DE3913183A1 - Entwicklerzusammensetzung - Google Patents
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Description
Die vorliegende Erfindung betrifft eine Entwicklerzusammen
setzung, insbesondere eine Entwicklerzusammensetzung,
die zur Entfernung von vorsensibilisierten Plattenbereichen,
die Nichtbildteile von negativ arbeitenden und/oder
positiv arbeitenden lithographischen Druckplatten sind,
geeignet ist.
Die JP-PS 56-39 464 offenbart eine Entwicklerzusammen
setzung zur Entfernung von unbelichteten Bereichen einer
lichtempfindlichen Schicht, die aus einem schwach alkalischen,
wasserlöslichen, organischen Polymer und einem
lichtempfindlichen Diazoharz zusammengesetzt ist. Diese
Entwicklerzusammensetzung zeigt jedoch kein zufrieden
stellendes Verhalten bei der vollständigen Entfernung von
unbelichteten Teilen einer lichtempfindlichen Schicht, die
der Oberfläche eines Substrats benachbart ist. Wenn deshalb
die Zusammensetzung als Entwickler für eine vorsensibilisierte
Platte zur Herstellung einer lithographischen
Druckplatte (nachstehend als "vorsensibilisierte Platte"
bezeichnet) verwendet wird, wird eine Untergrundver
schmutzung während des Druckvorgangs bewirkt. Es ist bekannt,
daß ein solcher Nachteil behoben werden kann, indem
ein Sulfit der vorstehenden Entwicklerlösung zugegeben
wird, wie in der JP-PS 56-42 860 offenbart. Durch die Zugabe
eines solchen reduzierenden, anorganischen Sulfits
ist es möglich, das Problem der Untergrundverschmutzung
der Nichtbildbereiche während des Druckens zu lösen; wenn
der Entwickler jedoch über einen langen Zeitraum gelagert
wird, wird ein Teil des Sulfits oxidiert und dadurch die
Wirkung zur Verhinderung einer Untergrundverschmutzung
beeinträchtigt. Wenn sich andererseits der Entwickler, in
dem hartes Wasser verwendet wird, verschlechtert, fallen
Bindemittel aus dem Entwickler aus zur Bildung einer
Aufschlämmung. Wenn jedoch ein chelatbildendes Mittel
(Weichmacher für hartes Wasser) zugegeben wird zur Ver
hinderung der Bildung einer solchen Aufschlämmung, wird
die Oxidation des Sulfits beschleunigt und wiederum die
Verschlechterung des Entwicklers gefördert.
Vorsensibilisierte Platten mit einer positiv arbeitenden
lichtempfindlichen Schicht sind ebenfalls in großem Umfang
wie die negativ arbeitenden vorsensibilisierten
Platten verwendet worden. Ein Entwickler für solche
positiv arbeitenden, vorsensibilisierten Platten ist im
allgemeinen jedoch von dem für die negativ arbeitenden
Platten verschieden. Deshalb ist eine Mehrzahl von Entwickler
zusammensetzungen und eine Mehrzahl von Behandlungs
vorrichtungen erforderlich zur Behandlung dieser zwei
Arten von vorsensibilisierten Platten. Dies ist vom wirt
schaftlichen Standpunkt her ungünstig. Weiterhin ist viel
Raum erforderlich zum Aufbau der Vorrichtungen, und die
Bearbeitbarkeit ist deshalb beeinträchtigt.
Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es deshalb, eine
Entwicklerzusammensetzung zur Verfügung zu stellen, die es
ermöglicht, die vorstehenden, bei den bekannten Entwickler
zusammensetzungen auftretenden Nachteile zu vermeiden.
Die Entwicklerzusammensetzung besitzt ausgezeichnete Entwicklungs
eigenschaften und ergibt lithographische Druckplatten,
die keine Untergrundverschmutzung während des
Druckens verursachen, wenn sie zur Entwicklung von vor
sensibilisierten Platten verwendet wird, und sie kann auch
über einen langen Zeitraum gelagert werden.
Weitere Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es, eine
Entwicklerzusammensetzung zur Verfügung zu stellen, die
sowohl negativ arbeitende als auch positiv arbeitende
vorsensibilisierte Platten entwickeln kann.
Es wurden verschiedene Untersuchungen durchgeführt und
dabei gefunden, daß die vorstehenden Aufgaben auf wirksame
Weise gelöst werden können durch Ersatz von alkalilöslichen
organischen Verbindungen mit spezifischen funktionellen
Gruppen für anorganische Sulfite.
Es wurde gefunden, daß eine solche Entwicklerzusammen
setzung lichtempfindliche Materialien mit positiv arbeitenden
lichtempfindlichen Schichten, zusammengesetzt aus
o-Chinondiazidverbindungen und organischen Polymer
verbindungen, entwickeln kann, wenn der pH der Entwickler
zusammensetzung auf nicht weniger als 12 eingestellt wird.
Erfindungsgemäß wird eine Entwicklerzusammensetzung zur
Verfügung gestellt, die wenigstens eine alkalilösliche
Mercaptoverbindung und/oder Thioetherverbindung, wenigstens
ein alkalisches Mittel und Wasser umfaßt.
Die erfindungsgemäße Entwicklerzusammensetzung wird nach
stehend näher erläutert.
Die vorstehenden alkalilöslichen Mercaptoverbindungen und/oder
Thioetherverbindungen sind vorzugsweise solche mit
wenigstens einer Mercaptogruppe und/oder Thioethergruppe
und wenigstens einem Säurerest. Besonders bevorzugt sind
alkalilösliche Mercaptoverbindungen und/oder Thioether
verbindungen mit wenigstens einer Mercaptogruppe und/oder
Thioethergruppe und wenigstens einer Carboxylgruppe.
