DE3834948A1 - Verfahren zum messen des brechungsindex einer duennschicht - Google Patents
Verfahren zum messen des brechungsindex einer duennschichtInfo
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Description
Die Erfindung betrifft ein Verfahren des Brechungsindex
einer Dünnschicht, welche auf einem Medium mit einem bekann
ten Brechungsindex ausgebildet ist.
In der technischen Optik ist es oft notwendig, den Brechungs
index einer Dünnschicht zu messen. Es ist bekannt, ein Pola
risations-Analyseverfahren als ein kontaktloses und zerstö
rungsfreies Meßverfahren zu benutzen. Jedoch erfordert das
Polarisations-Analyseverfahren eine komplizierte sehr große
Einrichtung.
Um den Brechungsindex einer Dünnschicht bequem, schnell und
genau messen zu können, hat die Anmelderin der vorliegenden
Anmeldung in japanischen Patentanmeldungen Nr. 61-2 82 758,
61-2 87 495 und 62-1 48 742 ein Meßverfahren zum Messen des
Brechungsindex einer Dünnschicht vorgeschlagen, welche auf
einem Substrat mit einem bekannten Brechungsindex ausge
bildet ist, wobei die Dünnschicht mit P- und mit S-polari
siertem, monochromatischem Licht unter einem vorher be
stimmten Einfallswinkel bestrahlt wird, und Energie-Refle
xionsverhältnisse Rs und Rp für das P- und und S-polarisierte
monochromatische Licht festgestellt werden, und wobei der
Brechungsindex der Dünnschicht mit Hilfe des bekannten Bre
chungsindex des Substrats und den Energie- Reflexionsverhält
nissen Rs und Rp entsprechend einer vorherbestimmten Folge
berechnet werden.
Jedoch werden die den vorgeschlagenen Verfahren die Absorp
tionswirkung des Substrats nicht berücksichtigt; folglich
kann es nur bei einem dielektrischen Substrat, jedoch nicht
bei einem absorbierenden Substrat angewendet werden, wenn
nicht ein Ausgleichsprozeß zusätzlich vorgenommen wird.
Ebenso wirkt das vorgeschlagene Verfahren nur bei einer ein
lagigen Schicht und kann nicht bei einer mehrlagigen Schicht
angewendet werden.
Bei der Erfindung wurden die vorstehend angeführten Schwie
rigkeiten berücksichtigt. Es ist daher ein erstes Ziel der
Erfindung, ein Verfahren zum Messen des Brechungsindex einer
Dünnschicht zu schaffen, mit welchem der Brechungsindex be
quem, schnell und genau gemessen werden kann, und bei wel
chem die Absorption des Substrats berücksichtigt wird, so
daß die Erfindung auch bei einem absorbierenden sowie einem
dielektrischen Substrat angewendet werden kann. Ein zweites
Ziel der Erfindung besteht darin, das vorerwähnte, vorge
schlagene Verfahren entsprechend zu verbessern, um ein Ver
fahren zum Messen des Brechungsindex einer obersten Schicht
einer auf einem Substrat ausgebildeten mehrlagigen Dünn
schicht zu schaffen.
Um das erste Ziel zu erreichen, ist gemäß der Erfindung ein
Verfahren zum Messen des Brechungsindex einer Dünnschicht
geschaffen, bei welchem mit P- und S-polarisiertem, mono
chromatischem Licht unter einem vorherbestimmten Einfalls
winkel eine Dünnschicht bestrahlt wird, welche auf einem
Medium mit einem bekannten Brechungsindex ausgebildet ist,
und Energie-Reflexionsverhältnisse Rs und Rp für das P-
und das S-polarisierte, monochromatische Licht festgestellt
werden; dann wird der Brechungsindex der Dünnschicht mittels
einer vorgeschriebenen Berechnung auf der Basis von folgenden
Phasenänderungen spezifiziert, nämlich Phasenänderungen des
Lichts während seiner Ausbreitung von einer oberen Fläche
der Dünnschicht zu der unteren Fläche, welche Phasenänderun
gen entsprechend dem Reflexionsindex des Mediums und der
Energie-Reflexionsverhältnisse Rs und Rp bestimmt werden.
Ferner ist insbesondere ein Verfahren zum Messen des Bre
chungsindex einer Dünnschicht geschaffen, bei welchem mit
P- und S-polarisiertem, monochromatischem Licht unter einem
eine Dünnschicht bestrahlt wird, welche auf einem Substrat
mit einem bekannten Brechungsindex ₃=n₃(1+ik₃) ausgebil
det ist, und Energie-Reflexionsverhältnisse Rs und Rp für
das P- und das S-polarisierte, monochromatische Licht festge
stellt werden, und wobei dann cos(Φ 23p +2β) und cos
Φ 23s +2β) entsprechend dem Reflexionsindex ₃ und die
Energie-Reflexionsverhältnisse Rp, Rs auf der Basis von
Fresnel′schen Gleichungen als Funktion nur einer Veränder
lichen (des Brechungsindex n₂) der Dünnschicht auf folgende
Weise bestimmt werden:
cos(Φ 23p +2β)≡η p (n₂)
cos (Φ 23s +2β)≡η s (n₂)
wobei Φ 23p , Φ 23s eine Phasenänderungsgröße von P- und S-
polarisiertem Licht sind, das an der Grenzfläche zwischen
der Dünnschicht und dem Substrat reflektiert worden ist
und 2β ein Phasenänderungswert von Licht während der Aus
breitung von einer oberen Fläche der Dünnschicht zu deren
unteren Fläche und zurück zu der oberen Fläche ist.
Andererseits werden tanΦ 23p und tanΦ 23s entsprechend dem
Brechungsindex der Dünnschicht als Funktion nur einer Ver
änderlichen (des Brechungsindex n₂) der Dünnschicht auf der
Basis der folgenden Gleichungen bestimmt:
Mit einem Brechungsindex n₁ eines umgebenen Mediums (im all
gemeinen Luft, in welchem n₁=1 ist) und mit einem Licht
einfallswinkel R₁ an der Dünnschicht, in welcher n₂, welche
der folgenden Gleichung genügt, als das wahre Wert des Bre
chungsindex der Dünnschicht festgestellt wird.
cos-1{η p (n₂)}-tan-1{ξ p (n₂)}=cos-1{η s (n₂)}-tan-1{ξ -s (n₂)}
Um das zweite Ziel zu erreichen, ist gemäß der Erfindung
ein Verfahren zum Messen des Brechungsindex einer obersten
Dünnschicht einer mehrlagigen Dünnschicht vorgesehen, die
auf einem Substrat mit einem bekannten Brechungsindex aus
gebildet ist, wobei der Brechungsindex und die Dicke der
Schichten außer der obersten Schicht bekannt sind; bei
diesem Verfahren wird dann mit P- und S-polarisiertem,
monochromatischem Licht unter einem vorherbestimmten Ein
fallswinkel die oberste Dünnschicht bestrahlt und Energie-
Reflexionsverhältnisse Rs und Rp für das P- und S-polari
sierte, monochromatische Licht festgestellt, hierauf werden
dann gemäß einer vorgeschriebenen Berechnungsfolge der Pha
senänderungswert jedes monochromatischen Lichts während der
Ausbreitung zwischen der oberen Fläche und der unteren Flä
che der obersten Dünnschicht als Funktion des Brechungsindex
n₁ der obersten Dünnschicht bestimmt, was als P(n₁), S(n₁)
zu berechnen ist, und dann wird der Wert von n₁, welcher
P(n₁)=S(n₁) genügt, als der wahre Wert des Brechungsindex
der obersten Dünnschicht ermittelt.
Ferner ist gemäß der Erfindung ein Verfahren zum Messen des
Brechungsindex einer obersten Dünnschicht einer Anzahl von
Dünnschichten auf einem Substrat mit einem bekannten Bre
chungsindex geschaffen, wobei die Brechungsindizies der
Dünnschichten außer der obersten Schicht und deren Dicke
bekannt sind, wobei das Verfahren einen Schritt zum Fest
stellen eines Energiereflexionsverhältnisses, einen Schritt
zum Spezifizieren von Funktionen zur Berechnung und einen
Brechungsschritt aufweisen.
Bei dem Feststellschritt werden die Dünnschichten auf dem
Substrat mit P- und S-polarisiertem, monochromatischem Licht
bestrahlt, und es werden Energie-Reflexionsverhältnisse Rp
und Rs für das P- und das S-polarisierte, monochromatische
Licht festgestellt. Der Schritt, bei welchem die Berechnungs
funktion spezifiziert wird, weist einen ersten Unterschritt
auf, bei welchem η p(n₁) und η s(n₁) der folgenden Gleichun
gen
cos(2β₁+δ p)=n p(n₁)
cos(2β₁+δ s)=n s(n₁)
als eine Funktion bezüglich einer einzigen Veränderlichen
n₁ gemäß dem Einfallswinkel, dem Brechungsindex des Substrats,
dem Brechungsindex und der Dicke der Dünnschichten außer der
obersten Schicht und entsprechend der Energie-Reflexionsver
hältnisse Rp und Rs spezifiziert werden, wobei 2β₁ eine
Lichtphasenänderung während der Ausbreitung von der oberen
Fläche der obersten Schicht zu deren rückwärtigen Fläche und
zurück zu der oberen Fläche ist, und wobei δ p und δ s eine
Phasenänderung des Amplituden-Reflexionsverhältnisses je
weils für P und S-polarisiertes Licht unter der Voraussetzung
sind, daß die oberst Dünnschicht durch ein Umgebungsmedium
mit demselben Reflexionsindex wie die oberste Dünnschicht
ersetzt wird. Der Schritt, bei welchem die Berechnungsfunk
tion spezifiziert wird, weist noch einen zweiten Unterschritt
auf, bei welchem ξ p(n₁) und ξ s(n₁) der folgenden Gleichun
gen
tanδ p=ξ p(n₁)
tanδ s=ξ s(n₁)
als eine Funktion bezüglich einer einzigen Veränderlichen
n₁ gemäß dem Einfallswinkel, dem Brechungsindex des
Substrats sowie Brechungsindex und Dicke der Dünnschichten
außer der obersten Schicht spezifiziert werden.
Bei dem Berechnungsschritt wird der Brechungsindex der
obersten Dünnschicht als n₁ durch eine Berechnung mit
Hilfe von n₁ als einem veränderlichen Parameter festge
legt, wobei n₁ der folgenden Gleichung genügt.
cos-1{η p (n₁)}-cos-1{η s (n₁)}=tan-1{ξ p (n₁)}-tan-1{ξ -s (n₁)}
oder
cos-1{h p (n₁)}-tan-1{ξ p (n₁)}=cos-1{η s (n₁)}-tan-1{ξ -s (n₁)}
Die Funktionen η p(n₁), η s(n₁), ξ p(n₁) und ξ s(n₁) werden
auf der Basis von verschiedenen optischen Prinzipien, ins
besondere nach den Fresnel′schen Gleichungen bestimmt. Der
Schritt, die vorstehende Funktion zu spezifizieren und der
Berechnungsschritt werden mittels eines Rechners durchge
führt.
