ unlöslich und in einem organischen Lösungsmittel löslich gemacht werden auf die Weise, wie es in der JP-PS 47-1167, der US-PS 33 00 309 und den JP-OSen 54-98 613, 56-121 031, 59-78 340, 59-22 834 und 63-262 643 offenbart ist. Mit anderen Worten werden die lichtempfindlichen Diazoharze zunächst in Form von anorganischen Salzen, wie Zinkchlorid­ komplexsalzen, hergestellt, und dann werden die Salze in organische Verbindungen entweder mit phenolischen Hydroxyl- oder Sulfonsäureestern oder beiden oder Hexa­ fluorphosphaten, Tetrafluorboraten oder Komplexsalzen davon umgewandelt, um wasserunlösliche Diazoharze zu erhalten.

Eine Vielzahl von hydrophoben Harzen, die in Kombination mit solch einem im wesentlichen wasserunlöslichen Diazo­ harz verwendet werden können, ist bekannt und wird in großem Umfang verwendet. Die Beurteilung, ob ein solches Harz erfindungsgemäß günstig ist oder nicht, hängt sehr stark von den Erfordernissen jeder Technik zur Herstellung von lithographischen Druckplatten ab. Selbstverständlich muß das Harz oleophil sein, um der Platte ein ausreichendes Farbaufnahmevermögen zu verleihen, es sollte in üblichen organischen Lösungsmitteln löslich sein und physikalisch oder chemisch mit einem lichtempfindlichen Diazoharz, das in Wasser kaum löslich oder vollkommen unlöslich ist, verträglich sein, und es muß Filmbildungseigenschaften besitzen. Das Harz muß eine ausgezeichnete Affinität zu einer Farbe bzw. Tinte besitzen, um als Substrat zur Bildung eines Farbfilms zu dienen, und es muß eine gewisse Härte, Elastizität und Flexibilität aufweisen, um während des Druckes abriebbeständig zu sein und dadurch mehrere zehntausend bis hunderttausend Drucksachen zu liefern.

Als Harze, die den vorstehenden Anforderungen genügen, können beispielsweise Epoxyharze, Polyamidharze, halogenierte Vinylharze, insbesondere Polyvinylchlorid, Poly­ vinylidenchlorid, chlorierte Polyolefine, Polyvinylacetat, Acetalharze, wie Formalharze und Butyralharze, alkalilösliche Urethanharze, wie die, die von US Goodrich Company unter dem Handelsnamen Estane erhältlich sind, Styrol- Maleinsäureanhydrid-Copolymer und Halbester und Halbamide davon, Cellulosederivate, Shellak, Kolophonium oder modifizierte Produkte davon, Acrylsäure-Acrylat-Copolymere, Mehrkomponentencopolymer von 2-Hydroxyethyl(meth) acrylat, (Meth)acrylnitril, (Meth)acrylsäure und gegebenen­ falls andere copolymerisierbare Monomere, wie in der JP-OS 50-118 802 (US-PS 41 23 276) offenbart; Mehrkomponenten­ copolymere von Methacrylsäure, deren Endgruppe eine Hydroxylgruppe ist und die mit einer Gruppe mit Dicarbon­ säureesterresten verestert ist, Methacrylsäure und gegebenen­ falls anderen copolymerisierbaren Monomeren, wie in der JP-OS 53-120 903 offenbart; Mehrkomponentencopolymere eines Monomers mit einer aromatischen Hydroxylgruppe, wie N-(4- Hydroxyphenyl)methacrylamid, (Meth)acrylsäure und gegebenen­ falls anderen copolymerisierbaren Monomeren, wie in der JP-OS 54-98 614 offenbart; und Mehrkomponentencopolymere eines Alkylacrylats, Methacrylonitril und einer ungesättigten Carbonsäure, wie in der JP-OS 56-4144 offenbart, genannt werden. Zusätzlich zu diesen Beispielen werden ebenfalls saure Polyvinylalkoholderivate, saure Cellulose­ derivate und Polymerverbindungen, die durch Alkalilöslich­ machen von Polyvinylacetal oder Polyurethan erhalten worden sind, wie in der JP-PS 54-19 773 (US-PS 37 32 105) und den JP-OSen 57-94 747 (US-PS 43 87 151) 60-182 437 (US-PS 46 31 245), 62-58 242 und 62-123 453 (GB-PS 21 85 120) offenbart, erfindungsgemäß bevorzugt verwendet.