Beispiele für solche alkalilöslichen Mercaptoverbindungen
und/oder Thioetherverbindungen, die verwendet werden können,
schließen Mercaptoessigsäure, 2-Mercaptopropionsäure,
3-Mercaptopropionsäure, 4-Mercaptobutansäure, 2,4-Dimer
captobutansäure, 2-Mercaptotetradecansäure, Mercapto
succinsäure, 2,3-Dimercaptosuccinsäure, Cystein, N-Acetyl
cystein, N-(2-Mercaptopropionyl)glycin, N-(2-Mercapto-2-
methylpropionyl)glycin, N-(3-Mercaptopropionyl)glycin,
N-(2-Mercapto-2-methylpropionyl)cystein, Penicillamin,
N-Acetylpenicillamin, Glycin-Cystein-Glutaminkondensat,
N-(2,3-Dimercaptopropionyl)glycin, 2-Mercaptonicotin
säure, Thiosalicylsäure, 3-Mercaptobenzoesäure, 4-Mercap
tobenzoesäure, 3-Carboxy-2-mercaptopyridin, 2-Mercapto
benzothiazol-5-carbonsäure, 2-Mercapto-3-phenylpropen
säure, 2-Mercapto-5-carboxyethylimidazol, 5-Mercapto-1-
(4-carboxyphenyl)tetrazol, N-(3,5-Dicarboxyphenyl)-2-
mercaptotetrazol, 2-(1,2-Dicarboxyethylthio)-5-mercapto-
1,3,4-thiadiazol, 2-(5-Mercapto-1,3,4-thiadiazolylthio)-
hexansäure, 2-Mercaptoethansulfonsäure, 2,3-Dimercapto-1-propansulfonsäure,
2-Mercaptobenzolsulfonsäure, 4-Mercaptobenzolsulfonsäure, 3-Mercapto-4-(2-sulfophenyl)-1,2,4-
triazol, 2-Mercaptobenzothiazol-5-sulfonsäure, 2-Mer
captobenzimidazol-6-sulfonsäure, Mercaptosuccinimid,
4-Mercaptobenzolsulfonamid, 2-Mercaptobenzimidazol-5-
sulfonamid, 3-Mercapto-4-(2-methylaminosulfonyl)ethoxy)-
toluol, 3-Mercapto-4-(2-(methylsulfonylamino)ethoxy)-
toluol, 4-Mercapto-N-(p-methylphenylsulfonyl)benzamid,
4-Mercaptophenol, 3-Mercaptophenol, 2-Mercaptophenol,
3,4-Dimercaptotoluol, 2-Mercaptohydrochinon, 2-Thio
uracil, 3-Hydroxy-2-mercaptopyridin, 4-Hydroxythiophenol,
4-Hydroxy-2-mercaptopyrimidin, 4,6-Dihydroxy-2-mercapto
pyrimidin, 2,3-Dihydroxypropylmercaptan, 2-Mercapto-4-
octylphenylmethylether, 2-Mercapto-4-octylphenylmethan-
sulfonylaminoethylether, 2-Mercapto-4-octylphenylmethyl-
aminosulfonylbutylether, Thiodiglycolsäure, Thiodiphenol,
6,8-Dithiooctansäure oder Alkalimetallsalze, Erdalkali
metallsalze oder organische Aminsalze davon ein. Besonders
bevorzugt sind Thiosalicylsäure, N-(2,3-Dimercapto
propionyl)glycin, 2-(1,2-Dicarboxyethylthio)-5-mercapto-
1,3,4-thiadiazol, N-(2-Mercapto-2-methylpropionyl)-
cystein und Cystein.
Diese Verbindungen können allein oder in Kombination ver
wendet werden. Eine bevorzugte Menge davon in der Entwick
lerzusammensetzung liegt bei 0,001 bis 10 Gew.-%, bezogen
auf das Gesamtgewicht der Zusammensetzung. Wenn die Menge
weniger als 0,001 Gew.-% beträgt, wird die gewünschte
Wirkung zur Verhinderung einer Untergrundverschmutzung von
Nichtbildbereichen nicht erreicht. Wenn die Menge anderer
seits mehr als 10 Gew.-% beträgt, wird die mechanische Festigkeit
der lichtgehärteten Teile der lichtempfindlichen
Schicht beeinträchtigt. Dies wiederum führt zu einer Ver
ringerung der Druckhaltbarkeit der erhaltenen lithographischen
Druckplatten, wenn die Entwicklerzusammensetzung zur
Entwicklung von vorsensibilisierten Platten verwendet
wird.
Beispiele für alkalische Mittel zur Einstellung des pHs
der erfindungsgemäßen Entwicklerzusammensetzung auf einen
gewünschten Bereich schließen anorganische alkalische
Mittel, wie Natriumsilikat, Kaliumsilikat, Kaliumhydroxid,
Natriumhydroxid, Lithiumhydroxid, Natrium-tert.-phosphat,
Natrium-sec.-phosphat, Ammonium-tert.-phosphat, Ammonium-
sec.-phosphat, Natriummetasilikat, Natriumbicarbonat,
Natriumborat, Ammoniumborat oder Ammoniak, und organische
Aminverbindungen, wie Monomethylamin, Dimethylamin, Tri
methylamin, Monoethylamin, Diethylamin, Triethylamin,
Monoisopropylamin, Diisopropylamin, n-Butylamin, Monoethanolamin,
Diethanolamin, Triethanolamin, Monoisopropanolamin, Diiso
propanolamin, Ethylenimin, Ethylendiamin oder Pyridin,
ein. Diese alkalischen Mittel können allein oder in
Kombination verwendet werden.
Unter diesen sind Natriumsilikat, Kaliumsilikat, Kalium
hydroxid, Natriumhydroxid, Monoethanolamin, Diethanolamin
und Triethanolamin besonders bevorzugt, und diese Verbindungen
können allein oder in Kombination verwendet werden.
Die Menge dieser alkalischen Mittel, die in der erfindungs
gemäß Entwicklerzusammensetzung verwendet wird,
liegt bei 0,05 bis 10 Gew.-%, vorzugsweise bei 0,1 bis
7 Gew.-%, bezogen auf das Gesamtgewicht der Zusammensetzung.
Die erfindungsgemäße Entwicklerlösung kann weiterhin anionische
oberflächenaktive Mittel und/oder organische Lösungs
mittel, je nach Bedarf, umfassen. Beispiele für solche
anionischen oberflächenaktiven Mittel schließen höhere Alkohol-
(8 bis 22 Kohlenstoffatome)schwefelsäureestersalze, wie
das Natriumsalz von Laurylalkoholsulfat, das Natriumsalz
von Octylalkoholsulfat und das Ammoniumsalz von Lauryl
alkoholsulfat; aliphatische Alkoholphosphorsäureestersalze,
wie das Natriumsalz von Cetylalkoholphosphorsäureester;
Alkylarylsulfonsäuresalze, wie Natriumdodecylbenzol
sulfonsäure, Natriumisopropylnaphthalinsulfonsäure und
Natriummetanitrobenzolsulfonsäure; Sulfonsäuresalze von
Alkylamiden, wie C₁₇H₃₃CON(CH₃)CH₂CH₂SO₃Na; und Sulfon
säuresalze von zweibasischen Fettsäureestern, wie Natrium
dioctylsulfosuccinat und Natriumdihexylsulfosuccinat, ein.
Diese oberflächenaktiven Mittel können allein oder in
Kombination verwendet werden.
