DE3667497D1 - Verfahren zum herstellen eines metallisierten kunstharzfilms mit metallfreien zonen. - Google Patents

Verfahren zum herstellen eines metallisierten kunstharzfilms mit metallfreien zonen.

Info

Publication number
DE3667497D1
DE3667497D1 DE8686903383T DE3667497T DE3667497D1 DE 3667497 D1 DE3667497 D1 DE 3667497D1 DE 8686903383 T DE8686903383 T DE 8686903383T DE 3667497 T DE3667497 T DE 3667497T DE 3667497 D1 DE3667497 D1 DE 3667497D1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
producing
metal
resin film
free zones
metalized resin
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
DE8686903383T
Other languages
English (en)
Inventor
Pietro Ronchi
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Metalvuoto Films SpA
Original Assignee
Metalvuoto Films SpA
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Family has litigation
First worldwide family litigation filed litigation Critical https://patents.darts-ip.com/?family=11181426&utm_source=google_patent&utm_medium=platform_link&utm_campaign=public_patent_search&patent=DE3667497(D1) "Global patent litigation dataset” by Darts-ip is licensed under a Creative Commons Attribution 4.0 International License.
Application filed by Metalvuoto Films SpA filed Critical Metalvuoto Films SpA
Application granted granted Critical
Publication of DE3667497D1 publication Critical patent/DE3667497D1/de
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/04—Coating on selected surface areas, e.g. using masks
    • C23C14/042—Coating on selected surface areas, e.g. using masks using masks
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01G—CAPACITORS; CAPACITORS, RECTIFIERS, DETECTORS, SWITCHING DEVICES, LIGHT-SENSITIVE OR TEMPERATURE-SENSITIVE DEVICES OF THE ELECTROLYTIC TYPE
    • H01G13/00—Apparatus specially adapted for manufacturing capacitors; Processes specially adapted for manufacturing capacitors not provided for in groups H01G4/00 - H01G11/00
    • H01G13/06—Apparatus specially adapted for manufacturing capacitors; Processes specially adapted for manufacturing capacitors not provided for in groups H01G4/00 - H01G11/00 with provision for removing metal surfaces

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Fixed Capacitors And Capacitor Manufacturing Machines (AREA)
DE8686903383T 1985-07-03 1986-06-25 Verfahren zum herstellen eines metallisierten kunstharzfilms mit metallfreien zonen. Expired - Fee Related DE3667497D1 (de)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
IT21415/85A IT1185177B (it) 1985-07-03 1985-07-03 Dispositivo per realizzare film plastici metallizzati presentanti zone ben delimitate prive di metallizzazione
PCT/EP1986/000378 WO1987000208A1 (en) 1985-07-03 1986-06-25 Device for making metallized plastic films with clearly defined non-metallized areas

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DE3667497D1 true DE3667497D1 (de) 1990-01-18

Family

ID=11181426

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE8686903383T Expired - Fee Related DE3667497D1 (de) 1985-07-03 1986-06-25 Verfahren zum herstellen eines metallisierten kunstharzfilms mit metallfreien zonen.

Country Status (8)

Country Link
US (1) US4749591A (de)
EP (1) EP0264371B1 (de)
AU (1) AU5995586A (de)
BR (1) BR8607145A (de)
DE (1) DE3667497D1 (de)
FI (1) FI875776A0 (de)
IT (1) IT1185177B (de)
WO (1) WO1987000208A1 (de)

Families Citing this family (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4910072A (en) * 1986-11-07 1990-03-20 Monsanto Company Selective catalytic activation of polymeric films
KR930010422B1 (ko) * 1988-12-07 1993-10-23 혼슈우 세이시 가부시끼가이샤 적층형 칩 콘덴서용 금속화 필름의 제조방법
DE4010753C1 (de) * 1990-04-03 1991-12-05 Steiner Gmbh & Co. Kg, 5927 Erndtebrueck, De
FR2662015B1 (fr) * 1990-05-11 1995-02-17 Europ Composants Electron Dispositif de positionnement de bandes-cache dans une machine de metallisation.
EP0488535A3 (en) * 1990-11-08 1992-09-23 Bmc Technology Corporation Method and apparatus for manufacturing electrodes for multilayer ceramic capacitors
DE4309717C2 (de) * 1993-03-25 2002-03-28 Unaxis Deutschland Holding Verfahren zum Aufdampfen einer Schicht
JPH09232141A (ja) * 1996-02-28 1997-09-05 Unitika Ltd 磁気素子
CN1975944B (zh) * 1997-03-19 2010-04-14 松下电器产业株式会社 薄膜层叠体和电子元件
US6155675A (en) 1997-08-28 2000-12-05 Hewlett-Packard Company Printhead structure and method for producing the same
US6686027B1 (en) 2000-09-25 2004-02-03 Agra Vadeko Inc. Security substrate for documents of value
CN100553625C (zh) * 2002-04-09 2009-10-28 弗拉梅技术公司 活性成分微囊的口服混悬液
KR101110767B1 (ko) 2003-07-14 2012-02-24 플렉스 프로덕츠, 인코포레이티드 노출 및/또는 은폐 패턴층을 갖는 보안 물품과 그 제조 방법
US20080019003A1 (en) * 2003-07-14 2008-01-24 Jds Uniphase Corporation Vacuum Roll Coated Security Thin Film Interference Products With Overt And/Or Covert Patterned Layers
WO2006104792A1 (en) * 2005-03-28 2006-10-05 Avery Dennison Corporation Method for making rfid device antennas
CA2598007A1 (en) * 2006-08-29 2008-02-29 Jds Uniphase Corporation Printed article with special effect coating
DE102007031457A1 (de) * 2007-07-05 2009-01-08 Leybold Optics Gmbh Verfahren und Vorrichtung zur Aufbringung einer Schicht eines Trennmittels auf ein Substrat
US20150118460A1 (en) * 2013-10-30 2015-04-30 San Diego Gas & Electric company c/o Sempra Energy Nonconductive films for lighter than air balloons
US11738537B2 (en) 2013-10-30 2023-08-29 San Diego Gas & Electric Company, c/o Sempra Energy Nonconductive films for lighter than air balloons