Das vorstehende wasserunlösliche Diazoharz und das hydrophobe Harz werden in einem geeigneten Lösungsmittel, wie einem niedrigen Alkohol, Glykolether, einem Dialkylformamid, einem chlorierten Lösungsmittel oder einer Kombination daraus, gelöst. Die Lösung wird gegebenenfalls mit einem Farbstoff oder einem Pigment gefärbt und umfaßt gegebenenfalls andere Komponenten, wie Mittel oder Zusammenetzungen zum Erhalt eines sichtbaren Bildes direkt nach der bildweisen Belichtung, Weichmacher und Stabilisatoren.

Die vorstehende lichthärtbare, lichtempfindliche Schicht kann auf eine Vielzahl von Substraten in Abhängigkeit von dem Verwendungszweck aufgebracht werden. Beispiele für diese Substrate sind Papier, Papier laminiert mit einer Kunststoffbahn, wie eine Polyethylen-, Polypropylen- oder Polystyrolbahn; Metallplatten, wie Aluminium- (ein­ schließlich Aluminiumlegierungen), Zink- und Kupferplatten; Kunststoffilme, wie Cellulosediacetat, Cellulosetri­ acetat, Cellulosepropionat, Cellulosenitrat, Cellulose­ acetatbutyrat, Cellulosebutyrat, Polyethylenterephthalat, Polyethylen, Polypropylen, Polystyrol, Polycarbonat und Polyvinylacetalfilme; und Papier- oder Kunststoffilme, die mit einer Folie des vorstehenden Metalls laminiert sind, oder auf die ein Film aus einem solchen Metall ab­ geschieden ist. Wenn vorsensibilisierte Platten hergestellt werden, ist insbesondere eine Metallplatte, wie eine Aluminiumplatte, als Substrat bevorzugt. Die Oberfläche der Aluminiumplatte wird vorzugsweise einer Behandlung mit einer wäßrigen Lösung eines Alkalimetallsilikats nach einer Behandlung mit einer wäßrigen Lösung eines Alkalimetallsilikats, wie in der US-PS 27 14 066 offenbart, und einer Anodisierung, wie in der US-PS 31 81 461 offenbart, ausgesetzt. Die vorstehende licht­ empfindliche Schicht wird auf die Oberfläche der so behandelten Aluminiumplatte in einer Menge im Bereich von 0,1 bis 7 g/m², vorzugsweise 0,2 bis 5 g/m², aufgebracht zur Bildung von vorsensibilisierten Platten.

Beispiele für die positiv arbeitenden lichtempfindlichen Schichten, auf die die erfindungsgemäße Entwicklerzusammen­ setzung aufgebracht wird, schließen solche ein, die üblicherweise als positiv arbeitende lichtempfindliche Zusammensetzungen bekannt sind. Besonders bevorzugt sind solche, die aus o-Chinondiazidverbindungen und Phenolharzen zusammengesetzt sind.

Solche o-Chinondiazidverbindungen sind solche, die wenigstens eine o-Chinondiazidgruppe besitzen und deren Löslichkeit in Alkali erhöht wird, wenn die aktinischen Strahlen ausgesetzt werden. Eine Vielzahl solcher Verbindungen mit verschiedenen Strukturen kann erfindungs­ gemäß verwendet werden. Diese o-Chinondiazidverbindungen werden näher in J. Koser "Light-sensitive Systems", Seiten 339 bis 352, herausgegeben von John Wiley & Sons, Inc. beschrieben. Besonders bevorzugt sind Sulfonsäureester oder Sulfonamid von o-Chinondiazid, erhalten durch Umsetzung des letzteren mit verschiedenen aromatischen Polyhydroxyverbindungen oder aromatischen Aminverbindungen.