Diese oberflächenaktiven Mittel werden der Entwickler
lösung vorzugsweise so zugegeben, daß die Menge in dem
Entwickler, der in der Praxis verwendet wird, bei 0,1 bis
5 Gew.-% liegt, bezogen auf das Gesamtgewicht des Entwicklers.
Wenn die Menge des oberflächenaktiven Mittels weniger
als 0,1 Gew.-% beträgt, können die gewünschten Wirkungen
nicht erreicht werden, und wenn sie mehr als 5 Gew.-%
beträgt, werden nachteilige Wirkungen erzielt, wie eine
übermäßige Auflösung aus den Farbstoffen (sogenannte Farb
trennung), die in einer lichthärtbaren, lichtempfindlichen
Lösung eingeschlossen sind, aus dem lichtgehärteten Teil
und eine Erniedrigung der mechanischen und chemischen Festigkeit
der lichtgehärteten Bilder, wie der Abriebsbeständigkeit.
Geeignete organische Lösungsmittel sind solche mit einer
Löslichkeit in Wasser von nicht mehr als etwa 10 Gew.-%,
vorzugsweise nicht mehr als 5 Gew.-%. Spezifische Beispiele
dafür schließen 1-Phenylethanol, 2-Phenylethanol,
3-Phenylpropanol-1; 4-Phenylbutanol-1; 4-Phenylbutanol-2;
2-Phenylbutanol-1; 2-Phenoxyethanol, 2-Benzyloxyethanol,
o-Methoxybenzylalkohol, m-Methoxybenzylalkohol, p-Methoxy
benzylalkohol, Benzylalkohol, Cyclohexanol, 2-Methylcyclo
hexanol, 4-Methylcyclohexanol und 3-Methylcyclohexanol,
ein. Diese organischen Lösungsmittel können allein oder in
Kombination verwendet werden.
Das organische Lösungsmittel wird der Entwicklerlösung
zweckmäßigerweise so zugegeben, daß seine Menge in dem
verwendeten Entwickler bei 1 bis 5 Gew.-% liegt, bezogen
auf das Gesamtgewicht des Entwicklers. Die Menge der
organischen Lösungsmittel korreliert sehr stark mit der
der oberflächenaktiven Mittel. Mit anderen Worten ist es
bevorzugt, die Menge der oberflächenaktiven Mittel zu
erhöhen, wenn die Menge der organischen Lösungsmittel
steigt. Wenn die Menge der anionischen oberflächenaktiven
Mittels gering und die des organischen Lösungsmittels groß
ist, kann das organische Lösungsmittel in der Entwickler
zusammensetzung nicht aufgelöst werden, und deshalb werden
gute Entwicklungseigenschaften der Entwicklerzusammen
setzung nicht erreicht.
Die erfindungsgemäße Entwicklerzusammensetzung kann weiterhin
andere Additive, wie Antischäumungsmittel und
Weichmacher für hartes Wasser, je nach Bedarf, umfassen.
Spezifische Beispiele für solche Weichmacher für hartes
Wasser schließen Polyphosphorsäuresalze, wie Na₂P₂O₇,
Na₅P₃O₃, Na₃P₃O₉, Na₂O₄P(NaO₃P)PO₃Na₂, Calgon (Handelsname
für Natriumpolymetaphosphat); und Aminopolycarbonsäuren
und Salze davon, wie Ethylendiamintetraessigsäure und
Kalium- und Natriumsalze davon, Diethylentriaminpenta
essigsäure und Kalium- und Natriumsalze davon, Triethylen
tetraminhexaessigsäure und Kalium- und Natriumsalze davon,
Hydroxyethylethylendiamintriessigsäure und Kalium- und
Natriumsalze davon, Nitrilotriessigsäure und Kalium- und
Natriumsalze davon, 1,2-Diaminocyclohexantetraessigsäure
und Kalium- und Natriumsalze davon und 1,3-Diamino-2-
propanoltetraessigsäure und Kalium- und Natriumsalze
davon, ein. Diese Weichmacher können allein oder in
Kombination verwendet werden.
Die optimale Menge dieser Weichmacher variiert in Abhängig
keit von der Härte und der Menge des verwendeten harten
Wassers, liegt im allgemeinen jedoch bei einer Menge von
0,01 bis 5 Gew.-%, vorzugsweise 0,01 bis 0,5 Gew.-%,
bezogen auf das Gesamtgewicht des Entwicklers.
Die lichtempfindlichen Materialien, die mit der erfindungs
gemäßen Entwicklerzusammensetzung entwickelt werden,
können gegebenenfalls einer Desensibilisierungsbehandlung
direkt oder nach dem Waschen mit Wasser oder einer Behandlung
mit einer wäßrigen Lösung, enthaltend eine Säure,
oder einer Desensibilisierungsbehandlung nach der Behandlung
mit einer wäßrigen Lösung, enthaltend eine Säure,
ausgesetzt werden. Weiterhin wird die Durchsatzkapazität
des Entwicklers für solch eine vorsensibilisierte Platte
erniedrigt, da die alkalische wäßrige Lösung proportional
zu der Menge der behandelten, vorsensibilisierten Platten
verbraucht wird, oder die Konzentration des Alkalis wird
verringert aufgrund der Absorption von Luft, wenn eine
automatische Entwicklungsvorrichtung über einen langen
Zeitraum betrieben wird. In solchen Fällen kann die Durch
satzkapazität des Entwicklers regeneriert werden durch
Zugabe eines Regenerierungsmitetls, wie in der JP-OS
54-62 004 (US-PS 42 59 434) offenbart.
Beispiele für lichtempfindliche Diazoharze, die in den
lichtempfindlichen Schichten, die mit der erfindungsgemäßen
Zusammensetzung entwickelt werden, enthalten sind,
sind solche, die erhalten werden, indem die Harze, die in
den US-PSen 26 79 498, 30 50 502, 31 63 633 und 34 06 159
und den JP-PSen 49-48 001 (GB-PS 13 12 925) und 49-45 322
(US-PS 36 79 419) offenbart sind, im wesentlichen wasser
unlöslich und in einem organischen Lösungsmittel löslich
gemacht werden auf die Weise, wie es in der JP-PS 47-1167,
der US-PS 33 00 309 und den JP-OSen 54-98 613, 56-121 031,
59-78 340, 59-22 834 und 63-262 643 offenbart ist. Mit
anderen Worten werden die lichtempfindlichen Diazoharze
zunächst in Form von anorganischen Salzen, wie Zinkchlorid
komplexsalzen, hergestellt, und dann werden die Salze
in organische Verbindungen entweder mit phenolischen
Hydroxyl- oder Sulfonsäureestern oder beiden oder Hexa
fluorphosphaten, Tetrafluorboraten oder Komplexsalzen davon
umgewandelt, um wasserunlösliche Diazoharze zu erhalten.