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE720709C (de) * 1936-03-30 1942-05-13 Bosch Gmbh Robert Verfahren zum Metallfreilassen bestimmter Stellen auf durch Metallbedampfung zu metallisierenden Unterlagen
US2138892A (en) * 1936-04-16 1938-12-06 Bosch Gmbh Robert Process for the manufacture of electrostatic condensers
DE1263449B (de) * 1959-04-08 1968-03-14 Siemens Ag Verfahren zur Herstellung von metallbedampften Isolierstoff-Folien
DE1262732B (de) * 1962-07-04 1968-03-07 Siemens Ag Vorrichtung zum gleichzeitigen Aufdampfen von mehreren parallelen Streifen aus fluessigen oder fettartigen Stoffen mit niedrigem Dampfdruck auf insbesondere fuer die Herstellung elektrischer Kondensatoren bestimmten Baendern als Abdeckmittel fuer eine nachfolgende Metallbedampfung
DE1521461A1 (de) * 1964-03-17 1969-07-31 Siemens Ag Verfahren zum Aufbringen von OElabdeckstreifen auf ein zu bedampfendes Isolierstoffband zur Verhinderung der Kondensation des Metalldampfes
DE2112405A1 (de) * 1971-03-15 1972-09-21 Siemens Ag Vorrichtung zum Erzeugen metallisierter Laengsstreifen auf Folien
US4022928A (en) * 1975-05-22 1977-05-10 Piwcyzk Bernhard P Vacuum deposition methods and masking structure
JPS5579867A (en) * 1978-12-11 1980-06-16 Honshu Paper Co Ltd Vacuum evaporation method

Also Published As

Publication number Publication date
EP0264371A1 (de) 1988-04-27
US4749591A (en) 1988-06-07
FI875776A (fi) 1987-12-30
IT1185177B (it) 1987-11-04
AU5995586A (en) 1987-01-30
FI875776A0 (fi) 1987-12-30
IT8521415A0 (it) 1985-07-03
BR8607145A (pt) 1988-04-19
WO1987000208A1 (en) 1987-01-15
EP0264371B1 (de) 1989-12-13

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE3667497D1 (de) Verfahren zum herstellen eines metallisierten kunstharzfilms mit metallfreien zonen.
DE3785720D1 (de) Verfahren zum herstellen eines filmtraegers.
DE3680961D1 (de) Verfahren zum herstellen von gegenstaenden mit unterschiedlicher polymerzusammensetzung.
DE3576795D1 (de) Verfahren zum herstellen einer gepraegten thermoplastischen folie mit einer farbschicht.
DE3765603D1 (de) Verfahren zum herstellen eines schmelzklebers mit nicht-haftender oberflaeche.
DE3577822D1 (de) Verfahren zum herstellen eines thermoplastischen rohres mit einer glatten innenflaeche.
DE3686457D1 (de) Verfahren zum herstellen eines halbleiterapparates mit zwei halbleiteranordnungen.
DE3581348D1 (de) Verfahren zum herstellen eines pn-uebergangs mit hoher durchbruchsspannung.
DE3686453T2 (de) Verfahren zum herstellen einer duennen halbleiterschicht.
DE3685970D1 (de) Verfahren zum herstellen eines halbleiterbauelements.
DE3675080D1 (de) Verfahren zum herstellen von graphitfolien.
DE3585180D1 (de) Verfahren zum herstellen einer halbleiteranordnung mit leiterschichten.
DE3784836D1 (de) Verfahren zum herstellen von schichtstoffteilen.
DE3671580D1 (de) Verfahren zum herstellen eines mehrschicht-keramiksubstrats.
DE3889024T2 (de) Verfahren zum Herstellen einer supraleitenden Dünnschicht.
DE3673437D1 (de) Verfahren zum herstellen eines halbleiterbauelements mit einem graben.
DE3582627D1 (de) Verfahren zum herstellen einer waermeschrumpfenden polypropylenfolie.
DE3785683D1 (de) Verfahren zum herstellen eines polymerfilms.
DE3675038D1 (de) Verfahren zum herstellen eines einzelchip-mikrocomputers.
DE3576057D1 (de) Verfahren zum herstellen eines piezoelektrischen oder pyroelektrischen zusammengesetzten films.
AT384341B (de) Verfahren zum herstellen von leiterplatten mit metallisierten lochungen
AT388523B (de) Verfahren zum herstellen eines sinterkoerpers mit wenigstens einer molybdaenhaltigen verschleissschicht
DE68906560T2 (de) Verfahren zum herstellen von integral mit schaufeln versehenen laeufern.
DE3886429T2 (de) Verfahren zum Herstellen einer supraleitenden Dünnschicht.
DE69227069T2 (de) Verfahren zum Herstellen eines GaAs-Mesfets mit erhöhter Schottkysperrschicht

Legal Events

Date Code Title Description
8363 Opposition against the patent
8339 Ceased/non-payment of the annual fee