Unter den o-Chinondiazidverbindungen sind Ester von Benzochinon-(1,2)-diazidsulfonsäurechlorid oder Naphthochinon- (1,2)-diazidsulfonsäurechlorid mit Pyrogallon- Acetonharz, wie in der JP-PS 43-28 403 (US-PS 36 35 709 offenbart, am meisten bevorzugt. Beispiele für bevorzugte o-Chinondiazidverbindungen sind Ester von Benzochinon- (1,2)-diazidsulfonsäurechlorid oder Naphthochinon-(1,2)- diazidsulfonsäurechlorid mit Phenol-Formaldehydharz, wie in den US-PSen 30 46 120 und 31 88 210 offenbart.

Weiterhin werden andere geeignete o-Chinondiazidverbindungen in einer Vielzahl von Patenten genannt und sind allgemein bekannt. Diese Verbindungen können erfindungs­ gemäß ebenfalls verwendet werden. Beispielsweise können die o-Chinondiazidverbindungen, die in den JP-OSen 47-5303, 48-63 802, 48-63 803, 48-96 575, 49-38 701 und 48-13 354, den JP-PSen 41-11 222, 45-9610 und 49-17 481, den US-PSen 27 97 213, 34 54 400, 35 44 323, 35 73 917, 36 74 495 und 37 85 825, den GB-PSen 12 27 602, 12 51 345, 12 67 005, 13 29 888 und 13 30 932 und der DE-PS 8 54 890 offenbart sind, genannt werden.

In den positiv arbeitenden lichtempfindlichen Zusammen­ setzungen können diese o-Chinondiazidverbindungen allein verwendet werden, vorzugsweise jedoch in Kombination mit einem Bindemittel. Beispiele für bevorzugte Bindemittel schließen Novolakharze ein, die in einer wäßrigen alkalischen Lösung löslich sind. Typische Beispiele für solche Novolakharze sind Phenol-Formaldehydharz, Cresol-Form­ aldehydharz, Phenol-Cresol-Formaldehydharz, p-t-Butyl­ phenol-Formaldehydharz und Xylolharz, modifiziert mit Phenol. Beispiele für andere Novolakharze sind Polyvinyl­ verbindungen mit phenolischen Hydroxylgruppen, wie Poly­ hydroxystyrolpolymere und Copolymere davon, und halogenierte Polyhydroxystyrolpolymere und Copolymere davon.

Die Menge dieser o-Chinondiazidverbindungen liegt bei 10 bis 50 Gew.-%, vorzugsweise 20 bis 40 Gew.-%, bezogen auf das Gesamtgewicht der Zusammensetzung. Andererseits liegt die Menge der phenolischen Harze, die in die Zusammen­ setzung eingearbeitet wird, bei 45 bis 80 Gew.-%, vorzugsweise 50 bis 70 Gew.-%, bezogen auf das Gesamtgewicht der Zusammensetzung.

Die positiv arbeitende, lichtempfindliche Zusammensetzung kann weiterhin Füllmittel, Farbstoffe, Färbungsmittel, Pigmente, Mittel, die einen Abbau durch Licht bewirken, um eine Säure zu erzeugen, wie 1,2-Naphthochinon-(2)-4- sulfonsäurechlorid, oberflächenaktive Mittel vom Fluortyp zur Verbesserung der Beschichtungseigenschaften der Zusammensetzung und andere üblicherweise verwendete Additive und Hilfsmittel umfassen. Die Menge dieser Additive variiert in Abhängigkeit von ihrer Art, liegt im allgemeinen jedoch geeigneterweise bei 0,01 bis 20 Gew.-%, vorzugsweise 0,05 bis 10 Gew.-%, bezogen auf das Gesamt­ gewicht der lichtempfindlichen Zusammensetzung.

Zur Herstellung von lithographischen Druckplatten durch Aufbringen solch einer positiv arbeitenden, lichtempfindlichen Schicht auf die Oberfläche eines Substrats werden die gewünschten Mengen des vorstehenden Diazoharzes, Bindemittels und der Additive in einem geeigneten Lösungs­ mittel zur Herstellung einer lichtempfindlichen Lösung gelöst. Die erhaltene Lösung wird auf die Oberfläche eines Substrats aufgebracht und dann getrocknet. Die Beschichtungsmenge der lichtempfindlichen Schicht liegt bei 0,1 bis 7 g/m², vorzugsweise 0,2 bis 5 g/m². Beispiele für Substrate, auf die die positiv arbeitende lichtempfindliche Schicht aufgebracht wird, sind die gleichen, wie sie vorstehend im Zusammenhang mit der negativ arbeitenden, lichtempfindlichen Schicht angegeben wurden.

