DE69009269T2 - Entwickler für lichtempfindliche Platten bei der Herstellung von lithographischen Druckplatten und Verfahren zur Herstellung der Platten. - Google Patents

Entwickler für lichtempfindliche Platten bei der Herstellung von lithographischen Druckplatten und Verfahren zur Herstellung der Platten.

Info

Publication number
DE69009269T2
DE69009269T2 DE69009269T DE69009269T DE69009269T2 DE 69009269 T2 DE69009269 T2 DE 69009269T2 DE 69009269 T DE69009269 T DE 69009269T DE 69009269 T DE69009269 T DE 69009269T DE 69009269 T2 DE69009269 T2 DE 69009269T2
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
plates
developer
producing
production
lithographic printing
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
DE69009269T
Other languages
English (en)
Other versions
DE69009269D1 (de
Inventor
Keizi Akiyama
Hiroshi Misu
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fuji Photo Film Co Ltd filed Critical Fuji Photo Film Co Ltd
Application granted granted Critical
Publication of DE69009269D1 publication Critical patent/DE69009269D1/de
Publication of DE69009269T2 publication Critical patent/DE69009269T2/de
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
    • G03F7/30—Imagewise removal using liquid means
    • G03F7/32—Liquid compositions therefor, e.g. developers
    • G03F7/322—Aqueous alkaline compositions

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
DE69009269T 1989-03-29 1990-03-27 Entwickler für lichtempfindliche Platten bei der Herstellung von lithographischen Druckplatten und Verfahren zur Herstellung der Platten. Expired - Fee Related DE69009269T2 (de)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1077517A JP2598993B2 (ja) 1989-03-29 1989-03-29 感光性平版印刷版用現像液組成物及び製版方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
DE69009269D1 DE69009269D1 (de) 1994-07-07
DE69009269T2 true DE69009269T2 (de) 1994-09-08

Family

ID=13636159

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE69009269T Expired - Fee Related DE69009269T2 (de) 1989-03-29 1990-03-27 Entwickler für lichtempfindliche Platten bei der Herstellung von lithographischen Druckplatten und Verfahren zur Herstellung der Platten.

Country Status (4)

Country Link
US (1) US5043252A (de)
EP (1) EP0390480B1 (de)
JP (1) JP2598993B2 (de)
DE (1) DE69009269T2 (de)

Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6110881A (en) * 1990-11-05 2000-08-29 Ekc Technology, Inc. Cleaning solutions including nucleophilic amine compound having reduction and oxidation potentials
US7205265B2 (en) * 1990-11-05 2007-04-17 Ekc Technology, Inc. Cleaning compositions and methods of use thereof
US20040018949A1 (en) * 1990-11-05 2004-01-29 Wai Mun Lee Semiconductor process residue removal composition and process
US5279771A (en) * 1990-11-05 1994-01-18 Ekc Technology, Inc. Stripping compositions comprising hydroxylamine and alkanolamine
US5230988A (en) * 1991-03-12 1993-07-27 Fuji Photo Film Co., Ltd. Method of making lithographic printing plate
US7144849B2 (en) * 1993-06-21 2006-12-05 Ekc Technology, Inc. Cleaning solutions including nucleophilic amine compound having reduction and oxidation potentials
US7018777B2 (en) * 2002-09-11 2006-03-28 Fuji Photo Film Co., Ltd. Method of making lithographic printing plate
US6803167B2 (en) * 2002-12-04 2004-10-12 Kodak Polychrome Graphics, Llc Preparation of lithographic printing plates

