DE3702317A1 - Verfahren zur ionendiffusion in ein optisches wellenleitersubstrat - Google Patents
Verfahren zur ionendiffusion in ein optisches wellenleitersubstratInfo
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Description
Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zur Diffusion von Ionen aus
einer Schmelze in ein optisches Wellenleitersubstrat, wobei das optische Wel
lenleitersubstrat zwischen zwei Elektroden angeordnet wird, in den Raum zwi
schen den Elektroden Schmelze eingebracht und an die Elektroden ein elektri
sches Feld angelegt wird.
Die Ionendiffusion wird bei optischen Wellenleitersubstraten angewandt, um in
ihnen ganz gezielte Brechzahlprofile zu erzeugen.
Ein solches Ionendiffusionsverfahren ist z. B. in den Proceedings, Vol. 651,
Integrated Optical circuit Engineering III, Innsbruck, April 1986, S. 33-36
beschrieben. Bei diesem bekannten Verfahren wird das plattenförmige optische
Wellenleitersubstrat mit einer Seite in eine Schmelze eingetaucht und auf die
andere Seite des optischen Wellenleitersubstrats ebenfalls eine Schmelze
aufgebracht. Zu beiden Seiten des optischen Wellenleitersubstrats taucht je
eine Elektrode in die Schmelze ein. Und zwischen beiden Elektroden wird ein
elektrisches Feld angelegt, welches die Diffusion von Ionen aus der Schmelze
in das optische Wellenleitersubstrat gezielt unterstützt. Das aus den
"Proceedings" hervorgehende Verfahren erfordert einen recht großen Aufwand
und hohe Präzision, um die zu beiden Seiten des optischen Wellenleitersub
strats vorhandenen Schmelzen voneinander elektrisch zu isolieren und damit
einen Kurzschluß zwischen den beiden mit den Schmelzen kontaktierten Elek
troden zu verhindern.
Der Erfindung liegt nun die Aufgabe zugrunde, ein Verfahren der eingangs
genannten Art anzugeben, durch das mit möglichst geringem Aufwand eine
definierte Brechzahländerung in einem optischen Wellenleitersubstrat bewirkt
werden kann.
Erfindungsgemäß wird diese Aufgabe durch die Merkmale des Anspruchs 1
gelöst. Vorteilhafte Anordnungen zum Durchführen des erfundenen Verfahrens
gehen aus den Unteransprüchen hervor.
An Hand von in der Zeichnung dargestellten Ausführungsbeispielen soll nach
folgend die Erfindung näher erläutert werden. Es zeigt
Fig. 1 eine perspektivische Ansicht eines optischen Wellenleitersubstrats vor
dem Eintauchen in einen Schmelztiegel,
Fig. 2 eine Seitenansicht des optischen Wellenleitersubstrats nach dem Her
ausziehen aus dem Schmelztiegel und
Fig. 3 eine Anordnung mehrerer optischer Wellenleitersubstrate, die einer
Ionendiffusion ausgesetzt werden sollen.
Wie der Fig. 1 zu entnehmen ist, wird zu Beginn des Ionendiffusionsverfahrens
ein plattenförmiges optisches Wellenleitersubstrat 1, dessen Brechzahl auf
einen definierten Wert gebracht werden soll, zwischen zwei ebenfalls platten
förmigen Elektroden 2 und 3 angeordnet. Anschließend wird das optische
Wellenleitersubstrat 1 zusammen mit den zu beiden Seiten angeordneten Elek
troden 2 und 3 in einen mit einer Salzschmelze 4 (z. B. KnO3 oder NaNO3)
gefüllten Schmelztiegel 5 eingetaucht. Die Elektroden 2 und 3 sind in einem
solchen Abstand gegenüber dem optischen Wellenleitersubstrat 1 gehalten, daß
die Räume zwischen den Elektroden 2, 3 und dem Wellenleitersubstrat 1 für
die jeweilige Salzschmelze wie Kapillaren wirken. Wenn das optische Wellen
leitersubstrat 1 mit den Elektroden 2, 3 in die Schmelze 4 eingetaucht wird,
wird also aufgrund der Kapillarkräfte ein Teil der Schmelze 4 in die Zwi
schenräume zwischen den Elektroden 2, 3 und dem optischen Wellenleitersub
strat 1 aufsteigen.
Das optische Wellenleitersubstrat 1 wird zusammen mit den Elektroden 2 und
3 aus dem Schmelztiegel 5 herausgezogen, sobald die Schmelze 4 soweit in die
Räume zwischen den Elektroden 2, 3 und dem optischen Wellenleitersubstrat 1
eingedrungen ist (vgl. Fig. 2), daß dessen Oberfläche in einem gewünschten
Bereich von Schmelze bedeckt ist.
Wie die Fig. 1 verdeutlicht, sind die Elektroden 2 und 3 so dimensioniert, daß
sie nicht die Ränder des optischen Wellenleitersubstrats 1 zumindest nicht in
dem in die Schmelze eintauchenden Bereich überdecken. Dadurch wird verhin
dert, daß die zwischen einer Elektrode 2 bzw. 3 und einer Wellenleitersub
stratseite befindliche Schmelze um den Rand des Wellenleitersubstrats herum
zur anderen Elektrode 3 bzw. 2 auf der anderen Seite gelangen und einen
Kurzschluß zwischen den beiden Elektroden 2 und 3 bewirken kann. Nur dann
kann nämlich durch Anlegen eines elektrischen Feldes an die Elektroden 2
und 3 eine gezielte Ionendiffusion auf das optische Wellenleitersubstrat 1
ausgeübt werden.