Die lithographischen Druckplatten, die durch bildweises Belichten einer negativ arbeitenden, vorsensibilisierten Platte unter Verwendung einer Lichtquelle, die reich an Ultraviolettstrahlen ist, wie eine Metallhalogenidlampe, und Entwicklung mit der erfindungsgemäßen Entwickler­ zusammensetzung erhalten wurden, können Drucksachen frei von einer Untergrundverschmutzung ergeben. Wenn der pH- Wert des erfindungsgemäßen Entwicklers weiterhin nicht weniger als 12 beträgt, können positiv arbeitende, vor­ sensibilisierte Platten, die auf die gleiche Weise bild­ weise belichtet wurden, mit dem erfindungsgemäßen Entwickler entwickelt werden, und die erhaltenen lithographischen Druckplatten ergeben ebenfalls gute Drucksachen.

Wie vorstehend erläutert, ermöglicht eine Entwickler­ zusammensetzung, deren pH auf nicht weniger als 12 gemäß der vorliegenden Erfindung eingestellt wurde, sowohl negativ arbeitende als auch positiv arbeitende, vor­ sensibilisierte Platten zu behandeln. Deshalb ist es nicht notwendig, vorher zwei Arten von Entwicklerzusammen­ setzungen oder zwei Entwicklungsvorrichtungen herzu­ stellen, was zu einer wesentlichen Verbesserung der Wirksamkeit des Verfahrens und zu einer Verringerung der Kosten und Einsparung von Raum zum Aufbau solcher Vor­ richtungen führt.

Die nachstehenden Beispiele erläutern die Erfindung.

Beispiel 1

Ethylenglykolmonomethylether (300 g) wurde auf 100°C unter einem Stickstoffstrom erwärmt, und eine gemischte Lösung, zusammengesetzt aus 70 g 2-Hydroxyethylmethacrylat, 80 g Acrylnitril, 130 g Benzylmethacrylat, 20 g Methacrylsäure und 1,2 g Benzoylperoxid, wurde tropfen­ weise über 2 h zugegeben. Nach Abschluß der tropfenweisen Zugabe wurden 300 g Ethylenglykolmonomethylether und 0,3 g Benzoylperoxid zugegeben, und die Reaktion wurde über 4 h weitergeführt. Nach Abschluß der Reaktion wurde die Reaktionslösung mit Methanol verdünnt und in Wasser gegossen zur Ausfällung des erhaltenen Copolymers, gefolgt von Trocknen der Niederschläge bei 70°C. Der Säurewert des 2-Hydroxyethylmethacrylatcopolymers (I) betrug 40,2.

Eine 2 S Aluminiumplatte mit einer Dicke von 0,15 mm wurde in eine 10%ige wäßrige Lösung von Natrium-tert.-phosphat getaucht, gehalten bei 80°C über 3 min, zur Entfettung, gefolgt von Körnen mit einer Nylonbürste und einer Aufschlämmung aus Bimsstein als Abriebmittel und unter Verwendung einer 3%igen wäßrigen Lösung von Natriumaluminiat, gehalten bei 60°C, ent­ schmutzt. Die Aluminiumplatte wurde bei einer Stromdichte von 2 A/dm² in 20%iger Schwefelsäurelösung über 2 min anodisiert und dann mit einer 2,5%igen wäßrigen Lösung von Natriumsilikat, gehalten bei 70°C über 1 min, behandelt. Eine vorsensibilisierte Platte wurde durch Aufbringen einer lichtempfindlichen Lösung mit der folgenden Zusammensetzung auf die Oberfläche der Aluminiumplatte und 2minütiges Trocknen hergestellt.