Nachfolgend wird die Erfindung anhand von bevorzugten Aus
führungsformen unter Bezugnahme auf die anliegenden Zeich
nungen im einzelnen erläutert. Es zeigt
Fig. 1 eine Darstellung zum Erläutern des Grundgedankens
einer ersten Ausführungsform der Erfindung;
Fig. 2 eine weitere Darstellung zum Erläutern des Grund
gedankens der ersten Ausführungsform der Erfindung;
Fig. 3 eine Darstellung einer Einrichtung zur Durchfüh
rung des Verfahrens gemäß der Erfindung;
Fig. 4 eine grafische Darstellung eines Ergebnisses des
Meßverfahrens gemäß einer ersten Ausführungsform
der Erfindung;
Fig. 5 eine weitere grafische Darstellung eines Ergeb
nis des Meßergebnisses gemäß der ersten Ausfüh
rungsform der Erfindung;
Fig. 6 noch eine weitere grafische Darstellung eines
Ergebnisses des Meßverfahrens gemäß der ersten
Ausführungsform der Erfindung;
Fig. 7 eine grafische Darstellung eines Ergebnisses des
Meßverfahrens gemäß einer zweiten Ausführungsform
der Erfindung;
Fig. 8a und 8b Darstellungen, anhand welcher der Grundge
danke einer dritten Ausführungsform der Erfin
dung erläutert wird;
Fig. 9 eine Darstellung einer Einrichtung zur Durch
führung des Verfahrens gemäß der dritten Aus
führungsform der Erfindung;
Fig. 10 eine Ausführungsform eines weiteren Beispiels der
Einrichtung zur Durchführung des Verfahrens gemäß
einer dritten Ausführungsform der Erfindung;
Fig. 11 eine grafische Darstellung eines Ergebnisses des
mittels der Einrichtung nach Fig. 9 durchgeführten
Meßverfahrens;
Fig. 12a bis 12c grafische Darstellungen eines Ergebnisses
des mit der Einrichtung nach Fig. 10 durchgeführ
ten Meßverfahrens;
Fig. 13a und 13b Darstellungen zum Erläutern des Grundge
dankens einer vierten Ausführungsform der Erfin
dung, und
Fig. 14 eine grafische Darstellung eines Ergebnisses
des Meßverfahrens gemäß der vierten Ausfüh
rungsform der Erfindung.
Nunmehr wird zuerst der Grundgedanke der ersten Ausführungs
form der Erfindung anhand von Fig. 1 beschrieben, in welcher
mit dem Bezugszeichen 13 ein Substrat und mit dem Bezugszei
chen 12 eine Dünnschicht bezeichnet sind. Ferner sind mit
dem Bezugszeichen S₁₂ eine Grenzschicht zwischen der Dünn
schicht 12 und einem umgebenden Medium (in dieser speziellen
Ausführungsform Luft) und mit S₂₃ eine Grenzschicht zwischen
der Dünnschicht 12 und dem Substrat bezeichnet. Der bekann
te Brechungsindex ₃ des Substrats 13 ist als ₃=n₃
(1+ik₃) vorgesehen. Der unbekannte Brechungsindex der
Dünnschicht 12 ist mit n₂ bezeichnet. Der Brechungsindex
n₁ des umgebenden Mediums ist mit n₁=1 angesetzt, wenn das
umgebende Medium Luft ist.
Wie in Fig. 1 dargestellt, wird monochromatisches Licht von
einer Lichtquelle 20 in Richtung der Dünnschicht 12 abgege
ben. Das Licht wird mehrfach in der Dünnschicht 12 reflek
tiert und tritt aus der Dünnschicht aus. Das Gesamt-Ampli
tuden-Reflexionsverhältnis des reflektierten Lichts kann
entsprechend den Snell′schen Reflexionsgesetzen und den
Fresnel′schen Gleichungen folgendermaßen ausgedrückt werden:
wobei die Indizies 12 und 23 die Grenzfläche S₁₂ oder S₂₃
angeben, an welcher das Licht reflektiert wird, und Indi
zies p und s anzeigen, daß das einfallende Licht P- oder
S-polarisierte Licht ist. Mit r₁₂ und ρ₂₃ sind in der
Gl. (1) das Amplituden-Reflexionsverhältnis bezeichnet.
Die Amplituden-Reflexions-Verhältnisse sind entsprechend
den Fresnel′schen Gleichungen wie folgt dargestellt:
wobei der Einfallswinkel der reflektierte Winkel mit R₁
bzw. R₂ bezeichnet sind, wie in Fig. 1 dargestellt ist,
und der komplexe Reflexionswinkel in dem Substrat mit R₃*
bezeichnet ist. Für eine bequeme Analyse der vorstehenden
Gleichungen ist eine angenommene Gleichung
₃cosR₃*=u₃+iv₃
berücksichtigt, wobei u₃ und v₃ eine reelle Zahl darstel
len. Dann können die folgenden Gleichungen aus den Snell′schen
Reflexionsgesetzten abgeleitet werden:
Daher können ρ₂₃p und ρ₂₃s der Gl. (2) folgendermaßen umge
schrieben werden:
Ebenso läßt sich eine Phasenänderung Φ₂₃p, Φ₂₃s des reflek
tierten Lichts an der Grenzfläche s₂₃ folgendermaßen
darstellen:
Ebenso ist die Phasenänderung 2β des Lichtes während seiner
Ausbreitung zwischen den Grenzflächen S₁₂ und S₂₃ folgender
maßen dargestellt:
2β=4π n₂d₂(cosR₂)/λ (4)
wobei λ die Wellenlänge des Lichts darstellt.
Das Energie-Reflexionsverhältnis Rp, s wird aus der Gl. (1),
wie folgt, berechnet:
Die Gl. (5) kann jeweils bezüglich P- und S-polarisiertem
Licht, wie folgt, aufgelöst werden:
In den vorstehenden Gl.′en (6) und (7) kann, da der Re
flexionsindex ₃ bekannt ist, wenn das Energie-Reflexions
verhältnis bestimmt wird, die folgende Gleichung bei einer
Annahme für die unbekannte Zahl n₂ erhalten werden:
cos-1{cos(Φ 23p +2β)}-cos-1{cos(Φ 23s +2β)}=Φ 23p -Φ 23s (8)
-
-
Der Wert von Φ 23p -Φ 23s wird dadurch erhalten, daß Energie-
Reflexionsverhältnisse Rp, Rs bei einem bestimmten Einfalls
winkel R₁ (Reflexionswinkel R₂) gemessen werden und Werte
des Brechungsindex ₃ des Substrates und die gemessenen
Werte Rp und Rs für die Faktoren in den Gl.′en (6) und (7)
entsprechend dem angenommenen Brechungsindex n₂ der Dünn
schicht substituiert werden. Die berechneten Werte werden
als (Φ 23p -Φ 23s )m dargestellt.
In Fig. 2 ist mit dem Bezugszeichen 23 ein Substramt mit
demselben Brechungsindex ₃=n₃(1+ik₃) wie das Sub
strat 13 der Fig. 1 bezeichnet. Die Phasenänderung Φ 23p .
Φ 23s an der Substratfläche T₂₃ sind in den folgenden
Gleichungen dargestellt, wobei das Substrat jeweils mit
P- und S-polarisiertem Licht unter dem Brechungsindex R₂
von einem Umgebungsmedium aus, welchen denselben Brechungs
index n₂ wie die Dünnschicht 12 der Fig. 1 hat, dargestellt
sind.
Da in den vorstehenden Gleichungen ₃ bekannt ist, wird
die folgende Gleichung erhalten, indem der unbekannte Bre
chungsindex ₃ in den Gl.′en (9) und (10) angenommen wird.
tan-1(tan Φ 23p )-tan-1( Φ 23s )=Φ 23p -Φ 23s (11)
Der Wert von Φ 23p -Φ 23s wird aus der Gl. (11) erhalten, in
dem der Einfallswinkel R₂ und der Brechungsindex ₃ für die
Faktoren in den Gl.′en (9) und (10) substituiert werden, und
indem der Wert des Brechungsindex n₂ angenommen wird. Die be
rechneten Werte werden als (Φ 23p -Φ 23s )c dargestellt.
Dann werden der Wert (Φ 23p -Φ 23s )m und der Wert (Φ 23p -
Φ 23s )c verglichen. Wenn der angenommene Wert des Brechungs
index n₂ richtig ist, müssen die beiden Werte von (Φ 23p -
Φ 23s )m und (Φ 23p -Φ 23s )c gleich sind.
Folglich kann der Brechungsindex der Dünnschicht als der
Wert von n₂ festgelegt werden, bei welchem die beiden Werte
von (Φ 23p -Φ 23s )m und Φ 23p -Φ 23s )c unter den verschie
denen angenommenen Werten von n₂ gleich sind.
Eine vorteilhafte Ausführungsform einer Einrichtung zur
Durchführung des Verfahrens zum Messen des Brechungsindex
gemäß der Erfindung wird anhand von Fig. 3 beschrieben. In
Fig. 3 sind ein Substrat 13 mit einem bekannten Brechungs
index, eine zu messende Dünnschicht 12, welche auf dem Sub
strat 13 ausgebildet ist, Lichtquellen 31, 32, Blenden (Pol
filter) 33 a, 33 b, die jeweils in dem Strahlengang jeder
der Lichtquellen angeordnet sind, ein Strahlenteiler 34 für
polarisiertes Licht und ein Photodetektor 35 dargestellt.
Jede der Lichtquellen 31 und 32 ist ein He-Ne-Lasergenera
tor, welcher einen stabilisierten Laserstrahl der Wellen
länge 6328 Å ab gibt. Die Lichtquelle 31 gibt S-polarisier
tes Laserlicht und die Lichtquelle 32 gibt P-polarisiertes
Laserlicht ab. Die Blende (das Polfilter) 33 a ist vor der
Lichtquelle 31 und die Blende (das Polfilter) 33 b ist vor
der Lichtquelle 32 so angeordnet, daß die Polarisation des
einfallenden Lichts in dem Verfahren zum Messen des Ener
gie-Reflexionsverhältnisses geändert werden kann.
Auch das Laserlicht von jeder Lichtquelle zu der Dünnschicht
12 ist durch den Strahlleiter 34, der eine hohe Extinktions
wirkung hat, vollständig monochromisiert. Der Einfallswin
kel an der Dünnschicht 12 ist üblicherweise 45°; er ist je
doch nicht auf diesen Winkel beschränkt.
In dem in Fig. 3 dargestellten Meßsystem kann das Energie-
Reflexionsverhältnis für jeden polarisierten Laser mittels
des Photodetektors 35 festgestellt werden, welcher die Licht
intensität bzw. Beleuchtungsstärke des reflektierten Lichts
feststellt, wobei das Licht durch die Blenden 33 a und 33 b ge
ändert wird. Ein in Fig. 3 dargestelltes Datenverarbeitungs
system weist einen bekannten A/D-Umsetzer, eine Interface
Schaltung, einen Mikrocomputer, einen Speicher u. ä. auf,
welche ein automatisches Meßsystem darstellen. Die Speicher
speichert Datenverarbeitungsprogramme und Basisdaten.
Das Ergebnis bei der Messung des Brechungsindex mit Hilfe
einiger Proben wird nachstehend beschrieben, wobei folgen
de Proben verwendet sind:
Probe 1:
ein Ag-Substrat mit einem großem Absorptions koeffizienten und eine aufgedampfte SiO₂-Dünn schicht;
ein Ag-Substrat mit einem großem Absorptions koeffizienten und eine aufgedampfte SiO₂-Dünn schicht;
Probe 2:
ein Si-Substrat mit einem niedrigem Absorp tionskoeffizienten und einer aufgedampften SiO₂-Dünnschicht;
ein Si-Substrat mit einem niedrigem Absorp tionskoeffizienten und einer aufgedampften SiO₂-Dünnschicht;
Probe 3:
ein dielektrisches Pyrexglas-Substrat mit einer aufgedampften Dünnschicht aus Courning-Glas # 7059.
ein dielektrisches Pyrexglas-Substrat mit einer aufgedampften Dünnschicht aus Courning-Glas # 7059.
Das Energie-Reflexionsverhältnis wird mit der Einrichtung
nach Fig. 3 festgestellt und auf der Basis bestimmt, daß der
Reflexionsindex ₃ des Ag-Substrats 0,065 (1+i · 61,53)
ist, wenn Licht mit einer Wellenlänge von 63,28 Å auftritt.
Das Meßergebnis war dann folgendes:
R s=0,989426
R p=0,979586
Dann werden (Φ 23p -Φ 23s )m und (Φ 23p -Φ 23s )c entsprechend
der oben angeführten Berechnungsfolge mit Hilfe des Bre
chungsindex ₃ des Ag-Substrats und der Energie-Reflexions
verhältnisse R s und R p berechnet, wobei der Wert des Bre
chungsindex n₂ der Dünnschicht angenommen wird. Das Ergebnis
der Berechnung ist grafisch in Fig. 4 dargestellt. Der tat
sächliche Wert des Brechungsindex der Dünnschicht wird als
1,460 festgestellt, welches der Wert des Schnittpunkts der
Linie von (Φ 23p -Φ 23s )m und der Linie (Φ 23p -Φ 23s )c ist,
wobei (Φ 23p -Φ 23s )m und (Φ 23p -Φ 23s )c gleich sind.
