DE3910708A1 - Mit einem selbstisolierten c/dmos-prozess kompatibler spannungsvervielfacher - Google Patents
Mit einem selbstisolierten c/dmos-prozess kompatibler spannungsvervielfacherInfo
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Description
Ein diffundierter Metalloxidhalbleiter-Hochleistungs
transistor (DMOS) hat typischerweise eine Schwellen
spannung von etwa 2-3 Volt. Solche Geräte werden oft
als Schalter oder als Steuerelemente eingesetzt. In
einer Treiberanwendung ist das Drain des Leistungstran
sistors mit der Versorgungsleitung und der Source ver
bunden, welche das Ausgangspotential liefern, und wird
auf ein Potential sehr nahe zu dem der Versorgung ge
bracht. Dies zu tun erfordert, daß das Gate auf ein Po
tential oberhalb der Spannung der Versorgung über eine
Schwellenspannung gebracht werden muß. Man hat heraus
gefunden, daß ein N-Kanal-DMOS-Transistor als Ausgangs
treiber einen Gateüberhang von 5 bis 10 Volt erfordert.
Wenn man berücksichtigt, daß eine übliche Versorgung
5 Volt liefert, kann man sehen, daß die Ansteuerung des
Gates ein Vielfaches hiervon sein sollte.
Die Erfindung ist zur Benutzung in Verbindung mit
komplementären Metalloxidhalbleiter(CMOS)-Strukturen
vorgesehen. Hier sind N-Kanal- und P-Kanal-MOS-Tran
sistoren auf einem gemeinsamen Silikonsubstrat kombi
niert. Beim sogenannten P-Wannen-Aufbau ist ein gemein
sames N-Typ-Substrat mit darin ausgebildeten P-Ka
nal-Transistoren versehen. ln das Substrat diffundierte
P-Typ-Wannen werden zum Vorsehen der N-Kanal-Transisto
ren verwendet.
Alternativ kenn ein P-Typ-Substrat die N-Kanal-Tran
sistoren enthalten, und die N-Typ-Wannen sind dorthin
ein diffundiert. Die N-Wannen enthalten dann P-Ka
nal-Transistoren. In beiden Fällen sind die in den
Wannen aufgenommenen Transistoren von den anderen über
den Wannen/Substrat-Übergang isoliert.
Aufgabe der Erfindung ist es, einen von einer Takt
impulsquelle betriebenen CMOS-Spannungsvervielfachungs
gleichrichter zur Erzeugung einer DC-Vorspannung zu
verwenden, womit ein Leistungsausgangstransistor vorge
spannt werden kann.
Eine weitere Aufgabe der Erfindung ist es, das Gate
eines diffundierten, großflächigen CMOS-Leistungstran
sistors mittels eines Spannungsverdreifachers anzu
heben, welcher von einer Taktimpulsquelle betrieben
wird.
Diese und andere Aufgaben werden in einer bevorzugten
Ausführungsform dadurch gelöst, daß eine P-Wan
nen-CMOS-Struktur von einer 5 Volt-Versorgung betrieben
wird. Der Leistungstransistor ist eine großflächige,
selbstisolierte N-Kanal-Vorrichtung. Ein 5 Volt-Spit
ze-Spitze-Taktimpuls ist vorhanden. Die Taktimpulse
werden in ihren Spitzen gleichgerichtet und zum Laden
eines ersten Kondensators verwendet. Die entgegenge
setzte Phase der Taktimpulse wird zum Laden eines zwei
ten Kondensators in einer Spannungsverdopplungskonfi
guration verwendet. Der zweite Kondensator ist über
einen getakteten N-Kanal-Transistor an das Gate des
Leistungstransistors angekoppelt, wobei die Gatekapa
zität einen dritten Kondensator aufweist, der auf einen
Wert geladen wird, der den Ausgang eines Spannungsver
dreifachers darstellt. Somit kann das Gate des Aus
gangstransistors auf einen Wert vorgespannt werden, der
fast dreimal so groß ist wie der der Versorgung. Dies
liefert eine angemessene Anhebung selbst beim Betrieb
durch eine 5 Volt-Versorgung. Es ist festzustellen,
daß, während die bevorzugte Ausführungsform einen Span
nungsverdreifacher verwendet, auch ein Spannungsver
doppler oder -vervierfacher benutzt werden könnte, je
nach den betroffenen Spannungen.
Fig. 1 ist ein Blockschema mit den Grundelementen der
Erfindung.
Fig. 2 ist ein Schema eines bevorzugten Spannungsver
dreifachungsgleichrichters gemäß der Erfindung.