Lichtempfindliche Lösung
Komponenten
Menge (g)
2-Hydroxyethylmethacrylatcopolymer (I)
87
2-Methoxy-4-hydroxy-5-benzoylbenzolsulfonsäuresalz des Kondensats von p-Diazodiphenylamin und Paraformaldehyd	10
Oil Blue Nr. 603 (erhältlich von Orient Chemical Industries, Ltd.; öllöslicher Farbstoff vom Triphenylmethantyp)	3
2-Methoxyethanol	600
Methanol	600
Ethylenchlorid	600

Die Beschichtungsmenge der lichtempfindlichen Lösung (gewogen nach dem Trocknen) bezug 2,5 g/m². Eine negative Originaltransparenz wurde in engen Kontakt mit der so hergestellten vorsensibilierten Platte gegeben, die Platte wurde bildweise belichtet, über 40 s mit Licht aus einer 30 A Kohlenbogenlampe, angeordnet mit einem Abstand von 70 cm von der Platte, und die bildweise belichtete, vorsensibilisierte Platte wurde mit den in Tabelle I angegebenen Entwicklern unter Verwendung einer auto­ matischen Entwicklungsvorrichtung 800 H (erhältlich von Fuji Photo Film Co., Ltd.) entwickelt. Die erhaltenen Ergebnisse sind in der nachstehenden Tabelle II angegeben.

Tabelle I

Tabelle II

Aus den Ergebnissen der Tabelle II ist ersichtlich, daß bei Verwendung einer Entwicklerzusammensetzung, die Thio­ salicylsäure enthält, eine Untergrundverschmutzung während des Druckens nicht beobachtet wurde, auch wenn der Entwickler und/oder die vorsensibilisierte Platte verwendet wurden, nachdem sie über einen langen Zeitraum gelagert worden waren.

Beispiele 2 und 3

Auf die Oberfläche der in Beispiel 1 verwendeten Aluminium­ platte wurde eine lichtempfindliche Lösung, umfassend 10 g Hexafluorphosphat eines Kondensats von p-Diazodi­ phenylamin und Paraformaldehyd (Umwandlung in PF₆-Salz: 89%), 90 g eines 2-Hydroxyethylmethacrylat/Acrylnitril/ Ethylmethacrylat/Methacrylsäure (Monomerbeschickungs­ gewichtsverhältnis = 50/26/20/4 Gew.-%)-Copolymers, 1 g Natriumisopropylnaphthalinsulfonat, 2 g Phosphorsäure, 3 g Viktoria-Reinblau BOH (erhältlich von Hodogaya Chemical Co., Ltd.), 7 g Tricresylphosphat, 600 g Ethylen­ glykolmonomethylether, 600 g Methanol und 600 g Ethylen­ dichlorid aufgebracht. Die Beschichtungsmenge nach dem Trocknen betrug 1,5 g/m². Die erhaltene vorsensibilisierte Platte wurde bildweise belichtet und dann mit den in Tabelle III angegebenen Entwicklern unter Verwendung einer automatischen Entwicklungsvorrichtung 800 U (erhältlich von Fuji Photo Film Co., Ltd.) entwickelt. Die Ergebnisse sind in Tabelle III zusammengefaßt. In diesem Zusammenhang war jeder Entwickler bei 60°C über eine Woche erwärmt worden, nachdem Sauerstoff in den Entwickler geleitet worden war. Diese Entwickler wurden in einem Verhältnis von 1 : 10 (Volumenverhältnis) vor ihrer Verwendung verdünnt.

Tabelle III

Zusammensetzung der Entwickler (g)

Beispiel 4

Eine Aluminiumplatte mit einer Dicke von 0,3 mm (Material: 1050) wurde mit Trichlen gewaschen zur Ent­ fettung ihrer Oberfläche, dann mit einer Nylonbürste und einer wäßrigen Suspension von Bimsstein gekörnt und anschließend ausreichend mit Wasser gewaschen. Die Platte wurde in eine 25%ige wäßrige Natriumhydroxidlösung, ge­ halten bei 45°C über 9 s, getaucht zum Ätzen, mit Wasser gewaschen und dann in eine 20%ige Salpetersäurelösung über 20 s getaucht, gefolgt von Waschen mit Wasser. Das Ätzen wude so durchgeführt, daß die Menge der gekörnten Oberfläche, die durch das Ätzen entfernt wurde, etwa gleich 3 g/m² war. Die Platte wurde dann bei einer Strom­ dichte von 15 A/dm² in einer 7%igen Schwefelsäurelösung als Elektrolyt anodisiert zur Bildung von 3 g/m² eines durch Gleichstrom analysierten Films, gefolgt von Waschen mit Wasser und Trocknen. Dann wurde eine lichtempfindliche Lösung der folgenden Zusammensetzung auf die Oberfläche der Platte aufgebracht und bei 100°C über 2 min getrocknet, um eine positiv arbeitende, vorsensibilisierte Platte zu erhalten. Die Beschichtungsmenge der lichtempfindlichen Lösung nach dem Trocknen betrug 2,4 bis 2,5 g/m².