Das Energie-Reflexionsverhältnis wird mittels der Einrich
tung der Fig. 3 festgestellt und auf der Basis bestimmt
daß der Reflexionsindex ₃ des Si-Substrats 3.858 (1+1 ·
0,00468) ist, wobei Licht mit einer Wellenlänge von 63,28
Å auftritt. Das Meßergebnis war dann folgendes:
Rs=0,154861
Rp=0,128237
Dann werden (Φ 23p -Φ 23s )m und (Φ 23p -Φ 23s ) entsprechend
der vorstehend angeführten Gleichungsfolge mit dem Bre
chungsindex ₃ des Si-Substrats und der Energie-Reflexions
verhältnisse Rs und Rp berechnet, wobei der Wert des Bre
chungsindex n₂ der Dünnschicht angenommen wird. Das Ergeb
nis der Berechnung ist grafisch in Fig. 5 dargestellt. Der
wahre, tatsächliche Wert des Brechungsindex der Dünnschicht
wird als 1,460 festgestellt, welches ein Wert am Schnitt
punkt der Linie von (Φ 23p -Φ 23s )m und der Linie von
(Φ 23p -Φ 23s )c ist, wobei (Φ 23p -Φ 23s )m und (Φ 23p -Φ 23s )c
einander gleich sind.
Das Energie-Reflexionsverhältnis wird mittels der Einrich
tung nach Fig. 3 festgestellt und auf der Basis bestimmt,
daß der Brechungsindex ₃ des Pryrex-Glassubstrats 1,472
ist, wobei Licht mit einer Wellenlänge von 63,28 Å auf
tritt. Das Meßergebnis war dann folgendes:
Rs= 0,098464
RP=0,009822
Dann werden (Φ 23p -Φ 23s )m und (R 23p -R 23s )s entsprechend
der vorstehend angeführten Gleichungsfolge mit Hilfe des
Brechungsindex ₃ des Pyrex-Glas-Substrats und der Energie-
Reflexionszahlen R s und R p berechnet, wobei der Wert des
Brechungsindex n₂ angenommen wird. Das Ergebnis der Berech
nung ist grafisch in Fig. 6 dargestellt. Der wahre, tat
sächliche Wert des Brechungsindex der Dünnschicht wird als
1,544 festgestellt, welches ein Wert am Schnittpunkt der
Linie von (Φ 23p -Φ 23s )m und der Linie von (Φ 23p -Φ 23s )c
ist,
wobei (Φ 23p -Φ 23s )m und (Φ 23p -Φ 23s )c einander gleich
sind.
Wie aus dem vorstehend wiedergegebenen Versuchsergebnis,
insbesondere aus dem Ergebnis bei den Proben 1 und 2
zu ersehen ist, können mit Hilfe des erfindungsgemäßen
Verfahrens zum Messen des Brechungsindex einer Dünn
schicht dieselben Meßergebnisse erhalten werden, obwohl
die zu messende Dünnschicht auf einem Substrat mit einem
anderen Absorptionskoeffizienten aufgebracht ist. Somit ist
es möglich, den Brechungsindex einer Dünnschicht zu messen,
welche auf einem Substrat aus hoch absorbierendem Material
gemäß der Erfindung aufgebracht ist.
Obwohl die vorstehend angeführten Beispiele der Meßergeb
nisse durch die Kurven in Fig. 4 bis 6 dargestellt, kann
die Messung auch mit Hilfe eines Datenverarbeitungssystems,
das entsprechend der Einrichtung nach Fig. 3 zusammenge
stellt ist, in Zusammenarbeit mit einem an sich bekannten
Mikrocomputer durchgeführt werden. Das heißt, die vorste
hend beschriebene Brechungsfolge ist vorher in dem Spei
cher des Mikrocomputers gespeichert, und der Brechungsindex
des Substrats wird zu Beginn der Messung in Form von anfangs
eingegebenen Daten eingegeben, so daß der Mikrocomputer
(Φ 23p -Φ 23s ) und (Φ 23p -Φ 23s )c für verschiedene angenom
mene Werte des Brechungsindex der Dünnschicht entsprechend
der vorherbestimmten Folge berechnet, dann die berechneten
Werte vergleicht und einen Wert als den wahren und tatsäch
lichen Brechungsindex festlegt, wenn (Φ 23p -Φ 23s )m und
(Φ 23p -Φ 23s )c gleich sind; dieser Wert wird dann angezeigt
oder aufgezeichnet, wodurch dann ein automatisches Meßver
fahren durchgeführt ist.
Wie oben erwähnt, wird gemäß der Erfindung der Brechungs
index einer Dünnschicht mühelos und schnell in einfacher
Weise durch Feststellen von Energie-Reflexionsverhältnissen
Rs und Rp gemessen. Folglich kann eine Einrichtung mit einem
einfachen Aufbau zum Messen des Brechungsindex verwendet wer
den. Auch ist es möglich, die Genauigkeit und die Zuverläs
sigkeit bei einer Messung des Brechungsindex zu verbessern,
da das Meßergebnis nicht durch die Absorption des Substrats
beeinflußt wird. Ferner ist es auch ohne weiteres möglich,
ein automatisches System zu Messen des Brechungsindex einer
Dünnschicht vorzusehen.
Der Grundgedanke einer zweiten Ausführungsform des erfin
dungsgemäßen Verfahrens wird nachstehend ebenfalls wieder
unter Bezugnahme auf Fig. 1 beschrieben, welche auch zur
Erläuterung der ersten Ausführungsform verwendet worden
ist. Der einleitende Teil bei der Erläuterung der ersten
Ausführungsform ist auch bei der zweiten Ausführungsform
anwendbar. Merkmale der zweiten Ausführungsform, welche mit
der ersten Ausführungsform vergleichen werden, werden nach
stehend erläutert.
In der zweiten Ausführungsform entsprechend die folgenden
Gleichungen den Gl.′en (3) der ersten Ausführungsform:
Ebenso werden die Gl.′en (6) und (7) durch die folgenden Glei
chungen ersetzt:
cos (Φ 23p +2β)≡η p (15)
cos (Φ 23s +2β)≡η s (16)
Die Größe 2β, auf welche bei der Erläuterung von Gl. (4)
der ersten Ausführungsform Bezug genommen wird, kann aus
den Gl.′en (13), (15) und (5) der ersten Ausführungsform
abgeleitet werden und kann folgendermaßen dargestellt
werden:
2β=cos-1 η p -tan-1 ξ p ≡P (λ,n₁,R₁, n₃,k₃,n₂,R p ) (19)
die Größe 2β kann auch aus Gl.′en (14), (16) und der Gl.
(4) der ersten Ausführungsform abgleitet und folgendermaßen
dargestellt werden:
2β=cos-1 η s -tan-1 ξ s ≡S (λ,n₁,R₁,n₃,k₃,n₂,R s ) (20)
-
-
Aus den vorstehenden Gl.′en (19) und (20) ist die folgende
Gleichung abgeleitet:
P (λ,n₁,R₁,n₃,k₃,n₂,R p )=S (λ,n₁,R₁,n₃,k₃,n₂,R s ) (21)
Wie in Fig. 1 dargestellt, wird die Dünnschicht 12 unter
einem Einfallswinkel R₁ mit monochromatischem Licht der
Wellenlänge λ bestrahlt, und das Energie-Reflexionsver
hältnis Rp für das P-polarisierte Licht und das Energie-
Reflexionsverhältnis Rs für das S-polarisierte Licht werden
festgestellt. Jeweils die Werte von λ, n₁, R₁, n₃ und k₃
sind bekannt und können als eine Konstante angesehen werden.
Somit können die Werte für die Faktoren in der Gl (21)
sowie die gemessenen Energie-Reflexionsverhältnisse Rp
und Rs eingesetzt werden, und der einzige unbekannte Faktor
n₂, welches der Brechungsindex der Dünnschicht ist, kann aus
der Gl. (21) erhalten werden.
Das Meßverfahren gemäß der zweiten Ausführungsform kann mit
Hilfe der Einrichtung in Fig. 3 durchgeführt werden. Ein Er
gebnis des Meßverfahrens gemäß der zweiten Ausführungsform
ist mit Hilfe einer Probe das folgende: Die Probe weist ein
Silizium-(Si) Substrat mit einer Dünnschicht aus SiO₂ auf,
welche durch eine Oxidation mit Wärme ausgebildet worden
ist. Die Probe wird dann mit monochromatischem Licht einer
Wellenlänge λ von 6328 Å unter einem Einfallswinkel von
60° bestrahlt, und es werden dann das Energie-Reflexionsver
hältnis Rp für das P-polarisierte Licht und das Energie-Re
flexionsverhältnis Rs für das S-polarisierte festgestellt:
Rp=0,13611
Rs=0,18849
Dann werden P(n₂) und S(n₂) durch Einsetzen des Wertes von
3,858 (1+0,004671) des Brechungsindex des Si-Substrats und
der gemessenen Werte von Rp und Rs für die Fraktion in den
Gl.′en (19) und (20) berechnet, indem der angenommene Bre
chungsindex n₂ der SiO₂-Dünnschicht von 1,4 bis 1,5 geän
dert wird. Das Berechnungsergebnis ist graphisch in Fig. 7
dargestellt. Wie aus der Kurve in Fig. 7 zu ersehen ist,
sind P(n₂) und S(n₂), nur dann gleich, wenn n₂=1,460 ist.
Daher wird der Brechungsindex der SiO₂-Dünnschicht als
1,460 festgelegt.
Wie oben ausgeführt, kann gemäß der Erfindung der Brechungs
index einer Dünnschicht, welche auf einem Substrat mit ei
nem bekannten Brechungsindex aufgebracht ist, durch Fest
stellen des Energie-Reflexionsverhältnisses Rp für das P-
polarisierte Licht und des Energie-Reflexionsverhältnisses
Rs für das S-polarisierte Licht festgestellt werden; somit
kann die Genauigkeit und Zuverlässigkeit der Messung mit
Hilfe einer einfach aufgebauten Einrichtung gesteigert wer
den.
Obwohl die vorstehend beschriebenen Beispiele des Meßergeb
nisses durch eine Kurve in Fig. 7 dargestellt sind, wobei
der Brechungsindex der Dünnschicht als der Wert an dem
Schnittpunkt von P(n₂) und S(n₂) festgelegt ist, kann die
Messung mit Hilfe eines Datenverarbeitungssystems, das
entsprechend der Einrichtung der Fig. 3 aufgebaut ist, in
Zusammenwirken mit einem an sich bekannten Mikrocomputer
automatisch durchgeführt werden. Das heißt, die vorstehend
beschriebene Berechnungsfolge, die Wellenlänge des Lichts,
der Einfallswinkel usw. werden vorher in dem Speicher des
Mikrocomputers gespeichert, und der Brechungsindex des Sub
strats wird zu Beginn der Messung als ein Anfangs eingege
bener Datenwert eingegeben, so daß der Mikrocomputer P(n₂)
und S(n₂) für verschiedene angenommene Werte des Brechungs
index dere Dünnschicht entsprechend der vorherbestimmten Fol
ge berechnet, dann die berechneten Werte vergleicht und ei
nen Wert als den wahren Brechungsindex bestimmt, wenn P(n₂)
und S(n₂) einander gleich sind; dieser Wert wird dann an
gezeigt oder aufgezeigt, wodurch dann ein automatischer Meß
prozeß durchgeführt ist.
Wie vorstehend erwähnt, wird auch gemäß der zweiten Aus
führungsform der Erfindung ähnlich wie bei der ersten Aus
führungsform der Brechungsindex einer Dünnschicht, welche
auf einem Substrat mit einem bekannten Brechungsindex auf
gebracht ist, bequem und genau in einfacher Weise durch
Feststellen der Energie-Reflexionsverhältnisse Rs und Rp
gemessen. Folglich kann eine Einrichtung mit einem einfa
chen Aufbau zum Messen des Brechungsindex einer auf einem
Substrat ausgebildeten Dünnschicht verwendet werden. Ebenso
kann auch ohne weiteres ein automatisches System zum Messen
des Brechungsindex einer Dünnschicht vorgesehen werden.