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3061434A (en) * 1957-08-26 1962-10-30 Polaroid Corp Novel substituted silver halide developing agents
US3002997A (en) * 1958-01-29 1961-10-03 Polaroid Corp Photographic products, processes and compositions
JPS5433163A (en) * 1977-08-18 1979-03-10 Tenryu Industries Reclining limit seat
JPS56123541A (en) * 1979-11-22 1981-09-28 Minnesota Mining & Mfg Lithographic print developing method
US4370406A (en) * 1979-12-26 1983-01-25 Richardson Graphics Company Developers for photopolymer lithographic plates
GB2083238B (en) * 1980-08-15 1984-05-23 Polychrome Corp One step developing and lacquering composition
JPS57192952A (en) * 1981-05-25 1982-11-27 Konishiroku Photo Ind Co Ltd Composition of developing solution
JPS5948763A (ja) * 1982-09-13 1984-03-21 Fuji Photo Film Co Ltd リス型現像液
US4711836A (en) * 1984-09-10 1987-12-08 Olin Hunt Specialty Products, Inc. Development of positive-working photoresist compositions
US4626492A (en) * 1985-06-04 1986-12-02 Olin Hunt Specialty Products, Inc. Positive-working o-quinone diazide photoresist composition containing a dye and a trihydroxybenzophenone compound
JPH073580B2 (ja) * 1986-01-29 1995-01-18 コニカ株式会社 感光性平版印刷版の現像液組成物

Also Published As

Publication number Publication date
JPH02254457A (ja) 1990-10-15
JP2598993B2 (ja) 1997-04-09
EP0390480A1 (de) 1990-10-03
DE69009269D1 (de) 1994-07-07
US5043252A (en) 1991-08-27
EP0390480B1 (de) 1994-06-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE69606218T2 (de) Verfahren zur Herstellung von Flexodruckformen
DE59107098D1 (de) Verfahren zur Herstellung von Photopolymerplatten
DE69129567D1 (de) Vorrichtung für die Herstellung von flexographischen Druckplatten
DE69007675T2 (de) Lichtempfindliche Zusammensetzung und vorsensibilisierte Platten, verwendbar bei der Herstellung von lithographischen Druckplatten.
DE3585753D1 (de) Kunststoffdruckplatte und verfahren zur herstellung.
DE69030032T2 (de) Lichtempfindliches Material für Elektrophotographie und Verfahren zu dessen Herstellung
DE69017312D1 (de) Verfahren zur Herstellung eines Trägers für Flachdruckplatten.
DE3776536D1 (de) Verfahren zum entwickeln lithographischer platten.
DE68925517D1 (de) Verfahren zur Herstellung von Bildplatten
DE69421328D1 (de) Elektrophotographisches Verfahren zur Herstellung von Druckplatten
DE59509689D1 (de) Verfahren und vorrichtung zur photomechanischen herstellung strukturierter oberflächen, insbesondere zum belichten von offsetdruckplatten
DE68918117T2 (de) Verfahren zur Herstellung von Flachdruckplatten.
DE69130919T2 (de) Verfahren zum Entwickeln von vorsensibilisierten Platten in der Herstellung von lithographischen Druckplatten
DE68925154D1 (de) Verfahren zur Herstellung von Flachdruckplatten
DE69515549D1 (de) Elektrophotographisches Verfahren zur Herstellung von Druckplatten
DE69009269D1 (de) Entwickler für lichtempfindliche Platten bei der Herstellung von lithographischen Druckplatten und Verfahren zur Herstellung der Platten.
DE59409118D1 (de) Lichtempfindliches Material und Verfahren zur Herstellung von Flachdruckplatten
DE69129171T2 (de) Verfahren zur dimensionellen Stabilisierung von Photopolymer-Flexodruckplatten
DE3581115D1 (de) Verfahren zur herstellung von lithographischen druckplatten und so hergestellte druckplatten.
DE3750921T2 (de) Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung von Hülsen für Filmpatronen.
DE59106647D1 (de) Verfahren zur Herstellung photopolymerer flexographischer Reliefdruckplatten.
DE3780204D1 (de) Verfahren zur herstellung von flachdruckplatten.
DE69620315T2 (de) Verfahren zur elektrochemischen Aufrauhung der Oberfläche von Trägern für lithographische Druckplatten
DE68906895T2 (de) Verfahren und apparatur zur herstellung von druckplatten.
DE3481869D1 (de) Verfahren zur herstellung von druckplatten.

Legal Events

Date Code Title Description
8364 No opposition during term of opposition
8339 Ceased/non-payment of the annual fee