Eine Vielzahl von hydrophoben Harzen, die in Kombination
mit solch einem im wesentlichen wasserunlöslichen Diazo
harz verwendet werden können, ist bekannt und wird in
großem Umfang verwendet. Die Beurteilung, ob ein solches
Harz erfindungsgemäß günstig ist oder nicht, hängt sehr
stark von den Erfordernissen jeder Technik zur Herstellung
von lithographischen Druckplatten ab. Selbstverständlich
muß das Harz oleophil sein, um der Platte ein ausreichendes
Farbaufnahmevermögen zu verleihen, es sollte in üblichen
organischen Lösungsmitteln löslich sein und physikalisch
oder chemisch mit einem lichtempfindlichen Diazoharz,
das in Wasser kaum löslich oder vollkommen unlöslich
ist, verträglich sein, und es muß Filmbildungseigenschaften
besitzen. Das Harz muß eine ausgezeichnete Affinität
zu einer Farbe bzw. Tinte besitzen, um als Substrat zur
Bildung eines Farbfilms zu dienen, und es muß eine gewisse
Härte, Elastizität und Flexibilität aufweisen, um während
des Druckes abriebbeständig zu sein und dadurch mehrere
zehntausend bis hunderttausend Drucksachen zu liefern.
Als Harze, die den vorstehenden Anforderungen genügen,
können beispielsweise Epoxyharze, Polyamidharze, halogenierte
Vinylharze, insbesondere Polyvinylchlorid, Poly
vinylidenchlorid, chlorierte Polyolefine, Polyvinylacetat,
Acetalharze, wie Formalharze und Butyralharze, alkalilösliche
Urethanharze, wie die, die von US Goodrich Company
unter dem Handelsnamen Estane erhältlich sind, Styrol-
Maleinsäureanhydrid-Copolymer und Halbester und Halbamide
davon, Cellulosederivate, Shellak, Kolophonium oder
modifizierte Produkte davon, Acrylsäure-Acrylat-Copolymere,
Mehrkomponentencopolymer von 2-Hydroxyethyl(meth)
acrylat, (Meth)acrylnitril, (Meth)acrylsäure und gegebenen
falls andere copolymerisierbare Monomere, wie in der
JP-OS 50-118 802 (US-PS 41 23 276) offenbart; Mehrkomponenten
copolymere von Methacrylsäure, deren Endgruppe eine
Hydroxylgruppe ist und die mit einer Gruppe mit Dicarbon
säureesterresten verestert ist, Methacrylsäure und gegebenen
falls anderen copolymerisierbaren Monomeren, wie in der
JP-OS 53-120 903 offenbart; Mehrkomponentencopolymere eines
Monomers mit einer aromatischen Hydroxylgruppe, wie N-(4-
Hydroxyphenyl)methacrylamid, (Meth)acrylsäure und gegebenen
falls anderen copolymerisierbaren Monomeren, wie in der
JP-OS 54-98 614 offenbart; und Mehrkomponentencopolymere
eines Alkylacrylats, Methacrylonitril und einer ungesättigten
Carbonsäure, wie in der JP-OS 56-4144 offenbart,
genannt werden. Zusätzlich zu diesen Beispielen werden
ebenfalls saure Polyvinylalkoholderivate, saure Cellulose
derivate und Polymerverbindungen, die durch Alkalilöslich
machen von Polyvinylacetal oder Polyurethan erhalten worden
sind, wie in der JP-PS 54-19 773 (US-PS 37 32 105) und
den JP-OSen 57-94 747 (US-PS 43 87 151) 60-182 437 (US-PS
46 31 245), 62-58 242 und 62-123 453 (GB-PS 21 85 120)
offenbart, erfindungsgemäß bevorzugt verwendet.
Das vorstehende wasserunlösliche Diazoharz und das hydrophobe
Harz werden in einem geeigneten Lösungsmittel, wie
einem niedrigen Alkohol, Glykolether, einem Dialkylformamid,
einem chlorierten Lösungsmittel oder einer Kombination
daraus, gelöst. Die Lösung wird gegebenenfalls mit
einem Farbstoff oder einem Pigment gefärbt und umfaßt
gegebenenfalls andere Komponenten, wie Mittel oder
Zusammenetzungen zum Erhalt eines sichtbaren Bildes direkt
nach der bildweisen Belichtung, Weichmacher und
Stabilisatoren.
Die vorstehende lichthärtbare, lichtempfindliche Schicht
kann auf eine Vielzahl von Substraten in Abhängigkeit von
dem Verwendungszweck aufgebracht werden. Beispiele für
diese Substrate sind Papier, Papier laminiert mit einer
Kunststoffbahn, wie eine Polyethylen-, Polypropylen- oder
Polystyrolbahn; Metallplatten, wie Aluminium- (ein
schließlich Aluminiumlegierungen), Zink- und Kupferplatten;
Kunststoffilme, wie Cellulosediacetat, Cellulosetri
acetat, Cellulosepropionat, Cellulosenitrat, Cellulose
acetatbutyrat, Cellulosebutyrat, Polyethylenterephthalat,
Polyethylen, Polypropylen, Polystyrol, Polycarbonat und
Polyvinylacetalfilme; und Papier- oder Kunststoffilme,
die mit einer Folie des vorstehenden Metalls laminiert
sind, oder auf die ein Film aus einem solchen Metall ab
geschieden ist. Wenn vorsensibilisierte Platten hergestellt
werden, ist insbesondere eine Metallplatte, wie
eine Aluminiumplatte, als Substrat bevorzugt. Die Oberfläche
der Aluminiumplatte wird vorzugsweise einer Behandlung
mit einer wäßrigen Lösung eines Alkalimetallsilikats
nach einer Behandlung mit einer wäßrigen Lösung
eines Alkalimetallsilikats, wie in der US-PS 27 14 066
offenbart, und einer Anodisierung, wie in der US-PS
31 81 461 offenbart, ausgesetzt. Die vorstehende licht
empfindliche Schicht wird auf die Oberfläche der so
behandelten Aluminiumplatte in einer Menge im Bereich von
0,1 bis 7 g/m², vorzugsweise 0,2 bis 5 g/m², aufgebracht
zur Bildung von vorsensibilisierten Platten.
Beispiele für die positiv arbeitenden lichtempfindlichen
Schichten, auf die die erfindungsgemäße Entwicklerzusammen
setzung aufgebracht wird, schließen solche ein, die
üblicherweise als positiv arbeitende lichtempfindliche
Zusammensetzungen bekannt sind. Besonders bevorzugt sind
solche, die aus o-Chinondiazidverbindungen und Phenolharzen
zusammengesetzt sind.