Eine dritte Ausführungsform der Erfindung wird nunmehr an
hand von Fig. 8a und 8b beschrieben, in welchen mit den Be
zugszeichen 13 ein Substrat und mit Bezugszeichen 11 und 12
eine Dünnschicht bezeichnet sind. In Fig. 8a ist der Bre
chungsindex eines umgebenden Mediums mit n₀ vorgegeben, die
Brechungsindizies der Dünnschichten sind mit n₁ bzw. mit
n₂ bezeichnet. Ebenso ist der Brechungsindex des Substrates
13 mit ₃ (1+ik₃) in komplexer Schreibweise vorgegeben.
Die Dicke der Dünnschichten ist mit d₁ bzw. d₂ bezeichnet.
Mit dem Bezugszeichen S₀₁ ist eine Grenzfläche zwischen dem
umgebenden Medium und der Dünnschicht 11 und mit Bezugs
zeichen S₁₂ ist eine Grenzfläche zwischen den Dünnschichten
11 und 12 bezeichnet. Ferner ist mit dem Bezugszeichen S₂₃
eine Grenzfläche zwischen der Dünnschicht 12 und dem Sub
strat 13 bezeichnet.
Die Dünnschicht 11 ist durch das sie umgebende Medium mit
monochromatischem Licht von einer monochromatischen Licht
fläche LS unter einem Einfallswinkel R₀ bestrahlt. Die Bre
chungswinkel des Lichts in den Dünnschichten 11 und 12
und in dem Substrat 13 sind mit R₁, R₂ bzw. R₃* bezeich
net, wie in Fig. 8a dargestellt ist. Der Wert R₃* ist in
komplexer Schreibweise übergeben.
In Fig. 8b ist dieselbe Dünnschicht 12 wie in Fig. 8a auf
demselben Substrat 13 wie in Fig. 8a aufgebracht. Die Dünn
schicht 12 wird über das umgebende Medium, welches einen
Brechungsindex von n₁ hat, unter einem Einfallswinkel R₁
mit monochromatischem Licht von der Lichtquelle LS bestrahlt.
In Fig. 8b sind die gleichen Teile oder Einrichtungen mit
denselben Bezugszeichen wie in Fig. 8a bezeichnet.
In Fig. 8b ist das Amplituden-Reflexionsverhältnis r′ s,p
bezüglich des monochromatischen einfallenden Lichts folgen
dermaßen dargestellt:
r′ s,p={r 12s,p +r 23s,p · exp(2i β)}/{1+r 12s,p · exp(2i β)} (31)
-
-
wobei die Indizies S und P das einfallende S- bzw. P-
polarisierte Licht darstellen, und Faktoren r 12s , r 23s ,
r 12p und r 23p den Fresnel′schen Brechungskoeffizienten an
den Grenzflächen S₁₂ bzw. S₂₃ darstellen und durch die fol
genden Gleichungen definiert sind:
r 12p ={tan(R₁-R₂)}/{tan(R₁+R₂)}
r 12s ={-sin(R₁-R₂)}/{sin(R₁+R₂)}
r 23p ={tan(R₂-R₃*)}/{tan(R₂+R₃*)}
r 23s ={-sin(R₂-R₃*)}/{sin(R₂+R₃*)}
Diese Faktoren werden mit Hilfe der Brechungsindizies n₁,
n₂ und ₃ folgendermaßen umgeschrieben:
r 12p =(n₂cosR₂-n₁cosR₂)/(n₂cosR₁+n₁cosR₂)
r 12s =(n₁cosR₁-n₂cosR₂)/(n₁cosR₁+n₂cosR₂)
r 23p =(₃cosR₂-n₂cosR₃*)/(₃cosR₂+n₂cosR₃*)
r 23s =(n₂cosR₂- ₁cosR₃*)/(n₂cosR₂+ ₁cosR₃*) (32)
Mit der Größe 2b₂ ist eine Phasenänderung des monochroma
tischen Lichts während seiner Ausbreitung von der Grenz
fläche S₁₂ zu der anderen Grenzfläche S₂₃ bezeichnet; dieser
Wert kann mit Hilfe der Wellenlänge λ des monochromatischen
Lichts durch folgende Gleichung dargestellt werden:
2β₂=4π n₂d₂(cosR₂)/g (33)
Andererseits kann bezüglich des Amplituden-Reflexionsverhält
nisses r s,p für das monochromatische einfallende Licht, da
das Amplituden-Reflexionsverhältnis gleich r′ s,p der Gl.
(31) ist, das Amplituden-Reflexionsverhältnis r s,p durch die
vorstehende Gleichung dargestellt werden:
r s,p={r 01s,p +r′ s,p · exp(2i β₁)}/{1+r 01s,p · r′ s,p · exp(2i β-₁)} (34)
wobei r 01s,p der Fresnel′sche Brechungsindex an der Grenz
fläche S₀₁ ist und die folgenden Gleichungen festge
legt ist:
r 01p ={tan(R₀-R₁)}/{tan(R₀+R₁)}
r 01s ={-sin(R₀-R₁)}/{sin(R₀+R₁)}
welche mit Hilfe der Brechungsindizies r 01s,p in die fol genden Gleichungen umgeschrieben werden können:
welche mit Hilfe der Brechungsindizies r 01s,p in die fol genden Gleichungen umgeschrieben werden können:
r 01p =(n₁cosR₀-n₀cosR₁)/(n₁cosR₀+n₀cosR₁)
r 01s =(n₀cosR₀-n₁cosR₁)/(n₀cosR₀+n₁cosR₁) (35)
Auch hier stellt der Wert 2β₁ einen Phasenänderung des
monochromatischen Lichts während dessen Ausbreitung von der
Grenzfläche S₀₁ zu der anderen Grenzfläche S₁₂ dar und kann
mit Hilfe der Wellenlänge λ des monochromatischen Lichts ent
sprechend der Gl. (33) in die folgende Gleichung umgeschrie
ben werden:
2β₁=4π n₁d₁(cosR₁)/λ (36)
Die vorstehende Erläuterung betrifft eine Anordnung, bei
welcher zwei Dünnschichten 11 und 12 auf dem Substrat 13
aufgebracht sind. Jedoch kann die Erfindung auch bei einer
Anordnung angewendet werden, bei welcher drei oder mehr
Dünnschichten auf dem Substrat aufgebracht sind, indem die
vorstehend beschriebenen Schritt wiederholt werden. Folg
lich wird, wenn eine Anzahl Dünnschichten auf einem Sub
strat in Form einer mehrlagigen Dünnschicht aufgebracht
ist, das Amplituden-Reflexionsverhältnis r s,p des monosta
chromatischen Lichts, mit welchem die mehrlagige Dünn
schicht über das umgebende Medium mit einem Brechungsindex
von n₀ bestrahlt worden ist, als das Amplituden-Refle
xionsverhältnis r′ s,p des monochromatischen Lichts bestimmt
werden, mit welchem die mehrlagige Dünnschicht bestrahlt
wird, indem angenommen wird, daß die oberste Schicht über
das umgebende Medium mit einem Brechungsindex von n₁ ent
fernt ist, und aus Gl. (34) abgeleitet ist, wobei r 01s,p
das Amplitudenreflexionsverhältnis an der Grenzfläche zwi
schen dem umgebenden Medium und der obersten dünnen Schicht
(mit einem Brechungsindex n₁ und einer Schichtdicke d₁) ist.
Ferner wird das Energie-Reflexionsverhältnis R s,p in diesem
Fall durch die folgende Gleichung dargestellt.
R s,p=|r s,p|²
=(r²01s,p +r′² s,p =2r 01s,p · r′ s,pcos2β₁)/(1+r²01s,p · r′² s,p-+2r 01s,p · r′ s,p cos2b₁) (37)
Die Gl. (37) kann bezüglich cos2β₁ jeweils für S und p-pola
risiertes Licht gelöst werden; das Rechenergebnis ist dann
folgendes:
cos2β₁=(r 01s ²+r′ s²-R s(1+r 01s ² · r′ s²))/2r 01s · r′ s(Rs--1) (38)
cos2β₁=(r 01p ²+r′ p²-R p(1+r 01p ² · r′ p²))/2r 01p · r′ p(Rp--1) (39)
Nunmehr wird eine mehrlagige Dünnschicht mit einer Lagen
anzahl m, welche größer als ein ist, einer näheren Betrach
tung unterzogen. Der Brechungsindex des Substrats ist
s. Die Brechungsindizies der Dünnschichten sind n₁, n₂,
. . . n m und zwar in der Reihenfolge von der obersten Schicht
aus. Ebenso sind die Dicken der Dünnschichten mit d₁, d₂,
. . . d m bezeichnet, und zwar in dieser Reihenfolge von der
obersten Schicht Lage an gerechnet. Der Brechungsindex und
die Dicke der obersten Schicht sind n₁ bzw. d₁.
Wenn die Brechungsindizies außer demjenigen für die oberste
Dünnschicht und die Schichtdicken außer derjenigen der
obersten Dünnschicht bekannt sind, wird diese mehrlagige
Dünnschicht, welche in einem umgebenden Medium mit einem
Brechungsindex n₁ angeordnet ist, mit monochromatischem
Licht einer Wellenlänge λ bestrahlt, und es wird das Ener
gie-Reflexionsverhältnis jeweils für S- und P-polarisiertes
Licht festgestellt. Der gemessene Wert des Energie-Refle
xionsverhältnisses Rs und die bekannten Werte R₀, λ, s,
n₂ bis n m und d₂ bis d m werden für die entsprechenden Fak
toren in Gl. (38) eingesetzt, um die Rechenseite dieser
Gleichung zu berechnen um so das berechnete Ergebnis durch
S(n₁) darzustellen, welches eine Funktion des einzigen und
bekannten Faktors n₁ ist. Der gemessene Wert des Energie-
Reflexionsverhältnisses und die bekannten Werte von R₀, λ
s, n₂ bis n m und d₂ bis d m werden für die entsprechenden
Faktoren in Gl. (39) eingesetzt, so daß die rechte Seite
dieser Gleichung zu berechnen ist, indem das berechnete
Ergebnis durch P(n₁) dargestellt ist, welches ebenfalls
eine Funktion des einzigen unbekannten Faktors n₁ ist.
S(n₁) und P(n₂), welche aus den Gl.′en (38) und (39) ab
geleitet sind, sind durch die folgenden Gleichungen darge
stellt:
S(n₁)=(r 01s ²+r′ s²-R s(1+r 01s ² · r′ s²))/2r 01s · r′ s(Rs--1) (40)
P(n₁)=(r 01p ²+r′ p²-R p(1+r 01p ² · r′ p²))/2r 01p · r′ p(Rp--1) (41)
Durch Zusammenfassen der vorstehenden Berechnungen wird
eine Phasenänderung β₁ des monochromatischen Lichtes wäh
rend dessen Ausbreitung von der Grenzfläche S₀₁ zwischen
dem umgebenden Medium und der obersten Schicht zu der
Grenzfläche S₁₂ zwischen der obersten Schicht und der Schicht,
welche der obersten Schicht am nächsten liegt, durch die
Funktionen S(n₁) und P(n₁) bezüglich des unbekannten Faktors
n₁ spezifiziert. Die Funktionen S(n₁) und P(n₁) ändern sich
individuelle entsprechend, wenn sie die Veränderliche n₁
ändert. Wenn der Wert von n₁ mit dem tatsächlichen Brechungs
index der obersten dünnen Schicht übereinstimmt, ist der
Gleichung:
S(n₁)=P(n₁)
genügt.
Folglich kann der tatsächliche Brechungsindex der obersten
Dünnschicht als der Wert von n₁ bestimmt werden, welcher
der Gleichung S(n₁)=P(n₁) durch Berechnen der jeweiligen
Funktion S(n₁) und P(p₁) berechnet werden, indem der Wert
des Parameters n₁ geändert wird, dann die berechneten Werte
S(n n1) und P(n₁) verglichen werden. Eine solche Berechnung
kann auch mit Hilfe eines Rechners durchgeführt werden. Der
Rechner kann den Parameter n₁ nicht kontinuierlich ändern,
sondern ändert den Parameter schrittweise. Daher ist es
nicht möglich, die Gleichung S(n₁)=P(n₁) strent bzw. ge
nau zu lösen. Jedoch ist es möglich, den Wert des Brechungs
index n₁ mit der geforderten Genauigkeit durch sehr kleine
Änderungen des Parameters zu spezifizieren.