Lichtempfindliche Lösung

Die positiv arbeitende, vorsensibilisierte Platte wurde bildweise mit einer Metallhalogenidlampe (1,5 kW), angeordnet in einer Entfernung von 70 cm, belichtet und dann mit den Entwicklern (a) und (b) unter Verwendung einer automatischen Entwicklungsvorrichtung 800 EII (erhältlich von Fuji Photo Film Co., Ltd.) entwickelt. Als Ergebnis wurden lithographische Druckplatten erhalten, von denen die unbelichteten Teile vollständig gelöst und entfernt waren. Insbesondere wenn der Entwickler (a) verwendet wurde, wurde keine Kupplung zwischen zersetztem o-Chinondiazid und unzersetztem o-Chinondiazid und ein Abstreichen des Substrats aufgrund des restlichen, lichtempfindlichen Materials beobachtet, auch wenn die vorsensibilisierten Platten in einer Menge von etwa 2 m²/l behandelt wurden. Es wurden gute Drucksachen, die frei von einer Untergrundverschmutzung waren, erhalten. Wenn jedoch der Entwickler (b) verwendet wurde, wurde eine solche Kupplung verursacht, und es war notwendig, die Filmrandteile zu entfernen.

Weiterhin bewirkte die lithographische Druckplatte, die durch Entwickeln der negativ arbeitenden, vorsensibilisierten Platte, die in Beispiel 1 verwendet wurde, mit dem Entwickler (a) erhalten worden war, keine Untergrund­ verschmutzung. Wenn sie jedoch mit dem Entwickler (b) entwickelt wurde, verursachte die erhaltene lithographische Druckplatte eine Verschmutzung. Wie vorstehend angegeben, ermöglicht die Verwendung der erfindungsgemäßen Entwicklerzusammensetzung die Behandlung von negativ und positiv arbeitenden, vorsensibilisierten Platten mit dem gleichen Entwickler und in der gleichen automatischen Entwicklungsvorrichtung.

Tabelle IV

Claims (20)

1. Entwicklerzusammensetzung, dadurch gekennzeichnet, daß sie wenigstens eine alkalilösliche Mercaptoverbindung und/oder Thioetherverbindung, wenigstens ein alkalisches Mittel und Wasser umfaßt.

2. Entwicklerzusammensetzung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der pH der wäßrigen alkalischen Lösung nicht weniger als 12 ist.

3. Entwicklerzusammensetzung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die alkalilösliche Mercaptoverbindung und/oder Thioetherverbindung aus der Gruppe, bestehend aus solchen mit wenigstens einer Mercaptogruppe und/oder Thioethergruppe und wenigstens einer Säuregruppe, gewählt werden.

4. Entwicklerzusammensetzung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die alkalilösliche Mercaptoverbindung und/oder Thioetherverbindung aus der Gruppe, bestehend aus solchen mit wenigstens einer Mercaptogruppe und/oder Thioethergruppe und wenigstens einer Carboxylgruppe, gewählt werden.