Solche o-Chinondiazidverbindungen sind solche, die wenigstens
eine o-Chinondiazidgruppe besitzen und deren Löslichkeit
in Alkali erhöht wird, wenn die aktinischen
Strahlen ausgesetzt werden. Eine Vielzahl solcher
Verbindungen mit verschiedenen Strukturen kann erfindungs
gemäß verwendet werden. Diese o-Chinondiazidverbindungen
werden näher in J. Koser "Light-sensitive Systems",
Seiten 339 bis 352, herausgegeben von John Wiley & Sons,
Inc. beschrieben. Besonders bevorzugt sind Sulfonsäureester
oder Sulfonamid von o-Chinondiazid, erhalten durch
Umsetzung des letzteren mit verschiedenen aromatischen
Polyhydroxyverbindungen oder aromatischen Aminverbindungen.
Unter den o-Chinondiazidverbindungen sind Ester von
Benzochinon-(1,2)-diazidsulfonsäurechlorid oder Naphthochinon-
(1,2)-diazidsulfonsäurechlorid mit Pyrogallon-
Acetonharz, wie in der JP-PS 43-28 403 (US-PS 36 35 709
offenbart, am meisten bevorzugt. Beispiele für bevorzugte
o-Chinondiazidverbindungen sind Ester von Benzochinon-
(1,2)-diazidsulfonsäurechlorid oder Naphthochinon-(1,2)-
diazidsulfonsäurechlorid mit Phenol-Formaldehydharz, wie
in den US-PSen 30 46 120 und 31 88 210 offenbart.
Weiterhin werden andere geeignete o-Chinondiazidverbindungen
in einer Vielzahl von Patenten genannt und sind
allgemein bekannt. Diese Verbindungen können erfindungs
gemäß ebenfalls verwendet werden. Beispielsweise können
die o-Chinondiazidverbindungen, die in den JP-OSen
47-5303, 48-63 802, 48-63 803, 48-96 575, 49-38 701 und
48-13 354, den JP-PSen 41-11 222, 45-9610 und 49-17 481, den
US-PSen 27 97 213, 34 54 400, 35 44 323, 35 73 917,
36 74 495 und 37 85 825, den GB-PSen 12 27 602,
12 51 345, 12 67 005, 13 29 888 und 13 30 932 und der
DE-PS 8 54 890 offenbart sind, genannt werden.
In den positiv arbeitenden lichtempfindlichen Zusammen
setzungen können diese o-Chinondiazidverbindungen allein
verwendet werden, vorzugsweise jedoch in Kombination mit
einem Bindemittel. Beispiele für bevorzugte Bindemittel
schließen Novolakharze ein, die in einer wäßrigen alkalischen
Lösung löslich sind. Typische Beispiele für solche
Novolakharze sind Phenol-Formaldehydharz, Cresol-Form
aldehydharz, Phenol-Cresol-Formaldehydharz, p-t-Butyl
phenol-Formaldehydharz und Xylolharz, modifiziert mit
Phenol. Beispiele für andere Novolakharze sind Polyvinyl
verbindungen mit phenolischen Hydroxylgruppen, wie Poly
hydroxystyrolpolymere und Copolymere davon, und halogenierte
Polyhydroxystyrolpolymere und Copolymere davon.
Die Menge dieser o-Chinondiazidverbindungen liegt bei 10
bis 50 Gew.-%, vorzugsweise 20 bis 40 Gew.-%, bezogen auf
das Gesamtgewicht der Zusammensetzung. Andererseits liegt
die Menge der phenolischen Harze, die in die Zusammen
setzung eingearbeitet wird, bei 45 bis 80 Gew.-%,
vorzugsweise 50 bis 70 Gew.-%, bezogen auf das Gesamtgewicht
der Zusammensetzung.
Die positiv arbeitende, lichtempfindliche Zusammensetzung
kann weiterhin Füllmittel, Farbstoffe, Färbungsmittel,
Pigmente, Mittel, die einen Abbau durch Licht bewirken,
um eine Säure zu erzeugen, wie 1,2-Naphthochinon-(2)-4-
sulfonsäurechlorid, oberflächenaktive Mittel vom Fluortyp
zur Verbesserung der Beschichtungseigenschaften der
Zusammensetzung und andere üblicherweise verwendete
Additive und Hilfsmittel umfassen. Die Menge dieser
Additive variiert in Abhängigkeit von ihrer Art, liegt im
allgemeinen jedoch geeigneterweise bei 0,01 bis 20 Gew.-%,
vorzugsweise 0,05 bis 10 Gew.-%, bezogen auf das Gesamt
gewicht der lichtempfindlichen Zusammensetzung.
Zur Herstellung von lithographischen Druckplatten durch
Aufbringen solch einer positiv arbeitenden, lichtempfindlichen
Schicht auf die Oberfläche eines Substrats werden
die gewünschten Mengen des vorstehenden Diazoharzes,
Bindemittels und der Additive in einem geeigneten Lösungs
mittel zur Herstellung einer lichtempfindlichen
Lösung gelöst. Die erhaltene Lösung wird auf die
Oberfläche eines Substrats aufgebracht und dann getrocknet.
Die Beschichtungsmenge der lichtempfindlichen
Schicht liegt bei 0,1 bis 7 g/m², vorzugsweise 0,2 bis
5 g/m². Beispiele für Substrate, auf die die positiv
arbeitende lichtempfindliche Schicht aufgebracht wird, sind
die gleichen, wie sie vorstehend im Zusammenhang mit der
negativ arbeitenden, lichtempfindlichen Schicht angegeben
wurden.
Die lithographischen Druckplatten, die durch bildweises
Belichten einer negativ arbeitenden, vorsensibilisierten
Platte unter Verwendung einer Lichtquelle, die reich an
Ultraviolettstrahlen ist, wie eine Metallhalogenidlampe,
und Entwicklung mit der erfindungsgemäßen Entwickler
zusammensetzung erhalten wurden, können Drucksachen frei
von einer Untergrundverschmutzung ergeben. Wenn der pH-
Wert des erfindungsgemäßen Entwicklers weiterhin nicht
weniger als 12 beträgt, können positiv arbeitende, vor
sensibilisierte Platten, die auf die gleiche Weise bild
weise belichtet wurden, mit dem erfindungsgemäßen Entwickler
entwickelt werden, und die erhaltenen lithographischen
Druckplatten ergeben ebenfalls gute Drucksachen.
Wie vorstehend erläutert, ermöglicht eine Entwickler
zusammensetzung, deren pH auf nicht weniger als 12 gemäß
der vorliegenden Erfindung eingestellt wurde, sowohl
negativ arbeitende als auch positiv arbeitende, vor
sensibilisierte Platten zu behandeln. Deshalb ist es nicht
notwendig, vorher zwei Arten von Entwicklerzusammen
setzungen oder zwei Entwicklungsvorrichtungen herzu
stellen, was zu einer wesentlichen Verbesserung der
Wirksamkeit des Verfahrens und zu einer Verringerung der
Kosten und Einsparung von Raum zum Aufbau solcher Vor
richtungen führt.
Die nachstehenden Beispiele erläutern die Erfindung.