Versuchsergebnisse der Messung gemäß dieser Ausführungs
form der Erfindung werden nachstehend erläutert.
Eine erste Probe weist ein Silizium-(Si-)Substrat mit ei
nem Brechungsindex 3,858 (1+0,00467i) mit einer Si-₂
Schicht mit einem Brechungsindex von 1,46 und einer Dicke
von 600 Å, welche durch Oxidation unter Wärme aufgebracht
ist, und eine SiN-Schicht mit einer Dicke von 6000 Å auf,
welche auf der SiO₂-Schicht durch ein Plasma-CVD-Verfahren
aufgebracht ist. Der Brechungsindex der obersten SiN-Dünn
schicht ist Gegenstand der Messung.
Die Probe wird mit Hilfe einer in Fig. 9 dargestellten Ein
richtung gemessen. In Fig. 9 ist mit Bezugszeichen 131, 132
eine He-Ne-Laserquelle bezeichnet, welche einen stabili
sierten Laserstrahl mit der Wellenlänge 3828 Å abgibt. Ein
glan-Thomson-Prisma 135,136 ist vor jeder der Lichtquellen
131 und 132 angeordnet, um so aus den Lichtquellen ein S-
und P-polarisiertes Licht zu erhalten. Das S- und das P-
polarisierte Licht kann durch Ändern von Blenden (Filtern)
133 a und 133 b ausgewählt werden, um so selektiv die zu mes
sende Probe 0 durch einen Polarisations-Strahlteiler 134 mit
einem hohen Extinktionsverhältnis zu bestrahlten.
Der Einfallswinkel des Lichts an der Probe ist in Fig. 9
mit 60° angegeben. Jedoch ist der Einfallswinkel nicht auf
diesen Winkel beschränkt. Ein Photodetektor 137 ist zu
erst an einer Stelle (A) angeordnet, welche durch eine ge
strichelte Linie angegeben ist, ohne daß die Probe 0 in
einer Meßposition in dem Strahlengang zwischen der Licht
quelle und dem Detektor 137 angeordnet ist, um so direkt
die Intensität des polarisierten Lichts festzustellen,
welches direkt auf den Photodetektor auftrifft. Zuerst
wird das S-polarisierte Laserlicht durch Öffnen der Blende
133 a und durch Schließen der Blende 133 b unmittelbar fest
gestellt. Dann wird der Photodetektor 137 in eine ausgezo
gen wiedergegebene Position (b) gebracht, und die Probe 0
wird in der Meßposition angeordnet, wie in der Zeichnung
dargestellt ist. Mit dieser Anordnung wird dann das Ener
gie-Reflexionsverhältnis R s für das polarisierte Laserlicht
gemessen, welches von der Probe 0 reflektiert und zu dem
Photodetektor 137 geleitet ist. Zweitens wird dann das
Energie-Reflexionsverhältnis R p für das P-polarisierte
Laserlicht nach demselben Verfahren wie das S-polarisierte
Laserlicht gemessen.
Das meßergebnis ist dann folgendes:
R s (60°)=0,09693
R p (60°)=0,11976.
Das Datenverarbeitungssystem 38 verarbeitet die Berechnung,
um den Brechungsindex auf der Basis des Meßergebnisses ent
sprechend der nachstehenden Folge festzulegen. Zuerst wird
ein Phasenänderungswert jeweils von S- und P-polarisiertem
Licht als eine Funktion des Brechungsindex n₁ in der nach
stehend beschriebenen Weise spezifiziert. Die Gl.′en (32)
und (35) werden entsprechend den Snell′schen Brechungsge
setzen folgendermaßen umgeschrieben, wenn n₀=1 ist:
Die Faktoren r 23p und r 23s sind komplexe Zahlen; daher
werden die folgenden Gleichungen unter der nachstehend
definierten Voraussetzung erhalten:
ρ 23p ²≡r 23p · r 23p *
ρ 23s ²≡r 23s · r 23s *
wobei das Symbol* eine konjugiert komplexe Zahl darstellt, und
wobei das Symbol* eine konjugiert komplexe Zahl darstellt, und
₃cosR₃*=u₃+iv₃
Daher können ρ 23p und ρ 23s folgendermaßen dargestellt wer
den:
Dann werden R₀=60°, n₂=1,46, n₃=3.858 (1+0,00467i)
für die entsprechenden Faktoren in die obigen Gleichungen
bezüglich r 01p , r 01s , r 12p , r 12s , 23p und ρ 23s einge
setzt, wodurch dann jeder von ihnen nur als eine Funktion
von n₁ dargestellt ist.
Daher können S(n₁) und P(n₁) spezifiziert werden, indem die
vorstehend erwähnten berechneten Werte und die gemessenen
Werte R s (60°)=0,09693 und R p (60°)=0,11976 für die
Faktoren auf der rechten Seite der Gl.′en (40) und (41)
ersetzt werden.
Dann werden die Funktionen S(n₁) und P(n₁) berechnet, indem
der Parameter n₁ den Schritten von jeweils 0,001 in einem
Bereich von 1,8 bis 2,0 geändert werden. Der Bereich des
Parameters n₁ wird beliebig entsprechend dem Meßobjekt
festgelegt. Die Schrittgröße zum Ändern des Parameters n₁
wird ebenfalls beliebig entsprechend der Anforderung hin
sichtlich der Meßgenauigkeit festgelegt. Das Ergebnis der
Berechnung ist in Fig. 11 dargestellt. Wie aus Fig. 11 zu
ersehen, wird der Gleichung S(n₁)=P(n₁) dann genügt, wenn
n₁=1,900 ist. Daher wird der fragliche Brechungsindex
auf 1,900 festgelegt.
Eine zweite Probe weist ein Silizium-Si-)Substrat mit
einem Brechungsindex von 3,858 (1+0,00467i) mit einer
SiO₂-Dünnschicht mit einem Brechungsindex von 1,46 und
einer Dicke von 6000 Å, die durch Wärme-Oxidation aufge
bracht ist, sowie eine Dünnschicht aus Glas (COURNING
#7059) mit einer Dicke von 6000 Å auf, welche auf der SiO₂-
Dünnschicht durch Aufdampfen im Vakuum ausgebildet ist.
Der Brechungsindex der obersten Glas-Dünnschicht ist der
Gegenstand der Messung.
Die Probe wird mit Hilfe einer in Fig. 10 dargestellten
Einrichtung gemessen. In Fig. 10 geben He-Ne-Laserquellen
131 und 132 jeweils wie in der Einrichtung für die Probe
1 einen stabilisierten Laserstrahl mit einer Wellenlänge
von 6328 Å ab. Polarisatoren 144 und 145 sind vor jeder der
Lichtquellen 131 und 132 angeordnet, um so ein S- und P-
polarisiertes Licht von den Lichtquellen zu erhalten. Das
S- und P-polarisierte Licht kann durch Ändern von Blenden
(Filtern) 143 A und 143 B entsprechend ausgewählt werden, um
wahlweise die zu messende Probe 0 über einen Polarisations-
Strahlteiler 146, der einen hohen Extinktionsquotienten auf
weist, zu bestrahlen.
Die Probe 0 und ein Photodetektor 147 sind an einer Tafel
148 a bzw. an einem Arm 148 b eines (R-2R) Drehsystems 148
so, wie in Fig. 10 dargestellt, angeordnet. Das (R-2R)
Drehsystem 148 hat die Aufgabe, daß, wenn die Platte 148,
auf welcher die Probe 0 angeordnet ist, sich um einen Winkel
R dreht, der Arm 146, welcher den Photodetektor 147 dreht,
sich um einen Winkel 2R in derselben Richtung wie die Plat
te dreht; dadurch kann der Photodektor 147 das von der Probe
1 reflektierte Licht bei jeder Drehstellung von 0° bis 90°
feststellen.
Zuerst wird das S-polarisierte Laserlicht direkt auf den
Photodetektor 147 geleitet und durch diesen festgestellt,
wobei die Probe 0 nicht auf der Platte angeordnet ist. Da
nach wird die Probe 0 auf der Platte angeordnet und es wird
das Energie-Reflexionsverhältnis für das S-polarisierte
Licht bezüglich der Einfallswinkel 30°, 45° und 60° gemes
sen. Dann wird das Energie-Reflexionsverhältnis für das
P-polarisierte Licht in entsprechender Weise gemessen. Das
Ergebnis der Messung ist dann folgendes:
R s=(30°)=0,42815
R s=(45°)=0,39631
R s=(60°)=0,18385
R p=(30°)=0,31811
R p=(45°)=0,19676
R p=(60°)=0,15427
Dann wird der Faktor n₁ berechnet und für jeden der oben
angeführten Einfallswinkel entsprechend derselben Berech
nungsfolge wie bei dem Prozeß in Verbindung mit der Probe
1 spezifiziert. Das Ergebnis der Berechnung, um die Funk
tionen S(n₁) und P(n₁) für jeden der vorstehend angeführten
Einfallswinkel zu erhalten, ist in Fig. 12a bis 12c darge
stellt. Hierbei liegt der veränderbare Bereich des Para
meters n₁ zwischen 1,450 und 1,650. Wie durch einen Ver
gleich der dargestellten Kurven aus den Fig. 12a bis 12c
zu ersehen ist, ist der Schnittpunkt der Funktionen S(n₁)
und P(n₁) in der Kurve für den Einfallswinkel von 60° deut
lich zu sehen, während der Schnittpunkt in den Kurven für
die Einfallswinkel 45 oder 30° unscharf ist. Daher ist der
Wert von n₁ an dem Schnittpunkt am zuverlässigsten spezifi
ziert, wenn der Einfallswinkel 60° beträgt. Die berechneten
Werte des Brechungsindex n₁ für die Einfallswinkel 60, 45
und 30° sind 1,544, 1,544 bzw. 1,543. Von den vorstehend be
rechneten Werten ist der Wert von 1,544 für den Einfallswin
kel von 60° als der fragliche Brechungsindex aus dem vorer
wähnten Grund zuverlässig ausgewählt. Wie den vorstehenden
Ausführungen zu entnehmen ist, ist es wichtig, den Einfalls
winkel zu wählen, um den Brechungsindex entsprechend der
vorstehend beschriebenen dritten Ausführungsform der Erfin
dung zuverlässig und genau zu bestimmen.
Wie oben ausgeführt, ist gemäß der dritten Ausführungsform
der Erfindung ein Verfahren zum Messen des Brechungsindex
geschaffen, bei welchem der Brechungsindex einer obersten
Dünnschicht einer mehrlagigen, auf einem Substrat ausgebil
deten Dünnschicht leicht und genau gemessen wird.
Der Grundgedanke einer vierten Ausführungsform der Erfin
dung wird nunmehr anhand der Fig. 13a und 13b beschrieben.
In Fig. 13a sind Dünnschichten 11 und 12 auf einem Sub
strat übereinander angeordnet. Die oberste Dünnschicht 11
ist die fragliche, zu messende, mit S₀₁ ist eine Grenzflä
che zwischen dem Umgebungsmedium und der Dünnschicht 11 be
zeichnet. Mit S₁₂ ist eine Grenzfläche zwischen den Dünn
schichten 11 und 12 bezeichnet. Ebenso ist mit S₂₃ eine
Grenzfläche zwischen der Dünnschicht 12 und dem Substrat
13 bezeichnet. Die Brechungsindizies des Umgebungsmediums,
der Dünnschicht 11, der Dünnschicht 12 und des Substrats
sind n₀, n₁, ₂=n₂ (1+ik₂) bzw. ₃=n₃ (1+ik₃). Die
Dicken der Dünnschichten 11 und 12 sind in Fig. 13a mit
d₁ bzw. d₂ bezeichnet. Der Einfallswinkel des Laserstrahls,
mit welchem die Dünnschicht 11 bestrahlt wird, ist mit R₀
bezeichnet. Der Reflexionswinkel an jeder der Grenzflächen
S₀₁, S₁₂ und S₂₃ ist mit R₁, R₂* bzw. R₃* bezeichnet.