5. Entwicklerzusammensetzung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die alkalilösliche Mercaptoverbindung und/oder Thioetherverbindung aus der Gruppe, bestehend aus Mercaptoessigsäure, 2-Mercaptopropionsäure, 3-Mercaptopropionsäure, 4-Mercaptobutansäure, 2,4-Dimercaptobutansäure, 2-Mercaptotetradecansäure, Mercaptosuccinsäure, 2,3-Dimercaptosuccinsäure, Cystein, N-Acetylcystein, N-(2-Mercaptopropionyl)- glycin, N-(2-Mercapto-2-methylpropionyl)glycin, N-(3-Mercaptopropionyl)glycin, N-(2-Mercapto-2- methylpropionyl)cystein, Penicillamin, N-Acetylpenicillamin, Glycin-Cystein-Glutamin-Kondensat, N-(2,3- Dimercaptopropionyl)glycin, 2-Mercaptonicotinsäure, Thiosalicylsäure, 3-Mercaptobenzoesäure, 4-Mercapto­ benzoesäure, 3-Carboxy-2-mercaptopyridin, 2-Mercapto­ benzothiazol-5-carbonsäure, 2-Mercapto-3-phenyl­ propensäure, 2-Mercapto-5-carboxyethylimidazol, 5-Mercapto-1-(4-carboxyphenyl)tetrazol, N-(3,5-Di­ carboxyphenyl)-2-mercaptotetrazol, 2-(1,2-Dicarboxy­ ethylthio)-5-mercapto-1,3,4-thiadiazol, 2-(5-Mercapto- 1,3,4-thiadiazolylthio)hexansäure, 2-Mercapto­ ethansulfonsäure, 2,3-Dimercapto-1-propansulfonsäure, 2-Mercaptobenzolsulfonsäure, 4-Mercaptobenzolsulfonsäure, 3-Mercapto-4-(2-sulfophenyl)-1,2,4-triazol, 2-Mercaptobenzothiazol-5-sulfonsäure, 2-Mercaptobenzimidazol- 6-sulfonsäure, Mercaptosuccinimid, 4-Mercapto­ benzolsulfonamid, 2-Mercaptobenzimidazol-5-sulfonamid, 3-Mercapto-4-(2-methylaminosulfonyl)ethoxy)- toluol, 3-Mercapto-4-(2-(methylsulfonylamino)ethoxy)- toluol, 4-Mercapto-N-(p-methylphenylsulfonyl)benzamid, 4-Mercaptophenol, 3-Mercaptophenol, 2-Mercapto­ phenol, 3,4-Dimercaptotoluol, 2-Mercaptohydrochinon, 2-Thiouracil, 3-Hydroxy-2-mercaptopyridin, 4-Hydroxythiophenol, 4-Hydroxy-2-mercaptopyrimidin, 4,6-Dihydroxy-2-mercaptopyrimidin, 2,3-Dihydroxy­ propylmercaptan, 2-Mercapto-4-octylphenylethermethylether, 2-Mercapto-4-octylphenolmethansulfonaminoethylether, 2-Mercapto-4-octylphenolmethylaminosulfonylbutylether, Thiodiglykolsäure, Thiodiphenol, 6,8- Dithiooctansäure oder Alkalimetallsalzen, Erdalkali­ metallsalzen oder organischen Aminsalzen davon, gewählt werden.

6. Entwicklerzusammensetzung nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß die alkalilösliche Mercaptoverbindung und/oder Thioetherverbindung aus der Gruppe, bestehend aus Thiosalicylsäure, N-(2,3-Dimercapto­ propionyl)glycin, 2-(1,2-Dicarboxyethylthio)-5- mercapto-1,3,4-thidiazol, N-(2-Mercapto-2-methyl­ propionyl)cystein und Cystein, gewählt werden.

7. Entwicklerzusammensetzung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Menge der alkalilöslichen Mercaptoverbindung und/oder Thioetherverbindung bei 0,001 bis 10 Gew.-%, bezogen auf das Gesamtgewicht der Zusammensetzung, liegt.

8. Entwicklerzusammensetzung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß sie weiterhin wenigstens ein alkalisches Mittel, gewählt aus der Gruppe, bestehend aus Natriumsilikat, Kaliumsilikat, Kaliumhydroxid, Natriumhydroxid, Lithiumhydroxid, Natrium- tert.-phosphat, Natrium-sec.-phosphat, Ammonium- tert.-phosphat, Ammonium-sec.-phosphat, Natriummeta­ silikat, Natriumbicarbonat, Natriumborat, Ammoniumborat, Ammoniak, Monomethylamin, Diethylamin, Trimethylamin, Monoethylamin, Diethylamin, Triethylamin, Monoisopropylamin, Diisopropylamin, n-Butylamin, Monoethanolamin, Diethanolamin, Triethanolamin, Monoisopropanolamin, Diisopropanolamin, Ethylenimin, Ethylendiamin und Pyridin, umfaßt.

9. Entwicklerzusammensetzung nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, daß das alkalische Mittel aus der Gruppe, bestehend aus Natriumsilikat, Kaliumsilikat, Kaliumhydroxid, Natriumhydroxid, Monoethanolamin, Diethanolamin und Triethanolamin, gewählt wird.