Fig. 3 ist ein Querschnitt eines Halbleiterwafers mit
dem Aufbau des bipolaren Transistors nach Fig. 2.
Die Grundelemente der Erfindung sind im Blockdiagramm
von Fig. 1 dargestellt. Der Schaltkreis wird von einer
VDD-Versorgung betrieben, die an + mit dem Anschluß 10
und an - mit dem Ground-Anschluß 11 verbunden ist.
Typischerweise ist dies eine 5 Volt-Versorgung. Der
Ausgangstransistor 12 koppelt einen Teil der + VDD-Ver
sorgung an den Ausgangsanschluß 13 an. Falls der Tran
sistor 12 völlig einschalten soll, muß sein Gate in
positiver Richtung um typisch 2 oder 3 Volt angehoben
werden. Eine Anhebungsfähigkeit von 10 bis 15 Volt ist
als wünschenswert herausgefunden worden. Dies wird
durch Gleichrichten des Sysstemtaktsignals an Anschluß
14 in einem Gleichrichter 15 der Vervielfachunsanord
nung erzielt. In der bevorzugten Ausführungsform ist 15
ein Spannungsverdreifacher. ln einem von einer
5 Volt-Quelle betriebenen System, bei dem 5 Volt-Spit
ze-Spitze-Impulse verwendet werden, erzeugt der Ver
dreifacher einen Ausgang, der etwas unter 15 Volt
liegt, was in der Lage ist, den Transistor 12 völlig
einzuschalten. Das Steuerelement 16 vernichtet Strom
vom Spannungsverdreifacher und zieht die Spannung auf
einen gewünschten Wert hinab. Das bedeutet, daß die
Spannung an Anschluß 13 von einem Wert nahe zu VDD auf
jeden gewünschten anderen Wert angesteuert werden kann.
Fig. 2 ist ein Schema eines bevorzugten Spannungsver
dreifachers 15. Die Taktimpulse am Anschluß 14 werden
über einen Inverterpuffer 18 auf ein Ende des Konden
sators 19, das Gate des Transistors 20 und den Eingang
des Inverters 22 angekoppelt. Das andere Ende des Kon
densators 19 wird an die Basis und einen Kollektor des
Transistors 21 und an die Source und das Rückwärtsgate
des Transistors 23 angekoppelt. Wenn die Taktimpulse
aus dem Inverter 18 "high" sind, wird der Kondensator
19 auf die positive Spitze des Takts minus der VBE des
Transistors 21 aufgeladen. Der Ladestrom fließt in den
unteren Kollektor des Transistors 21, der als Strom
minderer arbeitet. Somit leitet der Transistor 21, wenn
die Taktimpulse "high" sind. ln diesem Zustand ist der
Transistor 20 ausgeschaltet, und der zweite oder obere
Kollektor des Transistors 21 zieht das Gate von Tran
sistor 23 nach "low" und schaltet ihn ab. Dieselbe über
den lnverter 22 angekoppelte Phase zieht das Gate des
Transistors 24 nach "low" und schaltet ihn somit an.
Dadurch wird das linke Ende des Kondensators 25 an die
VDD-Leitung angekoppelt. Das rechte Ende des Konden
sators 25 wird über den Transistor 26, der als Source
folger wirkt, an das Gate von Transistor 12 angekop
pelt.
Beim umgekehrten Auswandern des Taktimpulses wird der
Takt nach "low" gezogen, wodurch das linke Ende des
Kondensators 19 nahe an Ground gezogen wird. Dieser
Vorgang schaltet den Transistor 21 ab und den Tran
sistor 20 ein. Der Inverter 22 schaltet den Transistor
24 in dieser Taktphase ab. Die Leitung im Transistor 20
zieht das Gate des Transistors 23 hoch und schaltet es
ein. Dadurch wird das rechte Ende des Kondensators 19
an das linke Ende des Kondensators 25 angekoppelt, der
damit auf negatives Potential gebracht wird. Da das
rechte Ende des Kondensators 25 an den Transistor 26
angekoppelt ist, wird er sich auf ein Potential von
zweimal VDD aufladen. Während mehrere Taktimpulse benö
tigt werden können, wird das Potential an Gate und Kol
lektor von Transistor 26 deutlich über VDD ansteigen,
und die Aufladung an Kondensator 25 wird sich an 2VDD
annähern. Wenn der Transistor 23 eingeschaltet ist,
werden die beiden Kondensatoren wirksam in Reihe ver
bunden und wirken über den Transistor 26 zum Aufladen
der Gatekapazität des Transistors 12 nahe an 3VDD.