Die Werte von n₀, ₂, ₃ und d₂ sind bekannt. Ebenso können
der Einfallswinkel R und die Wellenlänge λ des einfallenden
Lichts von der Laserlichtquell LS als ein Meßbedingungsfak
tor festgelegt werden.
In Fig. 13b ist ein Zustand dargestellt, bei welchem ein
fallendes Licht sich durch das umgebende Medium mit einem
Brechungsindex n₁ zu der Dünnschicht 12 auf dem Substrat 13
in Richtung des Einfallswinkels R₁ ausbreitet. Wenn die
Dünnschicht mit dem monochromatischen Licht von der Laser
quelle LS als einfallendem Licht bestrahlt wird, wie in
Fig. 13b dargestellt, wird das Amplituden-Reflexionsver
hältnis durch die folgende Gleichung dargestellt:
r′ s,p=[r 12s,p +r 23s,p exp{2i β₂}] /[1+r 12s,p r23s,p exp{2i β₂*}] (51)
in welcher die Indizies s und p anzeigen, ob das einfallen
de Licht L- oder p-polarisiertes Licht ist und die Größen
r₁₂ und r₂₃ jeweils den Fresnel′schen Brechungskoeffizienten
an der Grenzfläche S₁₂ bzw. S₂₃ darstellen. Die vorstehend
wiedergegebenen Fresnel′schen Brechungskoeffizienten können
mit Hilfe des Einfallswinkels R₁ und der Brechungsindizies
R₂* und R₃* folgendermaßen dargestellt werden:
r 12p =tan(R₁-R₂*)/tan(R₁+R₂*) (52-1)
r 12s =-sin(R₁-R₂*)/sin(R₁+R₂*) (52-2)
r 23p =tan(R₂*-R₃*)/tan(R₂*+R₃*) (52-3)
r 23s =-sin(R₂-R₂*)/sin(R₂*+R₃*) (52-4)
Ebenso bezeichnet die 2β₂*, welche durch Gl. (51) dargestellt
ist, eine Phasenänderung des Lichts während dessen Ausbrei
tung von der Grenzfläche S₁₁ zu der Grenzfläche S₂₃ und
kann folgendermaßen umgeschrieben werden:
2β₂*=4π ₂d₂(cosR₂*)/λ (53)
Bezüglich Fig. 23a kann auch das Amplituden-Reflexionsver
hältnis r sp der zweilagigen Dünnschicht mit den Dünnschich
ten 11 und 12 durch die folgende Gleichung dargestellt wer
den, da das Amplituden-Reflexionsverhältnis an der Grenzflä
che S₁₂ gleich r′ s,p ist, wie in der Gl. (51) dargestellt ist:
r s,p=[r 01s,p +r′ s,pexp{2i β}]/ [1+r 01s,p r′ s,pexp{2i β₁}] (54)
wobei r₀₁ ein Fresnel′scher Reflexionskoeffizient an der
Grenzfläche S₀₁ ist, welcher durch die folgenden Gleichun
gen dargestellt ist:
r 01p =tan(R₀-R₁)/tan(R₀+R₁) (55-1)
r 01s =-sin(R₀-R₁)/sin(R₀+R₁) (55-2)
Ebenso wird der Wert 2β₁ dargestellt durch:
2β₁=4π n₁d₁(cosR₁)/g (56)
Wenn weitere Dünnschichten auf dem Substrat 13 (zwischen
dem Substrat und der unteren Dünnschicht 12) angeordnet
sind, können das Amplitudenreflexionsverhältnis r s,p der
obersten Dünnschicht einer mehrlagigen, auf einem Substrat
ausgebildeten Dünnschicht durch die vorstehende Gleichung
(54) wiedergegeben werden, indem die vorstehenden Berech
nungen wiederholt werden, wobei die Annahme getroffen wird,
daß die oberste Dünnschicht durch ein Umgebungsmedium mit
demselben Brechungsindex wie die oberste Dünnschicht be
setzt wird.
Wenn eine komplexe Zahl r′ s,p als
r′ s,p≡ρ′ s,pexp{i δ s,p }
dann wird Gl. (54) umgeschrieben in
r s,p=[r 01s,p +ρ′ s,p exp{i(2β₁+δ s,p )}] / [1+r 01s,p ρ′ s,p exp{i(2β₁+δ s,p )}]
daher wird das Energie-Brechungsverhältnis durch die
folgenden Gleichungen dargestellt:
R p=|r p|²=
[r 01p ²+ρ′ p²+2r 01p ρ′ pcos(2β₁+w p)] /[1+r²01p ρ′ p²+2r 01p ρ′ pcos(2β₁+δ p)] (57)
R s=|r s|²=
[r 01s ²+ρ′ s ²+2r 01s ρ′ s cos(2β₁+δ s )] /[1+r 01s ²+ρ′ s ²+2r 01s ρ′ s cos(2β₁+δ s )] (58)
[r 01s ²+ρ′ s ²+2r 01s ρ′ s cos(2β₁+δ s )] /[1+r 01s ²+ρ′ s ²+2r 01s ρ′ s cos(2β₁+δ s )] (58)
Die vorstehenden Gleichungen können bezüglich cos(2β₁+δ p)
und cos(2β₁+δ s) folgendermaßen gelöst werden:
cos(2β₁+δ p)=[r 01p ²+ρ′ p ²-R p(1+r 01p ²ρ′ p²)] /(2r 01p ρ′ p (R p-1)]≡η p (59)
cos(2β₁+δ s)=[r 01s ²+ρ′ s ²-R s(1+r 01s ρ′ s²)] /(2r 01s ρ′ s (R s-1)]≡η s (60)
Andererseits können δ s , δ p , ρ′ p und ρ′ s als Funktion des
Brechungsindex n₁ der obersten Dünnschicht unter der Vor
aussetzung dargestellt werden, daß der Brechungsindex des
Substrats und die Brechungsindizies und die Dicken der Dünn
schichten außer der obersten Dünnschicht, in welcher der
Absorptionskoeffizient in Betracht zu ziehen ist, bekannt
sind. Bekanntlich der zweilagigen Dünnschicht, wie sie in
Fig. 13a dargestellt ist, können die vorstehenden Faktoren
δ s , δ p , p′ p und ρ′ s durch die folgende Gleichungen darge
stellt werden:
tan δ p =[p 23p (1-ρ 12p ²)sin(u₂α+Φ 23p )+ρ 12p (exp{v₂α}--ρ 23p ²exp{-v₂α})sinΦ 12p ]/
[ρ 23p (1+ρ 12p ²)cos(u₂α+Φ 23p )+ρ 12p (exp{v₂α}+ρ 23p ²exp{-v₂α})cosΦ 12p ]
≡ξ p (61)
[ρ 23p (1+ρ 12p ²)cos(u₂α+Φ 23p )+ρ 12p (exp{v₂α}+ρ 23p ²exp{-v₂α})cosΦ 12p ]
≡ξ p (61)
tan δ s =[ρ 23s (1-ρ 12s ²)sin(u₂α+Φ 23s )+ρ 12s (exp{v₂α}--ρ 23s ²exp{-v₂α})sinΦ 12s ]/
[ρ 23s (1+ρ 12s ²)cos(u₂α+Φ 23s )+ρ 12s (exp{v₂α}+ρ 23s ²exp{-v₂α})cosΦ 12s ]
≡ξ s (62)
[ρ 23s (1+ρ 12s ²)cos(u₂α+Φ 23s )+ρ 12s (exp{v₂α}+ρ 23s ²exp{-v₂α})cosΦ 12s ]
≡ξ s (62)
|ρ′ p |²=[ρ 12p ²exp{v₂α}+ρ 23p ²exp{-v₂α}+2ρ 12p ρ 23p-cos(Φ 23p -Φ 12p +u₂α)}/
[exp{v₂α}+ρ 12p ²ρ 23p ²exp{-v₂α}+2ρ 12p ρ 23p cos(Φ 12p-+Φ 23p +u₂α)] (63)
[exp{v₂α}+ρ 12p ²ρ 23p ²exp{-v₂α}+2ρ 12p ρ 23p cos(Φ 12p-+Φ 23p +u₂α)] (63)
|ρ′ s |²=[ρ 12s ²exp{v₂α}+ρ 23s ²exp{-v₂α}+2ρ 12s ρ 23s-cos(Φ 23s -Φ 12s +u₂α)}/
[exp{v₂α}+ρ 12s ²ρ 23s ²exp{-v₂α}+2ρ 12s ρ 23s cos(Φ 12s -+Φ 23s +u₂α)] (64)
wobei folgende Substitionen gemacht werden:
[exp{v₂α}+ρ 12s ²ρ 23s ²exp{-v₂α}+2ρ 12s ρ 23s cos(Φ 12s -+Φ 23s +u₂α)] (64)
wobei folgende Substitionen gemacht werden:
₂cosR₂*≡u₂+iv₂, ₃cosR₃*≡u₃+iv₃, r 12p ≡ρ 12p exp{i Φ 12p },
r 12s ≡ρ 12s exp{i Φ 12s }, r 23p ≡ρ 23p exp{i Φ 23p },
r 23s ≡ρ 23s exp{i Φ 23s }
r 12s ≡ρ 12s exp{i Φ 12s }, r 23p ≡ρ 23p exp{i Φ 23p },
r 23s ≡ρ 23s exp{i Φ 23s }
Ferner ist a ein Faktor, welcher die Beziehung 2β₂* folgen
dermaßen dargestellt wird:
2β₂*≡α (u₂+iv₂)
Aus den Gl.′en (52-1) bis (52-4) können die Faktoren ρ 12p ,
ρ 12s , ρ 23p , ρ 23s , Φ 12p , Φ 12s , Φ 23p , Φ 23s folgendermaßen
erhalten werden:
ρ 12p ²={n₂²(-k₂²)cosR₁-n₁u₂]²+[2n₂²k₂cosR₁-n₁v₂]²}/ {[n₂²(1-k₂²)cosR₁+n₁u₂]²+[2n₂²k₂cosR₁+n₁v₂]²} (65)
ρ 12s ²={n₁cosR₁-u₂}²v₂²]/[{n₁cosR₁+u₂²}+v₂²} (66)
ρ 23p ²=[{q1q3+q2q4}²+{q1q3-q1q4}²] /[{q3²+q4²}² (67)
ρ 23s ²=[(u₂²-u₃²+v₂²-v₃²)²+4(u₃v₂-u₂v₃)²] /[(u₂+u₃)²+(v₂+v₃)²]² (68)
tanΦ 12p =2n₁n₂²cosR₁[2k₂u₂-(1-k₂²)v₂] /[n₂⁴(1+k₂²)²cos²R₁-n₁²(u₂²+v₂²)] (69)
tanΦ 12s =2v₂n₁cosR₁/[u₂²+v₂²-n₁²cos²R₁] (70)
tanΦ 23p =[q2q3-q1 4]/[q1q3+q2q4] (71)
tanΦ 23s =2(u₃v₂-u₂v₃)/[u₂²-u₃²+v₂²-v₃²] (72)
in welchen gilt:q1≡n₃²(1-k₃²)u₂-n₂²(1-k₂²)u₃-2n₃²k₃v₂+2n₂²k₂v₃q2≡2n₃²k₃u₂+n₃²(1-k₃²)v₂-2n₂²k₂u₃-n₂²(1-k₂²)v₃q3≡n₃²(1-k₃²)u₂+n₂²(1-k₂²)u₃-2n₃²k₃v₂-2n₂²k₂v₃q4≡2n₃²k₃u₂+n₃²(1-k₃²)v₂-2n₂²k₂u₃-n₂²(1-k₂²)v₃
Aus den Gl.′en (59) und (60) kann die folgende Gleichung
bezüglich δ p-δ s abgeleitet werden:δ p-δ s=cos-1 η p-cos-1 η s.Wenn Veränderliche η p und η s in Betracht gezogen werden,
wird die vorstehende Funktion δ p-δ s folgendermaßen
spezifiziertδ p-δ s=f(λ, R₀, n₀, n₁, n₂, k₂, d₂, n₃, k₃, R p, R s)Die Funktion δ p-δ s kann auch aus den Gl.′en (61) und
(62) dargestellt werden:δ p-δ s=tan-1 ξ p-tan-1 ξ sWenn Veränderliche p und s in Betracht gezogen werden,
wird die vorstehende Funktion p-s folgendermaßen spezi
fiziert:δ p-δ s=g(λ, R₀, n₀, n₁, n₂, k₂, d₂, n₃, k₃)Die Funktionen f und g sind nicht notwendigerweise einfach,
doch ist es im wesentlichen möglich die Funktionen durch
Berechnen jedes Faktors der Definitionsgleichung (59) bis
(62) als eine Funktion von wesentlichen Veränderlichen
λ, R₀, 1n₀, n₁, n₂, k₂, d₂, n₃, k₃, R p und R s zu berech
nen. Die Berechnungsfolge kann in einem Rechner vorprogram
miert werden.Aus den vorstehenden Veränderlichen λ, R₀, n₀, n₁, n₂, k₂,
d₂, n₃, k₃, R p und R s sind die Veränderlichen n₀, n₂, k₂,
d₂, n₃ und k₃ bekannt. Ebenso ist λ als eine bekannte
Wellenlänge des von der Lichtquelle abgegebenen Laserlichts
spezifiziert. Der Einfallswinkel R₀ ist als eine der Bedin
gungen der Messung spezifiziert. R p und R s werden durch die
Messung bestimmt.Wenn diese Veränderlichen in den Funktionen f und g spezi
fiziert sind, wird jede Funktion eine Funktion von nur einer
Veränderlichen n₁, welche als f(n₁) und g(n₁) dargestellt
wird. Die beiden Funktionen f und g stellen denselben Wert
δ p-δ s dar; folglich mußf(n₁)=g(n₁) (A)genügt sein. Die Funktionen f und g sind in der Form ver
schieden; daher der Wert von n₁, welcher der Gl. (A) genügt,
der wahre Brechungsindex der obersten Dünnschicht. Die Gl.