Ethylenglykolmonomethylether (300 g) wurde auf 100°C
unter einem Stickstoffstrom erwärmt, und eine gemischte
Lösung, zusammengesetzt aus 70 g 2-Hydroxyethylmethacrylat,
80 g Acrylnitril, 130 g Benzylmethacrylat, 20 g
Methacrylsäure und 1,2 g Benzoylperoxid, wurde tropfen
weise über 2 h zugegeben. Nach Abschluß der tropfenweisen
Zugabe wurden 300 g Ethylenglykolmonomethylether und
0,3 g Benzoylperoxid zugegeben, und die Reaktion wurde
über 4 h weitergeführt. Nach Abschluß der Reaktion wurde
die Reaktionslösung mit Methanol verdünnt und in Wasser
gegossen zur Ausfällung des erhaltenen Copolymers, gefolgt von
Trocknen der Niederschläge bei 70°C. Der Säurewert des
2-Hydroxyethylmethacrylatcopolymers (I) betrug 40,2.
Eine 2 S Aluminiumplatte mit einer Dicke
von 0,15 mm wurde in eine 10%ige wäßrige Lösung von
Natrium-tert.-phosphat getaucht, gehalten bei 80°C über
3 min, zur Entfettung, gefolgt von Körnen mit einer
Nylonbürste und einer Aufschlämmung aus Bimsstein als
Abriebmittel und unter Verwendung einer 3%igen wäßrigen
Lösung von Natriumaluminiat, gehalten bei 60°C, ent
schmutzt. Die Aluminiumplatte wurde bei einer Stromdichte
von 2 A/dm² in 20%iger Schwefelsäurelösung über 2 min
anodisiert und dann mit einer 2,5%igen wäßrigen Lösung
von Natriumsilikat, gehalten bei 70°C über 1 min, behandelt.
Eine vorsensibilisierte Platte wurde durch Aufbringen
einer lichtempfindlichen Lösung mit der
folgenden Zusammensetzung auf die Oberfläche der
Aluminiumplatte und 2minütiges Trocknen hergestellt.
Lichtempfindliche Lösung | |
Komponenten | |
Menge (g) | |
2-Hydroxyethylmethacrylatcopolymer (I) | |
87 | |
2-Methoxy-4-hydroxy-5-benzoylbenzolsulfonsäuresalz des Kondensats von p-Diazodiphenylamin und Paraformaldehyd | 10 |
Oil Blue Nr. 603 (erhältlich von Orient Chemical Industries, Ltd.; öllöslicher Farbstoff vom Triphenylmethantyp) | 3 |
2-Methoxyethanol | 600 |
Methanol | 600 |
Ethylenchlorid | 600 |
Die Beschichtungsmenge der lichtempfindlichen Lösung
(gewogen nach dem Trocknen) bezug 2,5 g/m². Eine negative
Originaltransparenz wurde in engen Kontakt mit der so
hergestellten vorsensibilierten Platte gegeben, die
Platte wurde bildweise belichtet, über 40 s mit Licht aus
einer 30 A Kohlenbogenlampe, angeordnet mit einem Abstand
von 70 cm von der Platte, und die bildweise belichtete,
vorsensibilisierte Platte wurde mit den in Tabelle I
angegebenen Entwicklern unter Verwendung einer auto
matischen Entwicklungsvorrichtung 800 H (erhältlich von Fuji
Photo Film Co., Ltd.) entwickelt. Die erhaltenen Ergebnisse
sind in der nachstehenden Tabelle II angegeben.
Aus den Ergebnissen der Tabelle II ist ersichtlich, daß
bei Verwendung einer Entwicklerzusammensetzung, die Thio
salicylsäure enthält, eine Untergrundverschmutzung
während des Druckens nicht beobachtet wurde, auch wenn
der Entwickler und/oder die vorsensibilisierte Platte
verwendet wurden, nachdem sie über einen langen Zeitraum
gelagert worden waren.
Auf die Oberfläche der in Beispiel 1 verwendeten Aluminium
platte wurde eine lichtempfindliche Lösung, umfassend
10 g Hexafluorphosphat eines Kondensats von p-Diazodi
phenylamin und Paraformaldehyd (Umwandlung in PF₆-Salz:
89%), 90 g eines 2-Hydroxyethylmethacrylat/Acrylnitril/
Ethylmethacrylat/Methacrylsäure (Monomerbeschickungs
gewichtsverhältnis = 50/26/20/4 Gew.-%)-Copolymers, 1 g
Natriumisopropylnaphthalinsulfonat, 2 g Phosphorsäure,
3 g Viktoria-Reinblau BOH (erhältlich von Hodogaya
Chemical Co., Ltd.), 7 g Tricresylphosphat, 600 g Ethylen
glykolmonomethylether, 600 g Methanol und 600 g Ethylen
dichlorid aufgebracht. Die Beschichtungsmenge nach dem
Trocknen betrug 1,5 g/m². Die erhaltene vorsensibilisierte
Platte wurde bildweise belichtet und dann mit den in
Tabelle III angegebenen Entwicklern unter Verwendung
einer automatischen Entwicklungsvorrichtung 800 U
(erhältlich von Fuji Photo Film Co., Ltd.) entwickelt. Die
Ergebnisse sind in Tabelle III zusammengefaßt. In diesem
Zusammenhang war jeder Entwickler bei 60°C über eine
Woche erwärmt worden, nachdem Sauerstoff in den Entwickler
geleitet worden war. Diese Entwickler wurden in einem
Verhältnis von 1 : 10 (Volumenverhältnis) vor ihrer
Verwendung verdünnt.
Eine Aluminiumplatte mit einer Dicke von 0,3 mm
(Material: 1050) wurde mit Trichlen gewaschen zur Ent
fettung ihrer Oberfläche, dann mit einer Nylonbürste und
einer wäßrigen Suspension von Bimsstein gekörnt und
anschließend ausreichend mit Wasser gewaschen. Die Platte
wurde in eine 25%ige wäßrige Natriumhydroxidlösung, ge
halten bei 45°C über 9 s, getaucht zum Ätzen, mit Wasser
gewaschen und dann in eine 20%ige Salpetersäurelösung
über 20 s getaucht, gefolgt von Waschen mit Wasser. Das
Ätzen wude so durchgeführt, daß die Menge der gekörnten
Oberfläche, die durch das Ätzen entfernt wurde, etwa
gleich 3 g/m² war. Die Platte wurde dann bei einer Strom
dichte von 15 A/dm² in einer 7%igen Schwefelsäurelösung
als Elektrolyt anodisiert zur Bildung von 3 g/m² eines
durch Gleichstrom analysierten Films, gefolgt von Waschen
mit Wasser und Trocknen. Dann wurde eine lichtempfindliche
Lösung der folgenden Zusammensetzung auf die Oberfläche
der Platte aufgebracht und bei 100°C über 2 min
getrocknet, um eine positiv arbeitende, vorsensibilisierte
Platte zu erhalten. Die Beschichtungsmenge der
lichtempfindlichen Lösung nach dem Trocknen betrug 2,4
bis 2,5 g/m².