Somit wird eine Spannungsverdreifachung erzeugt.
Transistor 21 ist ein kritisches Element der Erfindung,
da sein Kollektor und seine Basis während der negativen
Taktauswanderungen unterhalb Ground betrieben werden.
Somit sind diese Elektroden außerhalb des Bereichs der
Versorgung vorgespannt. Fig. 3 ist ein Querschnitt des
Teils eines CMOS-Wafers, der den Transistor 21 enthält.
In der Zeichnung ist die Metallisierung oder Verdrah
tung nur schematisch gezeigt. Allerdings ist das Gate
oxid unter der Gateelektrode abgebildet. Dadurch wird
deutlich das Paar von nebeneinanderliegenden N-Ka
nal-CMOS-Transistoren definiert, die den Transistor 21
bilden, der in eine CMOS-P-Wanne 27 gefertigt ist, die
sich in einem N-Typ-Wafer 28 befindet. Der P+-Ring 33
umgibt die P-Wanne 27 und überlappt ihre Kante, wodurch
eine ohmsche Verbindung mit der P-Wanne gebildet wird.
Die beiden N-Kanal-Transistoren weisen eine gemeinsame
auf Ground liegende Source 30 auf. Diese Source wirkt
als der Emitter für den parasitären bipolaren Tran
sistor 21. Drain 31 wird ein bipolarer Lateralkollek
tor, der an die P-Wannen-Verbindung 33 angekoppelt ist,
die die Basis des bipolaren Transistors bildet. Diese
Elektroden sind auch mit den Gates des N-Kanal-Tra
sistors verbunden, wie gezeigt. Drain 32 bildet den
zweiten Lateraltransistorkollektor. Man kann sehen,
daß, falls der Kollektor 31 oder 32 des bipolaren Tran
sistors unter Ground des von ihm dargestellten PN-Über
gangs betrieben wird, er negativ vorgespannt und somit
nichtleitend wird. Die Vorspannung des betreffenden
N-Kanal-Transistors wird aufgehoben, und auch er wird
nichtleitend.
Der gezeigte Schaltkreis resultiert in einem Spannungs
verdreifacher, der die geforderte Anhebung des Gates
für einen N-Kanal-Leistungstransistor liefert und auf
einer P-Wannen-CMOS-Konstruktion basieren. Man sieht,
daß eine P-Wanne als Isolierung der Ausgangstransisto
ren vom Halbleiterwafer wirkt. Natürlich könnte leicht
eine ähnliche Konstruktion mit N-Wannen-CMOS erzielt
werden. ln einem derartigen Fall wäre das Drain eines
P-Kanal-Leistungstransistors mit dem negativen Ver
sorgungspotential verbunden. Hier wären alle Geräte
strukturen komplementär, und der bipolare Lateraltran
sistor wäre ein PNP-Gerät mit doppeltem Kollektor.
Die Erfindung ist beschrieben worden, und ihre Be
triebsweise ist erläutert worden. Beim Lesen der obigen
Beschreibung werden für den Durchschnittsfachmann
Alternativen und Aquivalente innerhalb des Umfangs der
Erfindung deutlich werden. Entsprechend soll der
Schutzumfang der Erfindung nur von den vorstehenden An
sprüchen begrenze sein.
Claims (4)
1. CMOS-Schaltkreis, bei dem ein großflächiger Aus
gangstransistor eines ersten Leitungstyps als Mittel
zum Steuern der Kopplung einer Versorgung von relativ
niedriger Spannung mit einem Ausgangsanschluß als Funk
tion des an die Gateelektrode des großflächigen Aus
gangstransistors angelegten Vorspannungspotentials ver
wendet wird,
dadurch gekennzeichnet, daß der Schaltkreis ausweist:
- - eine Quelle von Taktimpulssignalen;
- - einen die Spannung multiplizierenden Gleichrichter, der auf die Taktimpulssignale reagiert und ein Vorspan nungspotential erzeugt, das wesentlich höher ist als das Potential der Versorgung;
- - Mittel zum Ankoppeln des Vorspannungspotentials an die Gateelektrode des großflächigen Ausgangstran sistors; und
- - Mittel zum Regeln des Werts des Vorspannungspo tentials.