(A) kann dadurch gelöst werden, daß die rechte und die
linke Seite der Gl. (A) einzeln berechnet werden, die Ver
änderliche n₁ als ein Parameter in kleinen Schritten ge
ändert wird und der Wert des Parameters n₁ herausgesucht
wird, welcher der berechneten linken und rechten Seite der
Gl. (A) genügt. Bezüglich des Wertes 2β₁ wird aus den Gl.′en
(59) und (61) 2β₁ dargestellt als2β₁=cos-1 h p-tan-1 ξ pund er kann dann als eine Funktion P(λ, R₀, n₀, n₁, n₂,
k₂, d₂, n₃, k₃, R p) spezifiziert werden.Aus den Gl.′en (60) und (62) wird 2β₁ dargestellt als2β₁=cos-1 η s-tan-1 ξ sund kann als eine Funktion von P(λ, R₀, n₀, n₁, n₂,
k₂, d₂, n₃, k₃, R s) spezifiziert werden.Wenn die notwendigen Veränderlichen bestimmt sind, wird die
folgende Gleichung erhalten:P(n₁)=S(n₁) (B)Der Berechnungsindex n₁ der obersten Dünnschicht kann aus n₁,
welches der Gl. (B) genügt, entsprechend den vorerwähnten
Rechenvorgang bestimmt werden.Obwohl die vorstehende Erläuterung sich auf ein Beispiel be
zieht, bei welchem zwei Schichten 11 und 12 einer Dünn
schicht auf dem Substrat 13 ausgebildet ist, läßt sich das
Verfahren gemäß der Erfindung auch bei einer Ausführung an
wenden, bei welcher drei oder mehr Dünnschichten auf einem
Substrat aufgebracht sind.In diesem Fall können, wenn die Brechungsindex ₃ des Sub
strats hinsichtlich des Absorptionskoeffizienten und Bre
chungsindzies ² . . . m (in welchem m eine ganze Zahl
und gleich oder größer als drei ist) der Dünnschichten
außer der obersten Dünnschicht sowie die Dicken d₂ . . . d m
bekannt sind, δ s, δ p, ρ′ p und ρ′ s als eine Funktion des
Brechungsindex n₁ spezifiziert werden. Das heißt, die vor
stehend angeführten Funktionen f, g, P und S werden als
eine Funktion bezüglich nur einer Veränderlichen n₁
folgendermaßen spezifiziert:f(λ, R₀, n₀, n₁, ₂, ₃, . . . m, d₂, d₃, . . . d m, s, R p, R s)g(λ, R₀, n₀, n₁, ₂, ₃, . . . m, d₂, d₃, . . . d m, s)P(λ, R₀, n₀, n₁, ₂, ₃, . . . m, d₂, d₃, . . . d m, s, R p)S(λ, R₀, n₀, n₁, ₂, ₃, . . . m, d₂, d₃, . . . d m, s, R s)Daher kann der Brechungsindex der obersten Dünnschicht
aus n₁ bestimmt werden, welches der Gl. (A)f(n₁)=g(n₁) (A)oder der Gl. (B)P(n₁)=S(n₁) (B)genügt.Das Meßverfahren gemäß der vierten Ausführungsform der Er
findung kann mit Hilfe der Einrichtung der Fig. 10 durch
geführt werden, welche auch verwendet wird, um die be
schriebene dritte Ausführungsform der Erfindung durchzufüh
ren. Ein Versuchsergebnis der Messung der vierten Ausfüh
rungsform wird nachstehend beschrieben. Wie vorstehend
erwähnt sind mit Bezugszeichen 131 und 132 He-Ne-Laser
quellen bezeichnet, welche einen stabilisierten Laserstrahl
der Wellenlänge 6328 Å abgeben. Polarisatoren 144 und 145
sind vor jeder Lichtquellen 131 und 132 angeordnet, so daß
ein S- und P-polarisiertes Licht von den Lichtquellen erhal
ten wird. Das S- und P-polarisierte Licht kann durch Ändern
von Blenden (Filtern 143 A und 143 B ausgewählt werden, um
so selektiv die zu messende Probe durch einen Polarisations-
Strahlenteiler 146 mit einem hohem Extinktionsverhältnis zu
bestrahlen.Die Probe 0 und ein Photodetektor 147 auf einer Platte
148 a und an einem Arm 148 b eines R-2 R Rotationssystem 148
angeordnet. Das (R-2R) Rotationssystem 148 hat die Aufgabe,
daß, wenn die Platte 148 a, auf welcher die Probe 0 ange
ordnet ist, sich um einen Winkel R dreht, der Arm 148 b,
welchr den Photodetektor 147 dreht, sich um einen Winkel 2R
in der selben Richtung wie die Platte dreht. Dadurch kann
das von der Probe 0 reflektierte Licht von dem Photodetek
tor 147 über jeden Einfallswinkel des Lichts auf die Probe
0 in einem Bereich zwischen 0° und 90° festgestellt werden.Das Ausgangssignal von dem Photodetektor 147 wird in das Da
tenverarbeitungssystem 138 eingegeben, welches einen Rech
ner aufweist, welcher die vorstehend beschriebenen Rechen
prozesse durchführt, bei welchen die Funktionen f und g
oder P und S bezüglich der Größe n₁ spezifiziert werden,
und in welcher die Gl. (A) oder (B) gelöst wird, um n₁
festzusetzen.Die Probe weist ein Silizium-(Si-)Substrat mit einem Bre
chungsindex von 3,858 (1+0,00476i), eine SiN-Schicht mit
einem Brechungsindex von 2,0 (1+0,001i) und einer Dicke von
5000 Å, welche auf dem Substrat durch einen Plasma-CVD-
prozeß ausgebildet ist, sowie eine oberste SiO-Schicht auf,
welche durch Bedampfen im Vakuum auf der SiN-Schicht aus
gebildet ist. Die oberste SiO₂-Schicht ist Gegenstand der
Messung.Die Probe wird auf der Einrichtung der Fig. 10 angebracht,
in welcher der Einfallswinkel R₀ für 60° angeordnet ist.
Durch wahlweises Öffnen und Schließen der Blenden 143 A
und 143 B wird die Probe wahlweise mit S- und P-polarisiertem
Licht bestrahlt, und die Energie-Reflexionsverhältnisse
R p und R s werden gemessen, indem die Leuchtintensität des
reflektierten Lichts von der Probe mittels des Photodetek
tors 147 gemessen werden. Das Ergebnis der Messung ist
folgendes:R p=0,0854553R s=0,369958Dann wird die Gl. (B) berechnet und gelöst, indem die Funk
tionen P(n₁) und S(n₁) auf der Basis des Meßergebnisses,
der Brechnungsindex des Substrats, der Brechungsindex und die
Dicke der SiN-Schicht, die Wellenlänge des Lichts und der
Einfallswinkel des Lichts an der Probe spezifiziert werden.
Insbesondere wird der Wert des Parameters n₁ von 1,4 bis
1,5 jeweils in Schritten von 0,001 geändert (wobei die
Schrittgröße erforderlichenfalls auch anders gewählt wer
den kann), um so die Funktionen P(n₁) und S(n₁) für jeden
Schritt des Parameters n₁ zu berechnen sind. Das Ergebnis
der Berechnung ist in Fig. 14 dargestellt.Wie aus Fig. 14 zu ersehen, wird der Gleichung P(n₁)
-S(n₁) genügt, wenn n₁=1,460 ist. Daher wird der Bre
chungsindex der SiO₂-Dünnschicht auf 1,460 festgelegt.Wie oben erwähnt, ist durch die vierte Ausführungsform der
Erfindung ein weiteres Verfahren zum Messen des Brechungs
index einer Dünnschicht geschaffen, bei welchem der Bre
chungsindex einer obersten Dünnschicht einer mehrlagigen
Dünnschicht ohne weiteres kontaktlos und zerstörungsfrei
mit hoher Genauigkeit gemessen werden kann.
Claims (9)
1. Verfahren zum Messen des Brechungsindex einer Dünnschicht,
die auf einem Medium mit einem bekannten Brechungsindes aus
gebildet ist, bei welchem Verfahren die Dünnschicht unter
einem vorgeschriebenen Einfallwinkel mit S-polarisiertem,
monochromatischem Licht und mit P-polarisiertem, monochrom
atischem Licht einzeln bestrahlt wird, daß Energie-Refle
xionsverhältnisse (Rs und Rp) für das S- bzw. das P-polari
sierte, monochromatische Licht bestimmt werden, eine Leuch
tintensität des reflektierten Lichts von der Dünnschicht
bestimmt wird, und der Brechungsindex der Dünnschicht
entsprechen den Energie-Reflexionsverhältnissen (Rs und Rp)
spezifiziert werden, dadurch gekennzeichnet,
daß der Brechungsindex der Dünnschicht durch eine vorge
schriebene Berechnung auf der Basis von Lichtphasenänderun
gen während dessen Ausbreitung von einer oberen Fläche der
Dünnschicht zu deren unteren Fläche spezifiziert wird, wobei
die Phasenänderungen entsprechend dem Brechungsindex des
Mediums und der Energie-Reflexionsverhältnisse (Rs und Rp)
bestimmt werden.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekenn
zeichnet, daß die Dünnschicht eine Schicht einer
einlagigen Dünnschicht ist, und daß das Medium ein Sub
strat mit einem bekannten Brechungsindex ist.
3. Verfahren nach Anspruch 2, dadurch gekenn
zeichnet, daß die Größe einer Phasenänderung des
S- und des P-polarisierten, monochromatischen Lichts wäh
rend dessen Ausbreitung von einer oberen Fläche der Dünn
schicht zu deren unteren Fläche als eine Funktion P(n₂),
S(n₂) bezüglich des Brechungsindex (n₂) der zu messenden
Dünnschicht spezifiziert wird, daß danach dieser Brechungsin
dex der Dünnschicht spezifiziert wird, wobei dieser Bre
chungsindex (n₂) der Gleichung P(n₂)=S(n₂) durch Berech
nung genügt, in welcher der Berechungsindex (n₂) als ein
Parameter geändert wird.