10. Entwicklerzusammensetzung nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, daß die Menge des alkalischen Mittels in der Entwicklerzusammensetzung bei 0,05 bis 10 Gew.-%, bezogen auf das Gesamtgewicht der Zusammensetzung, liegt.

11. Entwicklerzusammensetzung nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, daß die Menge des alkalischen Mittels in der Entwicklerzusammensetzung bei 0,1 bis 7 Gew.-%, bezogen auf das Gesamtgewicht der Zusammensetzung, liegt.

12. Entwicklerzusammensetzung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß sie weiterhin wenigstens ein anionisches oberflächenaktives Mittel, gewählt aus der Gruppe, bestehend aus C₈- bis C₁₂-höheralkoholischen Schwefelsäureestersalzen, aliphatischen Alkohol­ phosphorsäureestersalzen, Alkylarylsulfonsäuresalzen, Sulfonsäuresalzen von Alkylamiden, Sulfonsäuresalzen von zweibasischen Fettsäureestern, umfaßt.

13. Entwicklerzusammensetzung nach Anspruch 12, dadurch gekennzeichnet, daß das anionische oberflächenaktive Mittel aus der Gruppe, bestehend aus Natriumsalz von Laurylalkoholsulfat, Natriumsalz von Octylalkoholsulfat, Ammoniumsalz von Laurylalkoholsulfat, Natriumsalz von Cetylalkoholphosphorsäureester, Natriumdodecylbenzolsulfonsäure, Natriumisopropyl­ naphthalinsulfonsäure, Natriummetanitrobenzolsulfonsäure, C₁₇H₃₃CON(CH₃)CH₂CH₂SO₃Na, Natriumdioctyl­ sulfosuccinat und Natriumdihexylsulfosuccinat, gewählt wird.

14. Entwicklerzusammensetzung nach Anspruch 12, dadurch gekennzeichnet, daß das anionische oberflächenaktive Mittel der Entwicklerzusammensetzung so zugegeben wird, daß die Menge in dem praktisch verwendeten Entwickler bei 0,1 bis 5 Gew.-%, bezogen auf das Gesamtgewicht des Entwicklers, liegt.

15. Entwicklerzusammensetzung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß sie weiterhin wenigstens ein organisches Lösungsmittel mit einer Löslichkeit in Wasser von nicht mehr als etwa 10 Gew.-% umfaßt.

16. Entwicklerzusammensetzung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das organische Lösungsmittel eine Löslichkeit in Wasser von nicht mehr als 5 Gew.-% besitzt.

17. Entwicklerzusammensetzung nach Anspruch 15, dadurch gekennzeichnet, daß das organische Lösungsmittel aus der Gruppe, bestehend aus 1-Phenylethanol, 2-Phenylethanol, 3-Phenylpropanol-1; 4-Phenylbutanol-1; 4- Phenylbutanol-2; 2-Phenylbutanol-1; 2-Phenoxyethanol, 2-Benzyloxyethanol, o-Methoxybenzylalkohol, m-Methoxy­ benzylalkohol, p-Methoxybenzylalkohol, Benzylalkohol, Cyclohexanol, 2-Methylcyclohexanol, 4- Methylcyclohexanol und 3-Methylcyclohexanol gewählt wird.

18. Entwicklerzusammensetzung nach Anspruch 15, dadurch gekennzeichnet, daß das organische Lösungsmittel der Entwicklerzusammensetzung so zugegeben wird, daß die Menge in dem praktisch verwendeten Entwickler bei 1 bis 5 Gew.-%, bezogen auf das Gesamtgewicht des Entwicklers, liegt.

19. Entwicklerzusammensetzung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß sie weiterhin Antischäumungsmittel und/oder Weichmacher für hartes Wasser umfaßt.

20. Entwicklerzusammensetzung nach Anspruch 19, dadurch gekennzeichnet, daß der Weichmacher der Entwickler­ zusammensetzung so zugegeben wird, daß die Menge in dem praktisch verwendeten Entwickler bei 0,01 bis 5 Gew.-%, bezogen auf das Gesamtgewicht des Entwicklers, liegt.