Die positiv arbeitende, vorsensibilisierte Platte wurde
bildweise mit einer Metallhalogenidlampe (1,5 kW), angeordnet
in einer Entfernung von 70 cm, belichtet und dann
mit den Entwicklern (a) und (b) unter Verwendung einer
automatischen Entwicklungsvorrichtung 800 EII (erhältlich
von Fuji Photo Film Co., Ltd.) entwickelt. Als Ergebnis
wurden lithographische Druckplatten erhalten, von denen
die unbelichteten Teile vollständig gelöst und entfernt
waren. Insbesondere wenn der Entwickler (a) verwendet
wurde, wurde keine Kupplung zwischen zersetztem o-Chinondiazid
und unzersetztem o-Chinondiazid und ein Abstreichen
des Substrats aufgrund des restlichen, lichtempfindlichen
Materials beobachtet, auch wenn die vorsensibilisierten
Platten in einer Menge von etwa 2 m²/l behandelt
wurden. Es wurden gute Drucksachen, die frei von einer
Untergrundverschmutzung waren, erhalten. Wenn jedoch der
Entwickler (b) verwendet wurde, wurde eine solche Kupplung
verursacht, und es war notwendig, die Filmrandteile
zu entfernen.
Weiterhin bewirkte die lithographische Druckplatte, die
durch Entwickeln der negativ arbeitenden, vorsensibilisierten
Platte, die in Beispiel 1 verwendet wurde, mit
dem Entwickler (a) erhalten worden war, keine Untergrund
verschmutzung. Wenn sie jedoch mit dem Entwickler (b)
entwickelt wurde, verursachte die erhaltene lithographische
Druckplatte eine Verschmutzung. Wie vorstehend
angegeben, ermöglicht die Verwendung der erfindungsgemäßen
Entwicklerzusammensetzung die Behandlung von negativ
und positiv arbeitenden, vorsensibilisierten Platten
mit dem gleichen Entwickler und in der gleichen automatischen
Entwicklungsvorrichtung.
Claims (20)
1. Entwicklerzusammensetzung, dadurch gekennzeichnet,
daß sie wenigstens eine alkalilösliche Mercaptoverbindung
und/oder Thioetherverbindung, wenigstens ein
alkalisches Mittel und Wasser umfaßt.
2. Entwicklerzusammensetzung nach Anspruch 1, dadurch
gekennzeichnet, daß der pH der wäßrigen alkalischen
Lösung nicht weniger als 12 ist.
3. Entwicklerzusammensetzung nach Anspruch 1, dadurch
gekennzeichnet, daß die alkalilösliche Mercaptoverbindung
und/oder Thioetherverbindung aus der Gruppe,
bestehend aus solchen mit wenigstens einer Mercaptogruppe
und/oder Thioethergruppe und wenigstens einer
Säuregruppe, gewählt werden.
4. Entwicklerzusammensetzung nach Anspruch 1, dadurch
gekennzeichnet, daß die alkalilösliche Mercaptoverbindung
und/oder Thioetherverbindung aus der Gruppe,
bestehend aus solchen mit wenigstens einer Mercaptogruppe
und/oder Thioethergruppe und wenigstens einer
Carboxylgruppe, gewählt werden.
5. Entwicklerzusammensetzung nach Anspruch 1, dadurch
gekennzeichnet, daß die alkalilösliche Mercaptoverbindung
und/oder Thioetherverbindung aus der Gruppe,
bestehend aus Mercaptoessigsäure, 2-Mercaptopropionsäure,
3-Mercaptopropionsäure, 4-Mercaptobutansäure,
2,4-Dimercaptobutansäure, 2-Mercaptotetradecansäure,
Mercaptosuccinsäure, 2,3-Dimercaptosuccinsäure,
Cystein, N-Acetylcystein, N-(2-Mercaptopropionyl)-
glycin, N-(2-Mercapto-2-methylpropionyl)glycin,
N-(3-Mercaptopropionyl)glycin, N-(2-Mercapto-2-
methylpropionyl)cystein, Penicillamin, N-Acetylpenicillamin,
Glycin-Cystein-Glutamin-Kondensat, N-(2,3-
Dimercaptopropionyl)glycin, 2-Mercaptonicotinsäure,
Thiosalicylsäure, 3-Mercaptobenzoesäure, 4-Mercapto
benzoesäure, 3-Carboxy-2-mercaptopyridin, 2-Mercapto
benzothiazol-5-carbonsäure, 2-Mercapto-3-phenyl
propensäure, 2-Mercapto-5-carboxyethylimidazol,
5-Mercapto-1-(4-carboxyphenyl)tetrazol, N-(3,5-Di
carboxyphenyl)-2-mercaptotetrazol, 2-(1,2-Dicarboxy
ethylthio)-5-mercapto-1,3,4-thiadiazol, 2-(5-Mercapto-
1,3,4-thiadiazolylthio)hexansäure, 2-Mercapto
ethansulfonsäure, 2,3-Dimercapto-1-propansulfonsäure,
2-Mercaptobenzolsulfonsäure, 4-Mercaptobenzolsulfonsäure,
3-Mercapto-4-(2-sulfophenyl)-1,2,4-triazol,
2-Mercaptobenzothiazol-5-sulfonsäure, 2-Mercaptobenzimidazol-
6-sulfonsäure, Mercaptosuccinimid, 4-Mercapto
benzolsulfonamid, 2-Mercaptobenzimidazol-5-sulfonamid,
3-Mercapto-4-(2-methylaminosulfonyl)ethoxy)-
toluol, 3-Mercapto-4-(2-(methylsulfonylamino)ethoxy)-
toluol, 4-Mercapto-N-(p-methylphenylsulfonyl)benzamid,
4-Mercaptophenol, 3-Mercaptophenol, 2-Mercapto
phenol, 3,4-Dimercaptotoluol, 2-Mercaptohydrochinon,
2-Thiouracil, 3-Hydroxy-2-mercaptopyridin,
4-Hydroxythiophenol, 4-Hydroxy-2-mercaptopyrimidin,
4,6-Dihydroxy-2-mercaptopyrimidin, 2,3-Dihydroxy
propylmercaptan, 2-Mercapto-4-octylphenylethermethylether,
2-Mercapto-4-octylphenolmethansulfonaminoethylether,
2-Mercapto-4-octylphenolmethylaminosulfonylbutylether,
Thiodiglykolsäure, Thiodiphenol, 6,8-
Dithiooctansäure oder Alkalimetallsalzen, Erdalkali
metallsalzen oder organischen Aminsalzen davon,
gewählt werden.