2. CMOS-Schaltkreis nach Anspruch 1,
dadurch gekennzeichnet, daß das die Spannung verviel
fachende Mittel einen Spannungsverdreifacher darstellt
mit:
- - einem ersten Kondensator, dessen einer Anschluß mit der Quelle der Taktimpulse und dessen anderer Anschluß mit dem Eingang eines Stromspiegels verbunden ist;
- - einem ersten Transistor vom ersten Leitfähigkeitstyp, dessen Source- und Rückwärtsgateanschlüsse mit dem anderen Anschluß des ersten Kondensators verbunden sind und dessen Gateanschluß mit dem Ausgangsanschluß des Stromspiegels und einem Drainanschluß verbunden ist;
- - einem zweiten Transistor vom umgekehrten Leitfähig keitstyp, dessen Drain mit dem Gate des ersten Tran sistors verbunden ist, dessen Source zur Versorgung zurückgeführt ist und dessen Gate mit der Quelle der Taktimpulse verbunden ist;
- - einem dritten Transistor ebenfalls vom umgekehrten Leitfähigkeitstyp, dessen Drain mit dem Drain des er sten Transistors verbunden ist, dessen Source zur Ver sorgung zurückgeführt ist und dessen Gate mit dem Aus gang eines ersten Inverters verbunden ist, dessen Ein gang mit der Quelle der Taktimpulse verbunden ist;
- - einem zweiten Kondensator, dessen einer Anschluß mit dem Drain des ersten Transistors verbunden ist und der einen zweiten Anschluß aufweist;
- - einem vierten Transistor vom ersten Leitfähigkeits typ, dessen Gate und Drain mit dem zweiten Anschluß des zweiten Kondensators verbunden sind, dessen Rückwärts gate mit der Versorgung verbunden ist und dessen Source mit dem Gate des großflächigen Ausgangstransistors ver bunden ist, wodurch die Source des vierten Transistors ein Potential annimmt, das erheblich größer als das Versorgungspotential ist.
3. CMOS-Schaltkreis nach Anspruch 2,
dadurch gekennzeichnet, daß der Stromspiegel einen
bipolaren Lateraltransistor mit zwei Kollektoren
aufweist.
4. CMOS-Schaltkreis nach Anspruch 3,
dadurch gekennzeichnet, daß der bipolare Lateraltran
sistor einen Stromspiegeleingang mit einem Kollektor
aufweist, der mit der Basis des Transistors verbunden
ist, und daß der andere Kollektor den Stromspiegelaus
gang aufweist.
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EP0398170A3 (de) * | 1989-05-17 | 1991-04-17 | National Semiconductor Corporation | Zeitlich begrenzte Anhebung des Ansteuerstroms für einen DMOS-Transistortreiber mit schnellem Einschalten und niedrigem Ruhestrom |
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Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE2359647A1 (de) * | 1972-12-29 | 1974-07-04 | Ibm | Schaltungsanordnung zur erzeugung einer kompensierten steuerspannung |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US32526A (en) * | 1861-06-11 | Improvement | ||
GB1364618A (en) * | 1971-12-03 | 1974-08-21 | Seiko Instr & Electronics | Voltage boosters |
US3808468A (en) * | 1972-12-29 | 1974-04-30 | Ibm | Bootstrap fet driven with on-chip power supply |
US4048632A (en) * | 1976-03-05 | 1977-09-13 | Rockwell International Corporation | Drive circuit for a display |
JPS56122526A (en) * | 1980-03-03 | 1981-09-26 | Fujitsu Ltd | Semiconductor integrated circuit |
DE3335423A1 (de) * | 1983-09-29 | 1985-04-04 | Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München | Schaltung zur spannungsvervielfachung |
US4603269A (en) * | 1984-06-25 | 1986-07-29 | Hochstein Peter A | Gated solid state FET relay |
US4599555A (en) * | 1985-01-22 | 1986-07-08 | Eaton Corporation | Solid state DC power control system |
US4737667A (en) * | 1986-03-11 | 1988-04-12 | Siemens Aktiengesellschaft | Driving circuitry for a MOSFET having a source load |
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1988
- 1988-05-02 US US07/189,442 patent/US4888505A/en not_active Expired - Lifetime
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Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE2359647A1 (de) * | 1972-12-29 | 1974-07-04 | Ibm | Schaltungsanordnung zur erzeugung einer kompensierten steuerspannung |
Also Published As
Publication number | Publication date |
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US4888505A (en) | 1989-12-19 |
JPH0217715A (ja) | 1990-01-22 |
GB2218281A (en) | 1989-11-08 |
GB8908464D0 (en) | 1989-06-01 |
FR2630860A1 (fr) | 1989-11-03 |
GB2218281B (en) | 1992-07-29 |
DE3910708C2 (de) | 1998-05-14 |
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D2 | Grant after examination | ||
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8339 | Ceased/non-payment of the annual fee |