4. Verfahren nach Anspruch 3, dadurch gekenn
zeichnet, daß unter der Annahme, daß der bekannte
Brechungsindex ( ₃) des Substrats in Form einer komplexen
Schreibweise als ( ₃=n₃(1+k₃)) dargestellt wird,
cos (Φ 23p +2β) entsprechend Fresnel′
schen Gleichungen auf der Basis des Brechungsindex ( ₃) und
der Energie-Reflexionsverhältnisse [Rs und Rp) als folgende
Funktionen bezüglich nur einer Veränderlichen (n₂), welche
der Brechungsindex der Dünnschicht ist, folgendermaßen be
stimmt werden:
cos(Φ 23p +2β)≡η p (n₂)cos(Φ 23S +2β)≡η S (n₂)
wobei
Φ 23p eine Phasenänderung von P-polarisiertem Licht ist, das an einer Grenzfläche zwischen Substrat und Dünnschicht reflektiert worden ist;
Φ 23s eine Phasenänderung von S-polarisiertem Licht ist, das an einer Grenzfläche zwischen Substrat und Dünnschicht reflektiert worden ist;
2β eine Phasenänderung von Licht während dessen Ausbrei tung von einer oberen Fläche der Dünnschicht zu deren un teren Fläche und zurück zur oberen Fläche ist,
andererseits tanΦ 23p und tanΦ 23s auf der Basis des Bre chungsindex des Substrats als Funktion bezüglich nur einer Veränderlichen (n₂), welche der Brechungsindex der Dünn schicht ist, aus den folgenden Gleichungen bestimmmt werden mit n₁ als Brechungsindex eines umgebenden Mediums (üblicherweise Luft mit n₁=1), und mit R₁ als Lichteinfallswinkel an der Dünnschicht, daß dann n₂ als der Brechungsindex der Dünnschicht bestimmt wird, wobei die Veränderliche (n₂) der folgenden Gleichung P(n₂)=S(n₂) genügt, nämlichcos-1{η p (n₂)}-tan-1{ξ p (n₂)}=cos-1{η s (n₂)}-tan-1{ξ s (n₂)}.
wobei
Φ 23p eine Phasenänderung von P-polarisiertem Licht ist, das an einer Grenzfläche zwischen Substrat und Dünnschicht reflektiert worden ist;
Φ 23s eine Phasenänderung von S-polarisiertem Licht ist, das an einer Grenzfläche zwischen Substrat und Dünnschicht reflektiert worden ist;
2β eine Phasenänderung von Licht während dessen Ausbrei tung von einer oberen Fläche der Dünnschicht zu deren un teren Fläche und zurück zur oberen Fläche ist,
andererseits tanΦ 23p und tanΦ 23s auf der Basis des Bre chungsindex des Substrats als Funktion bezüglich nur einer Veränderlichen (n₂), welche der Brechungsindex der Dünn schicht ist, aus den folgenden Gleichungen bestimmmt werden mit n₁ als Brechungsindex eines umgebenden Mediums (üblicherweise Luft mit n₁=1), und mit R₁ als Lichteinfallswinkel an der Dünnschicht, daß dann n₂ als der Brechungsindex der Dünnschicht bestimmt wird, wobei die Veränderliche (n₂) der folgenden Gleichung P(n₂)=S(n₂) genügt, nämlichcos-1{η p (n₂)}-tan-1{ξ p (n₂)}=cos-1{η s (n₂)}-tan-1{ξ s (n₂)}.
5. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeich
net, daß die Dünnschicht eine oberste Dünnschicht einer
mehrlagigen Dünnschicht ist, welche auf einem Substrat mit
einem bekannten Brechungsindex ausgebildet ist, und daß das
Medium eine Dünnschicht oder Dünnschicht aus der obersten
Dünnschicht ist.
6. Verfahren nach Anspruch 5, dadurch gekenn
zeichnet, daß unter der Voraussetzung, daß Brechungs
index und Dicke der Dünnschicht oder -schichten außer der
obersten Dünnschicht bekannt sind, eine Phasenänderung des
S- und des P-polarisierten, monochromatischen Lichts während
einer Ausbreitung von einer oberen Fläche der obersten
Schicht zu deren unteren Fläche als eine Funktion P(n₁),
S(n₁) bezüglich des Brechungsindex n₁ der obersten zu mes
senden Dünnschicht spezifiziert wird,
danach der Brechungsindex (n₁) als der Brechungsindex der
obersten Dünnschicht, welcher Brechungsindex (n₁) den Gl.
P(n₁)=S(n₁) genügt, durch Berechnung spezifiziert wird,
bei welcher der Brechungsindex (n₁) als Parameter verändert
wird.
7. Verfahren nach Anspruch 6, dadurch gekenn
zeichnet, daß (d) unter der Voraussetzung, daß 2β
eine Phasenänderung von Licht während einer Ausbreitung
von einer oberen Fläche der obersten Dünnschicht zu deren
unteren Fläche und zurück zu der oberen Fläche darstellt,
und daß δ p , δ s jeweils Phasenänderungen eines Amplituden
Reflexionsverhältnisses jeweils für das S- und das P-polari
sierte, monochromatische Licht darstellen und unter der
Annahme, daß das Licht auf die mehrlagige Dünnschicht auf
trifft, in welcher die oberste Schicht durch ein Umgebungs
medium mit demselben Brechungsindex wie die oberste Schicht
ersetzt wird, bezüglich der folgenden Gleichungen
cos(2β₁+δ p )=η p (n₁)cos(2β₁+δ s )=η s (n₁)die rechte Seite jeder Gleichung, nämlich η p (n₁) und
η s (n₁) als eine Funktion bezüglich nur einer Veränderlichen
(n₁) auf der Basis des Einfallswinkels des Lichts, des Bre
chungsindex des Substrats, der Brechungsindizies und Dicken
werte von Dünnschichten außer der obersten Dünnschicht und
der Energie-Reflexionsverhältnisse (Rs und Rp) spezifiziert
werden;
(e) bezüglich der folgenden Gleichungentanδ p =ξ p (n₁)tanδ s =ξ s (n₁)die rechte Seite jeder Gleichung, nämlich ξ p (n₁) und ξ s (n₁), als eine Funktion bezüglich nur einer Veränderlichen (n₁) auf der Basis des Einfallswinkels des Lichts, des Brechungs index des Substrats und der Brechungsindizies und Dicken werte von Dünnschichten außer der obersten Dünnschicht spe zifiziert werden, und
(f)n₁, welches der folgenden Gleichung genügt:cos-1{η p (n₁)}-tan-1{ξ p (n₁)}=cos-1{η s (n₁)}-tan-1{ξ s (n₁)}durch Berechnung auf der Basis der Funktionen η p (n₁), η s (n₁), ξ p (n₁) und ξ s (n₁) spezifiziert werden, in welchen n₁ als Parameter verändert wird, und der spezifizierte Wert n₁ als der Brechungsindex der obersten Dünnschicht bestimmt wird.
(e) bezüglich der folgenden Gleichungentanδ p =ξ p (n₁)tanδ s =ξ s (n₁)die rechte Seite jeder Gleichung, nämlich ξ p (n₁) und ξ s (n₁), als eine Funktion bezüglich nur einer Veränderlichen (n₁) auf der Basis des Einfallswinkels des Lichts, des Brechungs index des Substrats und der Brechungsindizies und Dicken werte von Dünnschichten außer der obersten Dünnschicht spe zifiziert werden, und
(f)n₁, welches der folgenden Gleichung genügt:cos-1{η p (n₁)}-tan-1{ξ p (n₁)}=cos-1{η s (n₁)}-tan-1{ξ s (n₁)}durch Berechnung auf der Basis der Funktionen η p (n₁), η s (n₁), ξ p (n₁) und ξ s (n₁) spezifiziert werden, in welchen n₁ als Parameter verändert wird, und der spezifizierte Wert n₁ als der Brechungsindex der obersten Dünnschicht bestimmt wird.
8. Verfahren zum Messen des Brechungsindex einer Dünnschicht,
die auf einem Medium mit einem bekannten Brechungsindex auf
gebracht ist, bei welchem Verfahren die Dünnschicht mit
S- und mit P-polarisiertem, monochromatischem Licht einzeln
unter einem vorgeschriebenen Einfallswinkel bestrahlt wird,
Energie-Reflexionsverhältnisse (Rs und Rp) für das S- bzw.
das P-polarisierte monochromatische Licht bestimmt werden,
die Leuchtintensität des reflektierten Lichts von der Dünn
schicht festgestellt wird und der Brechungsindex der Dünn
schicht entsprechend den Energie-Reflexionsverhältnissen
(Rs und Rp) spezifiziert wird, dadurch gekennzeich
net, daß die Dünnschicht eine oberste Dünnschicht einer
mehrlagigen Dünnschicht ist, die auf einem Substrat mit
einem bekannten Brechungsindex ausgebildet ist und das Me
dium, außer der obersten Dünnschicht, eine Dünnschicht mit
bekanntem Brechungsindex und bekannter Dicke ist, und daß
der Brechungsindex der obersten Dünnschicht durch eine vor
geschriebene Berechnung auf der Basis von Phasenänderungen
gemäß einer Reflexions des S- und des P-polarisierten
Lichts an einer Grenzfläche zwischen der obersten Dünn
schicht und einer nächsten Dünnschicht spezifiziert wird,
wobei die Phasenänderung entsprechend dem Brechungsin
dex der Dünnschicht außer der obersten Dünnschicht und
dem Substrat, dessen Dicke und den Energie-Reflexionsver
hältnissen (R s und R p) bestimmt werden.
9. Verfahren nach Anspruch 8, dadurch gekenn
zeichnet, daß (d) unter der Voraussetzung , daß 2β₁
eine Phasenänderung von Licht während einer Ausbreitung
von einer oberen Fläche der obersten Schicht zu dessen
unteren Fläche zurück zu der oberen Fläche darstellt und
daß δ p , δ s jeweils eine Phasenänderung des Amplituden-Re
flexionsverhältnisses jeweils für das S- und das P-polari
sierte monochromatische Licht darstellen, und unter der An
nahme, daß das Licht auf die mehrlagige Dünnschicht auf
trifft, in welcher die oberste Schicht durch ein Umgebungs
medium mit demselben Brechungsindex wie die oberste Schicht
ersetzt wird, bezüglich der folgenden Gleichungen
cos(2β₁+δ p )=η p (n₁)cos(2β₁+δ s )=η s (n₁),die rechte Seite jeder Gleichung, nämlich η p (n₁) und η s (n₁)
als eine Funktion bezüglich nur einer Veränderlichen (n₁) auf
der Basis des Einfallswinkels des Lichts, des Brechungsindex
des Substrats, der Brechungsindizies und der Dicke von Dünn
schichten, außer der obersten Dünnschicht, und der Energie-Re
flexionsverhältnisse (Rs und Rp) spezifiziert werden;
(e) bezüglich der folgenden Gleichungentanδ r=ξ p (n₁)tanδ s=u s (n₁)die rechte Seite jeder Gleichung, nämlich ξ p (n₁) und ξ s (n₁),
als eine Funktion bezüglich nur einer Veränderlichen (n₁) auf
der Basis des Einfallswinkels des Lichts, des Brechungsindex
des Substrats und der Brechungsindizies und Dicke der Dünn
schichten außer der obersten Dünnschicht spezifiziert werden,
und
(f)n₁, welches der folgenden Gleichung genügt:cos-1(η p (n₁)}-cos-1{η s (n₁)}=tan-1{ξ p (n₁)}-tan-1{ξ s (n₁)}durch Berechnung auf der Basis der Funktionen η p (n₁), η s (n₁), ξ p (n₁) und ξ s (n₁) spezifiziert werden, in wel chen n₁ als Parameter geändert wird, und das spezifizierte n₁ als der Brechungsindex der obersten Dünnschicht bestimmt wird.
(f)n₁, welches der folgenden Gleichung genügt:cos-1(η p (n₁)}-cos-1{η s (n₁)}=tan-1{ξ p (n₁)}-tan-1{ξ s (n₁)}durch Berechnung auf der Basis der Funktionen η p (n₁), η s (n₁), ξ p (n₁) und ξ s (n₁) spezifiziert werden, in wel chen n₁ als Parameter geändert wird, und das spezifizierte n₁ als der Brechungsindex der obersten Dünnschicht bestimmt wird.
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