6. Entwicklerzusammensetzung nach Anspruch 5, dadurch
gekennzeichnet, daß die alkalilösliche Mercaptoverbindung
und/oder Thioetherverbindung aus der Gruppe,
bestehend aus Thiosalicylsäure, N-(2,3-Dimercapto
propionyl)glycin, 2-(1,2-Dicarboxyethylthio)-5-
mercapto-1,3,4-thidiazol, N-(2-Mercapto-2-methyl
propionyl)cystein und Cystein, gewählt werden.
7. Entwicklerzusammensetzung nach Anspruch 1, dadurch
gekennzeichnet, daß die Menge der alkalilöslichen
Mercaptoverbindung und/oder Thioetherverbindung bei
0,001 bis 10 Gew.-%, bezogen auf das Gesamtgewicht
der Zusammensetzung, liegt.
8. Entwicklerzusammensetzung nach Anspruch 1, dadurch
gekennzeichnet, daß sie weiterhin wenigstens ein
alkalisches Mittel, gewählt aus der Gruppe, bestehend
aus Natriumsilikat, Kaliumsilikat, Kaliumhydroxid,
Natriumhydroxid, Lithiumhydroxid, Natrium-
tert.-phosphat, Natrium-sec.-phosphat, Ammonium-
tert.-phosphat, Ammonium-sec.-phosphat, Natriummeta
silikat, Natriumbicarbonat, Natriumborat, Ammoniumborat,
Ammoniak, Monomethylamin, Diethylamin, Trimethylamin,
Monoethylamin, Diethylamin, Triethylamin,
Monoisopropylamin, Diisopropylamin, n-Butylamin,
Monoethanolamin, Diethanolamin, Triethanolamin,
Monoisopropanolamin, Diisopropanolamin, Ethylenimin,
Ethylendiamin und Pyridin, umfaßt.
9. Entwicklerzusammensetzung nach Anspruch 8, dadurch
gekennzeichnet, daß das alkalische Mittel aus der
Gruppe, bestehend aus Natriumsilikat, Kaliumsilikat,
Kaliumhydroxid, Natriumhydroxid, Monoethanolamin,
Diethanolamin und Triethanolamin, gewählt wird.
10. Entwicklerzusammensetzung nach Anspruch 8, dadurch
gekennzeichnet, daß die Menge des alkalischen Mittels
in der Entwicklerzusammensetzung bei 0,05 bis
10 Gew.-%, bezogen auf das Gesamtgewicht der
Zusammensetzung, liegt.
11. Entwicklerzusammensetzung nach Anspruch 10, dadurch
gekennzeichnet, daß die Menge des alkalischen Mittels
in der Entwicklerzusammensetzung bei 0,1 bis 7 Gew.-%,
bezogen auf das Gesamtgewicht der Zusammensetzung,
liegt.
12. Entwicklerzusammensetzung nach Anspruch 1, dadurch
gekennzeichnet, daß sie weiterhin wenigstens ein
anionisches oberflächenaktives Mittel, gewählt aus
der Gruppe, bestehend aus C₈- bis C₁₂-höheralkoholischen
Schwefelsäureestersalzen, aliphatischen Alkohol
phosphorsäureestersalzen, Alkylarylsulfonsäuresalzen,
Sulfonsäuresalzen von Alkylamiden, Sulfonsäuresalzen
von zweibasischen Fettsäureestern, umfaßt.
13. Entwicklerzusammensetzung nach Anspruch 12, dadurch
gekennzeichnet, daß das anionische oberflächenaktive
Mittel aus der Gruppe, bestehend aus Natriumsalz von
Laurylalkoholsulfat, Natriumsalz von Octylalkoholsulfat,
Ammoniumsalz von Laurylalkoholsulfat,
Natriumsalz von Cetylalkoholphosphorsäureester,
Natriumdodecylbenzolsulfonsäure, Natriumisopropyl
naphthalinsulfonsäure, Natriummetanitrobenzolsulfonsäure,
C₁₇H₃₃CON(CH₃)CH₂CH₂SO₃Na, Natriumdioctyl
sulfosuccinat und Natriumdihexylsulfosuccinat,
gewählt wird.
14. Entwicklerzusammensetzung nach Anspruch 12, dadurch
gekennzeichnet, daß das anionische oberflächenaktive
Mittel der Entwicklerzusammensetzung so zugegeben
wird, daß die Menge in dem praktisch verwendeten
Entwickler bei 0,1 bis 5 Gew.-%, bezogen auf das
Gesamtgewicht des Entwicklers, liegt.
15. Entwicklerzusammensetzung nach Anspruch 1, dadurch
gekennzeichnet, daß sie weiterhin wenigstens ein
organisches Lösungsmittel mit einer Löslichkeit in
Wasser von nicht mehr als etwa 10 Gew.-% umfaßt.
16. Entwicklerzusammensetzung nach Anspruch 1, dadurch
gekennzeichnet, daß das organische Lösungsmittel eine
Löslichkeit in Wasser von nicht mehr als 5 Gew.-%
besitzt.
17. Entwicklerzusammensetzung nach Anspruch 15, dadurch
gekennzeichnet, daß das organische Lösungsmittel aus
der Gruppe, bestehend aus 1-Phenylethanol, 2-Phenylethanol,
3-Phenylpropanol-1; 4-Phenylbutanol-1; 4-
Phenylbutanol-2; 2-Phenylbutanol-1; 2-Phenoxyethanol,
2-Benzyloxyethanol, o-Methoxybenzylalkohol, m-Methoxy
benzylalkohol, p-Methoxybenzylalkohol, Benzylalkohol,
Cyclohexanol, 2-Methylcyclohexanol, 4-
Methylcyclohexanol und 3-Methylcyclohexanol gewählt
wird.
18. Entwicklerzusammensetzung nach Anspruch 15, dadurch
gekennzeichnet, daß das organische Lösungsmittel der
Entwicklerzusammensetzung so zugegeben wird, daß die
Menge in dem praktisch verwendeten Entwickler bei 1
bis 5 Gew.-%, bezogen auf das Gesamtgewicht des
Entwicklers, liegt.
19. Entwicklerzusammensetzung nach Anspruch 1, dadurch
gekennzeichnet, daß sie weiterhin Antischäumungsmittel
und/oder Weichmacher für hartes Wasser umfaßt.
20. Entwicklerzusammensetzung nach Anspruch 19, dadurch
gekennzeichnet, daß der Weichmacher der Entwickler
zusammensetzung so zugegeben wird, daß die Menge in
dem praktisch verwendeten Entwickler bei 0,01 bis
5 Gew.-%, bezogen auf das Gesamtgewicht des
Entwicklers, liegt.
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