Nach dem beschriebenen Verfahren können vorteilhafterweise auch mehrere
optische Wellenleitersubstrate gleichzeitig einer Ionendiffusion unterzogen
werden. Dazu werden gemäß Fig. 3 mehrere optische Wellenleitersubstrate 6
bis 10 in den Zwischenräumen zwischen mehreren parallel nebeneinander
angeordneten Elektroden 12 bis 18 eingefügt. Dabei sind die an die Elektro
den angelegten elektrischen Felder so orientiert, daß zwischen jeweils zwei
benachbarten Elektrodenpaaren die elektrischen Felder einander entgegenge
setzt gerichtet sind.
Ist die Schmelze zwischen den Elektroden 2, 3 und dem Wellenleitersubstrat 1
durch die Diffusion ionenärmer geworden, kann durch erneutes Eintauchen
ohne angelegtes elektrisches Feld die Ionenkonzentration in der Schmelze
erhöht werden.
Bei der vorangehenden Verfahrensbeschreibung ist davon ausgegangen worden,
daß die Elektroden zu beiden Seiten des optischen Wellenleitersubstrats ge
genüber diesem als Kapillaren wirkende Abstände aufweisen. Es ist aber auch
möglich, eine der beiden Elektroden ohne Zwischenraum direkt auf das opti
sche Wellenleitersubstrat aufzubringen.
Claims (3)
1. Verfahren zur Diffusion von Ionen aus einer Schmelze in ein optisches
Wellenleitersubstrat, wobei das optische Wellenleitersubstrat zwischen zwei
Elektroden angeordnet wird, in den Raum zwischen den Elektroden Schmel
ze eingebracht und an die Elektroden ein elektrisches Feld angelegt wird,
dadurch gekennzeichnet, daß mindestens eine derartig flächig ausgebildete
Elektrode (2, 3) in einem solchen Abstand von der Oberfläche des opti
schen Wellenleitersubstrats (1) entfernt angeordnet wird, daß der Raum
zwischen Elektrode (2, 3) und optischem Wellenleitersubstrat (1) wie eine
Kapillare wirkt, daß dann die Elektroden (2, 3) mit dem dazwischen ange
ordneten optischen Wellenleitersubstrat (1) so lange in die Schmelze (4)
eingetaucht werden, bis auf Grund der Kapillarkraft ein Teil der Schmelze
(4) bis zu einer gewünschten Höhe in den als Kapillare wirkenden Raum
aufgestiegen ist und daß anschließend das optische Wellenleitersubstrat (1)
zusammen mit den Elektroden (2, 3) aus der Schmelze (4) herausgezogen
und an die Elektroden (2, 3) das elektrische Feld angelegt wird.
2. Anordnung zum Durchführen des Verfahrens nach Anspruch 1, dadurch
gekennzeichnet, daß die Elektrode (2, 3) so dimensioniert und gegenüber
dem optischen Wellenleitersubstrat (1) so positioniert sind, daß die zwi
schen einer Elektrode (2, 3) und dem optischen Wellenleitersubstrat (1)
aufgenommene Schmelze nicht über den Rand des optischen Wellenleiter
substrats (1) hinaus zur anderen Elektrode (2, 3) auf der anderen Seite
des optischen Wellenleitersubstrats (1) gelangen und beide Elektroden (2,
3) elektrisch kurzschließen kann.
3. Anordnung zum Durchführen des Verfahrens nach Anspruch 1, dadurch
gekennzeichnet, daß mehrere plattenförmige Elektroden (12 . . . 18) in Ab
ständen parallel nebeneinander angeordnet sind, daß zwischen jeweils zwei
Elektroden ein optisches Wellenleitersubstrat (6 . . . 11) angeordnet ist, wobei
die Abstände zwischen den Elektroden (12 . . . 18) und den optischen Wellen
leitersubstraten (6 . . . 11) so groß sind, daß die Zwischenräume zwischen den
Elektroden (12 . . . 18) und den ihnen benachbarten optischen Wellen
leitersubstraten (6 . . . 11) wie Kapillaren wirken, und daß die an die Elek
troden (12 . . . 18) angelegten elektrischen Felder so orientiert sind, daß zwi
schen jeweils zwei benachbarten Elektrodenpaaren die elektrischen Felder
entgegengesetzt gerichtet sind.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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DE19873702317 DE3702317A1 (de) | 1987-01-27 | 1987-01-27 | Verfahren zur ionendiffusion in ein optisches wellenleitersubstrat |
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DE19873702317 DE3702317A1 (de) | 1987-01-27 | 1987-01-27 | Verfahren zur ionendiffusion in ein optisches wellenleitersubstrat |
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DE3702317A1 true DE3702317A1 (de) | 1988-08-04 |
DE3702317C2 DE3702317C2 (de) | 1991-01-10 |
Family
ID=6319613
Family Applications (1)
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DE19873702317 Granted DE3702317A1 (de) | 1987-01-27 | 1987-01-27 | Verfahren zur ionendiffusion in ein optisches wellenleitersubstrat |
Country Status (1)
Country | Link |
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DE (1) | DE3702317A1 (de) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3826942A1 (de) * | 1988-08-09 | 1990-02-22 | Bodenseewerk Geraetetech | Verfahren zur herstellung von wellenleitern auf einem glassubstrat durch ionenaustausch |
Families Citing this family (1)
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DE19857502A1 (de) * | 1998-12-14 | 2000-06-15 | Forschungszentrum Juelich Gmbh | Erhöhung der Strahlungsempfindlichkeit einer Glasfaser |
Citations (1)
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DE3525661A1 (de) * | 1985-07-18 | 1987-01-22 | Schott Glaswerke | Verfahren zum feldunterstuetzten ionenaustausch |
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1987
- 1987-01-27 DE DE19873702317 patent/DE3702317A1/de active Granted
Patent Citations (1)
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DE3702317C2 (de) | 1991-01-10 |
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